JPS614636A - Ｘｙステ−ジ - Google Patents
Ｘｙステ−ジInfo
- Publication number
- JPS614636A JPS614636A JP12615084A JP12615084A JPS614636A JP S614636 A JPS614636 A JP S614636A JP 12615084 A JP12615084 A JP 12615084A JP 12615084 A JP12615084 A JP 12615084A JP S614636 A JPS614636 A JP S614636A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- laser beam
- reflector
- laser
- radiated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
- B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
- B23Q1/44—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms
- B23Q1/56—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism
- B23Q1/60—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism
- B23Q1/62—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism with perpendicular axes, e.g. cross-slides
- B23Q1/621—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism with perpendicular axes, e.g. cross-slides a single sliding pair followed perpendicularly by a single sliding pair
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q17/00—Arrangements for observing, indicating or measuring on machine tools
- B23Q17/22—Arrangements for observing, indicating or measuring on machine tools for indicating or measuring existing or desired position of tool or work
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）発明の分野
この発明けた占えば、光学測定装置、半導体製造装置、
精密工作装置等の高精密加工時において、その位置決め
分レーザビームにより変速、変精度に行えるように構成
したＸＹステージに関する。
精密工作装置等の高精密加工時において、その位置決め
分レーザビームにより変速、変精度に行えるように構成
したＸＹステージに関する。
（ロ）発明の背景
ステージを変速、変精度で位置決めして各種加工物を精
密加工するには、レーザビームによる位置検出方法が最
適であるため、このレーデビームによる位置検出方法が
一般的に用いられている。
密加工するには、レーザビームによる位置検出方法が最
適であるため、このレーデビームによる位置検出方法が
一般的に用いられている。
従来、この種の位置検出方法は、第７図に示すヨウに、
レーザ測長器３１より発射されるレーザビームを、ビー
ムスプリッタ３２、インタフェロメータ３３を介してス
テージ３４に配設されたレーザ反射り形ミラー３５に反
射させて、反射されてきたレーザビームをレシーバ３６
で受光シ、この受光によりステージ３４の位置検出を行
っていた。
レーザ測長器３１より発射されるレーザビームを、ビー
ムスプリッタ３２、インタフェロメータ３３を介してス
テージ３４に配設されたレーザ反射り形ミラー３５に反
射させて、反射されてきたレーザビームをレシーバ３６
で受光シ、この受光によりステージ３４の位置検出を行
っていた。
しかし、この方法ではステージ３４にレーザ反射り形ミ
ラー３５を直接に配設するため次のような問題点を有し
ていた。
ラー３５を直接に配設するため次のような問題点を有し
ていた。
（１）ステージ３４の自重の増加によりステージ３４の
慣性が増加して、この慣性の増加がオーバランニングの
要因となり、変速６置決めに不利となる。
慣性が増加して、この慣性の増加がオーバランニングの
要因となり、変速６置決めに不利となる。
（２）ステージ３４の自重の増加により、可動部を構成
するそれぞれの部品の摩耗が促進され耐久性が低下した
。
するそれぞれの部品の摩耗が促進され耐久性が低下した
。
（３）変価なレーザ反射り形ミラー３５を使用するため
