JPS61439A - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置Info
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- JPS61439A JPS61439A JP59121122A JP12112284A JPS61439A JP S61439 A JPS61439 A JP S61439A JP 59121122 A JP59121122 A JP 59121122A JP 12112284 A JP12112284 A JP 12112284A JP S61439 A JPS61439 A JP S61439A
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- B05B13/00—Machines or plants for applying liquids or other fluent materials to surfaces of objects or other work by spraying, not covered by groups B05B1/00 - B05B11/00
- B05B13/02—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work
- B05B13/0221—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work characterised by the means for moving or conveying the objects or other work, e.g. conveyor belts
- B05B13/0242—Means for supporting work; Arrangement or mounting of spray heads; Adaptation or arrangement of means for feeding work characterised by the means for moving or conveying the objects or other work, e.g. conveyor belts the objects being individually presented to the spray heads by a rotating element, e.g. turntable
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
- B05B7/16—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed
- B05B7/22—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed electrically, magnetically or electromagnetically, e.g. by arc
- B05B7/222—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas incorporating means for heating or cooling the material to be sprayed electrically, magnetically or electromagnetically, e.g. by arc using an arc
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
- C23C4/134—Plasma spraying
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
- C23C4/137—Spraying in vacuum or in an inert atmosphere
-
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- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2031/00—Other particular articles
- B29L2031/30—Vehicles, e.g. ships or aircraft, or body parts thereof
- B29L2031/3044—Bumpers
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- Metallurgy (AREA)
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- Electromagnetism (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の目的
