JPS6176963A - Voltage measuring device by electron beam - Google Patents

Voltage measuring device by electron beam

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JPS6176963A
JPS6176963A JP59198818A JP19881884A JPS6176963A JP S6176963 A JPS6176963 A JP S6176963A JP 59198818 A JP59198818 A JP 59198818A JP 19881884 A JP19881884 A JP 19881884A JP S6176963 A JPS6176963 A JP S6176963A
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JP
Japan
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voltage
circuit
ratio
output
electron beam
Prior art date
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Pending
Application number
JP59198818A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshiaki Goto
後藤 善朗
Akio Ito
昭夫 伊藤
Toshihiro Ishizuka
俊弘 石塚
Kazuyuki Ozaki
一幸 尾崎
Kazuo Okubo
大窪 和生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To reduce the number of times of measurement, and to execute the measurement at a high speed by deriving a ratio of a secondary electronic signal in plural specified analysis voltages, converting its ratio by a table derived in advance, and deriving a wiring voltage. CONSTITUTION:An electron beam is irradiated on an IC1-1 placed on an X-Y stage 1-2 through a pulse gate 1-0. By its irradiation, a secondary electron is emitted from the IC1-1 and its quantity is detected by an analyzer 1-3. Its output is amplified by a detector 2, provided as a secondary electronic signal to an A/D converter 3 and converted to digital data. Also, the IC1-1 is driven by a driver 4, and applied as a repeat signal to a delaying circuit 5. This circuit 5 outputs a delay pulse, for instance, proportional to a delay quantity applied from a controlling circuit 6 and applies it to a pulse generator 7. On the other hand, an output of the generator 7 is provided to a gate circuit 8. Also, a ratio of an output of the analyzer in a specified analysis voltage is derived, and a wiring voltage is derived from its ratio.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はストロボ電子ビーム装置に係り、特に電圧測定
の高精度化並びに高速化した電子ビームによる電圧>j
、11定装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Field of Application] The present invention relates to a strobe electron beam device, and in particular to high precision voltage measurement and high speed voltage measurement using an electron beam.
, 11, regarding a fixed device.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

ストロボ電子ビーム装置はIC等の電圧を間接的に測定
する装置として用いられている。この装置はIC等の電
圧をプローブを接続しないで、動作中の配線電圧波形等
も測定できるので、それらのICの動作テスト等多くの
有効的な測定を可能としたものである。
A strobe electron beam device is used as a device to indirectly measure the voltage of an IC or the like. This device can measure the voltage of ICs, etc. without connecting a probe, and can also measure wiring voltage waveforms during operation, making it possible to perform many effective measurements such as testing the operation of these ICs.

一般的にストロボ電子ビーム装置は第2図(alに示す
ように、動作周期に同期して電子ビームを被測定ICに
照射し、その2次電子を検出し、照射した点の電圧を測
定している。2次電子は半球状の形状をした分析器によ
って検出され、さらにA/Dコンバータ等でディジタル
データに変換されて処理されているが1分析器からの出
力は微小であり、複数回たとえば100回測定してその
平均を求めて検出電圧としている。検出電圧は被測定点
(電子ビームを照射した点)の電圧とは簡単な比例関係
ではな(、測定が有効とされる領域は少ない。このため
、第2図(blに示すように、測定時に分析器に印加す
る分析電圧を変化させ1分析電圧と1分析器の検出電圧
との関係(測定分析カーブ)を求め、あらかじめ定めら
れている基準分析カーブと比較し、被測定点の電圧を求
めている。
In general, a strobe electron beam device irradiates an IC to be measured with an electron beam in synchronization with the operating cycle, detects the secondary electrons, and measures the voltage at the irradiated point, as shown in Figure 2 (al). The secondary electrons are detected by a hemispherical analyzer, and are further converted into digital data and processed by an A/D converter, etc., but the output from one analyzer is minute and is processed multiple times. For example, the detection voltage is obtained by measuring 100 times and calculating the average.The detection voltage is not in a simple proportional relationship with the voltage at the point to be measured (the point irradiated with the electron beam). For this reason, as shown in Figure 2 (bl), the relationship between one analysis voltage and the detection voltage of one analyzer (measurement analysis curve) is determined by changing the analysis voltage applied to the analyzer during measurement. The voltage at the measured point is determined by comparing it with the reference analysis curve provided.