、コストアンプの要因となっていた。
、コストアンプの要因となっていた。
（４）レーザ反射り形ミラー３５の取付は歪が、ステー
ジ３４の位置決め精度に面接影響を与えるためレーザ反
射り形ミラー３５をステージ３４に取付ける際、この取
付は歪を完全に防止しなければならない。このため取付
は作業が非常に困難であり組立性が非常に悪かった。
ジ３４の位置決め精度に面接影響を与えるためレーザ反
射り形ミラー３５をステージ３４に取付ける際、この取
付は歪を完全に防止しなければならない。このため取付
は作業が非常に困難であり組立性が非常に悪かった。
またこの種の他の検出方法は、第７図に示したレーザ反
射り形ミラー３５を、第８図に示すような、直交した２
本のブレーンミラー３７．３７に代えて構成したもので
あって、この方法においても次のような問題点を有して
いた。
射り形ミラー３５を、第８図に示すような、直交した２
本のブレーンミラー３７．３７に代えて構成したもので
あって、この方法においても次のような問題点を有して
いた。
（１）ステージ３４の自重の増加によりステージ３４の
慣性が増加して、この慣性の増加がオーバランニングの
要因となり、変速位置決めに不利となる。
慣性が増加して、この慣性の増加がオーバランニングの
要因となり、変速位置決めに不利となる。
（２）ステージ３４の自重の増加により、可動部を構成
するそれぞれの部品の摩耗が促進され耐久性が低下した
。
するそれぞれの部品の摩耗が促進され耐久性が低下した
。
（３）変価なプレーンミラー３７を使用するため、コス
トアンプの要因となっていた。
トアンプの要因となっていた。
（４）プレーンミラー３７の直交度がステージ３４の位
置決め精度に直接影響を与えるため、それらプレーンミ
ラー３７ 、３７の直交度を１秒以下に設定しなければ
ならない。このため取付は作業が非常に困難であり組立
性が非常に悪かった。
置決め精度に直接影響を与えるため、それらプレーンミ
ラー３７ 、３７の直交度を１秒以下に設定しなければ
ならない。このため取付は作業が非常に困難であり組立
性が非常に悪かった。
（ハ）発明の目的
そこでこの発明は、ステージにレーザ反射り形ミラー捷
たけブレーンミラーを配設することなく、その位置決め
を変速、変精度に行うことのできるＸＹステージの提供
を目的とする。
たけブレーンミラーを配設することなく、その位置決め
を変速、変精度に行うことのできるＸＹステージの提供
を目的とする。
に）発明の要約
この発明は、レーザ測長器と反射鏡により、ステージを
変速、変精度に位置決めするＸＹステージであって、前
記ステージを駆動する２本の直交したクロスガイドに前
記反射鏡をそれぞれ配設し、この反射鏡に前記レーザ測
長器のレーザビームを反射させて、それらクロスガイド
のそれぞれの位置を検出するよう構成したＸＹステージ
であることを特徴とする。
変速、変精度に位置決めするＸＹステージであって、前
記ステージを駆動する２本の直交したクロスガイドに前
記反射鏡をそれぞれ配設し、この反射鏡に前記レーザ測
長器のレーザビームを反射させて、それらクロスガイド
のそれぞれの位置を検出するよう構成したＸＹステージ
であることを特徴とする。
（ホ）発明の効果
この発明によれば、ステージに配設していたレーザ反射
り形ミラーまたはブレーンミラーを廃止して、クロスガ
イドのそれぞれに反射鏡を配設し、この反射鏡により照
財されたレーザビームを反射させて、ステージの位置決
めを変速、変精度に行うように７街成したので次のよう
な効果を有する。
り形ミラーまたはブレーンミラーを廃止して、クロスガ
イドのそれぞれに反射鏡を配設し、この反射鏡により照
財されたレーザビームを反射させて、ステージの位置決
めを変速、変精度に行うように７街成したので次のよう
な効果を有する。
（１）ステージの自重の低減によりステージの慣性が低
下し、この慣性の低下によりオーバランニングが減少し
、変速位置決めに有利とな−った。
下し、この慣性の低下によりオーバランニングが減少し
、変速位置決めに有利とな−った。
（２）ステージの自重の低減により、それぞれの可動部
品の茸耗が減少し耐久性が向上した。
品の茸耗が減少し耐久性が向上した。
（３）レーザ反射り形ミラーまだはブレーンミラーの取
付作業が不要となるので、組立作業が容易に々り組立性
が著じるしく向上した。
付作業が不要となるので、組立作業が容易に々り組立性
が著じるしく向上した。
（４）変価々レーザ反射り形ミラー−またはプレーンミ
ラーが不要になるので、大中々コストアンプ可能となっ
た。
ラーが不要になるので、大中々コストアンプ可能となっ
た。
（へ）発明の実施例
この発明の一実施例を以下図面に基づいて詳述する。
図面はＸＹステージを示し第１図、第２図においてＸＹ
ステージ１け、その上端面のＸ−−Ｙ軸に沿ってそれぞ
れ相対向するベースガイドＸ 、 Ｙ。
ステージ１け、その上端面のＸ−−Ｙ軸に沿ってそれぞ
れ相対向するベースガイドＸ 、 Ｙ。
２．２′、３，３′を固定し、これらベースガイドＸ。
Ｙ、 ２ 、２’、３．３′間にクロスガイドＸ、Ｙ
、４゜５をそれぞれ段部いに直交させて配設するととも
に、この直交部にステージ６を係合している。
