JPS6149813B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6149813B2
JPS6149813B2 JP2686278A JP2686278A JPS6149813B2 JP S6149813 B2 JPS6149813 B2 JP S6149813B2 JP 2686278 A JP2686278 A JP 2686278A JP 2686278 A JP2686278 A JP 2686278A JP S6149813 B2 JPS6149813 B2 JP S6149813B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
deflection
intensity distribution
center
waveform
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP2686278A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS54120397A (en
Inventor
Moryuki Isobe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Nihon Denshi KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Denshi KK filed Critical Nihon Denshi KK
Priority to JP2686278A priority Critical patent/JPS54120397A/ja
Publication of JPS54120397A publication Critical patent/JPS54120397A/ja
Publication of JPS6149813B2 publication Critical patent/JPS6149813B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electron Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は電子線の断面(以後、電子線断面と称
す)における強度分布が均一となる様に調整する
ための装置に関する。
[従来の技術] これ迄の電子線露光装置は微細なスポツト状の
断面を有する電子線を用いて材料上に任意のパタ
ーンを描いていたが、露光時間短縮の為に、適切
な大きさの矩形状断面に縮小結像させた電子線を
用いた電子線露光装置が実用化され始めている。
さて、この様な矩形状電子線像中の電子線強度
分布が均一でなく、その分布が矩形中心に関して
非対称であると、パターン描画上で好ましくない
ので、描画直前に調整する必要がある。
第11図はこの様な調整機構を備えた電子線露
光装置の概略を示したものである。
図中1は鏡筒で、該鏡筒内の電子銃2から発生
する電子線3がレンズ4によつて開口板5に向け
て照射され、該開口板5の矩形開口部を通過した
電子線はレンズ6によつて材料面上に開口部の像
を結像する。前記レンズ4は前記電子銃2のクロ
スオーバーを前記レンズ6の主面位置にあり絞り
板7上に結ばせる様に励磁されている。尚、図
中、材料位置には強度分布検出装置10が描画材
料の代りに挿入されており、又、強度分布を測定
し調整する為に必要な構成件以外は大部分が省略
されている。
前記強度分布測定装置10の要部を電子線光軸
方向から表すものが第2図であり、ホトダイオー
ドの如き電子線検出素子11の上方に互いに直交
する二本の導電性ワイヤー12が張架されてい
る。該ワイヤーの代りにナイフエツジの如き鋭い
エツジを持つ電子線遮蔽部材を使用してもよい。
今、材料面位置における電子機13を何れかのワ
イヤーに平行なA方向及びB方向に走査すると、
電子線検出素子11に入射する電子線13の電流
値が第3図aの如く検出された後、強度分布測定
回路14において電子線断面強度分布の対称性が
測定される。該測定回路14においては、例え
ば、第3図aの入力信号を微分して第3図bに示
す様な電子線断面の強度分布波形を求めた後、こ
の強度分布波形をその中央Pで二分して波形の面
積差(S1−S2)を計算して、表示装置15に波形
bと共に表示する。この様にして計算された面積
差の大小は電子線断面強度分布の対称性の程度を
表わしており、該面積差が零となつた時、電子線
強度分布の対称性が確認される。該強度分布検出
装置10に対して電子線を走査する手段として
は、鋸歯状波を発生する走査信号回路16と、該
回路16の出力が増幅器17,18を介して供給
される二つの偏向電極(又は偏向コイル)19
A,19Bが設けられており、切換スイツチSを
端子TAに接続して偏向電極19Aによる電子線
偏向を行なうと、第2に示すA方向の電子線走査
が行なわれ、前記切換スイツチ7を端子TBに接
続して偏向電極19Bによる電子線偏向を行なう
