JPS617536A - 酸化物陰極構体 - Google Patents

酸化物陰極構体

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JPS617536A
JPS617536A JP59125330A JP12533084A JPS617536A JP S617536 A JPS617536 A JP S617536A JP 59125330 A JP59125330 A JP 59125330A JP 12533084 A JP12533084 A JP 12533084A JP S617536 A JPS617536 A JP S617536A
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勝 二階堂
Yoshiaki Ouchi
義昭 大内
Sakae Kimura
木村 栄
Eiji Yamamoto
栄治 山本
Hisashi Yoshino
芳野 久士
Masakatsu Haga
羽賀 正勝
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J1/00Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J1/02Main electrodes
    • H01J1/13Solid thermionic cathodes
    • H01J1/14Solid thermionic cathodes characterised by the material

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は酸化物陰極構体に係り、特に安定した特性が要
求されるカラーブラウン管やディスプレイ管等に使用し
て好適な超連動かつ長寿命の酸化物陰極構体に関するも
のである。
[発明の技術的背景とその問題点] カラーブラウン管やディスプレイ管ハ、そのスイッチを
入れた時、出来るたけ速やかに出画し、安定した画面艇
得られることが望−11,い。
最近、この袈誼を満たす為に連動型陰極が広く使用さn
ている。この連動型陰極構体の一例を第1図に示す。陰
極スリーブ(121にニッケル・クロム合金9例えばク
ロムを2■1%含むニッケル・クロム合金を用い、徽幇
の還元剤9例えばマグネシウムを0.063jj: @
%、ケイ累を0.031取チ含有する王としてニッケル
よりなる基体金搗αυ上には、バリウム、ストロンチウ
ム、カルシウムの三元系炭酸塩からなる電子放射物質0
3)が塗布される。この三元系炭酸塩は、後に真空中で
加熱分解して三元系酸化物に転化される。陰極ス’J 
−7’(121は陰極の製造工程中に適当な酸素分圧を
持つ湿水素中で加熱し、クロムを選択的に酸化すること
により表面を黒化し、熱放射率を例えばニッケルの0.
2に対して0.8に増大させ、定常動作温度の高温時に
おける熱放射を増大し、かつ、この増大した熱損失に見
合うだけの例えば陰極容積当りで、これ捷での非速動型
陰極の約4倍という大きな電力をヒータ(14)に投入
することにより、急速な温度上昇を可能とするものであ
る。投入電力を増加する以外に連動性を得る方法として
は、陰極スリーブ(1つあるいは基体金属aυの容積を
小さくシ、熱容量を小さくする方法がある。
陰極の連動性を出画時間を指標として表わせば上述した
説明より明らかなように次の式で表わされる。
連動性を向上させる為にヒータ投入電力を増加させる方
法は、定常動作時の熱利用効率を下けると共に定常動作
時の陰極温度が必要り、上に高くなる危険性がある。一
方、陰極スリーブαカあるいは基体金属(11)の肉厚
を薄くして陰極の熱容量を小さくする方法は、例え則1
ヴスリーブθ2と基体金属(11)の溶接が困鼎になる
等の製造上の間顯を生じたり、薄肉化に伴う強度の低下
や還元剤の絶対量低下によるエミッションの劣化等が心
配さね、る。このような神々の要素を加味す・ると、第
1図に示した酸化物陰極構体では工業的及び実用的に実
現可能な出画時間は25〜3秒位が限度とさオ)、てき
た、なお、現在一般に市販されている連動型陰極の出画
時間は4〜5秒である。
これに対して、カラーブラウン管を始め、航空機塔載用
や車載用のディスプレイ管の分野では、より以上の連動
性、即ち1秒台出画を求める声が強い。
この1秒台の出画時lu+を満足する酸化物陰極構体と
しては、第2図に示すように、フィラメントを兼ねる基
体金属(21)を直接通電加熱し、電子放射物質(、!
