JPS6142972A - a−Si太陽電池用基板の製造方法 - Google Patents
a−Si太陽電池用基板の製造方法Info
- Publication number
- JPS6142972A JPS6142972A JP59165534A JP16553484A JPS6142972A JP S6142972 A JPS6142972 A JP S6142972A JP 59165534 A JP59165534 A JP 59165534A JP 16553484 A JP16553484 A JP 16553484A JP S6142972 A JPS6142972 A JP S6142972A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- solar cell
- aluminum plate
- oxide film
- anodic oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/10—Semiconductor bodies
- H10F77/16—Material structures, e.g. crystalline structures, film structures or crystal plane orientations
- H10F77/169—Thin semiconductor films on metallic or insulating substrates
- H10F77/1692—Thin semiconductor films on metallic or insulating substrates the films including only Group IV materials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明はa−Si太陽電池用基板の製造方法に関し、
さらに詳しくいえば高電圧を取出すのに好適な直列接続
型a−Si太陽電池の基板の製造方法に関する。
さらに詳しくいえば高電圧を取出すのに好適な直列接続
型a−Si太陽電池の基板の製造方法に関する。
この明細書において、「アルミニウム」というδ■には
、純アルミニウムはもちろんのことすべてのアルミニウ
ム合金を含むものとする。
、純アルミニウムはもちろんのことすべてのアルミニウ
ム合金を含むものとする。
従来技術とその問題点
1枚の基板上に複数個の太陽電池を形成し、これらを直
列に接続した直列接続型a =Si太陽電池としては、
たとえば基板上に、クロム等からなる下部電極を電子ビ
ーム蒸着法等により複数形成し、各下部電極上にa−S
i層をたとえばCVD法により形成し、各a−Si層を
透明導電膜で被覆したものがある。このような太陽電池
においては、当然のことながら下部電極間が電気的に絶
縁されていなければならず、下部電極間の抵抗値を1M
Ω以上とすることが必要となってくる。そこで従来、基
板としては、ステンレス鋼板の表面にポリイミド樹脂か
らなる皮膜が形成されたものおよびガラス製のものなど
が用いられていた。しかしながら、前者ではステンレス
鋼板およびポリイミド樹脂は非常に高価であるので、太
陽電池のコスト・ダウンを図ることはむずかしかった。
列に接続した直列接続型a =Si太陽電池としては、
たとえば基板上に、クロム等からなる下部電極を電子ビ
ーム蒸着法等により複数形成し、各下部電極上にa−S
i層をたとえばCVD法により形成し、各a−Si層を