この測定の方法であると1分析電圧の1点において 1
00回測定し、さらに分析電圧を変化させるたびにその
測定回数を行うので、被測定点1点の電圧測定に第2図
(C1に示すように、n周期cn回)が必要となる。た
とえば約212〜2鍾回の測定が必要となる。このため
、その測定には多くの時間を必要とする問題を有してい
た。
With this measurement method, at one point of one analysis voltage, 1
Since the measurement is carried out 00 times and the measurement is repeated every time the analysis voltage is changed, the voltage measurement at one point to be measured requires measurements in FIG. 2 (n cycles cn times as shown in C1). For example, approximately 212 to 2 measurements are required. Therefore, there was a problem in that the measurement required a lot of time.

一方、これを解決する方法として、第2図(d+に示す
ように、特定のスライスレベルに検出電圧がなるように
1分析電圧を検出電圧に対応して変化させ、集束させて
測定する方法がある。しかしながら、この方法も約8回
程の分析電圧を変化させなくてはならず、測定時間の短
縮はなされているが、まだ時間を必要とする問題を有し
ていた。
On the other hand, as a method to solve this problem, as shown in Figure 2 (d+), there is a method of changing the 1 analysis voltage corresponding to the detection voltage so that the detection voltage is at a specific slice level, and then focusing and measuring. However, this method also requires changing the analysis voltage about eight times, and although the measurement time has been shortened, it still has the problem of requiring time.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

従来の電子ビームによる電圧測定装置は、前記の如く、
測定時間が長くかかり、精度が十分でないという問題点
があった。本発明は、この問題点を解決しようとするも
のである。
As mentioned above, the conventional voltage measuring device using an electron beam
There were problems in that the measurement time was long and the accuracy was not sufficient. The present invention seeks to solve this problem.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明の特徴とするところは、ストロボ電子ビーム装置
において、少なくとも2種類の分析電圧による2次電子
信号を検出する検出手段と、前記少なくとも2種類の分
析電圧による2次電子信号の電圧比を求める比演算手段
と、あらかじめ配線電圧と前記少な(とも2種類の分析
電圧による2次電子信号の電圧比との関係を記憶する記
憶手段とを有し、前記比演算手段の出力を前記記憶手段
を用いて配線電圧に変換して電圧を求めることを特徴と
した電子ビームによる電圧測定装置を提供することにあ
る。
The present invention is characterized in that a strobe electron beam device includes a detection means for detecting secondary electron signals based on at least two types of analysis voltages, and a voltage ratio of the secondary electron signals based on the at least two types of analysis voltages. It has a ratio calculation means and a storage means for storing in advance the relationship between the wiring voltage and the voltage ratio of the secondary electron signal due to the two types of analysis voltages, and the output of the ratio calculation means is stored in the storage means. An object of the present invention is to provide a voltage measuring device using an electron beam, which is characterized in that the voltage is determined by converting it into a wiring voltage using the electron beam.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

第1図は本発明の実施例の回路構成図である。 FIG. 1 is a circuit diagram of an embodiment of the present invention.

