JPS6165898A - 11−アンドロステン誘導体および抗アンドロジエン剤 - Google Patents
11−アンドロステン誘導体および抗アンドロジエン剤Info
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- JPS6165898A JPS6165898A JP18854684A JP18854684A JPS6165898A JP S6165898 A JPS6165898 A JP S6165898A JP 18854684 A JP18854684 A JP 18854684A JP 18854684 A JP18854684 A JP 18854684A JP S6165898 A JPS6165898 A JP S6165898A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
産業上の利用分野
本発明は新規なアシドロステン誘導体に関し、更に詳し
くは、11−アンドロステン誘導体、およびそれらを有
効成分とする抗アンドロジエシ剤に関するものである。 発明の構成 本発明の新規化合物、11−アシドロステン誘導体は、
一般式(I): (式中、Rは水素原子、またはαもしくはβ配位の低級
アルキルであり、点線は4位二重結合の存在または不存
在を表わす。但し、几が水素のとき、4〜5位は飽和と
する。) で示される。 上記の定義において、低級アルキルとは、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、5eC−ブチル
、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル等の01〜C
6アルキル基を意味する。 式(Dで示される化合物は、式(■):(式中、Rはメ
チル、エチル等の低級アルキル基を表わす) で示される3−アルコキシ−アンドロスタ−3,5゜1
1−トリエン−17−オンを出発物質として以下に示す
工程図Iに従って製造することができる。 なお、式(n)で示される出発物質は、同一出願人の出
題に係る特願昭58−4105号に開示され+公仙什介
物である。 上記工程図■に於いて、几およびWは前記と同意義であ
り、R2およびWはそれぞれ水素あるいはメチル、エチ
ル、プロピル等CSまでの低級アルキル基のいづれかを
表わす。但し、R2および部の合計が05を越えないも
のとする。。 以下に、工程図■に含まれる各工程について詳細に説明
する。 第一工程 塩基でケトンのエル−11作り、次いでアル
キル化する工程 化合物(n) fi−テトラヒドロフランの如き溶媒に
溶かし、−70°〜0°Cに冷却し、塩基を加えて数分
〜数時間反応させてエノ碑−,)−、を作る。16位を
アルキル化するVCは、適当なアルキル化剤を加えてさ
らに数時間反応させた後、室温に戻し数時間〜数日間攪
拌する。溶媒全留去した後、生成物をジクロロメタン、
酢酸エチル等で抽出し、乾燥した後、溶媒を留去する。 必要に応じて残留物をシリカ゛ゲルカラムクロマトグラ
フィーにかけて分離精製すると化合物(l[I)が得ら
れる。 この反応に用い得る塩基としては、リチウムジインクロ
ビルアミド、リチウムインプロピルシクロヘキシルアミ
ド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド、ナトリ
ウムビス(トリメチル7リル)アミド、リチウムアミド
、ナトリウムアミドなどのアルカリ金属アミド; ta
rt−ブトキシカリウム、ナトリウムエチ才−トおよび
ナトリウムメチラート等のアルカリ金属アルコラード等
を挙げることができる。アルキル化剤と1.では、ノ・
ロゲン化アルキル、特にアルキルクロライド、アルキル
ブロマイドおよびアルキルヨーダイトを挙げることがで
きる。また、溶媒としては、テトラヒドロフラン、グラ
イム、ジグライム、ジオキサン、エーテル等、およびこ
れらとヘキサメチルホスホルアミドとの混液、あるいは
ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド等を挙げることができる。 第二工程 塩基の存在下におけるアルキル基の異性化工
程 化合物(t[I) tメタノール、エタノールの如キ溶
媒中、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムの如き塩
基の存在下に数時間〜数日間加熱還流し、冷後浴媒を留
去してジクロロメタン、酢酸エチル等で抽出するとアル
キル基が異性化された化合物(■)を主成分とする化合
物(III)との混合物が得られる。このものは精製す
ることなく次工程に供する。 この反応に用い得る塩基としては、他にナトリウムメチ
ラート、ナトリウムエチラート、tert−ブトキシカ
リウム等を挙げることができる。また、溶媒としては、
メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒またはこ
れらと他の溶媒との混液等を挙げることができる。 第三工程 カルボニル基を還元してアルコール体とした
後、ジエノールエーテル基を加水分解する工程 化合物(■)をテトラヒドロフランの如き溶媒に溶かし
、冷却下にリチウムトリーtert−ブトキシアルミニ
ウムハイドライドの如き還元剤を加え、室温に戻して数
時間攪拌する。過剰の試薬を水で分解してジクロロメタ
ン、酢酸エチル等で抽出すると、化合物(■)の17位
のケト基が水酸基に還元されたアルコール体が得られる
。このものを例えばシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製した後、あるいは精製することなく次工程に使
用する。 上記アルコール体全ジオキサンの如き溶媒に洛かし、水
と過塩素酸の如き酸の存在下に、通常室温で数時間反応
させて加水分解し、ジクロロメタン、酢酸エチルの如き
溶媒で抽出し、この溶媒を留去して化合物(■)を得る
。 この反応に用い得る還元剤としては、リチウムトリーt
ert−ブトキシアルミニウムハイドライド、リチウム
トリエトキシアルミニウムハイドライド、リチウムトリ
メトキシアルミニウムハイドライド、リチウムアルミニ
ウムハイドライド、L−セレクトライドおよびナトリウ
ムボロハイドライド等を挙げることができる。好適に使
用される溶媒は、エーテル、グライム、ジグライムテト
ラヒドロフラン、ジオキサンあるいはベンゼン、トルエ
ンなどである。加水分解に用い得る酸としては、p−ト
ルエンスルホン酸、過塩素酸および硫酸等全学げること
ができる。また使用し得る溶媒としては、例えば水と、
メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、アセトン等の水と混和し7うる溶媒との混液があ
る。 第四工程 共役ケトンをケトンに還元する工程化合物(
彊)をテトラヒドロフラン等に溶かしたリウム等の液体
アンモニア溶液に加え、さらにプロトン源として働(t
ert−ブチルアルコール等を加えた後、−78〜A3
5°Cで数時間反応させる。 反応後、溶媒を留去し、ジクロロメタン、酢酸エチル等
で抽出する。有機層を水洗後、乾燥して溶媒を留去し、
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーしてかけ
て精製すれば化合物(IX)が得られる。プロトン源と
しては他にメタノール、エタノール、クロパノール、5
ee−クロパノール、塩化アルミニウム等を用いること
ができる。 あるいは、P d −C,Pd−Ca Co3、ラネー
ニッケル等企触謀に用いた接触還元VC,J:つでも化
合物(1v)から化合物(IX) ’に得ることができ
る。 第五工程 塩基でケトンのエル−if作り、アルデヒド
またはケトンと縮合させ、生成するα−ケトール体をさ
らに脱水してα、β−共役不飽和ケトシケト体全合成す
る反応 化合物([1) ’rテトラヒトλフランの如き溶媒に
溶かしたもの金、リチウムジイソプロピルアミドの如き
塩基の溶液中に約48°〜0°Cで加え、−78゛C〜
室温で数分間〜数時間反応させる。次いで式、 R2−
C0−几3で示されるアルデヒドまたはケトンを加え、
−78℃〜室温で数分間から数時間反応させる。反応終
了後、生成物をジクロロメタン、酢酸エチル等で抽出し
、溶媒を留去する。 この様にして得られた化合物を加熱するかさらに塩基と
反応させることにより化合物(M) e得る。 あるいは、化合物(II) tメタノール、エタノール
またはそれとテトラヒドロフラン等のエーテル系リウム
エトキシド等の塩基の存在下に加熱して反応させること
により、直接化合物(Vl)を得る。 この反応で用い得る塩基および溶媒は、第一工程の場合
と同様である。ま之、用い得るアルデヒドまたはケトン
としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロ
ピルアルデヒド、ブチルアルデヒド、アセトンおよびメ
チルエチルケトン等を挙げることができる。 第六工程 共範ケトンをケトンに還元する工程第四工程
と同様にして共範ケトシ体(■)t−還元し、化合物(
■)を得る(ただし、この第八工程で得られる式(■)
の化合物に於いて、几はR2R3a(−を意味する)。 第七工程 カルボニル基を還元してアルコール体とした
後、ジエノールエーテル基を加水分解する反応 化合物(III)を用いるほかは第三工程と同様にして
還元および加水分解し、化合物(Vl) e得る。 第八工程 共範ケトンをケトンに還元する工程化合物(
W)を用いるほかは第四工程と同様にして化合物(V)
を得る。 本発明の式(I)で示される化合物群は抗アンドロジ)
ン活ht−有し、医薬または動物用医薬として有用であ
る。 以下に製造例並びに実施例金挙げて本発明に係る化合物
の製造方法を詳細に説明する。 製造例1 3−エトキシアンドロスタ−3,5,11−ト!Jニジ
ー17−オシ(1)1.248.5’(4ミリモル)の
テトラヒドロフラン12イ溶液に水冷下、リチウムトリ
ーtert−ブトキシアルミニウムハイドライド2.0
34g(8ミ!Jモル)を加えた後、反応液を室温に戻
し30分間攪拌する。過剰の試薬を水でこわした後生成
物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は水洗後硫酸
マグネンウムで乾燥し溶媒を留去すると結晶性生成物と
して916mgの3−エトキシ−17β−ハイドロキシ
−アンドロスタ−3,5,11−トリエン〔2〕が得ら
れる。一部全ジクロロメタシーメタノールより再結晶し
た。融点156〜157℃。1.216Fの粗生成物〔
2〕をジオキサン10fnlと水4 mg (D混iV
c溶解し、これに60%過塩素酸水1rnl’に加えた
後室温で2時間攪拌して反応させる。生成物を酢酸エチ
ルで抽出 □する。酢酸エチル層は水洗後硫酸マ
グネシウムで乾燥後溶媒を留去する。残渣を酢酸エチル
−メタノールより再結晶して756m9(収率66%)
の標題化合物〔3〕ヲ得た。融点159〜160°C〔
4〕 リチウム14mり(2ミリモル)の液体アシモニア20
づ溶液して、−78°Cで化合物(3) 286mqの
テトラヒドロフラン10媚溶it加え、−70°Cで1
時間反応させる。tert−ブタノール1−nll k
加え更に反応させた後、アンモニアを留去後生酸物を酢
酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は水洗後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後溶媒を留去する。得られた生成物
をベンゼン−酢酸エチル(°9:1)混液を溶出溶媒と
したシリカゲルクロマトグラフィーにより分離精製し、
ジクロロメタン−エーテルよジ再結晶することによジ1
92v(収率68係)の標題化合物〔4〕を得る。融点
158〜160°C0 実施例2 ジイソプロピルアミン )とl, 5 VLのn−ブチルリチウムのヘキサン溶
液4.4−(7.04ミリモル)とから作成し、n−ヘ
キサンを留去して得たリチウムジインプロ・ピルアミシ
をテトラヒドロフラジ−ヘキサメチルホスホルアミド(
4:1)混液20祠に溶解し、−70°Cに冷却する。 この溶液に化合物(1) 2.0 g( 6。 4ミリモル)をテトラヒドロフラン−へキサメチルホス
ホルアミド(4:1)混tL1oft11に溶解したも
のを加え、− 5 0 ’Oで30分反応させた後、ヨ
ウ化メチル2m(32ミリモル)全加え室温に戻して1
5時間反応させる。溶媒を留去後生酸物を酢酸エチルで
抽出する。酢酸エチル層は水洗後硫酸マグネシウムで乾
燥し溶媒を留去する。得られた粗生成物をベンゼンを留
出溶媒とするシリカゲルクロマトグラフィーで分離精製
し、メタノールよフ再結晶することによす3−エトキシ
−16α−メチルアンドロスタ−3.5.1 1 −
) IJエン−17−オン(5)1.5 9 3 g(
収率77%〕を得る。 融点133〜134°C0 86%水酸化カリウム1.5,9(23ミリモル)のメ
タノール150祠溶液に、化合物(5) 1. 4 9
6、!i’(4.6ミリモル)を加えて溶解し、9時間
攪拌下に加熱還流する。今後溶媒を留去し、生成物をジ
クロロメタンで抽出する。ジクロロメタン層は水洗後、
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去すると3−エト
キシ−16β−メチルアンドロスタ−3.5.11−ト
リニジ−17−オン〔6〕全主戎分とする化合物〔5〕
との混合物が得られる。 ここに得られた粗生成物をテトラヒドロフラン30−に
溶解し、リチウムトリーtertーブトキシアルミニウ
ムハイドライド2.34,S’(5.2ミリモル)を加
え室温で2時間反応させる。過剰の試薬を水でこわした
後生成物を酢酸エチルで抽出する。 酢酸エチル層は水洗後硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒全
留去する。得られた粗生成物をベンゼンを溶出溶媒とす
るシリカゲルクロマトグラフィーにより分離すると非極
性フラクションJ:!l1983m9(収率〔5〕Lシ
ロ5チ)の17β−71イドロキシー3−エトキシ−1
6J3−メチル−アンドロスタ−3.5.11−)リエ
ン〔7〕を得る,一部をメタノールより再結晶した。融
点94〜97°c0さらに極性フラジ’/ ヨンL Q
3 0 9 m9(収率〔5〕より21%)の17β
−ハイドロキシ−3−エトキシ−16α−メチルアンド
ロスタ−3.5.11−トリエン
くは、11−アンドロステン誘導体、およびそれらを有
効成分とする抗アンドロジエシ剤に関するものである。 発明の構成 本発明の新規化合物、11−アシドロステン誘導体は、
一般式(I): (式中、Rは水素原子、またはαもしくはβ配位の低級
アルキルであり、点線は4位二重結合の存在または不存
在を表わす。但し、几が水素のとき、4〜5位は飽和と
する。) で示される。 上記の定義において、低級アルキルとは、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、5eC−ブチル
、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル等の01〜C
6アルキル基を意味する。 式(Dで示される化合物は、式(■):(式中、Rはメ
チル、エチル等の低級アルキル基を表わす) で示される3−アルコキシ−アンドロスタ−3,5゜1
1−トリエン−17−オンを出発物質として以下に示す
工程図Iに従って製造することができる。 なお、式(n)で示される出発物質は、同一出願人の出
題に係る特願昭58−4105号に開示され+公仙什介
物である。 上記工程図■に於いて、几およびWは前記と同意義であ
り、R2およびWはそれぞれ水素あるいはメチル、エチ
ル、プロピル等CSまでの低級アルキル基のいづれかを
表わす。但し、R2および部の合計が05を越えないも
のとする。。 以下に、工程図■に含まれる各工程について詳細に説明
する。 第一工程 塩基でケトンのエル−11作り、次いでアル
キル化する工程 化合物(n) fi−テトラヒドロフランの如き溶媒に
溶かし、−70°〜0°Cに冷却し、塩基を加えて数分
〜数時間反応させてエノ碑−,)−、を作る。16位を
アルキル化するVCは、適当なアルキル化剤を加えてさ
らに数時間反応させた後、室温に戻し数時間〜数日間攪
拌する。溶媒全留去した後、生成物をジクロロメタン、
酢酸エチル等で抽出し、乾燥した後、溶媒を留去する。 必要に応じて残留物をシリカ゛ゲルカラムクロマトグラ
フィーにかけて分離精製すると化合物(l[I)が得ら
れる。 この反応に用い得る塩基としては、リチウムジインクロ
ビルアミド、リチウムインプロピルシクロヘキシルアミ
ド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド、ナトリ
ウムビス(トリメチル7リル)アミド、リチウムアミド
、ナトリウムアミドなどのアルカリ金属アミド; ta
rt−ブトキシカリウム、ナトリウムエチ才−トおよび
ナトリウムメチラート等のアルカリ金属アルコラード等
を挙げることができる。アルキル化剤と1.では、ノ・
ロゲン化アルキル、特にアルキルクロライド、アルキル
ブロマイドおよびアルキルヨーダイトを挙げることがで
きる。また、溶媒としては、テトラヒドロフラン、グラ
イム、ジグライム、ジオキサン、エーテル等、およびこ
れらとヘキサメチルホスホルアミドとの混液、あるいは
ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド等を挙げることができる。 第二工程 塩基の存在下におけるアルキル基の異性化工
程 化合物(t[I) tメタノール、エタノールの如キ溶