3+を加熱する直熱型の酸化物陰極構体が知られている
が、この陰極414体は、制約を起こし易いし、i!、
た発熱体として抵抗を高める為に多箸に添加するタング
ステン等により形成される中間層物質がビーリングを起
し易い。また、わずかの電圧変動でもその影響を受は易
く、その為周辺回路が大がかりになる等、信頼性やコス
トの面でも多くの問題点を看しているため、傍熱〃で1
秒台出画を満足する酸化物陰極構体の開発が望まれてい
た。
この様な状況の中で超連動化を実現する酸化物陰極構体
として第3図に示すように、従来の酸化物陰極構体の基
本構造を離れ、2本の陰極スリーブ(32を溶接接合し
て横倒しにし、その上にキャップ状の基体金属C31)
を溶接接合し、この基体金属61)上に電子放射物質(
ハ)を塗布し、更に陰極スリーブ内にヒータ(財)を配
置した構造を有する超連動型酸化物陰極構体が提案され
ている。この陰gL、構体においては、第1に基体金属
Gυがヒータ(2)を加熱した時、最初に温度が上昇す
る中央部に載置されている。第2にヒータ(財)と陰極
スリーブ曽の対向面Hitが増え、熱の授受が高められ
る。第3に陰極スリーブ(32)および基体金属t31
)の薄肉化がし易い構造である等の特徴があり、ヒータ
投入電力を増加しなくも陰極構体により決する定数およ
び陰極の熱容知・を低下させることにより、1秒台出画
が可能となった。
しかしながら、第1図に示した従来の酸化物陰極に比較
し、薄肉化により生じる熱変形が起こりにくい構造とな
っているものの、全く変形が生じないわけではない。例
えば−、第1図の訝1明に用いた組成で40μmの板厚
で直径111J、II″Iさ0.15−のキャップ状基
体金属C3+)を作り、更に陰極スリーブ0乃を第1図
の説明に用いた組成で、厚さ15μm。
的径111jφ、長さ2.5*xの大きさに作り、酸化
物陰極相°体に組立て、ヒータC(4)の定格電圧の2
5チ増で1j、ll続点火したところ、使用中に基体金
属131)および陰極スリーブ(32が変形する現象が
認められた0陰極スリーブ(3カにおいては、ニッケル
・クロム合金の代わりに特開昭53 119662号に
示される所のタングステンを添加、固溶強化したニッケ
ル・クロム・タングステン合金例えば20重量%のクロ
ムと4重量%のタングステンを含むニッケル・クロム・
タングステン合金を用いることにより、変形を防止でき
、しかも10μmまで薄肉化しても、伺ら問題を起こさ
なかった。
そこで基体金属01)においても、エミッションの低下
を伴なわず、しかも薄肉化しても強度的に優れた基体金
属の開発が要望されている。
[発明の目的] 本発明は、上述した要望に鏝みてなされたものであり、
強度的に優れ、更にエミッション的にも長寿命である超
速動型の酸化物陰*構体を提供することを目的としてい
る。
[発明の概要] 即ち、本発明は、電子放射物劉が頂面に塗布形成された
微量の還元剤を含有する主としてニッケルよりなる基体
金属を少くとも具備する酸化物陰極構体において、基体
金属にイツトリウムを005重量%乃至20重量%単独
に含有するか、或いはイツトリウムを0.05重量%乃
至20重量%と他の所定重量係の元素を含有することを
特徴としており、他の所定重量%の元素が0.05重量
%乃至2.0重知チのランタンであること、他の所定M
’R%の元素が0011量チ乃至2.0iifチのハフ
ニウム、ジルコニウムの少くとも1つであること、他の
所定1−量チの元素が005重薯′rチ乃至20重量%
のランタンと、0.01油量チ乃示20.すE−1d%
のハフニウム。
ジルコニウムの少くとも1つであるζ−,+ S aの
所定重h4゛チの元素が0.01那量嘱乃至1.0亘量
チのケイ素であること、他の所定貞量チの元素が005
重も4%乃至2.0nfi−%のランタンと、0.01
 M周%乃至10重柚襲のケイ素であること、他の次定
貫量チの元素が0.01重量%乃至20重溺:チのハフ