ストロボ電子ビーム装置l内の電子銃(図示せず)より
発射した電子ビームはパルスゲート1−0を介して、X
軸方向、Y軸方向にそれぞれ移動可能なX−Yステージ
1−2上に配置された被測定物すなわちICに照射され
る。その照射によってrcより2次電子が放出され分析
器1−3でその量が検出される。その出力は検出器で増
幅され2次電子信号としてA/Dコンバータ3に加わり
ディジタルデータに変換される。本発明においては前述
した動作は1周期内において複数回さらに複数周期くり
かえされる。尚、この制御は以下に説明する制御回路6
等によってなさる。
The electron beam emitted from the electron gun (not shown) in the strobe electron beam device 1 passes through the pulse gate 1-0 to
The light is irradiated onto an object to be measured, that is, an IC, which is placed on an X-Y stage 1-2 that is movable in the axial direction and the Y-axis direction. Due to the irradiation, secondary electrons are emitted from the rc, and the amount thereof is detected by the analyzer 1-3. The output is amplified by the detector and applied as a secondary electronic signal to the A/D converter 3, where it is converted into digital data. In the present invention, the above-mentioned operation is repeated multiple times within one cycle. This control is performed by the control circuit 6 described below.
etc.

ICl−1はドライバ4によって駆動され、このドライ
バ4より動作周期が求められて繰り返し信号としてディ
レィ回路5に加わる。本発明の実施例においては、動作
周期に同期して複数回たとえば、同一分析電圧において
100回行うので、このディレィ回路5は制御回路6よ
り加わるディレィ量にたとえば比例したディレィパルス
を出力する。尚、ここで出力されるディレィパルスはド
ライバ4より加わる繰り返し信号に1対1で対応する。
ICl-1 is driven by a driver 4, and the operating period is determined by the driver 4 and applied to the delay circuit 5 as a repetitive signal. In the embodiment of the present invention, since the analysis is performed multiple times, for example, 100 times at the same analysis voltage, in synchronization with the operating cycle, the delay circuit 5 outputs a delay pulse proportional to the amount of delay applied by the control circuit 6, for example. Note that the delay pulses outputted here correspond one-to-one to the repetitive signals applied from the driver 4.

そしてディレィパルスはパルス発生器7に加わる。パル
ス発生器7は制御回路6より入力する周波数データたと
えば動作周期の1/n周期等を指示するデータよりディ
レィパルスからスタートするnクロックをゲート回路8
に出力する。第3図(a)は繰り返し信号、第3図(b
lはパルス発生器7の出力を示す。たとえば、  1/
10周期単位でパルス発生器7がパルスを発生し、1周
期内の波形の100ポイント(1周期を100分割して
)測定する場合には、前述したディレィ回路5には制御
回路6から0〜9T/100  (Tは繰り返し動作時
間)のT / 100単位で変化するディレィ量が加わ
る。
The delayed pulse is then applied to the pulse generator 7. The pulse generator 7 generates n clocks starting from delay pulses from the gate circuit 8 based on frequency data inputted from the control circuit 6, for example, data indicating 1/n cycle of the operating cycle, etc.
Output to. Fig. 3(a) is a repetitive signal, Fig. 3(b)
l indicates the output of the pulse generator 7. For example, 1/
When the pulse generator 7 generates pulses in units of 10 periods and measures 100 points of the waveform within one period (dividing one period into 100), the delay circuit 5 is supplied with signals from the control circuit 6 from 0 to 100. A delay amount varying in units of T/100 of 9T/100 (T is repetition operation time) is added.

尚当然ながら、被測定信号の1ポイントを測定するのに
後述するようにたとえば100回測定するため、前述し
たディレィ量は100周期単位で変化する。
Of course, since measurements are performed 100 times, for example, as will be described later, to measure one point of the signal under test, the amount of delay described above changes in units of 100 cycles.

前述したパルス発生器7の出力はゲート回路8に加わる
。(図中■は接続されていることを示す)このゲート回
路8は加算平均処理回路9より加わる制御信号によって
パルスゲートドライバ10にパルス発生器7より加わっ
たパルスを出力する。
The output of the pulse generator 7 mentioned above is applied to a gate circuit 8. (■ in the figure indicates that it is connected) This gate circuit 8 outputs a pulse applied from the pulse generator 7 to the pulse gate driver 10 in response to a control signal applied from the averaging processing circuit 9.