媒中、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムの如き塩
基の存在下に数時間〜数日間加熱還流し、冷後浴媒を留
去してジクロロメタン、酢酸エチル等で抽出するとアル
キル基が異性化された化合物(■)を主成分とする化合
物(III)との混合物が得られる。このものは精製す
ることなく次工程に供する。 この反応に用い得る塩基としては、他にナトリウムメチ
ラート、ナトリウムエチラート、tert−ブトキシカ
リウム等を挙げることができる。また、溶媒としては、
メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒またはこ
れらと他の溶媒との混液等を挙げることができる。 第三工程 カルボニル基を還元してアルコール体とした
後、ジエノールエーテル基を加水分解する工程 化合物(■)をテトラヒドロフランの如き溶媒に溶かし
、冷却下にリチウムトリーtert−ブトキシアルミニ
ウムハイドライドの如き還元剤を加え、室温に戻して数
時間攪拌する。過剰の試薬を水で分解してジクロロメタ
ン、酢酸エチル等で抽出すると、化合物(■)の17位
のケト基が水酸基に還元されたアルコール体が得られる
。このものを例えばシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製した後、あるいは精製することなく次工程に使
用する。 上記アルコール体全ジオキサンの如き溶媒に洛かし、水
と過塩素酸の如き酸の存在下に、通常室温で数時間反応
させて加水分解し、ジクロロメタン、酢酸エチルの如き
溶媒で抽出し、この溶媒を留去して化合物(■)を得る
。 この反応に用い得る還元剤としては、リチウムトリーt
ert−ブトキシアルミニウムハイドライド、リチウム
トリエトキシアルミニウムハイドライド、リチウムトリ
メトキシアルミニウムハイドライド、リチウムアルミニ
ウムハイドライド、L−セレクトライドおよびナトリウ
ムボロハイドライド等を挙げることができる。好適に使
用される溶媒は、エーテル、グライム、ジグライムテト
ラヒドロフラン、ジオキサンあるいはベンゼン、トルエ
ンなどである。加水分解に用い得る酸としては、p−ト
ルエンスルホン酸、過塩素酸および硫酸等全学げること
ができる。また使用し得る溶媒としては、例えば水と、
メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、アセトン等の水と混和し7うる溶媒との混液があ
る。 第四工程 共役ケトンをケトンに還元する工程化合物(
彊)をテトラヒドロフラン等に溶かしたリウム等の液体
アンモニア溶液に加え、さらにプロトン源として働(t
ert−ブチルアルコール等を加えた後、−78〜A3
5°Cで数時間反応させる。 反応後、溶媒を留去し、ジクロロメタン、酢酸エチル等
で抽出する。有機層を水洗後、乾燥して溶媒を留去し、
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーしてかけ
て精製すれば化合物(IX)が得られる。プロトン源と
しては他にメタノール、エタノール、クロパノール、5
ee−クロパノール、塩化アルミニウム等を用いること
ができる。 あるいは、P d −C,Pd−Ca Co3、ラネー
ニッケル等企触謀に用いた接触還元VC,J:つでも化
合物(1v)から化合物(IX) ’に得ることができ
る。 第五工程 塩基でケトンのエル−if作り、アルデヒド
またはケトンと縮合させ、生成するα−ケトール体をさ
らに脱水してα、β−共役不飽和ケトシケト体全合成す
る反応 化合物([1) ’rテトラヒトλフランの如き溶媒に
溶かしたもの金、リチウムジイソプロピルアミドの如き
塩基の溶液中に約48°〜0°Cで加え、−78゛C〜
室温で数分間〜数時間反応させる。次いで式、 R2−
C0−几3で示されるアルデヒドまたはケトンを加え、
−78℃〜室温で数分間から数時間反応させる。反応終
了後、生成物をジクロロメタン、酢酸エチル等で抽出し
、溶媒を留去する。 この様にして得られた化合物を加熱するかさらに塩基と
反応させることにより化合物(M) e得る。 あるいは、化合物(II) tメタノール、エタノール
またはそれとテトラヒドロフラン等のエーテル系リウム
エトキシド等の塩基の存在下に加熱して反応させること
により、直接化合物(Vl)を得る。 この反応で用い得る塩基および溶媒は、第一工程の場合
と同様である。ま之、用い得るアルデヒドまたはケトン
としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロ
ピルアルデヒド、ブチルアルデヒド、アセトンおよびメ
チルエチルケトン等を挙げることができる。 第六工程 共範ケトンをケトンに還元する工程第四工程
と同様にして共範ケトシ体(■)t−還元し、化合物(
■)を得る(ただし、この第八工程で得られる式(■)
の化合物に於いて、几はR2R3a(−を意味する)。 第七工程 カルボニル基を還元してアルコール体とした
後、ジエノールエーテル基を加水分解する反応 化合物(III)を用いるほかは第三工程と同様にして
還元および加水分解し、化合物(Vl) e得る。 第八工程 共範ケトンをケトンに還元する工程化合物(
W)を用いるほかは第四工程と同様にして化合物(V)
を得る。 本発明の式(I)で示される化合物群は抗アンドロジ)
ン活ht−有し、医薬または動物用医薬として有用であ
る。 以下に製造例並びに実施例金挙げて本発明に係る化合物
の製造方法を詳細に説明する。 製造例1 3−エトキシアンドロスタ−3,5,11−ト!Jニジ
ー17−オシ(1)1.248.5’(4ミリモル)の
テトラヒドロフラン12イ溶液に水冷下、リチウムトリ
ーtert−ブトキシアルミニウムハイドライド2.0
34g(8ミ!Jモル)を加えた後、反応液を室温に戻
し30分間攪拌する。過剰の試薬を水でこわした後生成
物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は水洗後硫酸
マグネンウムで乾燥し溶媒を留去すると結晶性生成物と
して916mgの3−エトキシ−17β−ハイドロキシ
−アンドロスタ−3,5,11−トリエン〔2〕が得ら
れる。一部全ジクロロメタシーメタノールより再結晶し
た。融点156〜157℃。1.216Fの粗生成物〔
2〕をジオキサン10fnlと水4 mg (D混iV
c溶解し、これに60%過塩素酸水1rnl’に加えた
後室温で2時間攪拌して反応させる。生成物を酢酸エチ
ルで抽出 □する。酢酸エチル層は水洗後硫酸マ
グネシウムで乾燥後溶媒を留去する。残渣を酢酸エチル
−メタノールより再結晶して756m9(収率66%)
の標題化合物〔3〕ヲ得た。融点159〜160°C〔
4〕 リチウム14mり(2ミリモル)の液体アシモニア20
づ溶液して、−78°Cで化合物(3) 286mqの
テトラヒドロフラン10媚溶it加え、−70°Cで1
時間反応させる。tert−ブタノール1−nll k
加え更に反応させた後、アンモニアを留去後生酸物を酢
酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は水洗後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後溶媒を留去する。得られた生成物
をベンゼン−酢酸エチル(°9:1)混液を溶出溶媒と
したシリカゲルクロマトグラフィーにより分離精製し、
ジクロロメタン−エーテルよジ再結晶することによジ1
92v(収率68係)の標題化合物〔4〕を得る。融点
158〜160°C0 実施例2 ジイソプロピルアミン )とl, 5 VLのn−ブチルリチウムのヘキサン溶
液4.4−(7.04ミリモル)とから作成し、n−ヘ
キサンを留去して得たリチウムジインプロ・ピルアミシ
をテトラヒドロフラジ−ヘキサメチルホスホルアミド(
4:1)混液20祠に溶解し、−70°Cに冷却する。 この溶液に化合物(1) 2.0 g( 6。 4ミリモル)をテトラヒドロフラン−へキサメチルホス
ホルアミド(4:1)混tL1oft11に溶解したも
のを加え、− 5 0 ’Oで30分反応させた後、ヨ
ウ化メチル2m(32ミリモル)全加え室温に戻して1
5時間反応させる。溶媒を留去後生酸物を酢酸エチルで
抽出する。酢酸エチル層は水洗後硫酸マグネシウムで乾
燥し溶媒を留去する。得られた粗生成物をベンゼンを留
出溶媒とするシリカゲルクロマトグラフィーで分離精製
し、メタノールよフ再結晶することによす3−エトキシ
−16α−メチルアンドロスタ−3.5.1 1 −
) IJエン−17−オン(5)1.5 9 3 g(
収率77%〕を得る。 融点133〜134°C0 86%水酸化カリウム1.5,9(23ミリモル)のメ
タノール150祠溶液に、化合物(5) 1. 4 9
6、!i’(4.6ミリモル)を加えて溶解し、9時間