、４゜５をそれぞれ段部いに直交させて配設するととも
に、この直交部にステージ６を係合している。
前述のクロスガイドＸ、Ｙ、４．５は、適宜の駆動方法
たとえばモーター駆動、リニアモーター駆動等によりそ
れぞれが独立して、各軸に対して平行移動自在に可動さ
れる。−またその上端面であって同一水平面上に反射鏡
Ｘ、Ｙ、７．８をそれぞれ配設するとともに、それぞれ
の鏡面側をインタフェロメータＸ、Ｙ９，１０にそれぞ
れ対向させている。またこのインタフェロメータｘ 、
ｙ。
たとえばモーター駆動、リニアモーター駆動等によりそ
れぞれが独立して、各軸に対して平行移動自在に可動さ
れる。−またその上端面であって同一水平面上に反射鏡
Ｘ、Ｙ、７．８をそれぞれ配設するとともに、それぞれ
の鏡面側をインタフェロメータＸ、Ｙ９，１０にそれぞ
れ対向させている。またこのインタフェロメータｘ 、
ｙ。
９．１０のそれぞれは、レーザ測長器１１より発射され
るレーザビームを分光するビームスブリツタ１２に対向
されている。
るレーザビームを分光するビームスブリツタ１２に対向
されている。
前述のステージ６は、その上端部に加工面１３を形成す
るとともに、その下端部に前述のクロスガイドＸ、Ｙ、
４．５をそれぞれ直交させて支持案内し、それらクロス
ガイドＸ、Ｙ、４．５の平行移動によりＸ軸−Ｙ軸の平
面内を自由に移動する。
るとともに、その下端部に前述のクロスガイドＸ、Ｙ、
４．５をそれぞれ直交させて支持案内し、それらクロス
ガイドＸ、Ｙ、４．５の平行移動によりＸ軸−Ｙ軸の平
面内を自由に移動する。
このように構成されたＸＹステージ１のＸ中白、Ｙ軸の
それぞれの位置検出および位置決めは次のようにして行
われる。レーザ測長器１１より発射されたレーザビーム
はビームスプリッタ１２で分光されて、インタフェロメ
ータＸ、Ｙ、９．１０を介して反射鏡Ｘ、Ｙ、７．８に
照射される。そして反射鏡Ｘ７に照射されたレーザビー
ムは、反射”＝Ｑ Ｘ ７により反射されてインクフェ
ロメータＸ９を介してレシーバＸ１４に受光され、この
受光によりステージ６のＸ軸における位置が検出される
。
それぞれの位置検出および位置決めは次のようにして行
われる。レーザ測長器１１より発射されたレーザビーム
はビームスプリッタ１２で分光されて、インタフェロメ
ータＸ、Ｙ、９．１０を介して反射鏡Ｘ、Ｙ、７．８に
照射される。そして反射鏡Ｘ７に照射されたレーザビー
ムは、反射”＝Ｑ Ｘ ７により反射されてインクフェ
ロメータＸ９を介してレシーバＸ１４に受光され、この
受光によりステージ６のＸ軸における位置が検出される
。
捷た反射鏡Ｙ８に照射されたレーザビームは、同様にレ
シーバＹ１５に受光されて、ステージ６のＹ軸における
位置が検出される。そしてこのように検出されたそれぞ
れの検出値は、第３図に示すブロック図のごとく処理さ
れてステージ６の位置決めが行われる。
シーバＹ１５に受光されて、ステージ６のＹ軸における
位置が検出される。そしてこのように検出されたそれぞ
れの検出値は、第３図に示すブロック図のごとく処理さ
れてステージ６の位置決めが行われる。
捷た、第４図はこの発明の第２の実施例を示し、この第
２の実施例は第１図における反射鏡Ｘ７をクロスガイド
Ｘ４の他端側に配設したものであって、他の構成は第１
実施例と同様でありその位置検出および位置決めも同様
に行われる。
２の実施例は第１図における反射鏡Ｘ７をクロスガイド
Ｘ４の他端側に配設したものであって、他の構成は第１
実施例と同様でありその位置検出および位置決めも同様
に行われる。
また第５図は、この発明の第３の実施例を示し、シ
この第３実施例は第１図におけるクロスガイドＸ４の他
端側にも反射鏡ｘ′１６を配設するとともに、ビームベ
ング１７によりレーダビームを照射してクロスガイドＸ
４の両端の位置検出を行い、クロスガイドｘ４の角度変
位を検出し、ステージ６の走り精度の向上を計るように
構成している。
端側にも反射鏡ｘ′１６を配設するとともに、ビームベ
ング１７によりレーダビームを照射してクロスガイドＸ
４の両端の位置検出を行い、クロスガイドｘ４の角度変
位を検出し、ステージ６の走り精度の向上を計るように
構成している。
またクロスガイドＸ４の代わりに、クロスガイドＹ５の
両端の位置検出を行いクロスガイドＹ５の角度変位を検
出して、ステージ６０走り精度の向上を計ってもよい。
両端の位置検出を行いクロスガイドＹ５の角度変位を検
出して、ステージ６０走り精度の向上を計ってもよい。
−また第６図はこの発明の第４の実施例を示し、この第
４の実施例Ｉ″ｉ第１図におけるクロスガイドＸ、Ｙ、
４．５の他端側にも反射鏡ＸＩ 、 ｙｌ、１８゜１９
を配設すると々もに、この反射鏡Ｘ’、 Ｙ’、１８．
１９に対応して第１実施列と同様に構成した別系統のレ
ーザ測長回路により、他端側それぞれの位階検出を行い
クロスガイドＸ、Ｙ、４．５のそれぞれの角度変位を検
出して、ステージ６の走り精度をさらνこ向上させるよ
う構成している。
４の実施例Ｉ″ｉ第１図におけるクロスガイドＸ、Ｙ、
４．５の他端側にも反射鏡ＸＩ 、 ｙｌ、１８゜１９
を配設すると々もに、この反射鏡Ｘ’、 Ｙ’、１８．