ニウム。
ジルコニウムの少くとも1つであること、他の所つと、
0.01重量%乃至10重量−のケイ素であること、基
体金属の厚さが100μmより薄いことを実施態様とし
ている。
次に本発明の詳細な説明する前に、本発明に至った過程
について詳細仁説明する。
真空溶解→圧延法により、同一の工程で各種還元剤を含
む板厚40μmのニッケル(Ni)IJボンを作製し、
このニッケルリボンより5M幅×10ollJ長の高温
引張り試験用の試料片を切り出し、賄極製造工程及びブ
ラウン管製造工程で基体金属にかかる最高温度である、
およそ1000℃を想ボし、この温度で5分間真空焼鈍
後、陰極の動作湯度800℃を含め、室温から1000
 cの範囲で高温引張り試験を行った。その結果、陰極
の動作温度である800℃における引張り強度および伸
びは下表に下すようになった。
(以下余白) 試料番号2,4,6,8.9は還元剤の添加量を原子係
に変換すれば1はぼ0.20原子%〜025原子チとな
るように151整してあり、はぼ同量の還元剤を含有し
Cおり、添加還元剤の種類の差による変化を示している
ことになる。試料番号1.2゜4.6,8.9の比較よ
り、(1)マグネシウム(Mg )は引張強度および伸
びの改善には、はとんど寄与しない。(11)ランタン
(La)は試験温度の全ての領域で伸びの改善に犬きく
寄与する。(Ili )イツトリウム(Y)は試験温度
の全ての領域で引張り強度を大きく改善し、例えば80
0℃では試料2の半分の板厚としても試料2と同じ強度
を有する。(1v)ノ・フニウム(Hf)、ジルコニウ
ム(Zr )は室温近傍では強度の改畳効来が大きいも
のの、試験温度が上昇すると、その効果は小さくなり1
000℃以上では全くなくなる。また試料6.7あるい
は10.11の比較より(v)ケイ素(8i)もMgと
同じように高温強度および高温伸びの改善にはほとんど
寄与しないことが判明した。
更に発明者らは、基体金属に微量添加する還元剤の特性
および得られた基体金属の各裡物性などについて詳細に
調べた結果、第1にMg、タングステン(W)など、M
中にある程度固溶限を有する還元剤を添加した基体金属
では固溶強化にあずかるだけであるが、固溶限の小さい
Ng、Siではその効果は小さい。またほぼ純Niと同
じように加熱により結晶粒は成長し高温での機械的性質
の改@はもちろん期待できない。第2にZr、Hfのよ
うに遊離Baの生成反応において、基体金属の結晶粒界
を供給および反応のサイト(場所)とするとされている
還元剤を含有する基体金属においては、ある温度以上の
加熱処理で急激に結晶粒の成長を起すこと、これはZr
、 Hfが結晶粒界に偏析することにより粒界移動を抑
制するが、ある温度以上では急激にNi中への固溶度を
増すため、粒界移動の抑制効果がなくなるためであり、
機械的性質にも反映していること、第3(二Yあるいは
Laを添加した基体金属では高温で加熱処理しても、あ
まり結晶粒の成長を起こさないこと、そしてこれはYあ
るいはLaが高温でもNi中にほとんど固溶限を持たず
、Niとの安定な金属間化合物として基体金属中に分散
析出しているためであること、 La添加材では微細な
結晶粒のため粒界結合が大きく、破断クラックが伝幡し
に<<、このため伸びがよいこと、Y添加材では微細な
金属間化合物が転移の移動の障壁となって強度を増大さ
せていることが判った。
以下図面により上述した基体金属の結晶粒径について峠
、明する。先ず、第4図は基体金属を乾水素雰囲気中で
各10分間加熱した時の処理温度と、リニア・インター
セプト法(1inear 1ntercept法〕によ
って求めた基体金属の平均の結晶粒径との関係を示した
図である。即ち、曲線0υは従来の基体金属として広く
用いられている0、03重量−の84と0.06重量%
のMgを含むNi合金を加熱処理した結果を示し、曲線
(2)は0.35AC量−のZrを含む本発明の実験用