攪拌下に加熱還流する。今後溶媒を留去し、生成物をジ
クロロメタンで抽出する。ジクロロメタン層は水洗後、
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去すると3−エト
キシ−16β−メチルアンドロスタ−3.5.11−ト
リニジ−17−オン〔6〕全主戎分とする化合物〔5〕
との混合物が得られる。 ここに得られた粗生成物をテトラヒドロフラン30−に
溶解し、リチウムトリーtertーブトキシアルミニウ
ムハイドライド2.34,S’(5.2ミリモル)を加
え室温で2時間反応させる。過剰の試薬を水でこわした
後生成物を酢酸エチルで抽出する。 酢酸エチル層は水洗後硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒全
留去する。得られた粗生成物をベンゼンを溶出溶媒とす
るシリカゲルクロマトグラフィーにより分離すると非極
性フラクションJ:!l1983m9(収率〔5〕Lシ
ロ5チ)の17β−71イドロキシー3−エトキシ−1
6J3−メチル−アンドロスタ−3.5.11−)リエ
ン〔7〕を得る,一部をメタノールより再結晶した。融
点94〜97°c0さらに極性フラジ’/ ヨンL Q
3 0 9 m9(収率〔5〕より21%)の17β
−ハイドロキシ−3−エトキシ−16α−メチルアンド
ロスタ−3.5.11−トリエン
〔9〕全得る。一部を
メタノールより再結晶した。 融点94〜96°C0 上記の如くにして得られた化合物〔7〕963m9(2
.93ミリモル)をジオキサン3 0−m及び水1。 ーの混液V?−溶解し、60%過塩素酸水0.5m全加
えて室温で15時間攪拌して反応する。生成物を酢酸エ
チルで抽出する。酢酸エチル層は炭酸水素ナトリウム水
、水で洗った後硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去す
る。得られた粗生成物をベンゼン−酢酸エチル(4 :
1 )’を溶出溶媒とするシリカゲルクロマトグラフ
ィーにて精製しジクロロメタン−エーテルから再結晶す
ることにより367mgC収率41.8%、化合物(1
)4 り ノ総収率19%)の標題化合物〔8〕ヲ得る
。融点183〜185°C・ 元素分析(C2oH2xO2) 二 旦 計算値ニア9.95 9.39 実測値ニア9.84 9.43 実施例3 〔5〕
メタノールより再結晶した。 融点94〜96°C0 上記の如くにして得られた化合物〔7〕963m9(2
.93ミリモル)をジオキサン3 0−m及び水1。 ーの混液V?−溶解し、60%過塩素酸水0.5m全加
えて室温で15時間攪拌して反応する。生成物を酢酸エ
チルで抽出する。酢酸エチル層は炭酸水素ナトリウム水
、水で洗った後硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去す
る。得られた粗生成物をベンゼン−酢酸エチル(4 :
1 )’を溶出溶媒とするシリカゲルクロマトグラフ
ィーにて精製しジクロロメタン−エーテルから再結晶す
ることにより367mgC収率41.8%、化合物(1
)4 り ノ総収率19%)の標題化合物〔8〕ヲ得る
。融点183〜185°C・ 元素分析(C2oH2xO2) 二 旦 計算値ニア9.95 9.39 実測値ニア9.84 9.43 実施例3 〔5〕
〔9〕〔10〕
前述の〔5〕→〔6〕→〔7〕の反応の際に得られた副
生成物(9) 300m9CO,9ミリモル)をジオキ
サン1〇−及び水5frIlの混液に溶解し、60チ過
塩素酸5滴を加え室温にて15時間反応させる。 生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は炭酸水
素ナトリウム水、水で洗った後硫酸マグネシウムで乾燥
し溶媒全留去する。生成物全ベンゼン−酢酸エチル(4
:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルクロマトグラフ
ィーにて精製し、ニーチル−n−へキサンから再結晶す
ることにより標題化合物(10) 140rn9C収$
51.9%)、融点132〜134°Cを得る。 元素分析(C211H2802) CH 計算値ニア9.95 9.39 実測値ニア9.92 9.42 実施例4 A法) ジインプロピルアミン3.2mJJ (23,1ミリモ
ル)と1.6$のn−ブチルリチウムのn−ヘキサジ溶
液13.1m(21ミリモル)とから作成し、n−へキ
サンを留去して得られたリチウムジインフ゛ロビルアミ
ンをテトラヒドロフラン20−に溶解し一78°Cに冷
却する。この溶液に化合物〔1〕3.27.9(10,
5ミリモル)のテトラヒドロフラン20イ溶液、次いで
ヘキサメチルホスホルアミド10fnl’に加え、1時
間反応させた後ヨー化エチル8.4−J(0,105モ
ル)を加え室温に戻して15時間反応させる。生成物全
酢酸エチルで抽出する。 酢酸エチル層は水洗後硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を
留去する。得られた粗生成物をベンゼンを溶出溶媒とす
るシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、
エタノールより結晶化させることに工り3−エトキシ−
16α−エチルアンドロスタ−3,5,11−トリエン
−17−オン〔11〕2.06F(収率58%)を得る
。融点146〜149℃。 86チ水酸化カリウムのメタノール400fyJi液に
化合物(11) 4.218g(12,4ミリモル)を
加えて溶解し、20時間攪拌下に加熱還流する。 今後溶媒を留去し、生成物を酢酸エチルで抽出する。酢
酸エチル層は水洗後硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去すると、3−エトキシ−16β−エチルアンドロス
タ−3,5,11−1リエシー17−オン(12)’e
主成分とする化合物〔11〕との結晶性混合物4.01
gを得る。 先に得られた化合物〔11〕を含む化合物〔12〕の粗
生成物1.0g(2,9ミリモル)をテトラヒドロフラ
ジ12−に溶解し、リチウムトリtert−ブトキシア
ルミニウムハイドライド1.5g(5,9ミリモル)を
加え室温で2時間反応させる。過剰の試薬を水でこわし
た後生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は水
洗後硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去する。得られ
た粗生成物をベンゼン−酢酸エチル(9:1)混液を溶
出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて
分離精製すると874m9の生成物が得られる。これを
メタノールから再結晶すると3−二トキシ−16β−エ
チル−17β−ハイドロキシアンドロスタ−3,5,1
1−トリエン(13) 819m9C収率81係)、融
点140〜142°C’に得る。 先の化合物(13) 843m9C2,46ミリ)をジ
オキサン−+8m!に溶解し、ついで30チ過塩素酸水
1づを加え室温で15時間反応させた後、生成物を酢酸
エチルで抽出する。酢酸エチル層は炭酸水素ナトリウム
水、水で洗つ之後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去する。得られた粗生成物全ベンゼン−酢酸エチル(
4:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマ
i・グラフィーで分離精製し、ジクロロメタン−n−へ
キサンより再結晶することにより、614rn9(収率
79,3%)の像層化合物(14)t−得る。融点19
9〜200℃。 l!−【υ 〔12〕 ジイソプロピルアミン0.6me (4,26ミリモル
)と1.5 M/Lのn−ブチルリチウムのn−ヘキサ
ン溶を夜2.12m (3,6ミリモル)とから作成し
、n−ヘキサンを留去して得られたリチウムジインプロ
ピルアミドをテトラヒドロフラン20fnlに溶解し、
−78°Cに冷却する。この溶液に化合物〔1) 、
936rn9(3ミリモル)のテトラヒドロフラジ5
fnl溶液を加えて一78℃で30分反応させ、ついで
アセトアルデヒド5 fnlt加え、−78°〜50°
Cで30分攪拌下に反応させる。反応液に水を加えた後
生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は水洗後
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。残渣をメ
タノールから再結晶して3−エトキシ−16α−(1−
ハイドロキシエチル)−アンドロスタ−3,5,11−
)ジエン−1フーオン〔15〕、562■(収率56.