１９に対応して第１実施列と同様に構成した別系統のレ
ーザ測長回路により、他端側それぞれの位階検出を行い
クロスガイドＸ、Ｙ、４．５のそれぞれの角度変位を検
出して、ステージ６の走り精度をさらνこ向上させるよ
う構成している。
図面はこの発明の一実施例を示し、
第１図は第１実施例のＸＹステージの上面図、第２図は
第１図の斜視図、 第３図はステージの位置決めブロック図、第４図１−ｊ
：第２実施例のＸＹステージの上面図、第５図は第３実
施例のＸＹステージの上面図、第６図は第４実施例のｘ
ｙステージの上面図、第７図〜第８図は従来のＸＹステ
ージの要部上面図である。 １・・・ＸＹステージ ４・・・クロスガイドＸ５
・・クロスガイドＹ ６・・ステージ７・・・反射鏡
Ｘ ８・・・反射鏡Ｙ１１・・レーザ測長器 第１図 １３図 あ ４ ° クロスη′イド×
リ
５° りＯスｄイドＹ ６ °ステージ 第５図 １−ＸＴステージ ′ イ 第７図 第８図 Ｌ
第１図の斜視図、 第３図はステージの位置決めブロック図、第４図１−ｊ
：第２実施例のＸＹステージの上面図、第５図は第３実
施例のＸＹステージの上面図、第６図は第４実施例のｘ
ｙステージの上面図、第７図〜第８図は従来のＸＹステ
ージの要部上面図である。 １・・・ＸＹステージ ４・・・クロスガイドＸ５
・・クロスガイドＹ ６・・ステージ７・・・反射鏡
Ｘ ８・・・反射鏡Ｙ１１・・レーザ測長器 第１図 １３図 あ ４ ° クロスη′イド×
リ
５° りＯスｄイドＹ ６ °ステージ 第５図 １−ＸＴステージ ′ イ 第７図 第８図 Ｌ
Claims (1)
- １、レーザ測長器と反射鏡により、ステージを変速、変
精度に位置決めするＸＹステージであつて、前記ステー
ジを駆動する２本の直交したクロスガイドに前記反射鏡
をそれぞれ配設し、この反射鏡に前記レーザ測長器のレ
ーザビームを反射させて、それらクロスガイドのそれぞ
れの位置を検出するよう構成したことを特徴とするＸＹ
ステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12615084A JPS614636A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | Ｘｙステ−ジ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12615084A JPS614636A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | Ｘｙステ−ジ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS614636A true JPS614636A (ja) | 1986-01-10 |
Family
ID=14927912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12615084A Pending JPS614636A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | Ｘｙステ−ジ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS614636A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0257053U (ja) * | 1988-10-19 | 1990-04-25 | ||
| WO2006118145A1 (ja) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Showa Denko K. K. | 固体電解コンデンサ |
| CN101167148A (zh) * | 2005-04-27 | 2008-04-23 | 昭和电工株式会社 | 固体电解电容器 |
| JP2010110602A (ja) * | 2008-11-07 | 2010-05-20 | Yoshihiko Ikeda | 有孔指圧具 |
-
1984
- 1984-06-18 JP JP12615084A patent/JPS614636A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0257053U (ja) * | 1988-10-19 | 1990-04-25 | ||
| WO2006118145A1 (ja) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Showa Denko K. K. | 固体電解コンデンサ |
| CN101167148A (zh) * | 2005-04-27 | 2008-04-23 | 昭和电工株式会社 | 固体电解电容器 |
| JP2010110602A (ja) * | 2008-11-07 | 2010-05-20 | Yoshihiko Ikeda | 有孔指圧具 |
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