このゲート回路8は加算平均処理等が終了した時等にス
トロボ電子ビームをICに照射しないようにするための
回路である。測定中であるならばこの入力したパルスは
パルスゲートドライバ10を介してパルスゲートに加わ
り、電子ビームを照射するパルスゲート1−0をオン、
オフする。これによってストロボ電子ビームが第3図(
C1に示すように、被測定物に照射される。
This gate circuit 8 is a circuit for preventing the IC from being irradiated with a strobe electron beam when the averaging process or the like is completed. If measurement is in progress, this input pulse is applied to the pulse gate via the pulse gate driver 10, and turns on the pulse gate 1-0 that irradiates the electron beam.
Turn off. As a result, the strobe electron beam is
As shown in C1, the object to be measured is irradiated.

一方1 パルスゲートドライバ10からはパルスゲート
1−0に加わるストロボパルスに1対1で対応してサン
プリング信号がA/Dコンバータ3に出力される。A/
Dコンバータ3はこの(i %によってサンプリングを
開始し7検出器2より出力される第3図Fdlに示す2
次電子信号をディジクルデータに変換する。
On the other hand, the 1-pulse gate driver 10 outputs a sampling signal to the A/D converter 3 in one-to-one correspondence with the strobe pulses applied to the pulse gates 1-0. A/
The D converter 3 starts sampling based on this (i %), and the 2 output from the detector 2 shown in FIG.
Convert the next electronic signal to digital data.

加算平均処理回路9はA/Dコンバータ3から加わるデ
ィジタル信号を動作周期内のパルスに対応して加算処理
する回路であり、それら加算結果を記憶するレジスタを
有する。たとえば、前述したように1動作周期中に10
クロツクがパルス発生器7から出力される場合には10
個のレジスタを有する。
The averaging processing circuit 9 is a circuit that performs addition processing on the digital signals applied from the A/D converter 3 in correspondence with pulses within the operating cycle, and has a register for storing the addition results. For example, as mentioned above, 10
10 if the clock is output from the pulse generator 7.
It has 2 registers.

加算平均処理回路9は制御回路6からのスタート信号に
よって、レジスタの内容をクリアするともに加算処理を
開始し、さらに制御回路6より加わる平均回数の加算処
理を行うと終了信号を制御回路6に出力するとともにス
イッチSWを介してメモリM1に平均結果を出力する。
The averaging processing circuit 9 clears the contents of the register and starts the addition process in response to the start signal from the control circuit 6, and then outputs an end signal to the control circuit 6 when the control circuit 6 performs the addition process for the number of averages added. At the same time, the average result is output to the memory M1 via the switch SW.

尚、前述した加算処理は1周期内における各クロックの
位置に対応して加算する処理であり、第3図(d)の場
合には、al+22+33”−、b++b2・・・。
The above-mentioned addition process is a process in which addition is performed corresponding to the position of each clock within one cycle, and in the case of FIG. 3(d), al+22+33"-, b++b2, . . .

等の加算である。メモリM1は分析電圧■1時の2次電
子信号の平均値すなわち検出電圧を記憶し。
etc. The memory M1 stores the average value of the secondary electron signal at analysis voltage 1, that is, the detection voltage.

メモリM2は分析電圧V2時の検出電圧を記憶する。尚
、スイッチSWは制御回路6より加わる分析電圧(Vl
、V2)が変化した時に切替わるディジタルスイッチで
ある。
The memory M2 stores the detected voltage at the analysis voltage V2. Note that the switch SW is connected to the analysis voltage (Vl) applied from the control circuit 6.
, V2) changes.

前述の動作のディレィの変化によってメモリM1.M2
には第4図に示すような各データが格納される。
By changing the delay of the operation described above, the memory M1. M2
Each data as shown in FIG. 4 is stored in .