7%)、融点135〜138°Cを得る。 化合物(15)464〜(l、4ミリモル)及び水酸化
カリウム150rn9t−メタノール10fnlに溶解
し、加熱還流下VC4時間攪拌して反応させる。今後溶
媒を留去し、生成物を酢酸エチルで抽出する。 酢酸エチル層は水洗後硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を留去する。生成物をメタノールより再結晶して3−エ
トキシ−16−ニチリデンーアンドロスター3.5.1
2−トリニジ−17−オン(16,1351m9 (収
率80%)、融点145〜147°Ct得る。 化合物〔16) 9301119(2,98ミリモル)
及びtert−ブタノール178m9C2,3Bミリモ
ル)のテトラヒドロフラン1〇−溶itリチウム83m
9(11,9ミリモル)の液体アンモニア10〇−溶液
に一70’0で滴下し、1時間攪拌して反応させる0過
剰のリチウムを塩化アンモニウムで分解した後溶媒を留
去し、生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は
水洗後硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去する
。生成物をベンゼンを溶出溶媒とするシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで分離して得られるフラクションを
メタノールより再結晶することにより、化合物[:12
,1349m9(収率37.3%)、融点128〜13
0’Ok得る。 実施例5 化合物(11〕1.94 g(5,7ミリモル)のテト
ラヒドロフラン19−溶液に氷冷下、リチウムトリーt
ert−ブトキシアルミニウムハイドライド5゜8.1
22.8ミリモル)を加えた後、室温に戻して3時間反
応させる。過剰の試薬を水で分解した後、生成物を酢酸
エチルで抽出する。酢酸エチル層は水洗し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去する。得られた生成物をベ
シゼシー酢酸エチル(2:1)t−溶出溶媒とするシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて分離精製し、n−
ヘキサンから再結晶することにより、3−エトキシ−1
6α−エチル−17β−ハイドロキシアンド口スタ−3
,5,]]1−トリエンC17〕833m0収率42゜
9%)を得る。 化合物(17)733彎(2,43ミリモル)のジオキ
サン7−と水1づの混液に60チ過塩素酸水05−を加
え、室温で15時間反応させた後、生成物全酢酸エチル
で抽出する。酢酸エチル層は水洗し、硫酸マグネシウム
で乾燥した後、溶媒を留去する。生成物をベンゼシー酢
酸エチル(2:1)混1’r溶出溶媒とするシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで分離精製した後、エーテル
−n −ヘキサジで再結晶することにより530m9(
収率79チ)、融点114〜115°Cの標題化合物〔
18〕を得る。 元素分析(C2LH3QOZ ) 二 旦 計算値:80,21 9.62 実測値:80.14 9.74 実施例6 一アンドロスター11−工ンー3−オン〔19〕リチウ
ム43m9C6,13ミリモル)の液体アンモニア10
0−溶故に一70°Cで化合物(143963m9(3
1ミリモル)及びtert−ブタノール577m9(6
,14ミリモル)のテトラヒドロフラジ50−溶液を加
え、−70°Cで1時間攪拌して反応させる。過剰のリ
チウムを塩化アンモニウムで分解した後、溶媒全留去し
、生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は水洗
し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去する。 生成物をベンゼシー酢酸エチル(4:1)混液を溶出溶
媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精
製し、メタノールより再結晶することにより729〜(
収率76.6%)、融点204〜205°Cの標題化合
物〔19〕を得る。 元素分析(Cz+H3202) 旦 且 計算値ニア9.70 10.19 実測値ニア9.64 10.22 実施例7 リチウム14〜(2ミリモル)の液体アンモニア2 o
fnl溶液に一70″Cで化合物(18)157rn9
(05ミリモル)及びtert−ブタノール29.6
m9(2ミリモル)のテトラヒドロフラジ1tne@K
”を加え、−70″Cで1時間撹拌して反応させる。過
剰のリチウムを塩化アンモニウムで分解した後、溶媒を
留去し、生成物を酢酸エチルで抽出する。 酢酸エチル層は水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後
溶媒を留去する。残mをベンゼシー酢酸エチル(4:1
)k溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで分離精製し、n−へキサシエジ再結晶することによ
り標題化合物(20〕75■(収率475チ)、融点1
04〜105°Cを得る。 実施例8 (23) (24:)ジイソプロピル
アミン4.2d(30ミリモル)及びl、 5 M7’
L n−ブチルリチウムのn−ヘキサジ溶液12.5聞
(20ミリモル)から作成し、n −ヘキサンを留去し
て得られたリチウムジイソプロピルアミドをテトラヒド
ロフラン−へキサメチルホスホルアミド(4:1)混液
100−に溶解し、−78°Qに冷却する。この溶液に
化合物〔1)3J2110ミリモル)のテトラヒドロフ
ラジ−ヘキサメチルホスホルアミド(4:1)混14c
)ylll’の溶tLと滴下し、−78°Cで0.5時
間、−40°Cで05時間攪拌して反応させた後、n−
プロピルヨーダイト2.93m(30ミリモル)を加え
、−40〜−60“Cで1時間ついで室温に戻して15
時間攪拌して反応させる。溶媒を留去し、生成物?酢酸
エチルで抽出する。酢酸エチル層は水洗し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後溶媒を留去する。生成物をn−へキサン
−酢酸エチル(19:1)混液を溶出溶媒とするシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィで分離し、エーテル−石油
エーテルから再結晶することにより、3−エトキシ−1
6α−n−クロビルアンドロスター3,5.11−トリ
エン−17−オシ(21)tel収率451%)、融点
109〜111°Cを得る・ 化合物C21〕2.9.9(8,18ミリモル)及び水
酸化カリウム1.5gのメタノール150づ溶液を加熱
還流下に15時間撹拌して反応させる。今後溶媒を留去
し、残渣より生成物全酢酸エチルで抽出1−ると3−エ
トキシ−16β−n−プロピルアシドロスター3.5.
11−トリニジ−17−オン〔22〕を主成分とする〔
21〕との混合物を得る。この混合物は精製することな
く次の反応に供した。 先に得た(21)t−主成分とする〔22〕との混合物
をテトラヒドロフラン29づに溶解し、リチウムトリー
tert−ブチルアルミニウムハイドライド4.2F
(15,8ミ!Jモル)を加え室温で2時間攪拌して反
応させる。過剰の試薬を水でこわし反応物を酢酸エチル
で抽出する。酢酸エチル層は水洗し、硫酸マグネシウム
で乾燥して溶媒を留去する。 残渣をベンゼンを溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより分離精製し、得られる主生成物を
ジクロロメタシーメタノールから再結晶すると3−エト
キシ−17β−ハイドロキシ−16β−n−プロピルア
シドロスター3,5.11−トリエン〔お)1.726
1収率59.2%)、融点143〜145°Cを得る。 さらに極性フラクションから3−エトキジ−1フβ−ハ
イドロキシ−16α−n−プロピルアンドロスタ−3,
5,11−トリエンC25〕295m9C収率10.1
%)を得る。ジクロロメタン−メタノールより再結晶す
る。 融点155〜156°C0 化合物C23〕1,626.f (4,56ミリモル)
のジオキサシ30fnl及び水5−の溶液に60%過塩
素酸水1両を加え、室温で3時間攪拌して反応させた後
、生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は水洗
し、硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒全留去する。生
成物をペシゼシー酢酸エチル(4:1)混lk溶出溶媒
とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製
し、ジクロロメタシーメタノールより再結晶することに
より標題化合物(24)1.25.!?(収率83.4
%)、融点180〜181°Cを得る。 元素分析(C22H3202) C匹 計算1直:80.44 9.83 実測値:80.48 9.77 実施例9 17β−ハイドロキシ−16α−n−プロピルアンドロ
スタ−4,11−ジエン−3−オシ〔26〕化合物〔2
2)の還元反応の際に副生成物として得られた化合物(
25)、275m9(0,77ミリモル)をジオ上サシ
5両及び水0.8−に溶解し、これに60%過塩素酸水
0.15mを加え室温で3時間攪拌して反応させた後、
生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は水洗し
硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留去する。残渣を
ペシゼンー酢酸エチル(9:1)混tL′fC溶出溶媒
とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製
することにより240m9(収率94.7%)の標題化
合物〔26) k非結晶性粉末として得る。 実施例10 化合物(1)5116ミリモル)及び86チ水酸化カリ
ウム913111f(14ミリモル)t−メタノール1
00frIe及びアセトン100づに溶解し、加熱還流
下に72時間攪拌して反応させる。今後溶媒を留去した
後、残渣を酢酸エチルで抽出する。 酢酸エチル層は水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後
溶媒を留去する。残渣をジクロロメタン−メタノールよ
り再結晶すると、3−エトキシ−16−インプロビリデ
シアンドロスター3,5.11−トリエン−17−オン
(27)3.565.9を得る。母液はさらに石油エー
テル−ベンゼン(1:1)混1を溶出溶媒とするシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで分離して0.428.