と、第2図に示すB方向の電子線走査が行なわれ
る。尚、該偏向電極19A,19Bは通常材料上
のパターンを描画する時の電子線偏向に使用され
るもので、この時には前記強度分布検出装置10
の代りに材料が配置されると共に、通常の偏向装
置(図示せず)に接続される。
所で、電子線断面における電子線強度分布が均
一にならないのは、前記電子銃2から発生する電
子線の強度がその発生方向によつて一定でない事
に原因するものであり、その強度分布を開口板5
上において表わしたものが第12図である。尚、
第12図においては、同心円の間隔で電子線電流
密度を表わしている。もし、電子線強度分布の中
心(電子線強度が最も強い位置)P0が前記開口板
5の開口部の中心Qと一致していれば、該開口部
を通過する電子線の断面の強度分布を対称にする
事が出来る。又、この様に対称にする事により、
電子線断面における強度分布の均一性を最も高め
る事が出来る。従つて、材料を電子線で露光する
前に、前記開口板5を照射する電子線を移動して
強度分布の中心の位置を該開口板5の中心に一致
させる事が必要になる。この為の手段として、直
交するX、Y二方向に電子線偏向を行なう微調整
用偏向電極(又は偏向コイル)20X,20Yが
設けられている。これらの微調整用偏向電極20
X,20Yへは夫々増幅器22,23を介して
夫々X方向、Y方向偏向電源24X,24Yから
直流偏向信号が印加されており、該各X方向、Y
方向偏向電源24X,24Yの出力を変化させる
事により、夫々電子線をX方向、Y方向に偏向す
る事が出来る。
次に、前記第11図の装置を用いて電子線断面
の強度分布を均一に調整する手順を第4図に基づ
いて説明する。
第4図は前記第12図と同様に電子線断面の強
度分布を開口板5上において表わしたもので、図
中、Qは開口板5の開口部又は該開口部によつて
整形された電子線の断面の中心位置を示す。P0
P1,P2,P3,P4は夫々調整過程において移動した
電子線強度分布の中心を示す。又、A,Bで示す
矢印方向は偏向電極19A,19Bにより電子線
を前記強度分布測定装置10上で走査する方向を
示すもので、夫々前記開口板5の開口部の辺の方
向と一致している。従つて、該A,Bの方向は
夫々該開口部を通過した電子線の断面の辺の方向
と一致している。又、X,Yで示す矢印方向は
夫々微調整用偏向電極20X,20Yによる電子
線の偏向座標軸を示し、一般に、前記各A,B方
向とは異なつている。尚、前記偏向電極19A,
19Bの通常の偏向方向は各々前記A,B方向と
一致している。第5図a、第6図aは夫々、該
X、Y座標軸と夫々該A,B方向とが合つていな
い通常時に、表示装置15上に表示されるA方
向、B方向の電子線断面の強度分布波形を示した
ものである。尚、両図において、P0は前記強度分
布の中心P0の射影位置を表わしており、他も同様
である。この状態から調整を行なうには、先ず、
B方向の波形を観察し乍ら偏向電源24Xの出力
を変化させ、第6図bに示す如く、強度分布中心
P1が波形の中心Oと一致する様に調整する。この
時のA方向の分布波形を示したものが第5図bで
ある。次に、この第5図bの波形を観察し乍ら偏
向電源24Yの出力を変化させ、第5図cの如
く、強度分布の中心P2が波形の中心Oと一致する
様に調整する。この時のB方向の分布波形を示し
たものが第6図cである。次に、この第6図cの
波形を観察し乍ら偏向電源24Xの出力を変化さ
せ、第6図dの如く、強度分布の中心P3が波形の
中心に一致する様に調整する。この時のA方向の
分布波形を示したものが第5図dである。次に、
この第5図dの波形を観察し乍ら偏向電源24Y
の出力を変化させ、第5図eの如く、強度分布の
中心P3が波形の中心Oと一致する様に調整する。
この時のB方向の分布波形を示したものが第6図
eである。この様な調整操作を繰り返し行なう事
により、電子線断面の強度分布の中心を第4図に
示す様に、P0→P1→P2→P3→P4と次第に開口板5
の開口部の中心又は該開口部によつて整形された
電子線の断面の中心Qに近づけて行き、最後に該
断面の中心Qと一致させる事が可能となる。
[発明が解決しようとする問題点] しかし乍ら、この様な調整操作の繰り返しは、
操作に長時間を費やす事になり、又、操作回数を
少なくすると、高精度の調整が行なわれないとい
う欠点がある。
本発明はこの様な問題を解決し、短時間且つ容
易に電子線断面の強度分布の調整が可能な電子線
露光装置を提供する事を目的とした。
[問題点を解決するための手段] 本発明に基づく電子線露光装置は、開口板に穿
たれた電子線通過開口の形状を材料面上に結像さ
せる電子光学系を有する電子線露光装置におい
て、前記材料位置における電子線断面の互いに異
なつた二方向A,Bの強度分布の対称性を検出す
る手段、前記開口板を照射する電子線を互いに異
なつた二方向X,Yに夫々偏向するX方向偏向手
段及びY方向手段から成る微調整用のXY偏向手
段、及び、該X方向及びY方向偏向手段に供給さ
れるX方向偏向信号、Y方向偏信号を補正して前
記微調整用のXY偏向手段の偏向座標軸を回転さ