（産業上の利用分野）
この発明はバンパーその他の合成樹脂製品の被塗装面に
プラズマ処理を施すためのプラズマ処理’ＪＡＰＩに係
り、詳しくはプラズマ照射中の供給ガスの排気調整を行
うための排気口に関するものである。
プラズマ処理を施すためのプラズマ処理’ＪＡＰＩに係
り、詳しくはプラズマ照射中の供給ガスの排気調整を行
うための排気口に関するものである。
（従来の技術）
従来、この種のプラズマ処理装置としては、密閉された
収容室内にポリプロピレン等からなる自動車部品の合成
樹脂製バンパーを層状に並列配置するとともに、プラズ
マ噴射管を収容し、バンパー表面に塗料を付着し易くづ
−るために、その噴射管から酸素等のプラズマガスをバ
ンパー表面に噴射してバンパー表面を活性化していＩＣ
。
収容室内にポリプロピレン等からなる自動車部品の合成
樹脂製バンパーを層状に並列配置するとともに、プラズ
マ噴射管を収容し、バンパー表面に塗料を付着し易くづ
−るために、その噴射管から酸素等のプラズマガスをバ
ンパー表面に噴射してバンパー表面を活性化していＩＣ
。
ところが、この従来の装置に４３いては、収容室内にバ
ンパーが静置されるとともに、一対のプラスン＋＋Ｑ用
管が対角線上に対向配置されているため、各噴（ＡＵ
Ｆｊに接続されるプラス７供給装置等の制御及び保守点
検が面倒であるばかりでなく、設備費の高騰を招くとい
う問題があった。
ンパーが静置されるとともに、一対のプラスン＋＋Ｑ用
管が対角線上に対向配置されているため、各噴（ＡＵ
Ｆｊに接続されるプラス７供給装置等の制御及び保守点
検が面倒であるばかりでなく、設備費の高騰を招くとい
う問題があった。
近（「、上述した問題点を解決するために本出願人が先
に出願した特願昭５８−２３６５４６号に示す−装置が
提案されている。すなわら、第９図に示す装置であって
合成樹脂製バンパーＢ等の被塗装品を収容する収容室５
１と、その被塗装品の表面にプラズマ処理を施すために
プラズマを噴射する１個のプラズマ噴射管５２とを備え
たプラズマ処理装置であり、前記収容室５１内には一軸
線の回りで回転する一＝対の支持円ｆｉ５３ａ、５３１
）を設け、両支持円ａ５３ａ 、５３ｂ間には被塗装品
を載置Ｊるための複数の支持台５４を相対回動可（能、
５支＋＠Ｌ ｔ、−構ｊ□有いい。。
に出願した特願昭５８−２３６５４６号に示す−装置が
提案されている。すなわら、第９図に示す装置であって
合成樹脂製バンパーＢ等の被塗装品を収容する収容室５
１と、その被塗装品の表面にプラズマ処理を施すために
プラズマを噴射する１個のプラズマ噴射管５２とを備え
たプラズマ処理装置であり、前記収容室５１内には一軸
線の回りで回転する一＝対の支持円ｆｉ５３ａ、５３１
）を設け、両支持円ａ５３ａ 、５３ｂ間には被塗装品
を載置Ｊるための複数の支持台５４を相対回動可（能、
５支＋＠Ｌ ｔ、−構ｊ□有いい。。
また、前記収容室５１に設けられたプラズマ噴射管５２
の」力には一箇所排気口５５が形成されている。同排気
「１５５は前記収容室１内を所定の圧力に減圧する場合
と、減圧後に照射されるプラズマガスにＪ一つて生ずる
収容室１内の圧力上昇を防ぎ、所定圧に保つためにプラ
ズマガスを排出する場合との２つの用途に用いられてい
る。
の」力には一箇所排気口５５が形成されている。同排気
「１５５は前記収容室１内を所定の圧力に減圧する場合
と、減圧後に照射されるプラズマガスにＪ一つて生ずる
収容室１内の圧力上昇を防ぎ、所定圧に保つためにプラ
ズマガスを排出する場合との２つの用途に用いられてい
る。
ところが、前記排気口５５が噴射管５２のすぐ上方に設
（〕られているためにプラズマガスが照射されても、第
１０図に示す波線のようになり、収容室全体に広がらず
一部が逆流し、前記排気口５５に吸収されてしまい、プ
ラズマガスが前記収容室１内に充分にゆきわたらない虞
れがある。したがって、収容室１内のプラズマガスの流
れを考慮すると非常に効率が悪かった。
（〕られているためにプラズマガスが照射されても、第
１０図に示す波線のようになり、収容室全体に広がらず
一部が逆流し、前記排気口５５に吸収されてしまい、プ
ラズマガスが前記収容室１内に充分にゆきわたらない虞
れがある。したがって、収容室１内のプラズマガスの流
れを考慮すると非常に効率が悪かった。
（発明が解決しようと−する問題点）
本発明はプラズマ処理効率が低く、処理時間も長くかか
るという問題点を解決するためのものである。
るという問題点を解決するためのものである。
発明の構成
（問題点を解決するための手段）
上記の問題点に鑑み本発明は合成樹脂製バンパー等の被
塗装品を収容する収容室と、その被塗装品の表面にプラ
ズマ処理を施すためにプラズマを噴部［するプラズマ噴
射管と、前記収容室内を減圧覆る排気口どを備えたプラ