のNi合金を加熱した結果を示し、曲線(ハ)は0.5
4重量%のLaを含む本発明の実験用のN1合金を加熱
処理した結果を示す。なおこれら3種の合金は還元剤の
添加量を原子チに変換すれば、020〜0.23原子チ
となり、はぼ同量の還元剤を含有しており、添加還元剤
の種類の差による変化を示していることになる。ま友基
体金属は、いずれも真空溶解圧延法により作製し、四−
の焼鈍。
圧延工程を経て150μmの板厚まで圧延した材料を使
用した。
この第4図を見て明らかなことは、第1にMg。
Siを含む基体金属は比較的低温で結晶粒の成長を起こ
すこと、第2ζ二Zr琴独ではMg、8iを含む場合に
は結晶粒が粗大化している1000℃位迄は結晶粒の成
長が抑制されているものの、それエリ高い温度では結晶
粒の成長が起こること、第3にLaを添加した時はZr
添加で結晶粒の成長が起こる温度でも結晶粒の成長が著
しく抑制されていることを示す。なおHfを用いた場合
はZrと、またYを用いた場合はLaとほぼ同様の結果
が得られた。
次の第5図に示す曲線(24)は乾水素雰囲気中で各1
0分加熱処理をした時のLaの添加量と基体金属の平均
結晶粒径との関係を示す。測定点c3u国及び(至)i
jLaの添加量を0.15重量%、0.26重量%およ
び0.54重量%i変えた基体金属を1200℃の温度
で処理した場合の結果を示す。この第5図の結果よりL
aの添加量を変えることにより所望の結晶粒径に制御で
きることがわかる。
このようにYあるいはLaの様に高温でもNiへの固溶
限がなく、高温でも安定な金属間化合物として析出、分
散する元素を添加することによ、す、高温の処理を受け
てもほとんど結晶粒成長を起こさない基体金属を得るこ
とができ、Zr、Hfのように遊離Baの生成反応にお
いて、王として結晶粒界を供給および反応のサイトとす
る還元剤を含む基体金属の安定した使用を可能とし、 
Zr、Hfの特性を最大限に利用できる効果がある。
さて陰極の使用時、基体金属が変形するのは、第1に断
続点火の繰返しによる熱疲労、第2に点火中の自重によ
るクリープ変形によるものと考えられる。この熱疲労及
びクリープに対する抵抗を増大させるには、(a)高温
でも引張強度が低下しない材料の選択、(b)疲労クラ
ックの伝帳しにくい金属組織とする。(C)高温で安定
な析出物を分散させる等が考えられるが、上述した一連
の実験結果より、Y更にはLaを同時添加することにエ
リ、これら要件を満足すること、またHfあるいはZr
を添加することによりエミッションも、より向上させ得
ることが判明し、本発明を完成させた。
さらにYおよびLaの酸化物は電子放射物質のアルカリ
土類金属酸化物との間のなじみが悪いと云われており、
陰極の使用中、電子放射物質を活性化させた結果生じる
YおよびLaの酸化物が電子放射物質と基体金属の界面
に形成されるが、この界面で電子放射物質がはく離する
現象、いわゆるビーリングが心配された。そこでYとL
aの添加量を変えた数種の基体金属を用意し、第1図に
示したような酸化物陰極構体に組込み、三極管方式によ
り定格ヒータ電圧の30%増しで50時間ごとに三極管
に衝撃を与えるタッピング試験を行ないながら300時
間の断続点試験を行なった。この結果。
YあるいはLaの総添加量がおよそ1.7重量%を超え
る基体金属では、250時間以降のタッピング試験で電
子放射物質が基体金属との界面からはがれ落ちるものが
iめられた。さらに300時間の断続点火試験を終えた
試験三極管より不活性雰囲気中で陰極を取り出し、電子
放射物質を一定の曲率半径をもつ針の先でひつかく、ひ
つかき試験を実施(,7cところ、YおよびLaの総添
加量が、およそ1.25重量%を越える基体金属はひつ
かきにより電子放射物質がはがれるものが認められた。
これに対し、YあるいはLaに加え8iを添加したもの
ではタッピング試験およびひつかき試験において電子放
