JPS614636A - Xyステ−ジ - Google Patents
Xyステ−ジInfo
- Publication number
- JPS614636A JPS614636A JP12615084A JP12615084A JPS614636A JP S614636 A JPS614636 A JP S614636A JP 12615084 A JP12615084 A JP 12615084A JP 12615084 A JP12615084 A JP 12615084A JP S614636 A JPS614636 A JP S614636A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- laser beam
- reflector
- laser
- radiated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
- B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
- B23Q1/44—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms
- B23Q1/56—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism
- B23Q1/60—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism
- B23Q1/62—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism with perpendicular axes, e.g. cross-slides
- B23Q1/621—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism with perpendicular axes, e.g. cross-slides a single sliding pair followed perpendicularly by a single sliding pair
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q17/00—Arrangements for observing, indicating or measuring on machine tools
- B23Q17/22—Arrangements for observing, indicating or measuring on machine tools for indicating or measuring existing or desired position of tool or work
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)発明の分野
この発明けた占えば、光学測定装置、半導体製造装置、
精密工作装置等の高精密加工時において、その位置決め
分レーザビームにより変速、変精度に行えるように構成
したXYステージに関する。
精密工作装置等の高精密加工時において、その位置決め
分レーザビームにより変速、変精度に行えるように構成
したXYステージに関する。
(ロ)発明の背景
ステージを変速、変精度で位置決めして各種加工物を精
密加工するには、レーザビームによる位置検出方法が最
適であるため、このレーデビームによる位置検出方法が
一般的に用いられている。
密加工するには、レーザビームによる位置検出方法が最
適であるため、このレーデビームによる位置検出方法が
一般的に用いられている。
従来、この種の位置検出方法は、第7図に示すヨウに、
レーザ測長器31より発射されるレーザビームを、ビー
ムスプリッタ32、インタフェロメータ33を介してス
テージ34に配設されたレーザ反射り形ミラー35に反
射させて、反射されてきたレーザビームをレシーバ36
で受光シ、この受光によりステージ34の位置検出を行
っていた。
レーザ測長器31より発射されるレーザビームを、ビー
ムスプリッタ32、インタフェロメータ33を介してス
テージ34に配設されたレーザ反射り形ミラー35に反
射させて、反射されてきたレーザビームをレシーバ36
で受光シ、この受光によりステージ34の位置検出を行
っていた。
しかし、この方法ではステージ34にレーザ反射り形ミ
ラー35を直接に配設するため次のような問題点を有し
ていた。
ラー35を直接に配設するため次のような問題点を有し
ていた。
(1)ステージ34の自重の増加によりステージ34の
慣性が増加して、この慣性の増加がオーバランニングの
要因となり、変速6置決めに不利となる。
慣性が増加して、この慣性の増加がオーバランニングの
要因となり、変速6置決めに不利となる。
(2)ステージ34の自重の増加により、可動部を構成
するそれぞれの部品の摩耗が促進され耐久性が低下した