ズマ処理装置において、前記収容室の噴射管と対向する
位置にプラズマ前用中の供給ガスの排気調整をするｌ〔
めの第２の排気口を設けた構成を採っている。
塗装品を収容する収容室と、その被塗装品の表面にプラ
ズマ処理を施すためにプラズマを噴部［するプラズマ噴
射管と、前記収容室内を減圧覆る排気口どを備えたプラ
ズマ処理装置において、前記収容室の噴射管と対向する
位置にプラズマ前用中の供給ガスの排気調整をするｌ〔
めの第２の排気口を設けた構成を採っている。
（作用）
本発明により噴射管より拡がったプラズマガスは反対側
にある排気口へ流れながら収容室内全体に充分に広がり
、その後第２の排気口に収束し排気される。
にある排気口へ流れながら収容室内全体に充分に広がり
、その後第２の排気口に収束し排気される。
（実施例）
以下、この発明を具体化した一実施例を第１〜７図に従
って説明する。
って説明する。
プラズマ処理装置の気密状の収容室１は中空円筒状に形
成され、第１図においてその正面壁には収容室１を開閉
し得る扉（図示しない）が設けられている。また、右側
型中央部には前記収容室１内を減圧するための専用とな
る第１の排気口２が形成され′でＪ３す、バルブ２ａを
有している。前記第１の排気口２の１部には酸素等のプ
ラズマガスを噴射するための１個のステンレス製噴射管
３が設けられている。
成され、第１図においてその正面壁には収容室１を開閉
し得る扉（図示しない）が設けられている。また、右側
型中央部には前記収容室１内を減圧するための専用とな
る第１の排気口２が形成され′でＪ３す、バルブ２ａを
有している。前記第１の排気口２の１部には酸素等のプ
ラズマガスを噴射するための１個のステンレス製噴射管
３が設けられている。
第３〜５図に示すＪζうに噴ＯＡ菅３のほぼ中央に形成
されたプラズマ導入口（図示しない）には導入管４が接
続され、その端部が収容室１外のプラズマ供給装置（図
示しないンに接続される。導入口の両側にて噴射管３の
外周には噴射管３の端部側に向かって配置間隔が漸減し
、かつ内径が漸増する多数の噴ＯＡ管５が形成されてい
る。そして、各噴射口５は垂直面Ｓに対して前側へ所定
角度θ１（この実施例では３０麿）傾斜する方向に開口
するもの５８と、後側へ所定角度θ２（この実施例では
３０度）傾斜する方向へ開口するもの５ｂとから構成さ
れている。そして、前側へ傾斜する噴射口５ａど後側へ
傾斜する噴射口５ｂどが交互に配設されている。また、
導入管３より排気口２側、すなわち右側の噴射口５の数
は排気口２より左側の噴射０５の数より１５％だけ少な
く設定されている。
されたプラズマ導入口（図示しない）には導入管４が接
続され、その端部が収容室１外のプラズマ供給装置（図
示しないンに接続される。導入口の両側にて噴射管３の
外周には噴射管３の端部側に向かって配置間隔が漸減し
、かつ内径が漸増する多数の噴ＯＡ管５が形成されてい
る。そして、各噴射口５は垂直面Ｓに対して前側へ所定
角度θ１（この実施例では３０麿）傾斜する方向に開口
するもの５８と、後側へ所定角度θ２（この実施例では
３０度）傾斜する方向へ開口するもの５ｂとから構成さ
れている。そして、前側へ傾斜する噴射口５ａど後側へ
傾斜する噴射口５ｂどが交互に配設されている。また、
導入管３より排気口２側、すなわち右側の噴射口５の数
は排気口２より左側の噴射０５の数より１５％だけ少な
く設定されている。
また、前記噴射管３と対向する位置には第２の１ノ１気
口６が設置Ｊられており、バルブ６ａを有している。同
排気日６はプラズマがスｍ気専用とし、第１の排気口２
よりし縮径され、プラズマカス供給ガス量と排気スピー
ドどのバランスがとれる径としている。次に、本実施例
にＪ３けるのブラズン噴！Ｊ’Ｊ ＠ ３ど第２のｊＪ
ｌ気ＩＴＪ ６との位置関係を述へる。
口６が設置Ｊられており、バルブ６ａを有している。同
排気日６はプラズマがスｍ気専用とし、第１の排気口２
よりし縮径され、プラズマカス供給ガス量と排気スピー
ドどのバランスがとれる径としている。次に、本実施例
にＪ３けるのブラズン噴！Ｊ’Ｊ ＠ ３ど第２のｊＪ
ｌ気ＩＴＪ ６との位置関係を述へる。
第１図にｄ３いて、前記収容室１の底面に対する垂直向
Ｓ１から反時計回りに３３０°たけ回転した位置にＩラ
ズＺ噴’：）Ｊ ？！ ３が設けられており、第２のＨ
Ｌ気口（３は層重直面Ｓ１から２１００だけ反時計回り
（こ回転しＬ：位置に設（プられている。
Ｓ１から反時計回りに３３０°たけ回転した位置にＩラ
ズＺ噴’：）Ｊ ？！ ３が設けられており、第２のＨ
Ｌ気口（３は層重直面Ｓ１から２１００だけ反時計回り
（こ回転しＬ：位置に設（プられている。
前記ＯＣ１川憧°３の下部にはＪＪ一台１０が設けられ
ており、同基台１０の下部には後述する回転装置１１が
設けられている。同回転装侃１１は四角枠状のフレーム
１２どその左右両片にηいに対向する（ 支＋
１’ １３ Ｍ Ｊり支持されエイ。。両支＋４１３