せ、該補正後の偏向座標軸(X′、Y′)を前記二
方向A,Bと略一致させる為の手段を設けたこと
を特徴としている。
[実施例] 第1図は本発明の一実施例を示した電子露光装
置の概略を示すものである。図中前記第11図に
て使用した番号と同一番号の付されたものは同一
構成要素を示す。
該第1図に示す本実施例装置に於いては、偏向
電源24X,24Yと増幅器22,23との間に
補正回路21が設けられている。
該補正回路21は、加算回路25,26及び増
幅器27,28とから構成されている。そして、
加算回路25には、偏向電源24Xの出力と、増
幅器27を介して偏向電源24Yの出力とが供給
され、加算回路24には、偏向電源24Yの出力
と、増幅器28を介して偏向電源24Xの出力と
が供給されており、増幅器27,28の増幅度を
零に設定すると、偏向座標軸は(X、Y)となる
が、増幅度を適宜な値に設定する事により、該
X、Y方向から所望の角度異なつた偏向座標軸
(X′、Y′)へ偏向座標軸を回転させる事が出来
る。例えば、第7図に示すX、Y方向から夫々角
度θ異なるX′、Y′方向の電子線偏向を行なおう
とする場合には、前記増幅器27,28の増幅度
を夫々−tanθ、tanθに設定すればよい。即ち、
この状態で偏向電源24Xからx1の値の信号を与
えたとすると、加算回路26には増幅器28を介
してy=x1・tanθなる補正信号が供給される
為、第7図に示す如く、X′方向に設けられた偏
向電極X′なる信号を印加したのと同様な効果が
生じる事になる。同様に、偏向電源24Yからy
の値の信号を与えたとすると、加算回路25には
増幅器27を介してx2=−y・tanθなる補正信
号が供給される為、第7図に示す如く、Y′方向
に設けられた偏向電極にy′なる信号を印加したの
と同様な効果が生じる事になる。即ち、微調整用
偏向電極20X,20Y夫々に供給されるX方向
偏向信号、Y方向偏向信号を補正する事により、
該微調整用偏向電極の偏向座標軸(X、Y)を回
転させ、偏向座標軸を(X′、Y′)とすることが
できる。
第8図〜第10図は本実施例の装置を使用して
電子線強度分布の調整操作の手順を説明する為の
略図である。第8図は前記第4図に対応するもの
で、電子線断面における強度分布の中心の移動
(P0→P1→Q)状態を示している。先ず、前記補
正回路21を調整して、微調整用偏向電極20
X,20Yの補正後の偏向座標軸(X′、Y′)を
夫々A,B方向に一致させておく。この状態にお
いて、切換スイツチ7を端子TA又は端子TBへ接
続すると、表示装置15には第9図aに示す様な
A方向の電子線断面の強度分布波形又は、第10
図aに示すB方向の電子線断面強度分布波形が表
示される。次に、第10図aの波形を観察し乍ら
偏向電源24Yの出力を変化させて、第10図b
に示す如く、電子線強度分布の中心P1が波形の中
心Oと一致する様に調整する。次に、この状態
で、第9図bに示すA方向の波形を観察し乍ら偏
向電源24Xの出力を変化させ、第9図cに示す
如く、電子線強度の分布の中心P2と波形の中心O
とが一致する様に調整する。この状態では第10
図cに示す様に、B方向の波形の中心Oと強度分
布の中心P2とは一致しており、第8図に示す様
に、二回の調整操作でP2をQに一致させる事が出
来、完全な強度分布調整が完了する。
[発明の効果] 以上、詳説した如く、本発明では補正手段によ
り微調整用のXY偏向手段の偏向座標軸(X、
Y)を回転させ、該補正後の偏向座標軸(X′、
Y′)を夫々A、B方向の一致させているので、
電子線強度分布調整に要する操作回数を大幅に減
す事が可能となり、調整操作の自動化等において
大きな効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例として示した電子線
露光装置の概略図、第2図は強度分布検出装置の
一例図、第3図は該強度分布検出装置の電子線検
出素子に入射する電子線の電流波形と電子線強度
分布波形を示したもの、第4図〜第6図は従来の
電子線露光装置の動作を説明するもの、第7図〜
第10図は本発明の電子線露光装置の動作を説明
する為のもの、第11図は従来の電子線露光装置
の概略を示したもの、第12図は電子線強度分布
中心P0が電子線断面中心Qと一致していない事を
説明する為の図である。 5:開口板、10:強度分布検出装置、14:
強度分布測定回路、15:表示装置、16:走査
電源、19A,19B:偏向電極、20X,20
Y:微調整用偏向電極、21:補正回路、24
X,24Y:偏向電源、25,26:加算回路、
27,28:増幅器。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 開口板に穿たれた電子線通過開口の形状を材
    料面上に結像させる電子光学系を有する電子線露
    光装置において、前記材料装置における電子線断
    面の互いに異なつた二方向A,Bの強度分布の対
    称性を検出する手段、前記開口板を照射する電子
    線を互いに異なつた二方向X,Yに夫々偏向する
