JPS6166541A - 制御式ラジアル磁気軸受装置 - Google Patents
制御式ラジアル磁気軸受装置Info
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- JPS6166541A JPS6166541A JP18874684A JP18874684A JPS6166541A JP S6166541 A JPS6166541 A JP S6166541A JP 18874684 A JP18874684 A JP 18874684A JP 18874684 A JP18874684 A JP 18874684A JP S6166541 A JPS6166541 A JP S6166541A
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- Japan
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- bias
- spindle
- load
- control
- magnetic flux
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C32/00—Bearings not otherwise provided for
- F16C32/04—Bearings not otherwise provided for using magnetic or electric supporting means
- F16C32/0406—Magnetic bearings
- F16C32/044—Active magnetic bearings
- F16C32/0444—Details of devices to control the actuation of the electromagnets
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
- H02K7/00—Arrangements for handling mechanical energy structurally associated with dynamo-electric machines, e.g. structural association with mechanical driving motors or auxiliary dynamo-electric machines
- H02K7/08—Structural association with bearings
- H02K7/09—Structural association with bearings with magnetic bearings
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)
- Connection Of Motors, Electrical Generators, Mechanical Devices, And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、磁気軸受装置に関し、特に制御式ラジアル
磁気軸受装置に関するものである。
磁気軸受装置に関するものである。
近年、致方ｒｐｍというような高速で回転する工作機械
のスピンドル用の軸受として制御式磁気軸受が使用され
始めている。これらの磁気軸受のうちスピンドル等の回
転軸体をその半径方向に軸受支持するための制御式ラジ
アル磁気軸受は、一般に、回転軸体の軸線に直角なＸＹ
平面のＸ軸側およびＹ軸用の２組の電磁石とこれらの各
軸方向における回転軸体の位置を検出するための位置セ
ンサとからなり、各他方向における回転軸体の位置制御
は各位ｆｉＴセンサで回転軸体の変位をそれぞれ検出し
、これらの各変位を示す信号値と°設定基準値との偏差
を増幅し、位相補償した後電力増幅することによりＸ軸
周およびＹ軸用の各電磁石の電磁力を制御することによ
って行なわれている。
のスピンドル用の軸受として制御式磁気軸受が使用され
始めている。これらの磁気軸受のうちスピンドル等の回
転軸体をその半径方向に軸受支持するための制御式ラジ
アル磁気軸受は、一般に、回転軸体の軸線に直角なＸＹ
平面のＸ軸側およびＹ軸用の２組の電磁石とこれらの各