（７） −１：端部間には回転軸１４が回転可能に支持
され、その回転軸１４の両端には一対の支持円盤１５ａ
。
ており、同基台１０の下部には後述する回転装置１１が
設けられている。同回転装侃１１は四角枠状のフレーム
１２どその左右両片にηいに対向する（ 支＋
１’ １３ Ｍ Ｊり支持されエイ。。両支＋４１３
（７） −１：端部間には回転軸１４が回転可能に支持
され、その回転軸１４の両端には一対の支持円盤１５ａ
。
１５１）が一体回転可能に固着されている。前記両支持
円盤１５ａ、１５ｂの内面間には被塗装品、例えば、ボ
リブ［］ピレン等の合成樹脂からなるバンパー１３を載
置するための６個の支持台１６が所定の角曳間隔をおい
て配設されている。
円盤１５ａ、１５ｂの内面間には被塗装品、例えば、ボ
リブ［］ピレン等の合成樹脂からなるバンパー１３を載
置するための６個の支持台１６が所定の角曳間隔をおい
て配設されている。
第６図に示１、ように、各支持台１６は金属板に”Ｃ折
曲形成さねた一対の支持ハ１７ど、両支持片１７間に架
設されＩζ架設捧ｉ３ａと、各架設棒１８ａの各端部間
を連結するように各支持片１７の土面に配設された連結
棒１８１）とから構成され、各支持片１７はその上端部
にＪ３いて金具１９等により各支持円５Ｊ１５ａ、１５
ｂに相対回転可能に支持されている。従って、前記回転
軸１４及び支持円盤１５ａ、１５ｂの回転時及び静止時
において各支持台１６は水平位置に保持される。また、
各支持片１７の中央切欠部にはプラズマガスの通過を許
容するためのネット２０が調節されている。
曲形成さねた一対の支持ハ１７ど、両支持片１７間に架
設されＩζ架設捧ｉ３ａと、各架設棒１８ａの各端部間
を連結するように各支持片１７の土面に配設された連結
棒１８１）とから構成され、各支持片１７はその上端部
にＪ３いて金具１９等により各支持円５Ｊ１５ａ、１５
ｂに相対回転可能に支持されている。従って、前記回転
軸１４及び支持円盤１５ａ、１５ｂの回転時及び静止時
において各支持台１６は水平位置に保持される。また、
各支持片１７の中央切欠部にはプラズマガスの通過を許
容するためのネット２０が調節されている。
また、第１図に示すように、前記回転軸１４の
・１１−面端部には鎖中２１が挿嵌されるとともに、前
記フレーム１２」二には一軸線の回りで回転Ｊる鎖車２
２及び伝達Ｙア２３が設けられ、両鎖中２１゜２２間に
はチＦ−ン２４が掛装されるとともに、前記伝達ギア２
３には図示しない駆動モータにて回転軸＃Ｊされる＃Ｉ
動ギア２５が噛合されている。
・１１−面端部には鎖中２１が挿嵌されるとともに、前
記フレーム１２」二には一軸線の回りで回転Ｊる鎖車２
２及び伝達Ｙア２３が設けられ、両鎖中２１゜２２間に
はチＦ−ン２４が掛装されるとともに、前記伝達ギア２
３には図示しない駆動モータにて回転軸＃Ｊされる＃Ｉ
動ギア２５が噛合されている。
そして、駆動ギア２５の回転に伴い、伝達ギア２３、鎖
車２２．チェーン２４及び鎖車２１を介して回転＠１４
とともに支持円盤１５ａ、１５ｂが回転される。
車２２．チェーン２４及び鎖車２１を介して回転＠１４
とともに支持円盤１５ａ、１５ｂが回転される。
次にその作用効果を説明する。
まず、前記収容室１を開閉し得る所を開き各支持台にプ
ラズマカスを施すバンパー８を載置する。
ラズマカスを施すバンパー８を載置する。
次に、収容室の扉を開じ第１の排気口２のバルブ２ａを
開き、収容室１内を所定圧に減圧する（減圧装置は図示
しない）。所定圧に達り゛ると前記バルブ２ａを閉じ前
記回転装置１１の駆動モータを作動させれば、駆動ギヤ
２５．伝達ギＡ７２３ 。
開き、収容室１内を所定圧に減圧する（減圧装置は図示
しない）。所定圧に達り゛ると前記バルブ２ａを閉じ前
記回転装置１１の駆動モータを作動させれば、駆動ギヤ
２５．伝達ギＡ７２３ 。
鎖車２２．ヂ１−ン２４及び鎖車２１を介して回転＠１
４及び支持円盤１５が回転され、かつバンパーＢとと−
しに各支持台１６かての上端部を中心どじで各支持円盤
１５に対し相対回動じながら、各支持円ｆ１８１５の回
転中に、１５いても各バンパーＢが水平状態に保持され
る。
４及び支持円盤１５が回転され、かつバンパーＢとと−
しに各支持台１６かての上端部を中心どじで各支持円盤
１５に対し相対回動じながら、各支持円ｆ１８１５の回
転中に、１５いても各バンパーＢが水平状態に保持され
る。
前記回転装置１１の駆動と同時に、前記導入管４を介し
て噴係１管３に酸素等のプラズマカスを導入すれば、各
噴射口５からプラズマガスが均一に噴射される。また、
プラズマガスの噴射とともに第２のＩＪ１気口６のバル
ブ６ａ（！−開さ、供給ガス量と排気スピードとのバラ
ンスをとりながら前記収容室１内の圧力を一定に保って
いる。
て噴係１管３に酸素等のプラズマカスを導入すれば、各
噴射口５からプラズマガスが均一に噴射される。また、
プラズマガスの噴射とともに第２のＩＪ１気口６のバル
ブ６ａ（！−開さ、供給ガス量と排気スピードとのバラ