透明導電膜で被覆したものがある。このような太陽電池
においては、当然のことながら下部電極間が電気的に絶
縁されていなければならず、下部電極間の抵抗値を1M
Ω以上とすることが必要となってくる。そこで従来、基
板としては、ステンレス鋼板の表面にポリイミド樹脂か
らなる皮膜が形成されたものおよびガラス製のものなど
が用いられていた。しかしながら、前者ではステンレス
鋼板およびポリイミド樹脂は非常に高価であるので、太
陽電池のコスト・ダウンを図ることはむずかしかった。
また後者では、放熱性が悪く、しかも破損しやすいとい
う問題があった。
う問題があった。
この発明の目的は、太陽電池のコメ1〜ダウンを図るこ
とを可能とするために基板を安価に製造する方法を提供
することにある。
とを可能とするために基板を安価に製造する方法を提供
することにある。
この発明の他の目的は従来の基板と比較して放熱性が良
(かつ軽量の基板を製造づ゛る方法を提供することにあ
る。
(かつ軽量の基板を製造づ゛る方法を提供することにあ
る。
問題点を解決するための手段
この発明によるa−8i太陽゛心池用基板の製造方法は
、アルミニウム板にしゆう酸を含む電解液中で陽極酸化
処理を施し、その表面に膜厚1〜20Atmの陽極酸化
皮膜を形成することを特徴とするものである。
、アルミニウム板にしゆう酸を含む電解液中で陽極酸化
処理を施し、その表面に膜厚1〜20Atmの陽極酸化
皮膜を形成することを特徴とするものである。
上記において、アルミニウム板におけるアルミニウムの
純度は99%以上とすることが好ましい。アルミニウム
の純度が99%未満であると、製造上不可避の不純物で
あるケイ素および鉄の含有量は必然的に増えることとな
る。そうすると、ケイ素および鉄の晶出物がアルミニウ
ム板の表面に露出し、この部分において陽極酸化皮膜に
欠陥が生じて皮膜の絶縁性が悪くなるおそれがあるから
である。
純度は99%以上とすることが好ましい。アルミニウム
の純度が99%未満であると、製造上不可避の不純物で
あるケイ素および鉄の含有量は必然的に増えることとな
る。そうすると、ケイ素および鉄の晶出物がアルミニウ
ム板の表面に露出し、この部分において陽極酸化皮膜に
欠陥が生じて皮膜の絶縁性が悪くなるおそれがあるから
である。
上記において、しゆう酸を含む電解液中で陽極酸化処理
を行なうのは次の理由による。すなわち、しゆう酸を含
む電解液中で陽極酸化処理を施して形成した陽極酸化皮
膜は解離定数の大ぎい電解質アニオンを含んでおらず、
しかも水分の吸着量が極めて少ないため酸化皮膜の電気
絶縁性が向上して、抵抗値が大きくなるからである。陽
極酸化処理用の電解液としては、しゆう酸を含むものの
(よかに、硫酸を含むもの、リン酸を含むものおよびク
ロム酸を含むものなどが一般的である。ところが、硫酸
を含む電解液中で&l陽極酸化処理施して形成した陽極
酸化皮膜は、硫酸アニオンや吸C水を多く含/υでいる
ために絶縁性が悪いという問題がある。また、リン酸を
含む電解液中で陽極酸化処理を施して形成した陽極酸化
皮膜は、その皮、膜の性質上一般的には厚膜とすること
が困難であるため、太陽電池の基板として使用した場合
に取扱い上のきず等による絶縁破壊を起こ’IJ−d3
それがある。
を行なうのは次の理由による。すなわち、しゆう酸を含
む電解液中で陽極酸化処理を施して形成した陽極酸化皮
膜は解離定数の大ぎい電解質アニオンを含んでおらず、
しかも水分の吸着量が極めて少ないため酸化皮膜の電気
絶縁性が向上して、抵抗値が大きくなるからである。陽
極酸化処理用の電解液としては、しゆう酸を含むものの