軸方向における回転軸体の位置を検出するための位置セ
ンサとからなり、各他方向における回転軸体の位置制御
は各位ｆｉＴセンサで回転軸体の変位をそれぞれ検出し
、これらの各変位を示す信号値と°設定基準値との偏差
を増幅し、位相補償した後電力増幅することによりＸ軸
周およびＹ軸用の各電磁石の電磁力を制御することによ
って行なわれている。
Ｘ、Ｙ各組の各電磁石は回転軸体の軸心に対して対称な
位置に配置されており、通常、バイアス磁束を与えるた
めのバイアスコイルと、軸体ノ変位に対して磁束を制御
するための制御コイルを備えている。また、一般に、コ
イルに流れる電流ｉと電磁吸引力Ｆとの関係はＦ＝に＋
ｉ２で表わされるが、たとえばＸ軸周電磁石の２つの電
磁石Ａ、Ｂ（図参照）のバイアスコイルに一定のバイア
ス電流ｉＢを流して電磁石Ａ、Ｂが軸体を互いに引き合
うようにした場合、制御コイルを流れる制御電流ｉＣ、
バイアス電流ｉＢと電磁石−軸体間の軸受力Ｆとの関係
は一次近似で次式■で与えられる。
位置に配置されており、通常、バイアス磁束を与えるた
めのバイアスコイルと、軸体ノ変位に対して磁束を制御
するための制御コイルを備えている。また、一般に、コ
イルに流れる電流ｉと電磁吸引力Ｆとの関係はＦ＝に＋
ｉ２で表わされるが、たとえばＸ軸周電磁石の２つの電
磁石Ａ、Ｂ（図参照）のバイアスコイルに一定のバイア
ス電流ｉＢを流して電磁石Ａ、Ｂが軸体を互いに引き合
うようにした場合、制御コイルを流れる制御電流ｉＣ、
バイアス電流ｉＢと電磁石−軸体間の軸受力Ｆとの関係
は一次近似で次式■で与えられる。
Ｆ→Ｋ （ｉＢ＋１Ｃ）２−Ｋ（ｉＢ−１Ｃ）２＝４Ｋ
ｉＢｉＣ・・・叩・曲■従って、バイアス電流ｉＢが一
定であれば、軸受力Ｆと制御電流ｉＣとの間に線形の関
係が得られるため、この関係を用いて制御コイルによる
軸体の位置制御が行なわれている。なお、軸受力Ｆが上
式■て表わされるのは、電磁石Ａ、Ｂのバイアスコイル
が一定のバイアス電流ｉＢで軸体を互いに逆向きに引き
合うよう励磁されるのに対し、制御電流ｉＣによって電
磁石Ａ側の制御コイルがその吸引力を強める向きに励磁
される時には、電磁石Ｂ側の制御コイルは電磁石Ｂの吸
引力を弱める向きに励磁されるようになっているからで
ある。
ｉＢｉＣ・・・叩・曲■従って、バイアス電流ｉＢが一
定であれば、軸受力Ｆと制御電流ｉＣとの間に線形の関
係が得られるため、この関係を用いて制御コイルによる
軸体の位置制御が行なわれている。なお、軸受力Ｆが上
式■て表わされるのは、電磁石Ａ、Ｂのバイアスコイル
が一定のバイアス電流ｉＢで軸体を互いに逆向きに引き
合うよう励磁されるのに対し、制御電流ｉＣによって電
磁石Ａ側の制御コイルがその吸引力を強める向きに励磁
される時には、電磁石Ｂ側の制御コイルは電磁石Ｂの吸
引力を弱める向きに励磁されるようになっているからで
ある。
上記のような従来の制御式ラジアル磁気軸受において、
最大軸受力すなわち最大負荷容量Ｆｍａｘは電磁石の磁
束密度が飽和するコイルの電流値、すなわちバイアス電
流ｉＢと制御電流ｉＣの和ｉＢ＋ｉｃによって決定され
る。今、ｉＢ＋ｉｃ＝工のとき磁束飽和が生じるものと
すると、上式■よりＦ≦Ｋ（Ｉ−（ｉＢ−ｉＣ）２）で
あるから、ｉＣ＝ ｉＢ ＝＋Ｉのとき軸受力Ｆはその
最大値Ｆｍａｘ＝ＫＪ になる。そのため、磁気軸受に
おいては、この最大負荷窓ｆｉ Ｆｍａｘ＝に工２ が
得られるよう、バイアス磁束密度が飽和磁束密度の約２
分の１となる値にバイアス電流ｉＢを固定することが行
なわれているが、工作機械スピンドルの空転時、あるい
は切削時でも切込量が小さい場合等、最大負荷容量に対
して小さい負荷しかかかつていない時にもこのように比
較的大きいバイアス磁束 を固定的に回転軸体に作用さ
せることは無駄であり、その分ヒステリシス損、渦電流
損等の鉄損を増大させ、回転軸体の発熱の原因となる。
最大軸受力すなわち最大負荷容量Ｆｍａｘは電磁石の磁
束密度が飽和するコイルの電流値、すなわちバイアス電
流ｉＢと制御電流ｉＣの和ｉＢ＋ｉｃによって決定され
る。今、ｉＢ＋ｉｃ＝工のとき磁束飽和が生じるものと
すると、上式■よりＦ≦Ｋ（Ｉ−（ｉＢ−ｉＣ）２）で
あるから、ｉＣ＝ ｉＢ ＝＋Ｉのとき軸受力Ｆはその
最大値Ｆｍａｘ＝ＫＪ になる。そのため、磁気軸受に
おいては、この最大負荷窓ｆｉ Ｆｍａｘ＝に工２ が