射物質のはがれは全く認められなかった。この81を添
加した基体金属と、無添加の基体金属の断面なEPMA
により調べたところ、Siを添加した基体金属では電子
放射物質の構成成分であるBaが基体金属表面近傍の結
晶粒界に沿って、基体金属内部にむかって多数浸入し、
あたかも根をおろしたような構造となっていることが判
った。
これは、 Baと複合酸化物を作り易い8iが、Baを
基体金属内へ呼び込む役目をし、あたかも電子放射物質
が基体金属中に多数板をおろしたような構造を作ること
がビーリングに対して有効であることが判った。
[発明の実施例コ 次に実施例を用いて、さらに詳細に述べる。
(実施例1) Yを0.4重量%、 Siを0.03重量%を含むNi
基の基体金属、およびYを0175重量%、ケイ素を0
.03重fチ含むNi基の基体金属を真空溶解法により
作製し、その後圧延、焼鈍などの工程を経て。
厚さ40μmのリボンを上内部1.01lJJ1.上内
部1.4龍φのキャップ状に基体金属を絞り、厚さ15
μmt。
直径0.8Mφ、長さ3.0藺の2本の陰極スリーブよ
りなる双胴型構体上にレーザ溶接し、表面に電子放射物
質を塗布し、′M3図に示されるような超連動型酸化物
陰極構体とした。この構体をディスプレイ用の電子銃に
組み込み、排気、炭酸塩の分解。
封止、ゲッタフラッシュ、活性化等の通常工程を経て断
続点火による強制寿命試験を行なった。また比較品とし
て、Mgを0.06重量%、 84を0.03重量%含
むNi基の基体金属を真空溶解し、上述した工程と同様
な工程を経て、ディスプレイ管を作製し同様に断続点火
による強制寿命試験を行なった。出画時間はいずれも、
およそ17秒であった。
寿命試験におけるカットオフ電圧の変化量を第6図に示
す。このカットオフ電圧の変化は陰極と第1グリッド間
の寸法変化に比例することから、カットオフ電圧を測定
することにより、基体金属の変形を知ることができる。
第6図において、曲線(ハ)、(4eは本発明C二係る
基体金属で、それぞれYは従来品では、基体金属が著し
く変形するのに対し、本発明の基体金属では基体金属の
変形を防止できたことを示す。しかもYを多く含む方が
その効果が著しいことが判る。
次に第7図に陰f@電流の経時変化を示す。第7図にお
いて曲線(至)、鏝は本発明に係る基体金属で、それぞ
れYを0.4,0.75重量%を含む基体金属、曲線5
7)は従来の基体金属を使用した場合の陰極電流曲線で
ある。この結果は本発明の基体金属が従来品に比ベニミ
ッション的にも優れていることを示すものである。なお
寿命試験中、いずれにおいてもビーリングは認められな
かった。
(実施例2) Yを1.25重量%含むN1合金、および■を1.25
重量%、 Stを0.05重量%含むNi合金、および
比較品として、Mgを0.06重量係、 8iを0.0
3重量%含むNi合金の丸棒を第8図に示すようなジル
コニア製容器@渇に入れ、外部からこれを高周波誘導加
熱により溶解し、溶湯をジルコニア製容器−の底に設け
られたノズル6褐より銅で作られた冷却ロール霞−表面
へ供給することにより、その接線方向に厚さ40μmの
薄肉リボンを得た。なお合金溶解からリボン作製の間、
酸化を防止するために装置全体を真空チャンバーの中に
保った。
こうして得られたリボンを所定の寸法に切断し、(実施
例1)と同じ方法で基体金属を作製し超連動陰極として
ディスプレイ管に組み入れた。
この場合、実施例1と同様に本発明に係る基体金属はカ
ットオフ電圧の変化も小さく、エミッション的にも優れ
ていることが確認された。なお8i無添加材では、突如
エミッションが劣化するものがあったが、これはピーリ
ングによるものであり、Yの添加量を増した場合、Si
の添加が望ましいことが判った。
以上(実施例1)および(実施例2)においては添加し
iYは、0.4.0.75.1.25各3i:iiKチ
ノ3種であるが、添加するY量は0.05チ以上、2.