9のC27)’l:得る。総量3.993!9(収率7
1チ)、融点198〜199°C6 リチウム176In9(25,2ミリモル)の液体アン
モニア10υイ溶液を一78°Cに冷却し、これに化合
物1:27) 3.812g(10,5ミリモk)及び
tert−ブタノール1.56.!i+(21ミリモル
)のテトラヒドロフラン9Qfnl溶液を滴下し、−7
8℃で1時間攪拌して反応させる。溶媒を留去した後生
成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は水洗し、
硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留去する。残渣を
ベンゼンを溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで分離精製し、メタノールから再結晶すること
により3−エトキシ−16β−インクロビルアンドロス
ター3.5.11−トリエン−エアーオン〔田)2.6
7、l収率69.6%)、融点141〜143℃を得る
。 化合物〔あ) 2.57.!i’ (7,25ミリモル
)のテトラヒドロフラン25m溶液にリチウムトリーt
art−ブトキシアルミニウムノ1イドライド3.56
.V(14ミリモル)を加え室温で4時間反応させる。 過剰の試薬を水でこわした後、生成物を酢酸エチルで抽
出する。酢酸エチル層は水洗し、硫酸マグネシウムで乾
燥した後溶媒を留去する。残渣を石油エーテルーペンゼ
シ(1:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで分離精製しメタノールより再結晶す
ることにより1.85I(収率71.6チ)、融点16
0〜163℃の3−エトキシ−17β−ハイドロキシ−
16β−インクロビルアンドロスター3.5.11−ト
!J!シ〔29〕を得る。 化合物〔四〕1.7!l1l(4,9ミリモル)をジオ
キサン36m及び水6イに溶解し、60チ過塩素酸水0
.9mfl!を加え室温で1.5時間攪拌しで反応させ
る。生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は水
洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去する
。生成物をベンゼン−酢酸エチル(9:1)混液全溶出
溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて分
離精製し、ジクロロメタシーエーテルより再結晶するこ
とにより標題化合物1.479g(収率92%)融点1
75〜176℃を得る。 元素分析(CzzHoOz ) 旦 旦 計算値:80.44 9.83 実測値:80.37 9.87 実施例11 リチウム48m9(6,9ミリモル)の液体アンモニア
100づ溶液に一78℃で化合物(30)945mS’
(2,88ミリモル)及びtert−フリノール543
m9 (5,76ミリモル)のテトラヒドロフラン3〇
−溶液ヲ滴下し、−78℃で1時間、液体アンモ去した
後生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸工チル層は水洗
1−1硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留去する。 残渣をベンゼン−酢酸エチル(カラム 9:1)を溶出溶媒とする÷す吻シリカケウコロ。 マドグラフィーで分離し、ジクロロメタン−n−へキサ
ンから再結晶すると470m9(収率49%)、融点1
69〜170℃の種属化合物〔31〕を得る。 元素分析(022H3402) 旦 旦 計算値ニア9.94 10.37 実測値ニア9.88 10.43 以上の実施例で得た化合物の物性値を次の表1に示す。 なお、IRお工びNMRスペクトルの測定条件は次の通
りでろるO IRスペクトル:溶媒クロロホルム NMRスペクトル: 溶媒重水素化クロロホルム発明の
効果 本発明に係る化合物を薬理試験にかけ、その薬理活性を
調べた。 試験例1 アンドロジエン受容体およびプロゲスチン受
容体への親和性 去勢雄うットヲ用いて、本発明化合物のアンドロジエン
受容体およびプロゲスチンやつら±4ミ七≠−簀テ寸受
容体への親和性を、既知の抗アンドロジエシ剤でめるオ
キセンドロンとの比較において検討した。 1)アンドロジエン受容体への親和性 〔実験方法〕 4〜6週齢の前日去勢した雄ラットの前立腺複葉のサイ
ドシールを、約1nMの3H−ジヒドロテストステロン
(又は3H−メチルトリエノロン)と共に種々の濃度の
検体で、0℃で20時間または15°Cで2時間インキ
ュベーションする。 次いで、結合型と非結合型の3H−ジヒドロテストステ
ロン(メチルトリエノロン)を炭末分離法(Dextr
an coated cha、6oal method
)により分離後、結合型を測定する。ジヒドロテストス
テロン(メチルトリエノロン〕を100とした受容体へ
の相対親和性(Re1ative Binding A
ffinities以下RBA値という〕を検体につい
て求める。 なおサイドシールはリン酸緩衝浴液で調製し、受容体の
安定化のためにlQmMのモリブデン酸ナトリウムを加
えておく。 2ノ プロゲスチン受容体への親和性 〔実験方法〕 解剖の前日に1μf10.1−のニストラジオールを皮
下投与した3〜5週齢の雌ラットの子宮のサイドシール
を、約1 nMの旭−プロメゲストンと共に種々の濃度
の検体で、0℃で20時間または15℃で2時間インキ
ュベーションする。 次いで、結合型と非結合型の3H−クロメゲストンを度
末分離法によシ分離後、結合型を測定し、プロメゲスト
ンを100とした受容体への相対親和性を検体について
求める。さらに検体と同様にプロゲステロンについても
行い10ゲステロン100としての検体の相対親和性を
求める。 これらの実験結果のうちインキュベーション温度が15
℃のものを次の表2に示す。 表 2 ステロイド受容体への結合 D)lT=ジヒドロテストステロン PG=10ゲステロン 試験例2 抗男性ホルモン活性 この試験では化合物〔加〕ヲとり挙げ、その抗男性ホル
モン活性を調べ友。 〔実験方法〕 体重45〜55.pの8D系(Jclり雄うットヲ去勢
し、術後3日月よりごま油溶液または懸濁液にした検体
1■ヲ20μfのプロピオン酸テストステロンと共に、
あるいはプロピオン酸テストステロンのみを1日1回7
日間皮下注射する。最終投与の翌日動物を層殺し、最終
体重測定後、前立腺複葉および精のう重量を秤量する。 気 プロピオン酸テストステロンのみを注射した時の副性器
重を対照として、検体と共に注射した時の重量の減少(
萎縮)度を指標とし、抗男性ホルモン活性とする。 上記の実験結果を表31C示す。 表3 抗男性ホルモン活性 辛P<0.05 峯帯阻止%は以下の式に従って算出される。 TP、プロピオン酸テストステロン C:去勢対照 上の表から明らかな如く、本発明化合物は顕著な抗男性
ホルモン作用を示す。 以上の薬理実験の結果から明らかな如く、本発明の化合
物群は抗アンドロジエン作用を有し、医薬並びに動物剤
薬として有用であり、種々の注ホルモシ異常等に起因す
る疾患に臨床的に用いることができる。 本発明化合物は、通常のステロイド剤と同様に経口まf
!:、は非経口剤、例えば水性悪濁注射液、ペレット剤
等、種々の剤型に製晴化して投与することができる。そ
の様な製剤類は、所望の投与経路に適した種々の賦形剤
等を用いて、通常の製剤法に従って製造することができ
る。 本発明化合物の投与量は週1回100〜500■の範囲
とすることができる。
生成物(9) 300m9CO,9ミリモル)をジオキ
サン1〇−及び水5frIlの混液に溶解し、60チ過
塩素酸5滴を加え室温にて15時間反応させる。 生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は炭酸水
素ナトリウム水、水で洗った後硫酸マグネシウムで乾燥
し溶媒全留去する。生成物全ベンゼン−酢酸エチル(4
:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルクロマトグラフ
ィーにて精製し、ニーチル−n−へキサンから再結晶す
ることにより標題化合物(10) 140rn9C収$
51.9%)、融点132〜134°Cを得る。 元素分析(C211H2802) CH 計算値ニア9.95 9.39 実測値ニア9.92 9.42 実施例4 A法) ジインプロピルアミン3.2mJJ (23,1ミリモ
ル)と1.6$のn−ブチルリチウムのn−ヘキサジ溶
液13.1m(21ミリモル)とから作成し、n−へキ
サンを留去して得られたリチウムジインフ゛ロビルアミ
ンをテトラヒドロフラン20−に溶解し一78°Cに冷
却する。この溶液に化合物〔1〕3.27.9(10,
5ミリモル)のテトラヒドロフラン20イ溶液、次いで
ヘキサメチルホスホルアミド10fnl’に加え、1時
間反応させた後ヨー化エチル8.4−J(0,105モ
ル)を加え室温に戻して15時間反応させる。生成物全
酢酸エチルで抽出する。 酢酸エチル層は水洗後硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を
留去する。得られた粗生成物をベンゼンを溶出溶媒とす
るシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、
エタノールより結晶化させることに工り3−エトキシ−
16α−エチルアンドロスタ−3,5,11−トリエン
−17−オン〔11〕2.06F(収率58%)を得る
。融点146〜149℃。 86チ水酸化カリウムのメタノール400fyJi液に
化合物(11) 4.218g(12,4ミリモル)を
加えて溶解し、20時間攪拌下に加熱還流する。 今後溶媒を留去し、生成物を酢酸エチルで抽出する。酢
酸エチル層は水洗後硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去すると、3−エトキシ−16β−エチルアンドロス
タ−3,5,11−1リエシー17−オン(12)’e
主成分とする化合物〔11〕との結晶性混合物4.01
gを得る。 先に得られた化合物〔11〕を含む化合物〔12〕の粗
生成物1.0g(2,9ミリモル)をテトラヒドロフラ
ジ12−に溶解し、リチウムトリtert−ブトキシア
ルミニウムハイドライド1.5g(5,9ミリモル)を
加え室温で2時間反応させる。過剰の試薬を水でこわし
た後生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は水
洗後硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去する。得られ
た粗生成物をベンゼン−酢酸エチル(9:1)混液を溶
出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて
分離精製すると874m9の生成物が得られる。これを
メタノールから再結晶すると3−二トキシ−16β−エ
チル−17β−ハイドロキシアンドロスタ−3,5,1
1−トリエン(13) 819m9C収率81係)、融
点140〜142°C’に得る。 先の化合物(13) 843m9C2,46ミリ)をジ
オキサン−+8m!に溶解し、ついで30チ過塩素酸水
1づを加え室温で15時間反応させた後、生成物を酢酸
エチルで抽出する。酢酸エチル層は炭酸水素ナトリウム
水、水で洗つ之後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去する。得られた粗生成物全ベンゼン−酢酸エチル(
4:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマ
i・グラフィーで分離精製し、ジクロロメタン−n−へ
キサンより再結晶することにより、614rn9(収率
79,3%)の像層化合物(14)t−得る。融点19
9〜200℃。 l!−【υ 〔12〕 ジイソプロピルアミン0.6me (4,26ミリモル
)と1.5 M/Lのn−ブチルリチウムのn−ヘキサ
ン溶を夜2.12m (3,6ミリモル)とから作成し
、n−ヘキサンを留去して得られたリチウムジインプロ
ピルアミドをテトラヒドロフラン20fnlに溶解し、
−78°Cに冷却する。この溶液に化合物〔1) 、
936rn9(3ミリモル)のテトラヒドロフラジ5
fnl溶液を加えて一78℃で30分反応させ、ついで
アセトアルデヒド5 fnlt加え、−78°〜50°
Cで30分攪拌下に反応させる。反応液に水を加えた後
生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は水洗後
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。残渣をメ
タノールから再結晶して3−エトキシ−16α−(1−
ハイドロキシエチル)−アンドロスタ−3,5,11−
)ジエン−1フーオン〔15〕、562■(収率56.