得られるよう、バイアス磁束密度が飽和磁束密度の約２
分の１となる値にバイアス電流ｉＢを固定することが行
なわれているが、工作機械スピンドルの空転時、あるい
は切削時でも切込量が小さい場合等、最大負荷容量に対
して小さい負荷しかかかつていない時にもこのように比
較的大きいバイアス磁束 を固定的に回転軸体に作用さ
せることは無駄であり、その分ヒステリシス損、渦電流
損等の鉄損を増大させ、回転軸体の発熱の原因となる。
特に高速回転するスピンドル等の場合は、この発熱は無
視できず、大容量の強制空冷装置によって冷却しなけれ
ばならない。
視できず、大容量の強制空冷装置によって冷却しなけれ
ばならない。
この発明は上記のような事情に鑑みなされたもので、そ
の目的は工作機械スピンドルに取付けられた工具の切込
量の変化等による外部負荷の変動に応動して負荷容量を
変化させ、低負荷時には小負荷容量、高負荷時には大負
荷容量とすることにより低負荷時の回転軸体の発熱を低
（抑えることができるようにした制御式ラジアル磁気軸
受装置を提供することにある。
の目的は工作機械スピンドルに取付けられた工具の切込
量の変化等による外部負荷の変動に応動して負荷容量を
変化させ、低負荷時には小負荷容量、高負荷時には大負
荷容量とすることにより低負荷時の回転軸体の発熱を低
（抑えることができるようにした制御式ラジアル磁気軸
受装置を提供することにある。
上記の問題点を解決するために、この発明はバイアス磁
束を発生するバイアスコイルおよび回転軸体に作用する
磁束をその半径方向の変位に応動して制御するための制
御コイルをそれぞれ有して互いに回転軸体の軸心に対し
対称状に配置された電磁石対をなす複数組の電磁石と、
回転軸体の半径方向の位置を検出するための各電磁石対
毎に備えられた位置センサと、位置センサの出力に応じ
て電磁石対の制御コイル電流を制御する制御回路とから
なる制御式ラジアル磁気軸受装置において、上記バイア
ス磁束を回転軸体の半径方向における軸受負荷の変動に
応じて制御するためのバイアス磁束制御手段を備えたこ
とを特徴とする制御式ラジアル磁気軸受装置を提供する
ものである。
束を発生するバイアスコイルおよび回転軸体に作用する
磁束をその半径方向の変位に応動して制御するための制
御コイルをそれぞれ有して互いに回転軸体の軸心に対し
対称状に配置された電磁石対をなす複数組の電磁石と、
回転軸体の半径方向の位置を検出するための各電磁石対
毎に備えられた位置センサと、位置センサの出力に応じ
て電磁石対の制御コイル電流を制御する制御回路とから
なる制御式ラジアル磁気軸受装置において、上記バイア
ス磁束を回転軸体の半径方向における軸受負荷の変動に
応じて制御するためのバイアス磁束制御手段を備えたこ
とを特徴とする制御式ラジアル磁気軸受装置を提供する
ものである。
上記の溝成゛を有するこの発明の制御式ラジアル磁気軸
受装置において、各電磁石対のバイアスコイルは回転軸
体を互いに等しい電磁吸引力で逆向きに引張るバイアス
磁束を発生し、制御コイルは位置センサの出力に応じて
電磁石対の一方の電磁石の吸引力を強め、他方の電磁石
の吸引力を弱めるような磁束を発生することにより回転
軸体の偏心を最少限に抑える機能を有する。
受装置において、各電磁石対のバイアスコイルは回転軸
体を互いに等しい電磁吸引力で逆向きに引張るバイアス
磁束を発生し、制御コイルは位置センサの出力に応じて
電磁石対の一方の電磁石の吸引力を強め、他方の電磁石
の吸引力を弱めるような磁束を発生することにより回転
軸体の偏心を最少限に抑える機能を有する。
バイアス磁束制御手段は、回転軸体に加わる外部負荷に
応じてバイアス電流すなわちバイアス磁束を加減するこ
とにより、必要以上のバイアス磁束が回転軸体に作用す
るのを防ぐ。たとえば、工作機械スピンドルの空転時あ
るいは軽切削時等、回転軸体に加わる外部負荷が小さい
時は、磁気軸受の負荷容量も小さくて済むので、バイア
ス制御手段はバイアス磁束を弱め、外部負荷が増大した
時にのみ、その程度に応じてバイアス電流を増加させて
磁気軸受の負荷容量を大きくする。
応じてバイアス電流すなわちバイアス磁束を加減するこ
とにより、必要以上のバイアス磁束が回転軸体に作用す
るのを防ぐ。たとえば、工作機械スピンドルの空転時あ
るいは軽切削時等、回転軸体に加わる外部負荷が小さい
時は、磁気軸受の負荷容量も小さくて済むので、バイア