    X方向偏向手段及びY方向偏向手段から成る微調
    整用のXY偏向手段、及び、該X方向及びY方向
    偏向手段に供給されるX方向偏向信号、Y方向偏
    向信号を補正して前記微調整用のXY偏向手段の
    偏向座標軸を回転させ、該補正後の偏向座標軸
    (X′、Y′)を前記二方向A,Bと略一致させる為
    の手段を設けた電子露光装置。
JP2686278A 1978-03-09 1978-03-09 Electron beam exposure device Granted JPS54120397A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2686278A JPS54120397A (en) 1978-03-09 1978-03-09 Electron beam exposure device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2686278A JPS54120397A (en) 1978-03-09 1978-03-09 Electron beam exposure device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS54120397A JPS54120397A (en) 1979-09-18
JPS6149813B2 true JPS6149813B2 (ja) 1986-10-31

Family

ID=12205089

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2686278A Granted JPS54120397A (en) 1978-03-09 1978-03-09 Electron beam exposure device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS54120397A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01137045A (ja) * 1987-11-19 1989-05-30 Nozawa Sangyo Kk 鉄骨構造建物の外壁の施工方法
JPH01122107U (ja) * 1988-02-13 1989-08-18

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01137045A (ja) * 1987-11-19 1989-05-30 Nozawa Sangyo Kk 鉄骨構造建物の外壁の施工方法
JPH01122107U (ja) * 1988-02-13 1989-08-18

Also Published As

Publication number Publication date
JPS54120397A (en) 1979-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH03119717A (ja) 荷電粒子露光装置および露光方法
JP2965739B2 (ja) 集束イオンビーム装置
JP3101114B2 (ja) 走査電子顕微鏡
JPH0732111B2 (ja) 荷電ビ−ム投影露光装置
US3900734A (en) Scanning electron-beam instrument
JPH0122705B2 (ja)
JPS62208632A (ja) イオン投影機用の装置
JPS6149813B2 (ja)
US5081354A (en) Method of determining the position of electron beam irradiation and device used in such method
JPH04297051A (ja) 集積回路の試験・修復装置
JPH09199072A (ja) イオンビーム投射方法および装置
US4057722A (en) Method and apparatus for the generation of distortion-free images with electron microscope
JPS60151946A (ja) 走査型電子線装置
JPS6134222B2 (ja)
JPS6329379B2 (ja)
JPS6084750A (ja) 走査電子顕微鏡
JPH02246316A (ja) 荷電粒子ビーム露光装置及びその露光方法
JPS615517A (ja) 荷電ビ−ム装置の偏向歪み補正方法
JPH01147831A (ja) 荷電ビーム描画方法
JPH01276629A (ja) 矩形ビーム描画装置の非点収差較正方法
JPH0136663B2 (ja)
JPH07120414A (ja) 電子線回折装置
JPH035020B2 (ja)
JPH07130622A (ja) 電子ビーム露光装置の角度絞り用アパーチャの位置での電子ビーム断面整形方法
JPH03176955A (ja) 走査形電子ビーム装置