第5図、第6図は比演算回路11と比テーブル回路12
よりそれらの出力が加わる照合回路13の動作を説明す
る分析電圧と分析器出力との関係並びに配線電圧(被測
定電圧)と分析器出力比(S=/S1)との関係を表す
特性図である。第5図に示すように1分析器出力は配線
電圧にも依存する。従来では前述したように配線電圧に
よって変化するカーブがX軸方向に移動する量によって
その配線電圧を求めていたが1本発明においては特定の
分析電圧Vl、V2における分析器出力Sl、S2の比
を求め、その比より配線電圧を求めている。換言するな
らば、あらかじめ、第6図に示すように配線電圧と分析
器出力比(S2/S口を求めておき2分析器出力比S 
2 / S +よ′り配線電圧を求める。
5 and 6 show the ratio calculation circuit 11 and the ratio table circuit 12.
A characteristic diagram showing the relationship between the analysis voltage and the analyzer output and the relationship between the wiring voltage (voltage to be measured) and the analyzer output ratio (S=/S1) to explain the operation of the verification circuit 13 to which these outputs are added. be. As shown in FIG. 5, one analyzer output also depends on the wiring voltage. Conventionally, as mentioned above, the wiring voltage was determined by the amount by which the curve that changes depending on the wiring voltage moves in the X-axis direction, but in the present invention, the ratio of the analyzer outputs Sl and S2 at specific analysis voltages Vl and V2 is calculated, and the wiring voltage is calculated from the ratio. In other words, as shown in Figure 6, the wiring voltage and the analyzer output ratio (S2/S port) are determined in advance, and the 2 analyzer output ratio S
2/S + Find the wiring voltage.

メモリMl、M2にはそれぞれのディレィに対する各測
定点のVl、V2の分析器出力31.S2が格納されて
いるので、そのメモリMl、M2の出力が加わる比演算
回路11はこのデータを用いてS2/S1を演算する。
The memories Ml and M2 contain the analyzer outputs 31 of Vl and V2 of each measurement point for each delay. Since S2 is stored, the ratio calculation circuit 11 to which the outputs of the memories M1 and M2 are added calculates S2/S1 using this data.

比テーブル回路12は第6図に示した配線電圧と分析器
出力比(S2/S+)との関係が与えられているテーブ
ルを有する回路である。照合回路13はこれらの出力が
加わるので、比演算回路11より加わるS2/Stより
比テーブル回路より出力されるテーブルデータによって
配線電圧に変換し、制御部6に出力する。そして図示し
ない表示装置等に測定結果を制御回路6は出力する。
The ratio table circuit 12 is a circuit having a table in which the relationship between the wiring voltage and the analyzer output ratio (S2/S+) shown in FIG. 6 is given. Since these outputs are added to the collation circuit 13, the S2/St added by the ratio calculation circuit 11 is converted into a wiring voltage based on the table data output from the ratio table circuit, and outputted to the control section 6. The control circuit 6 then outputs the measurement results to a display device (not shown) or the like.

尚、メモリMl、M2の入力並びに出力は図示しないが
、制御回路6の制御によってアドレスが指定される。
Although the inputs and outputs of the memories M1 and M2 are not shown, addresses are designated under the control of the control circuit 6.

前述した本発明の実施例においては、比演算回路11と
比テーブル回路12の出力が照合回路13に加わる構成
となっているが、比テーブル回路をメモリで構成し、あ
らかじめ第6図に示した分析器出力比と配線電圧の関係
を格納しておくことにより、比演算回路の出力をメモリ
のアドレスに加えることによってメモリより対応した配
線電圧が出力されるようにすることも可能である。
In the embodiment of the present invention described above, the outputs of the ratio calculation circuit 11 and the ratio table circuit 12 are added to the collation circuit 13, but the ratio table circuit is configured with a memory and the outputs of the ratio calculation circuit 11 and the ratio table circuit 12 are added to the comparison circuit 13. By storing the relationship between the analyzer output ratio and the wiring voltage, it is also possible to add the output of the ratio calculation circuit to the address of the memory so that the corresponding wiring voltage is output from the memory.