。
するそれぞれの部品の摩耗が促進され耐久性が低下した
。
(3)変価なレーザ反射り形ミラー35を使用するため
、コストアンプの要因となっていた。
、コストアンプの要因となっていた。
(4)レーザ反射り形ミラー35の取付は歪が、ステー
ジ34の位置決め精度に面接影響を与えるためレーザ反
射り形ミラー35をステージ34に取付ける際、この取
付は歪を完全に防止しなければならない。このため取付
は作業が非常に困難であり組立性が非常に悪かった。
ジ34の位置決め精度に面接影響を与えるためレーザ反
射り形ミラー35をステージ34に取付ける際、この取
付は歪を完全に防止しなければならない。このため取付
は作業が非常に困難であり組立性が非常に悪かった。
またこの種の他の検出方法は、第7図に示したレーザ反
射り形ミラー35を、第8図に示すような、直交した2
本のブレーンミラー37.37に代えて構成したもので
あって、この方法においても次のような問題点を有して
いた。
射り形ミラー35を、第8図に示すような、直交した2
本のブレーンミラー37.37に代えて構成したもので
あって、この方法においても次のような問題点を有して
いた。
(1)ステージ34の自重の増加によりステージ34の
慣性が増加して、この慣性の増加がオーバランニングの
要因となり、変速位置決めに不利となる。
慣性が増加して、この慣性の増加がオーバランニングの
要因となり、変速位置決めに不利となる。
(2)ステージ34の自重の増加により、可動部を構成
するそれぞれの部品の摩耗が促進され耐久性が低下した
。
するそれぞれの部品の摩耗が促進され耐久性が低下した
。
(3)変価なプレーンミラー37を使用するため、コス
トアンプの要因となっていた。
トアンプの要因となっていた。
(4)プレーンミラー37の直交度がステージ34の位
置決め精度に直接影響を与えるため、それらプレーンミ
ラー37 、37の直交度を1秒以下に設定しなければ
ならない。このため取付は作業が非常に困難であり組立
性が非常に悪かった。
置決め精度に直接影響を与えるため、それらプレーンミ
ラー37 、37の直交度を1秒以下に設定しなければ
ならない。このため取付は作業が非常に困難であり組立
性が非常に悪かった。
(ハ)発明の目的
そこでこの発明は、ステージにレーザ反射り形ミラー捷
たけブレーンミラーを配設することなく、その位置決め
を変速、変精度に行うことのできるXYステージの提供
を目的とする。
たけブレーンミラーを配設することなく、その位置決め
を変速、変精度に行うことのできるXYステージの提供
を目的とする。
に)発明の要約
この発明は、レーザ測長器と反射鏡により、ステージを
変速、変精度に位置決めするXYステージであって、前
記ステージを駆動する2本の直交したクロスガイドに前
記反射鏡をそれぞれ配設し、この反射鏡に前記レーザ測
長器のレーザビームを反射させて、それらクロスガイド
のそれぞれの位置を検出するよう構成したXYステージ
であることを特徴とする。
変速、変精度に位置決めするXYステージであって、前
記ステージを駆動する2本の直交したクロスガイドに前
記反射鏡をそれぞれ配設し、この反射鏡に前記レーザ測
長器のレーザビームを反射させて、それらクロスガイド
のそれぞれの位置を検出するよう構成したXYステージ
であることを特徴とする。
(ホ)発明の効果
この発明によれば、ステージに配設していたレーザ反射
り形ミラーまたはブレーンミラーを廃止して、クロスガ
イドのそれぞれに反射鏡を配設し、この反射鏡により照
財されたレーザビームを反射させて、ステージの位置決
めを変速、変精度に行うように7街成したので次のよう
な効果を有する。
り形ミラーまたはブレーンミラーを廃止して、クロスガ
イドのそれぞれに反射鏡を配設し、この反射鏡により照
財されたレーザビームを反射させて、ステージの位置決
めを変速、変精度に行うように7街成したので次のよう
な効果を有する。
(1)ステージの自重の低減によりステージの慣性が低
下し、この慣性の低下によりオーバランニングが減少し
、変速位置決めに有利とな−った。
下し、この慣性の低下によりオーバランニングが減少し
、変速位置決めに有利とな−った。
(2)ステージの自重の低減により、それぞれの可動部
品の茸耗が減少し耐久性が向上した。
品の茸耗が減少し耐久性が向上した。
(3)レーザ反射り形ミラーまだはブレーンミラーの取
付作業が不要となるので、組立作業が容易に々り組立性
が著じるしく向上した。
付作業が不要となるので、組立作業が容易に々り組立性
が著じるしく向上した。
(4)変価々レーザ反射り形ミラー−またはプレーンミ
ラーが不要になるので、大中々コストアンプ可能となっ
た。
ラーが不要になるので、大中々コストアンプ可能となっ
た。
(へ)発明の実施例
この発明の一実施例を以下図面に基づいて詳述する。
図面はXYステージを示し第1図、第2図においてXY
ステージ1け、その上端面のX−−Y軸に沿ってそれぞ
れ相対向するベースガイドX 、 Y。