7%)、融点135〜138°Cを得る。 化合物(15)464〜(l、4ミリモル)及び水酸化
カリウム150rn9t−メタノール10fnlに溶解
し、加熱還流下VC4時間攪拌して反応させる。今後溶
媒を留去し、生成物を酢酸エチルで抽出する。 酢酸エチル層は水洗後硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を留去する。生成物をメタノールより再結晶して3−エ
トキシ−16−ニチリデンーアンドロスター3.5.1
2−トリニジ−17−オン(16,1351m9 (収
率80%)、融点145〜147°Ct得る。 化合物〔16) 9301119(2,98ミリモル)
及びtert−ブタノール178m9C2,3Bミリモ
ル)のテトラヒドロフラン1〇−溶itリチウム83m
9(11,9ミリモル)の液体アンモニア10〇−溶液
に一70’0で滴下し、1時間攪拌して反応させる0過
剰のリチウムを塩化アンモニウムで分解した後溶媒を留
去し、生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は
水洗後硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去する
。生成物をベンゼンを溶出溶媒とするシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで分離して得られるフラクションを
メタノールより再結晶することにより、化合物[:12
,1349m9(収率37.3%)、融点128〜13
0’Ok得る。 実施例5 化合物(11〕1.94 g(5,7ミリモル)のテト
ラヒドロフラン19−溶液に氷冷下、リチウムトリーt
ert−ブトキシアルミニウムハイドライド5゜8.1
22.8ミリモル)を加えた後、室温に戻して3時間反
応させる。過剰の試薬を水で分解した後、生成物を酢酸
エチルで抽出する。酢酸エチル層は水洗し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去する。得られた生成物をベ
シゼシー酢酸エチル(2:1)t−溶出溶媒とするシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて分離精製し、n−
ヘキサンから再結晶することにより、3−エトキシ−1
6α−エチル−17β−ハイドロキシアンド口スタ−3
,5,]]1−トリエンC17〕833m0収率42゜
9%)を得る。 化合物(17)733彎(2,43ミリモル)のジオキ
サン7−と水1づの混液に60チ過塩素酸水05−を加
え、室温で15時間反応させた後、生成物全酢酸エチル
で抽出する。酢酸エチル層は水洗し、硫酸マグネシウム
で乾燥した後、溶媒を留去する。生成物をベンゼシー酢
酸エチル(2:1)混1’r溶出溶媒とするシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで分離精製した後、エーテル
−n −ヘキサジで再結晶することにより530m9(
収率79チ)、融点114〜115°Cの標題化合物〔
18〕を得る。 元素分析(C2LH3QOZ ) 二 旦 計算値:80,21 9.62 実測値:80.14 9.74 実施例6 一アンドロスター11−工ンー3−オン〔19〕リチウ
ム43m9C6,13ミリモル)の液体アンモニア10
0−溶故に一70°Cで化合物(143963m9(3
1ミリモル)及びtert−ブタノール577m9(6
,14ミリモル)のテトラヒドロフラジ50−溶液を加
え、−70°Cで1時間攪拌して反応させる。過剰のリ
チウムを塩化アンモニウムで分解した後、溶媒全留去し
、生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は水洗
し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去する。 生成物をベンゼシー酢酸エチル(4:1)混液を溶出溶
媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精
製し、メタノールより再結晶することにより729〜(
収率76.6%)、融点204〜205°Cの標題化合
物〔19〕を得る。 元素分析(Cz+H3202) 旦 且 計算値ニア9.70 10.19 実測値ニア9.64 10.22 実施例7 リチウム14〜(2ミリモル)の液体アンモニア2 o
fnl溶液に一70″Cで化合物(18)157rn9
(05ミリモル)及びtert−ブタノール29.6
m9(2ミリモル)のテトラヒドロフラジ1tne@K
”を加え、−70″Cで1時間撹拌して反応させる。過
剰のリチウムを塩化アンモニウムで分解した後、溶媒を
留去し、生成物を酢酸エチルで抽出する。 酢酸エチル層は水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後
溶媒を留去する。残mをベンゼシー酢酸エチル(4:1
)k溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで分離精製し、n−へキサシエジ再結晶することによ
り標題化合物(20〕75■(収率475チ)、融点1
04〜105°Cを得る。 実施例8 (23) (24:)ジイソプロピル
アミン4.2d(30ミリモル)及びl、 5 M7’
L n−ブチルリチウムのn−ヘキサジ溶液12.5聞
(20ミリモル)から作成し、n −ヘキサンを留去し
て得られたリチウムジイソプロピルアミドをテトラヒド
ロフラン−へキサメチルホスホルアミド(4:1)混液
100−に溶解し、−78°Qに冷却する。この溶液に
化合物〔1)3J2110ミリモル)のテトラヒドロフ
ラジ−ヘキサメチルホスホルアミド(4:1)混14c
)ylll’の溶tLと滴下し、−78°Cで0.5時
間、−40°Cで05時間攪拌して反応させた後、n−
プロピルヨーダイト2.93m(30ミリモル)を加え
、−40〜−60“Cで1時間ついで室温に戻して15
時間攪拌して反応させる。溶媒を留去し、生成物?酢酸
エチルで抽出する。酢酸エチル層は水洗し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後溶媒を留去する。生成物をn−へキサン
−酢酸エチル(19:1)混液を溶出溶媒とするシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィで分離し、エーテル−石油
エーテルから再結晶することにより、3−エトキシ−1
6α−n−クロビルアンドロスター3,5.11−トリ
エン−17−オシ(21)tel収率451%)、融点
109〜111°Cを得る・ 化合物C21〕2.9.9(8,18ミリモル)及び水
酸化カリウム1.5gのメタノール150づ溶液を加熱
還流下に15時間撹拌して反応させる。今後溶媒を留去
し、残渣より生成物全酢酸エチルで抽出1−ると3−エ
トキシ−16β−n−プロピルアシドロスター3.5.
11−トリニジ−17−オン〔22〕を主成分とする〔
21〕との混合物を得る。この混合物は精製することな
く次の反応に供した。 先に得た(21)t−主成分とする〔22〕との混合物
をテトラヒドロフラン29づに溶解し、リチウムトリー
tert−ブチルアルミニウムハイドライド4.2F
(15,8ミ!Jモル)を加え室温で2時間攪拌して反
応させる。過剰の試薬を水でこわし反応物を酢酸エチル
で抽出する。酢酸エチル層は水洗し、硫酸マグネシウム
で乾燥して溶媒を留去する。 残渣をベンゼンを溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより分離精製し、得られる主生成物を
ジクロロメタシーメタノールから再結晶すると3−エト
キシ−17β−ハイドロキシ−16β−n−プロピルア
シドロスター3,5.11−トリエン〔お)1.726
1収率59.2%)、融点143〜145°Cを得る。 さらに極性フラクションから3−エトキジ−1フβ−ハ
イドロキシ−16α−n−プロピルアンドロスタ−3,
5,11−トリエンC25〕295m9C収率10.1
%)を得る。ジクロロメタン−メタノールより再結晶す
る。 融点155〜156°C0 化合物C23〕1,626.f (4,56ミリモル)
のジオキサシ30fnl及び水5−の溶液に60%過塩
素酸水1両を加え、室温で3時間攪拌して反応させた後
、生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は水洗
し、硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒全留去する。生
成物をペシゼシー酢酸エチル(4:1)混lk溶出溶媒
とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製
し、ジクロロメタシーメタノールより再結晶することに
より標題化合物(24)1.25.!?(収率83.4
%)、融点180〜181°Cを得る。 元素分析(C22H3202) C匹 計算1直:80.44 9.83 実測値:80.48 9.77 実施例9 17β−ハイドロキシ−16α−n−プロピルアンドロ
スタ−4,11−ジエン−3−オシ〔26〕化合物〔2
2)の還元反応の際に副生成物として得られた化合物(
25)、275m9(0,77ミリモル)をジオ上サシ
5両及び水0.8−に溶解し、これに60%過塩素酸水
0.15mを加え室温で3時間攪拌して反応させた後、
生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は水洗し
硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留去する。残渣を
ペシゼンー酢酸エチル(9:1)混tL′fC溶出溶媒
とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製
することにより240m9(収率94.7%)の標題化
合物〔26) k非結晶性粉末として得る。 実施例10 化合物(1)5116ミリモル)及び86チ水酸化カリ
ウム913111f(14ミリモル)t−メタノール1
00frIe及びアセトン100づに溶解し、加熱還流
下に72時間攪拌して反応させる。今後溶媒を留去した
後、残渣を酢酸エチルで抽出する。 酢酸エチル層は水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後
溶媒を留去する。残渣をジクロロメタン−メタノールよ
り再結晶すると、3−エトキシ−16−インプロビリデ
シアンドロスター3,5.11−トリエン−17−オン
(27)3.565.9を得る。母液はさらに石油エー
テル−ベンゼン(1:1)混1を溶出溶媒とするシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで分離して0.428.