さらに1本発明の実施例においては、1周期間で複数ポ
イントの測定を行っているが、これは1ポイントでも可
能である。
Furthermore, in one embodiment of the present invention, a plurality of points are measured in one cycle, but it is also possible to measure one point.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上述べたように1本発明は分析電圧と2次電子信号す
なわち検出電圧との特性曲線を求めるのではなく、特定
の複数の分析電圧における2次電子信号の比を求め、そ
の比よりあらかじめ求められているテーブルより変換し
て配線電圧を求めるので7本発明によれば、その測定回
数はきわめて少なく、高速の測定を可能とした電子ビー
ムによる電圧測定装置を得ることができる。
As described above, the present invention does not determine the characteristic curve between the analysis voltage and the secondary electron signal, that is, the detection voltage, but rather determines the ratio of the secondary electron signal at a plurality of specific analysis voltages, and calculates the ratio in advance from that ratio. According to the present invention, the number of measurements is extremely small, and a voltage measuring device using an electron beam that can perform high-speed measurements can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の実施例の構成図、第2図は従来技術を
説明する説明図、第3図は本発明の実施例のタイミング
チャート図、第4図はメモリMl。 M2の内容を説明するメモリ構成図、第5図は分析電圧
と分析器出力の関係を表す特性曲線図、第6図は配線電
圧と分析器出力比の関係を表す特性曲線図である。 1・・・ストロボ電子ビーム装置、    2・・・検
出器、    3・・・A/Dコンパ゛−タ。 4・・・ドライバ′、    5・・・ディレィ回路。 6・・・制御回路、    7・・・パルス発生器。 8・・・ゲート回路、    9・・・加算平均処理回
路、    10・・・パルスゲートドライバ。 11・・・比演算回路、    12・・・比テーブル
回路、    13・・・照合回路。 ↑       (Q) (C) 第4@
FIG. 1 is a block diagram of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining the prior art, FIG. 3 is a timing chart of the embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a memory M1. A memory configuration diagram explaining the contents of M2, FIG. 5 is a characteristic curve diagram representing the relationship between analysis voltage and analyzer output, and FIG. 6 is a characteristic curve diagram representing the relationship between wiring voltage and analyzer output ratio. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Strobe electron beam device, 2... Detector, 3... A/D computer. 4...Driver', 5...Delay circuit. 6... Control circuit, 7... Pulse generator. 8...Gate circuit, 9...Additional averaging processing circuit, 10...Pulse gate driver. 11...Ratio calculation circuit, 12...Ratio table circuit, 13...Verification circuit. ↑ (Q) (C) 4th @

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  ストロボ電子ビーム装置において、少なくとも2種類
の分析電圧による2次電子信号を検出する検出手段と、
前記少なくとも2種類の分析電圧による2次電子信号の
電圧比を求める比演算手段と,あらかじめ配線電圧と前
記少なくとも2種類の分析電圧による2次電子信号の電
圧比との関係を記憶する記憶手段とを有し、前記比演算
手段の出力を前記記憶手段を用いて配線電圧に変換して
電圧を求めることを特徴とした電子ビームによる電圧測
定装置。
In the strobe electron beam device, a detection means for detecting secondary electron signals based on at least two types of analysis voltages;
ratio calculation means for calculating the voltage ratio of the secondary electron signal due to the at least two types of analysis voltages; and storage means for storing in advance the relationship between the wiring voltage and the voltage ratio of the secondary electron signal due to the at least two types of analysis voltages; A voltage measuring device using an electron beam, characterized in that the voltage is determined by converting the output of the ratio calculation means into a wiring voltage using the storage means.
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