0重量%以下が望ましい。これは0.05重量%未満で
は十分な高温強度アップの効果が得られず、また2、0
重量%を超えても効果はほぼ飽和し、それ以上の効果は
期待できないからである。
(実施例3) Yを0.45重量%、Laを0.55重1iitチ含む
Ni基の基体金属およびYを0.45重量%、 Laを
0.55チ。
8iを0.05重量%含むNi基の基体金属を真空溶解
法により作製し、その後圧延、焼鈍などの工程を経て、
厚さ40μmのリボンを作製した。このリボンより(実
施例1)と同じ方法でキャップ状基体金属を作り、カラ
ーブラウン管用の電子銃に組み込み、排気、炭酸塩の分
屏、封止、ゲッタフラッシュ、活性化等の工程を経て、
カラーブラウン管を作製し、(実施例1)と同じ条件で
断続点火による強制寿命試験を行なった。′!!:た比
較品としてMgを0.06重量%、 Siを0.03重
量%含むNi基の基体金属を真空溶解し、上述した工程
と同様な工程を経てカラーブラウン管を作製し、同様に
断続点火による強制寿命試験を行なった。その結果、い
ずれの基体金属を使用したカラーブラウン管においても
、出画時間はおよそ1.6〜1.7秒であったが(実施
例1)および(実施例2)と同様に本発明に係る基体金
属は、カットオフ電圧の変化が小さく、エミッション的
にも優れていること、さらにケイ素を添加した基体金属
は、エミッションに対しても効果があることがわかった
。なお強制寿命試験中、いずれの基体金属を使用しCも
ピーリングは認められなかった。
(実施例4) Yを1.5重量%、 Laを1.5重量・チ含むNi合
金およびYを1.5重量%、Laを15重量%、Siを
0.07重量%含むNi合金、及び比較品としてMgを
0.06重量%+−Siを0.03重にチ含むNiを使
用して(実施例2)と同様に厚さ40μ” +1] 1
0mの薄肉リボンを作り、このリボンより(実施例1)
と同じようにキャップ状基体金属を作製し、超連動陰極
としてカラーブラウン管に組み込°み(実施例1)と同
じ条件で強制寿命試験を行なった。
この場合も他の実施例と同様に本実施例に係る基体金属
はカットオフ電圧の変化がほとんどなく従って基体金属
の変形もほとんどなく、シかもエミッション的にも優れ
ていることが確認された。
なお本実施例に係る基体金属のうち、8i無添加材では
長時間の使用でピーリングを起こしたが、Si添加材で
は長時間の使用においても全くピーリングは認められず
、安定した使用が可能であった。
上述した(実施例3)及び(実施例4)はYを0.45
重量%、ランタンを0.55重量%含有したN1基の基
体金属及びYを1.5重量%、 Laを1.5重量%含
有したNi基の基体金属の2種について説明したが、添
加量はLaが0.05重量%以上2重量−以下が望まし
い。これはo、 o s 垂素チ未満では十分な高温強
度アップや高温伸びアップの効果が得られず、また2重
量%を超えても効果はほぼ飽和し、それ以上の効果は期
待できないからである。
また(実施例1)及び(実施例3)は真空溶解−圧延法
によす、(実施例2)、(実施例4)(二おいては°溶
湯急冷法により基体金属用のリボンを作製したが、こ7
″LはYとLaの総添加量が1重量%を超えると、著し
く加工性特に熱間加工性が低下するためである。しかし
ながら本発明は基体金属の製造方法により限定されるも
のではない。
一方、8i)添加量は、0.01*ft%以上、1.0
重量%未満が望ましい。これは0.01重量%未満では
十分なピーリング防止の効果が期待できず、また1、0
重量%を超えると%  S+自身がピーリングに対し悪
影響を及ばすからである。
(実施例5) Yをo、261.H%、 Zrを0..13m’Ii%
含むNi基の基体金属を真空溶解法により作製し、その
後圧延1焼鈍などの通常の工程を経て、厚さ100μm
直径1.3*aの円板に打ち抜き、第1図に示す陰極ス
リーブの先端に溶接し、表面に電子放射物質を塗布した
のち、カラーブラウン管の電子銃に組込み、次に排気、
炭酸塩の分解、封止、ゲッタフラッシュ、活性化等の通
常の工程を経て強制寿命試験を行なった。また比較品と
してZrのみを0.13重量%含むNi基の基体金属を
真空溶解し、上述の工程と同様な工程を経てカラーブラ
ウン管を作成し間開におけるカットオフ電圧の変動値を
測定したところ比較品の方が約3チ大きく、変形に対し
て本実施例の方が優れているし、またエミッションも大
幅に優れていることが判った。
本実施例において添加したZrVio、13重量r%で
あるが添加する元素はHfでも同様な効果を得ることが
でき、Zr、Hfの少なくとも一つを0.05劃■以上
、2.0重量%以下含有することが望ましい。これ(d