9のC27)’l:得る。総量3.993!9(収率7
1チ)、融点198〜199°C6 リチウム176In9(25,2ミリモル)の液体アン
モニア10υイ溶液を一78°Cに冷却し、これに化合
物1:27) 3.812g(10,5ミリモk)及び
tert−ブタノール1.56.!i+(21ミリモル
)のテトラヒドロフラン9Qfnl溶液を滴下し、−7
8℃で1時間攪拌して反応させる。溶媒を留去した後生
成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は水洗し、
硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留去する。残渣を
ベンゼンを溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで分離精製し、メタノールから再結晶すること
により3−エトキシ−16β−インクロビルアンドロス
ター3.5.11−トリエン−エアーオン〔田)2.6
7、l収率69.6%)、融点141〜143℃を得る
。 化合物〔あ) 2.57.!i’ (7,25ミリモル
)のテトラヒドロフラン25m溶液にリチウムトリーt
art−ブトキシアルミニウムノ1イドライド3.56
.V(14ミリモル)を加え室温で4時間反応させる。 過剰の試薬を水でこわした後、生成物を酢酸エチルで抽
出する。酢酸エチル層は水洗し、硫酸マグネシウムで乾
燥した後溶媒を留去する。残渣を石油エーテルーペンゼ
シ(1:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで分離精製しメタノールより再結晶す
ることにより1.85I(収率71.6チ)、融点16
0〜163℃の3−エトキシ−17β−ハイドロキシ−
16β−インクロビルアンドロスター3.5.11−ト
!J!シ〔29〕を得る。 化合物〔四〕1.7!l1l(4,9ミリモル)をジオ
キサン36m及び水6イに溶解し、60チ過塩素酸水0
.9mfl!を加え室温で1.5時間攪拌しで反応させ
る。生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は水
洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去する
。生成物をベンゼン−酢酸エチル(9:1)混液全溶出
溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて分
離精製し、ジクロロメタシーエーテルより再結晶するこ
とにより標題化合物1.479g(収率92%)融点1
75〜176℃を得る。 元素分析(CzzHoOz ) 旦 旦 計算値:80.44 9.83 実測値:80.37 9.87 実施例11 リチウム48m9(6,9ミリモル)の液体アンモニア
100づ溶液に一78℃で化合物(30)945mS’
(2,88ミリモル)及びtert−フリノール543
m9 (5,76ミリモル)のテトラヒドロフラン3〇
−溶液ヲ滴下し、−78℃で1時間、液体アンモ去した
後生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸工チル層は水洗
1−1硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留去する。 残渣をベンゼン−酢酸エチル(カラム 9:1)を溶出溶媒とする÷す吻シリカケウコロ。 マドグラフィーで分離し、ジクロロメタン−n−へキサ
ンから再結晶すると470m9(収率49%)、融点1
69〜170℃の種属化合物〔31〕を得る。 元素分析(022H3402) 旦 旦 計算値ニア9.94 10.37 実測値ニア9.88 10.43 以上の実施例で得た化合物の物性値を次の表1に示す。 なお、IRお工びNMRスペクトルの測定条件は次の通
りでろるO IRスペクトル:溶媒クロロホルム NMRスペクトル: 溶媒重水素化クロロホルム発明の
効果 本発明に係る化合物を薬理試験にかけ、その薬理活性を
調べた。 試験例1 アンドロジエン受容体およびプロゲスチン受
容体への親和性 去勢雄うットヲ用いて、本発明化合物のアンドロジエン
受容体およびプロゲスチンやつら±4ミ七≠−簀テ寸受
容体への親和性を、既知の抗アンドロジエシ剤でめるオ
キセンドロンとの比較において検討した。 1)アンドロジエン受容体への親和性 〔実験方法〕 4〜6週齢の前日去勢した雄ラットの前立腺複葉のサイ
ドシールを、約1nMの3H−ジヒドロテストステロン
(又は3H−メチルトリエノロン)と共に種々の濃度の
検体で、0℃で20時間または15°Cで2時間インキ
ュベーションする。 次いで、結合型と非結合型の3H−ジヒドロテストステ
ロン(メチルトリエノロン)を炭末分離法(Dextr
an coated cha、6oal method
)により分離後、結合型を測定する。ジヒドロテストス
テロン(メチルトリエノロン〕を100とした受容体へ
の相対親和性(Re1ative Binding A
ffinities以下RBA値という〕を検体につい
て求める。 なおサイドシールはリン酸緩衝浴液で調製し、受容体の
安定化のためにlQmMのモリブデン酸ナトリウムを加
えておく。 2ノ プロゲスチン受容体への親和性 〔実験方法〕 解剖の前日に1μf10.1−のニストラジオールを皮
下投与した3〜5週齢の雌ラットの子宮のサイドシール
を、約1 nMの旭−プロメゲストンと共に種々の濃度
の検体で、0℃で20時間または15℃で2時間インキ
ュベーションする。 次いで、結合型と非結合型の3H−クロメゲストンを度
末分離法によシ分離後、結合型を測定し、プロメゲスト
ンを100とした受容体への相対親和性を検体について
求める。さらに検体と同様にプロゲステロンについても
行い10ゲステロン100としての検体の相対親和性を
求める。 これらの実験結果のうちインキュベーション温度が15
℃のものを次の表2に示す。 表 2 ステロイド受容体への結合 D)lT=ジヒドロテストステロン PG=10ゲステロン 試験例2 抗男性ホルモン活性 この試験では化合物〔加〕ヲとり挙げ、その抗男性ホル
モン活性を調べ友。 〔実験方法〕 体重45〜55.pの8D系(Jclり雄うットヲ去勢
し、術後3日月よりごま油溶液または懸濁液にした検体
1■ヲ20μfのプロピオン酸テストステロンと共に、
あるいはプロピオン酸テストステロンのみを1日1回7
日間皮下注射する。最終投与の翌日動物を層殺し、最終
体重測定後、前立腺複葉および精のう重量を秤量する。 気 プロピオン酸テストステロンのみを注射した時の副性器
重を対照として、検体と共に注射した時の重量の減少(
萎縮)度を指標とし、抗男性ホルモン活性とする。 上記の実験結果を表31C示す。 表3 抗男性ホルモン活性 辛P<0.05 峯帯阻止%は以下の式に従って算出される。 TP、プロピオン酸テストステロン C:去勢対照 上の表から明らかな如く、本発明化合物は顕著な抗男性
ホルモン作用を示す。 以上の薬理実験の結果から明らかな如く、本発明の化合
物群は抗アンドロジエン作用を有し、医薬並びに動物剤
薬として有用であり、種々の注ホルモシ異常等に起因す
る疾患に臨床的に用いることができる。 本発明化合物は、通常のステロイド剤と同様に経口まf
!:、は非経口剤、例えば水性悪濁注射液、ペレット剤
等、種々の剤型に製晴化して投与することができる。そ
の様な製剤類は、所望の投与経路に適した種々の賦形剤
等を用いて、通常の製剤法に従って製造することができ
る。 本発明化合物の投与量は週1回100〜500■の範囲
とすることができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは水素原子、またはαもしくはβ配位の低級
アルキルであり、点線は4位2重結合の存在または不存
在を表わす。但し、Rが水素のとき、4〜5位は飽和と
する。) で示される11−アンドロステン誘導体。 2、式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは水素原子、またはαもしくはβ配位の低級
アルキルであり、点線は4位二重結合の存在または不存
在を表わす。但し、Rが水素のとき、4〜5位は飽和と
する。) で示される11−アンドロステン誘導体を有効成分とす
る抗アンドロジエン剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18854684A JPS6165898A (ja) | 1984-09-07 | 1984-09-07 | 11−アンドロステン誘導体および抗アンドロジエン剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18854684A JPS6165898A (ja) | 1984-09-07 | 1984-09-07 | 11−アンドロステン誘導体および抗アンドロジエン剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6165898A true JPS6165898A (ja) | 1986-04-04 |
Family
ID=16225589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18854684A Pending JPS6165898A (ja) | 1984-09-07 | 1984-09-07 | 11−アンドロステン誘導体および抗アンドロジエン剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6165898A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0549652U (ja) * | 1991-12-02 | 1993-06-29 | 誠一 北林 | 手動式ポンプ |
-
1984
- 1984-09-07 JP JP18854684A patent/JPS6165898A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0549652U (ja) * | 1991-12-02 | 1993-06-29 | 誠一 北林 | 手動式ポンプ |
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