(よかに、硫酸を含むもの、リン酸を含むものおよびク
ロム酸を含むものなどが一般的である。ところが、硫酸
を含む電解液中で&l陽極酸化処理施して形成した陽極
酸化皮膜は、硫酸アニオンや吸C水を多く含/υでいる
ために絶縁性が悪いという問題がある。また、リン酸を
含む電解液中で陽極酸化処理を施して形成した陽極酸化
皮膜は、その皮、膜の性質上一般的には厚膜とすること
が困難であるため、太陽電池の基板として使用した場合
に取扱い上のきず等による絶縁破壊を起こ’IJ−d3
それがある。
さらに、クロム酸を含む電解液中での陽極酸化処理は、
クロム酸の有害性にJ:り公害問題が発生するとともに
コストが高くなる。゛電解液としては直流電解法、パル
ス電流電解法、交直重畳電解法などがある。この中で好
ましくは交直重畳電解、とくに電解波形に負の部分がで
きる交直重畳電解が、陽極酸化皮膜の絶縁性向上のため
に有効である。
クロム酸の有害性にJ:り公害問題が発生するとともに
コストが高くなる。゛電解液としては直流電解法、パル
ス電流電解法、交直重畳電解法などがある。この中で好
ましくは交直重畳電解、とくに電解波形に負の部分がで
きる交直重畳電解が、陽極酸化皮膜の絶縁性向上のため
に有効である。
しゆう酸を含む電解液中で陽極酸化処理を施して形成す
る陽極酸化皮膜の膜厚を1〜20μmとしたのは、下限
値未満であると太陽電池の基板として使用した場合に取
扱い上のきす等による絶縁破壊を起こすおそれがあり、
上限値を越えるとCVD時の基板温度の上昇によりクラ
ックが発生し、絶縁破壊の可能性が大きくなるばかりで
、絶縁性の向上にはあまり寄与しないからである。皮膜
の厚さは、10μm前後とすることが好ましい。
る陽極酸化皮膜の膜厚を1〜20μmとしたのは、下限
値未満であると太陽電池の基板として使用した場合に取
扱い上のきす等による絶縁破壊を起こすおそれがあり、
上限値を越えるとCVD時の基板温度の上昇によりクラ
ックが発生し、絶縁破壊の可能性が大きくなるばかりで
、絶縁性の向上にはあまり寄与しないからである。皮膜
の厚さは、10μm前後とすることが好ましい。
しゆう酸を含む電解液中で陽極酸化処理を施す前のアル
ミニウム板の表面粗さはアルミニウム板の表面に皮膜が
なめらかに形成されるべくRmax 、 0.3μm以
下としてJ3 <ことが好ましい。Rmax 、 0.
3μm以下とする方法としてば、別布研磨および化学研
磨をこの順序で行なう方法がある。また、このような?
ilF磨を施す代わりに、アルミニウム板として光沢圧
延板を用いてもよい。光沢圧延板では、その表面粗さを
Rmax 、 0.3μm以下とすることができる。
ミニウム板の表面粗さはアルミニウム板の表面に皮膜が
なめらかに形成されるべくRmax 、 0.3μm以
下としてJ3 <ことが好ましい。Rmax 、 0.
3μm以下とする方法としてば、別布研磨および化学研
磨をこの順序で行なう方法がある。また、このような?
ilF磨を施す代わりに、アルミニウム板として光沢圧
延板を用いてもよい。光沢圧延板では、その表面粗さを
Rmax 、 0.3μm以下とすることができる。
上記の方法で製造された基板にJ3いて、陽極酸化皮膜
上に複数個の電極を形成し、各電極上にa−Si層を形
成し、a−Si層上を透明導電膜で被覆して直列接続型
a−Si太陽電池とする。
上に複数個の電極を形成し、各電極上にa−Si層を形
成し、a−Si層上を透明導電膜で被覆して直列接続型
a−Si太陽電池とする。
実施例
A1050材から縦×横×厚さが100X100x0.