ス制御手段はバイアス磁束を弱め、外部負荷が増大した
時にのみ、その程度に応じてバイアス電流を増加させて
磁気軸受の負荷容量を大きくする。
以下、この発明の制御式ラジアル磁気軸受装置の一実施
例について図面を参照しつつ詳細に説明する。
例について図面を参照しつつ詳細に説明する。
図示実施例において、工作機械のスピンドル１はその軸
線に直角なＸＹ平市内において互いに９０度の角をなし
て配置されたＸ軸周電磁石対２ｘおよびＹ軸周電磁石対
２Ｙを存するラジアル磁気軸受２によって半径方向に軸
受けされ、モータ３によって矢印Ｐの方向に回転する。
線に直角なＸＹ平市内において互いに９０度の角をなし
て配置されたＸ軸周電磁石対２ｘおよびＹ軸周電磁石対
２Ｙを存するラジアル磁気軸受２によって半径方向に軸
受けされ、モータ３によって矢印Ｐの方向に回転する。
図中、符号４はＮスピンドル１の軸方向（Ｚ方向）の変
位を阻止するためのスラスト軸受である。なお、ラジア
ル磁気軸受２は、通常、スピンドル１の端部近傍等、軸
方向適宜の位置に２つ以上備えられる。
位を阻止するためのスラスト軸受である。なお、ラジア
ル磁気軸受２は、通常、スピンドル１の端部近傍等、軸
方向適宜の位置に２つ以上備えられる。
上記磁気軸受２が配置された平面のＸ軸上およびＹ軸上
には、スピンドル１の基僧位のに対するＸ軸方向および
Ｙ軸方向の変位を検出し、変位量に応じた出力を発生す
るＸ軸周位置センサ５ＸおよびＹ軸周位置センサ５Ｙが
それぞれ配置されている。以下、Ｙ軸周電磁石対２Ｙは
Ｘ軸出電磁石対２Ｘと描成および作用が全く同様である
ため、Ｘ軸出電磁石対２Ｘについてのみ詳細に説明する
。
には、スピンドル１の基僧位のに対するＸ軸方向および
Ｙ軸方向の変位を検出し、変位量に応じた出力を発生す
るＸ軸周位置センサ５ＸおよびＹ軸周位置センサ５Ｙが
それぞれ配置されている。以下、Ｙ軸周電磁石対２Ｙは
Ｘ軸出電磁石対２Ｘと描成および作用が全く同様である
ため、Ｘ軸出電磁石対２Ｘについてのみ詳細に説明する
。
Ｘ軸出電磁石対２Ｘの各電磁石ＡおよびＢはスピンドル
１の所定の回転軸心に対して互いに対称に配置され、そ
れぞれスピンドル１を逆向きに引き合う電磁吸引力を及
ぼすバイアスコイル６Ａおよび６Ｂと、スピンドル１の
変位に応動してこれに作用する磁束を加減する制御コイ
ル７Ａおよび７Ｂを有する。これらのバイアスコイル６
Ａと６Ｂおよび制御コイル７Ａと７Ｂはそれぞれ互いに
直列に接続されており、バイアスコイル６ Ａ＋ ６
Ｂはスピンドル１を互いに逆向きで等しい強さの磁束を
作用させて引き合うが、制御コイル７Ａ 、 ７Ｂは互
いに同じ向きの磁場を作り出して、たとえば制御コイル
７Ａがバイアスコイル６Ａの磁束を強める向きに作用す
る時、制御コイル７Ｂはバイアスコイル６Ｂの磁束を弱
める向きに作用する。
１の所定の回転軸心に対して互いに対称に配置され、そ
れぞれスピンドル１を逆向きに引き合う電磁吸引力を及
ぼすバイアスコイル６Ａおよび６Ｂと、スピンドル１の
変位に応動してこれに作用する磁束を加減する制御コイ
ル７Ａおよび７Ｂを有する。これらのバイアスコイル６
Ａと６Ｂおよび制御コイル７Ａと７Ｂはそれぞれ互いに
直列に接続されており、バイアスコイル６ Ａ＋ ６
Ｂはスピンドル１を互いに逆向きで等しい強さの磁束を
作用させて引き合うが、制御コイル７Ａ 、 ７Ｂは互
いに同じ向きの磁場を作り出して、たとえば制御コイル
７Ａがバイアスコイル６Ａの磁束を強める向きに作用す
る時、制御コイル７Ｂはバイアスコイル６Ｂの磁束を弱
める向きに作用する。
上記の制御コイルの制御電流ｉＣは制御回路８によって
制御される。この制御回路８は、スピンドル１のＸ軸方
向の所定の基準位置を示す一定の基準電圧を供給する基
準電圧発生器９、位置センサ５Ｘの出力と上記基準電圧
との差を増幅する偏差増幅器１０、制御系の位相進みま
たは遅れを補償するための位相補償回路１１、および位
相補償回路１１の出力に応じて制御電流ｉＣを制御コイ
ル７Ａの動作に必要なレベルに増幅するための電力増幅
器１２で楢成されている。
制御される。この制御回路８は、スピンドル１のＸ軸方
向の所定の基準位置を示す一定の基準電圧を供給する基
準電圧発生器９、位置センサ５Ｘの出力と上記基準電圧
との差を増幅する偏差増幅器１０、制御系の位相進みま
たは遅れを補償するための位相補償回路１１、および位
相補償回路１１の出力に応じて制御電流ｉＣを制御コイ