ステージ1け、その上端面のX−−Y軸に沿ってそれぞ
れ相対向するベースガイドX 、 Y。
2.2′、3,3′を固定し、これらベースガイドX。
Y、 2 、2’、3.3′間にクロスガイドX、Y
、4゜5をそれぞれ段部いに直交させて配設するととも
に、この直交部にステージ6を係合している。
、4゜5をそれぞれ段部いに直交させて配設するととも
に、この直交部にステージ6を係合している。
前述のクロスガイドX、Y、4.5は、適宜の駆動方法
たとえばモーター駆動、リニアモーター駆動等によりそ
れぞれが独立して、各軸に対して平行移動自在に可動さ
れる。−またその上端面であって同一水平面上に反射鏡
X、Y、7.8をそれぞれ配設するとともに、それぞれ
の鏡面側をインタフェロメータX、Y9,10にそれぞ
れ対向させている。またこのインタフェロメータx 、
y。
たとえばモーター駆動、リニアモーター駆動等によりそ
れぞれが独立して、各軸に対して平行移動自在に可動さ
れる。−またその上端面であって同一水平面上に反射鏡
X、Y、7.8をそれぞれ配設するとともに、それぞれ
の鏡面側をインタフェロメータX、Y9,10にそれぞ
れ対向させている。またこのインタフェロメータx 、
y。
9.10のそれぞれは、レーザ測長器11より発射され
るレーザビームを分光するビームスブリツタ12に対向
されている。
るレーザビームを分光するビームスブリツタ12に対向
されている。
前述のステージ6は、その上端部に加工面13を形成す
るとともに、その下端部に前述のクロスガイドX、Y、
4.5をそれぞれ直交させて支持案内し、それらクロス
ガイドX、Y、4.5の平行移動によりX軸−Y軸の平
面内を自由に移動する。
るとともに、その下端部に前述のクロスガイドX、Y、
4.5をそれぞれ直交させて支持案内し、それらクロス
ガイドX、Y、4.5の平行移動によりX軸−Y軸の平
面内を自由に移動する。
このように構成されたXYステージ1のX中白、Y軸の
それぞれの位置検出および位置決めは次のようにして行
われる。レーザ測長器11より発射されたレーザビーム
はビームスプリッタ12で分光されて、インタフェロメ
ータX、Y、9.10を介して反射鏡X、Y、7.8に
照射される。そして反射鏡X7に照射されたレーザビー
ムは、反射”=Q X 7により反射されてインクフェ
ロメータX9を介してレシーバX14に受光され、この
受光によりステージ6のX軸における位置が検出される
。
それぞれの位置検出および位置決めは次のようにして行
われる。レーザ測長器11より発射されたレーザビーム
はビームスプリッタ12で分光されて、インタフェロメ
ータX、Y、9.10を介して反射鏡X、Y、7.8に
照射される。そして反射鏡X7に照射されたレーザビー
ムは、反射”=Q X 7により反射されてインクフェ
ロメータX9を介してレシーバX14に受光され、この
受光によりステージ6のX軸における位置が検出される
。
捷た反射鏡Y8に照射されたレーザビームは、同様にレ
シーバY15に受光されて、ステージ6のY軸における
位置が検出される。そしてこのように検出されたそれぞ
れの検出値は、第3図に示すブロック図のごとく処理さ
れてステージ6の位置決めが行われる。
シーバY15に受光されて、ステージ6のY軸における
位置が検出される。そしてこのように検出されたそれぞ
れの検出値は、第3図に示すブロック図のごとく処理さ
れてステージ6の位置決めが行われる。
捷た、第4図はこの発明の第2の実施例を示し、この第
2の実施例は第1図における反射鏡X7をクロスガイド
X4の他端側に配設したものであって、他の構成は第1
実施例と同様でありその位置検出および位置決めも同様
に行われる。
2の実施例は第1図における反射鏡X7をクロスガイド
X4の他端側に配設したものであって、他の構成は第1
実施例と同様でありその位置検出および位置決めも同様
に行われる。
また第5図は、この発明の第3の実施例を示し、シ
この第3実施例は第1図におけるクロスガイドX4の他
端側にも反射鏡x′16を配設するとともに、ビームベ
ング17によりレーダビームを照射してクロスガイドX
4の両端の位置検出を行い、クロスガイドx4の角度変
位を検出し、ステージ6の走り精度の向上を計るように
構成している。
端側にも反射鏡x′16を配設するとともに、ビームベ
ング17によりレーダビームを照射してクロスガイドX
4の両端の位置検出を行い、クロスガイドx4の角度変
位を検出し、ステージ6の走り精度の向上を計るように
構成している。
またクロスガイドX4の代わりに、クロスガイドY5の
両端の位置検出を行いクロスガイドY5の角度変位を検
出して、ステージ60走り精度の向上を計ってもよい。
両端の位置検出を行いクロスガイドY5の角度変位を検
出して、ステージ60走り精度の向上を計ってもよい。
−また第6図はこの発明の第4の実施例を示し、この第
4の実施例I″i第1図におけるクロスガイドX、Y、
4.5の他端側にも反射鏡XI 、 yl、18゜19
を配設すると々もに、この反射鏡X’、 Y’、18.