O,053ki%未満では十分な還元力が期待できず、
また2、0重量%を超えると、それ以上の一電子放射能
力の向上は期待できず、むしろ電子放射物質の消耗を早
めるだけであるからである。
[発明の効果] 上述のように本発明(二係る基体金属を具備した電子銃
を配置した電子管、特に安定した特性の要求されるディ
スプレイ管においては、基体金属の変形がなく、安定し
た寿命特性を示し、しがもきわだった超速動性を有する
極めて品位の良好な管特性を得ることができる。
第1図乃至d3図は従来及び本発明に係る基体金属を具
備するそれぞれ異なる連動型酸化物陰極構体な示す図で
あり、第1図(a)は連動型酸化物陰極構体の正面図、
第1図(b)は第1図(a)の要部断面図、第2図(a
)は直熱型酸化物陰極構体の正面図、第2図(b)は第
2図(a)の要部断面図、第3図(a) tfi超速超
速酸型酸化物陰極構体部切欠上面7図、第3図(b)は
第3図(a)の要VA断面図、第4図は処理温度と結晶
粒径の関係を示すグラフ、第5図はLa添加量と結晶粒
径の関係を示す曲線図、第6図および第7図は本発明と
従来のそれぞれ異る強制寿命試験結果を示すグラフ、第
8図は溶湯急冷法の説明図である。
11、21.31・・・基体金属 12.32・・・陰
極スリーブ13、23.33・・・電子放射物質 14
.34・・・ヒータ61・・・溶湯      62・
・・セラミックス容器63・・・高周波コイル  64
・・・ノズル67・・・リボン     68・・・冷
却ロール第  1  図 第  2  図 第  3  図 第  4  図 第  5  図 第  6  図 第  7  図

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)電子放射物質が頂面に塗布形成された微量の還元
    剤を含有する王としてニッケルよりなる基体金属を少く
    とも具備する酸化物陰極構体において、前記基体金属に
    イットリウムを0.05重量%乃至2.0重量%単独に
    含有するか、或いは前記イットリウムを0.05重量%
    乃至2.0重量%と他の所定重量%の元素を含有するこ
    とを特徴とする酸化物陰極構体。
  2. (2)他の所定重量%の元素が0.05重量%乃至2.
    0重量%のランタンであることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載の酸化物陰極構体。
  3. (3)他の所定重量%の元素が0.01重量%乃至2.
    0重量%のハフニウム、ジルコニウムの少くとも1つで
    あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の酸化
    物陰極構体。
  4. (4)他の所定重量%の元素が0.05重量%乃至2.
    0重量%のランタンと、0.01重量%乃至2.0重量
    %のハフニウム、ジルコニウムの少くとも1つであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の酸化物陰極
    構体。
  5. (5)他の所定重量%の元素が0.01重量%乃至1.
    0重量%のケイ素であることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項記載の酸化物陰極構体。
  6. (6)他の所定重量%の元素が0.05重量%乃至2.
    0重量%のランタンと、0.01重量%乃至1.0重量
    %のケイ素であることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の酸化物陰極構体。
  7. (7)他の所定重量%の元素が0.01重量%乃至2.
    0重量%のハフニウム、ジルコニウムの少くとも1つで
    あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の酸化
    物陰極構体。
  8. (8)他の所定重量%の元素が0.05重量%乃至2.
    0重量%のランタンと、0.01重量%乃至2.0重量
    %のハフニウム、ジルコニウムの少なくとも1つと、0
    .01重量%乃至1.0重量%のケイ素であることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の酸化物陰極構体。
  9. (9)基体金属の厚さが100μmより薄いことを特徴
    とする特許請求の範囲第1項乃至第8項いずれかに記載
    の酸化物陰極構体。
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