ル７Ａの動作に必要なレベルに増幅するための電力増幅
器１２で楢成されている。
他方、切込み深さの大小等、スピンドル１の外部負荷状
態はその変位として現われるので、位置センサ５Ｘによ
って検出することができ、従って偏差増幅器１０の出力
、あるいはこれと比例関係にある位相補償回路１１の出
力、さらには制御電流ｉＣはスピンドル１の外部負荷状
態をも表わし、外部負荷が大きくなれば制御電流ｉＣも
増加する。
態はその変位として現われるので、位置センサ５Ｘによ
って検出することができ、従って偏差増幅器１０の出力
、あるいはこれと比例関係にある位相補償回路１１の出
力、さらには制御電流ｉＣはスピンドル１の外部負荷状
態をも表わし、外部負荷が大きくなれば制御電流ｉＣも
増加する。
このような外部負荷の変化に応じてラジアル磁気軸受２
の負荷器（？１を加減するために、図示実施例において
は、位相補償回路１１の出力を時定数が数ヘルツ（数１
００ミリ秒）の積分器１３に供給し、その出力電圧ＶＣ
によってバイアスコイル５Ａ。
の負荷器（？１を加減するために、図示実施例において
は、位相補償回路１１の出力を時定数が数ヘルツ（数１
００ミリ秒）の積分器１３に供給し、その出力電圧ＶＣ
によってバイアスコイル５Ａ。
６Ｂを励磁する定電流直流電源装置１４の出力電流、す
なわちバイアス電流ｉＢを制御するようになっている。
なわちバイアス電流ｉＢを制御するようになっている。
このようにして、スピンドル１の軽負荷時にはバイアス
電流ｉＢを小さくしてバイアス磁束を弱めることにより
磁気軸受の負荷Ｂ 、ｑは小さくなり、外部負荷が増大
した時にのみ、その程度に応じてバイアス電流ｉＢが増
加し、負荷容量が太き（なる。なお、定電流直流電源装
置１４の出力電流は積分器１３の出力電圧ＶＣのみによ
って変化し、入力電源電圧等の′φ動によっては変°化
しｆｊい。
電流ｉＢを小さくしてバイアス磁束を弱めることにより
磁気軸受の負荷Ｂ 、ｑは小さくなり、外部負荷が増大
した時にのみ、その程度に応じてバイアス電流ｉＢが増
加し、負荷容量が太き（なる。なお、定電流直流電源装
置１４の出力電流は積分器１３の出力電圧ＶＣのみによ
って変化し、入力電源電圧等の′φ動によっては変°化
しｆｊい。
上記実施例において、バイアス電流ｒＢが増加すると、
制御電流ｉＣから軸受力への伝達ゲインが増加するため
、閉ループ制御系統の閉ループ伝達関数のクロスオーバ
ー周波数が高周波数側へ移動し、その結果系の安定性が
損なわれる場合があるが、このような場合は、制御系に
積分器１３の出力ＶＣ信号値を除算するための除算器を
付加することによって閉ループ系のゲイン変化を押える
ようにしてもよい。また、積分器１３の出力、すなわち
定電流直流電源装置１４の制御電圧ＶＣはＹ動用電磁石
２Ｙのバイアス電流制御にも共通に使用することが望ま
しい。この場合、積分器１３の入力は、Ｙ動用電磁石２
Ｙの制御回路（図示せず）から得てもよく、あるいはＸ
、Ｙ各軸の制御回路の出力を平均したものを入力するよ
うにしてもよい。
制御電流ｉＣから軸受力への伝達ゲインが増加するため
、閉ループ制御系統の閉ループ伝達関数のクロスオーバ
ー周波数が高周波数側へ移動し、その結果系の安定性が
損なわれる場合があるが、このような場合は、制御系に
積分器１３の出力ＶＣ信号値を除算するための除算器を
付加することによって閉ループ系のゲイン変化を押える
ようにしてもよい。また、積分器１３の出力、すなわち
定電流直流電源装置１４の制御電圧ＶＣはＹ動用電磁石
２Ｙのバイアス電流制御にも共通に使用することが望ま
しい。この場合、積分器１３の入力は、Ｙ動用電磁石２
Ｙの制御回路（図示せず）から得てもよく、あるいはＸ
、Ｙ各軸の制御回路の出力を平均したものを入力するよ
うにしてもよい。
以上、詳細に説明したように、この発明によれば、工作
機械スピンドル等の外部負荷に応動して負荷容債を加減
することによりスピンドルの発熱を低（抑えることがで
きるとともにエネルギー消費の低減か再（ｉヒな制御式
ラジアル磁気軸受装置が得られる。
機械スピンドル等の外部負荷に応動して負荷容債を加減
することによりスピンドルの発熱を低（抑えることがで
きるとともにエネルギー消費の低減か再（ｉヒな制御式
ラジアル磁気軸受装置が得られる。
図はこの発明の制御式ラジアル磁気軸受装置の一実施例