19に対応して第1実施列と同様に構成した別系統のレ
ーザ測長回路により、他端側それぞれの位階検出を行い
クロスガイドX、Y、4.5のそれぞれの角度変位を検
出して、ステージ6の走り精度をさらνこ向上させるよ
う構成している。
4の実施例I″i第1図におけるクロスガイドX、Y、
4.5の他端側にも反射鏡XI 、 yl、18゜19
を配設すると々もに、この反射鏡X’、 Y’、18.
19に対応して第1実施列と同様に構成した別系統のレ
ーザ測長回路により、他端側それぞれの位階検出を行い
クロスガイドX、Y、4.5のそれぞれの角度変位を検
出して、ステージ6の走り精度をさらνこ向上させるよ
う構成している。
図面はこの発明の一実施例を示し、
第1図は第1実施例のXYステージの上面図、第2図は
第1図の斜視図、 第3図はステージの位置決めブロック図、第4図1−j
:第2実施例のXYステージの上面図、第5図は第3実
施例のXYステージの上面図、第6図は第4実施例のx
yステージの上面図、第7図〜第8図は従来のXYステ
ージの要部上面図である。 1・・・XYステージ 4・・・クロスガイドX5
・・クロスガイドY 6・・ステージ7・・・反射鏡
X 8・・・反射鏡Y11・・レーザ測長器 第1図 13図 あ 4 ° クロスη′イド×
リ
5° りOスdイドY 6 °ステージ 第5図 1−XTステージ ′ イ 第7図 第8図 L
第1図の斜視図、 第3図はステージの位置決めブロック図、第4図1−j
:第2実施例のXYステージの上面図、第5図は第3実
施例のXYステージの上面図、第6図は第4実施例のx
yステージの上面図、第7図〜第8図は従来のXYステ
ージの要部上面図である。 1・・・XYステージ 4・・・クロスガイドX5
・・クロスガイドY 6・・ステージ7・・・反射鏡
X 8・・・反射鏡Y11・・レーザ測長器 第1図 13図 あ 4 ° クロスη′イド×
リ
5° りOスdイドY 6 °ステージ 第5図 1−XTステージ ′ イ 第7図 第8図 L
Claims (1)
- 1、レーザ測長器と反射鏡により、ステージを変速、変
精度に位置決めするXYステージであつて、前記ステー
ジを駆動する2本の直交したクロスガイドに前記反射鏡
をそれぞれ配設し、この反射鏡に前記レーザ測長器のレ
ーザビームを反射させて、それらクロスガイドのそれぞ
れの位置を検出するよう構成したことを特徴とするXY
ステージ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12615084A JPS614636A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | Xyステ−ジ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12615084A JPS614636A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | Xyステ−ジ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS614636A true JPS614636A (ja) | 1986-01-10 |
Family
ID=14927912
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12615084A Pending JPS614636A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | Xyステ−ジ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS614636A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0257053U (ja) * | 1988-10-19 | 1990-04-25 | ||
WO2006118145A1 (ja) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Showa Denko K. K. | 固体電解コンデンサ |
CN101167148A (zh) * | 2005-04-27 | 2008-04-23 | 昭和电工株式会社 | 固体电解电容器 |
JP2010110602A (ja) * | 2008-11-07 | 2010-05-20 | Yoshihiko Ikeda | 有孔指圧具 |
-
1984
- 1984-06-18 JP JP12615084A patent/JPS614636A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0257053U (ja) * | 1988-10-19 | 1990-04-25 | ||
WO2006118145A1 (ja) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Showa Denko K. K. | 固体電解コンデンサ |
CN101167148A (zh) * | 2005-04-27 | 2008-04-23 | 昭和电工株式会社 | 固体电解电容器 |
JP2010110602A (ja) * | 2008-11-07 | 2010-05-20 | Yoshihiko Ikeda | 有孔指圧具 |
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