ンスをとりながら前記収容室１内の圧力を一定に保って
いる。
このとき、第２の排気口６がプラズマガス噴射管３に対
向覆る位置に設けられているため、噴射口５よりシャワ
ー状に広がったプラズマガスの流れは、第７図に示す波
線のような流れとなる。これは、前記プラズマガスが前
記収容室１内全体に充分法がった後、前記排気口６に収
束し排気されることを示し、前記バンパーＢに効率に＜
プラズマガスが照射されバンパー８表面をくまなく均一
的に活性化することが可能とイする。このため、プラズ
マ処理効率が大幅に上がり処理時間を短縮することが可
能どなる。
向覆る位置に設けられているため、噴射口５よりシャワ
ー状に広がったプラズマガスの流れは、第７図に示す波
線のような流れとなる。これは、前記プラズマガスが前
記収容室１内全体に充分法がった後、前記排気口６に収
束し排気されることを示し、前記バンパーＢに効率に＜
プラズマガスが照射されバンパー８表面をくまなく均一
的に活性化することが可能とイする。このため、プラズ
マ処理効率が大幅に上がり処理時間を短縮することが可
能どなる。
なお、本発明は前記実施例に限定されるものではなく例
えば次のように具体化することも可能である。
えば次のように具体化することも可能である。
■前記排気口６は、前記ｌ１ｌ１４用管３の対向する位
置に限らず、シャワー状のプラズマガスが効率よく収容
室１内に広がった後に収束される所ならば良く、例えば
噴射管３と対向する位置から上下各４５度の範囲に設け
ればよい。
置に限らず、シャワー状のプラズマガスが効率よく収容
室１内に広がった後に収束される所ならば良く、例えば
噴射管３と対向する位置から上下各４５度の範囲に設け
ればよい。
■第８図に示すように前記排気口６に前記噴射管３と同
様の構造を右する排気管２６を設けることによって、噴
射管３から噴射されたプラズマガスが一つの穴から吸収
排気されるよりも、より均一的に吸収排気されることが
できる。
様の構造を右する排気管２６を設けることによって、噴
射管３から噴射されたプラズマガスが一つの穴から吸収
排気されるよりも、より均一的に吸収排気されることが
できる。
発明の効果
以上詳述したにうに、本発明はプラズマガス中にプラズ
マガスを排気調整するための第２の排気［」を噴射管と
対向する位置に設けたことにより、（プラズマガスが収
容室内に供給されると、同ガスは収容室内全体に充分広
がった後に排気口に収束し排気されるようになるためプ
ラズマ処理効率が上がり処理時間を短縮することができ
るという優れた効果を奏する。
マガスを排気調整するための第２の排気［」を噴射管と
対向する位置に設けたことにより、（プラズマガスが収
容室内に供給されると、同ガスは収容室内全体に充分広
がった後に排気口に収束し排気されるようになるためプ
ラズマ処理効率が上がり処理時間を短縮することができ
るという優れた効果を奏する。
第１，２図はこの発明を具体化したプラズマ処理装置の
断面図および斜視図、第３図は噴射管の正面図、第４図
は第３図におけるＡ−Ａ線断面図、第５図は第３図にお
１プるＢ−Ｂ線断面図、第６図は支持台の一部を示す拡
大斜視図、第７図は本発明のプラズマ処理装置を用いた
ときのプラズマガスの流れを示（模式図、第８図は本発
明の別個を示す断面図、第９図は従来のプラズマ処理装
置を示す斜視図、第１０図は従来のプラズマ処理装置を
用いたときのプラズマガスの流れを示す模式図である。 収容室１、第１の排気口２、噴射管３、第２の排気口６
゜ 特 許 出 願 人 豊田合成 株式会社代 理 人
弁理士 恩１）博宣第２図 第６図 第７図 第９図 第１Ｏ図
断面図および斜視図、第３図は噴射管の正面図、第４図
は第３図におけるＡ−Ａ線断面図、第５図は第３図にお
１プるＢ−Ｂ線断面図、第６図は支持台の一部を示す拡
大斜視図、第７図は本発明のプラズマ処理装置を用いた
ときのプラズマガスの流れを示（模式図、第８図は本発
明の別個を示す断面図、第９図は従来のプラズマ処理装
置を示す斜視図、第１０図は従来のプラズマ処理装置を
用いたときのプラズマガスの流れを示す模式図である。 収容室１、第１の排気口２、噴射管３、第２の排気口６
゜ 特 許 出 願 人 豊田合成 株式会社代 理 人
弁理士 恩１）博宣第２図 第６図 第７図 第９図 第１Ｏ図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、合成樹脂製バンパー（Ｂ）等の被塗装品を収容する
収容室（１）と、その被塗装品の表面にプラズマ処理を
施すためにプラズマを噴射するプラズマ噴射管（３）と
、前記収容室（１）内を減圧する排気口（２）とを備え
たプラズマ処理装置において、前記収容室（１）の噴射
管と対向する位置にプラズマ照射中の供給ガスの排気調
整をするための第２の排気口（６）を設けたことを特徴
とするプラズマ処理装置。 ２、プラズマ噴射管（３）の外周に噴射管の端部側に向