5mmでかつ表面粗さがRn+ax、0゜3μm以下の
アルミニウム板をつくった。そして、このアルミニウム
板に、3wt%< c o 6 H)2水溶液からなる
液温35±2℃の電解液中で、図面に示すような電解波
形(60H2)となるように交直重畳電解により18分
間陽極酸化処理を施して、膜厚2μmの陽極酸化皮膜を
形成した。ついで、陽極酸化皮膜上にcrからなる1辺
15n+mの正方形状の下部電極を16IiI所に電子
ビーム蒸着し、下部電極とアルミニウム板との間の抵抗
を測定した。この抵抗は16箇所すべてについて20M
Ω以上であった。
5mmでかつ表面粗さがRn+ax、0゜3μm以下の
アルミニウム板をつくった。そして、このアルミニウム
板に、3wt%< c o 6 H)2水溶液からなる
液温35±2℃の電解液中で、図面に示すような電解波
形(60H2)となるように交直重畳電解により18分
間陽極酸化処理を施して、膜厚2μmの陽極酸化皮膜を
形成した。ついで、陽極酸化皮膜上にcrからなる1辺
15n+mの正方形状の下部電極を16IiI所に電子
ビーム蒸着し、下部電極とアルミニウム板との間の抵抗
を測定した。この抵抗は16箇所すべてについて20M
Ω以上であった。
比較例
上記実施例の場合と同じアルミニウム板を用意した。そ
して、このアルミニウム板に、15%H28O4水溶液
からなる液温2o±1℃の′rfi解液中で、電流密度
1.3A/dm2 (D、C)で7分間陽極酸化処理を
施して、膜厚2μmの陽極酸化皮膜を形成した。ついで
、vA極耐酸化皮 ・膜上にOrからなる1辺15mm
の正方形状の下部電極を16箇所に電子ビーム蒸着し、
下部電極とアルミニウム板との間の抵抗を測定し1ζ。
して、このアルミニウム板に、15%H28O4水溶液
からなる液温2o±1℃の′rfi解液中で、電流密度
1.3A/dm2 (D、C)で7分間陽極酸化処理を
施して、膜厚2μmの陽極酸化皮膜を形成した。ついで
、vA極耐酸化皮 ・膜上にOrからなる1辺15mm
の正方形状の下部電極を16箇所に電子ビーム蒸着し、
下部電極とアルミニウム板との間の抵抗を測定し1ζ。
この抵抗は10〜100Ωの範囲内であっ1〔。
発明の効果
この発明の製造方法によると、すぐれた絶縁性を有する
皮膜が表面に形成されたa−Si太陽電池用基板を安価
に製造することができる。
皮膜が表面に形成されたa−Si太陽電池用基板を安価
に製造することができる。
したがって、太陽電池のコストダウンを図ることが可能
になる。ま7j1この発明の方法によって製造される基
板はアルミニウム板の表面にしゆう酸陽極酸化皮膜が形
成されたものであるから、従来のステンレス鋼板の表面
をポリイミド樹脂で被覆したものに比べて軽量でかつ放
熱性にすぐれている。
になる。ま7j1この発明の方法によって製造される基
板はアルミニウム板の表面にしゆう酸陽極酸化皮膜が形
成されたものであるから、従来のステンレス鋼板の表面
をポリイミド樹脂で被覆したものに比べて軽量でかつ放
熱性にすぐれている。
図面はこの発明の実施例においてアルミニウム板の表面
に陽極酸化皮膜を形成したさいの電解波形を示す図であ
る。 以上
に陽極酸化皮膜を形成したさいの電解波形を示す図であ
る。 以上
Claims (1)
- アルミニウム板にしゆう酸を含む電解液中で陽極酸化処
理を施し、その表面に膜厚1〜20μmの陽極酸化皮膜
を形成することを特徴とするa−Si太陽電池用基板の
製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59165534A JPS6142972A (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | a−Si太陽電池用基板の製造方法 |
DE3528087A DE3528087C2 (de) | 1984-08-06 | 1985-08-05 | Substrat für Solarzellen aus amorphem Silicium |
US07/047,559 US4806436A (en) | 1984-08-06 | 1987-04-27 | Substrate for amorphous silicon solar cells |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59165534A JPS6142972A (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | a−Si太陽電池用基板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6142972A true JPS6142972A (ja) | 1986-03-01 |
Family
ID=15814213
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59165534A Pending JPS6142972A (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | a−Si太陽電池用基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6142972A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50159429A (ja) * | 1974-06-13 | 1975-12-24 | ||
JPS5743413A (en) * | 1980-05-19 | 1982-03-11 | Energy Conversion Devices Inc | Semiconductor element and method of producing same |
-
1984
- 1984-08-06 JP JP59165534A patent/JPS6142972A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50159429A (ja) * | 1974-06-13 | 1975-12-24 | ||
JPS5743413A (en) * | 1980-05-19 | 1982-03-11 | Energy Conversion Devices Inc | Semiconductor element and method of producing same |
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