の斜視図で、制御系統はブロック図で示Ｘ軸用電磁石対
、２Ｙ・・・Ｙ軸用電磁石対、５Ｘ・・・Ｘ軸用位置セ
ンサ、５Ｙ・・・Ｙ軸出位置センサ、Ａ 、 Ｉｓ・・
・電磁Ｇ、６Ａ、６Ｂ・・・バイアスコイル、７Ａ、７
１１・・・制御コイル、８・・・制御回路、１３・・・
積分器、１４・・・定電流直流電源装置。
の斜視図で、制御系統はブロック図で示Ｘ軸用電磁石対
、２Ｙ・・・Ｙ軸用電磁石対、５Ｘ・・・Ｘ軸用位置セ
ンサ、５Ｙ・・・Ｙ軸出位置センサ、Ａ 、 Ｉｓ・・
・電磁Ｇ、６Ａ、６Ｂ・・・バイアスコイル、７Ａ、７
１１・・・制御コイル、８・・・制御回路、１３・・・
積分器、１４・・・定電流直流電源装置。
Claims (2)
- （１）バイアス磁束を発生するバイアスコイルおよび回
転軸体に作用する磁束をその半径方向の変位に応動して
制御するための制御コイルをそれぞれ有して互いに回転
軸体の軸心に対し対称状に配置された電磁石対をなす複
数組の電磁石と、回転軸体の半径方向の位置を検出する
ための各電磁石対毎に備えられた位置センサと、位置セ
ンサの出力に応じて対応する電磁石対の制御コイル電流
を制御する各電磁石対毎に備えられた制御回路とからな
る制御式ラジアル磁気軸受装置において、上記バイアス
磁束を回転軸体の半径方向における軸受負荷の変動に応
動して制御するためのバイアス磁束制御手段を備えたこ
とを特徴とする制御式ラジアル磁気軸受装置。 - （２）前記バイアス磁束制御手段が前記制御回路におけ
る制御コイル電流のパラメータを検出する検出手段と、
この検出手段の出力によりバイアスコイルの定電流直流
電源装置の出力電流を制御する手段とよりなる特許請求
の範囲第１項記載の制御式ラジアル磁気軸受装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18874684A JPS6166541A (ja) | 1984-09-08 | 1984-09-08 | 制御式ラジアル磁気軸受装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18874684A JPS6166541A (ja) | 1984-09-08 | 1984-09-08 | 制御式ラジアル磁気軸受装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6166541A true JPS6166541A (ja) | 1986-04-05 |
| JPH0232868B2 JPH0232868B2 (ja) | 1990-07-24 |
Family
ID=16229045
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18874684A Granted JPS6166541A (ja) | 1984-09-08 | 1984-09-08 | 制御式ラジアル磁気軸受装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6166541A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63145818A (ja) * | 1986-12-05 | 1988-06-17 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 磁気軸受装置 |
| JPS63132120U (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-30 | ||
| JPS63132118U (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-30 | ||
| JPH0198708A (ja) * | 1987-10-07 | 1989-04-17 | Ebara Res Co Ltd | ラジアル磁気軸受装置 |
| JPH0232733A (ja) * | 1988-07-21 | 1990-02-02 | Seiko Instr Inc | 磁気軸受の制御装置 |
| JPH03317U (ja) * | 1989-05-24 | 1991-01-07 | ||
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