って配置間隔が漸減し、かつ内径が漸増する多数の噴射
口（５）が形成されていることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載のプラズマ処理装置。 ３、前記第２の排気口（６）は供給ガス量と排気スピー
ドとのバランスがとれる径とすることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載のプラズマ処理装置。 ４、前記第２の排気口（６）に単独で作動し、排気スピ
ードをコントロールするための補助バルブ（６ａ）が設
けられていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載のプラズマ処理装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59121122A JPS61439A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | プラズマ処理装置 |
| DE19853520924 DE3520924A1 (de) | 1984-06-12 | 1985-06-11 | Plasmaverfahrensanlage |
| KR1019850004094A KR870001171B1 (ko) | 1984-06-12 | 1985-06-11 | 플라즈마 처리장치 |
| CA000483614A CA1249926A (en) | 1984-06-12 | 1985-06-11 | Plasma processing apparatus |
| US06/744,061 US4668479A (en) | 1984-06-12 | 1985-06-12 | Plasma processing apparatus |
| AU43492/85A AU565026B2 (en) | 1984-06-12 | 1985-06-12 | Plasma processing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59121122A JPS61439A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61439A true JPS61439A (ja) | 1986-01-06 |
| JPS635131B2 JPS635131B2 (ja) | 1988-02-02 |
Family
ID=14803424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59121122A Granted JPS61439A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61439A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6335793A (ja) * | 1986-07-31 | 1988-02-16 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 衝撃密着性に優れた亜鉛―ニッケル合金電気めっき鋼板の製造方法 |
| JPH0211792A (ja) * | 1988-06-30 | 1990-01-16 | Nippon Steel Corp | 耐チッピング性、溶接部の耐食性に優れたＺｎ−Ｎｉ系合金めっき鋼板の製造方法 |
-
1984
- 1984-06-12 JP JP59121122A patent/JPS61439A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6335793A (ja) * | 1986-07-31 | 1988-02-16 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 衝撃密着性に優れた亜鉛―ニッケル合金電気めっき鋼板の製造方法 |
| JPH0411637B2 (ja) * | 1986-07-31 | 1992-03-02 | Nippon Kokan Kk | |
| JPH0211792A (ja) * | 1988-06-30 | 1990-01-16 | Nippon Steel Corp | 耐チッピング性、溶接部の耐食性に優れたＺｎ−Ｎｉ系合金めっき鋼板の製造方法 |
| JPH0457753B2 (ja) * | 1988-06-30 | 1992-09-14 | Nippon Steel Corp |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS635131B2 (ja) | 1988-02-02 |
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