JPS6141943A - ダストまたはダスト及び蒸気の多いガス用のガスサンプリング装置 - Google Patents
ダストまたはダスト及び蒸気の多いガス用のガスサンプリング装置Info
- Publication number
- JPS6141943A JPS6141943A JP16280984A JP16280984A JPS6141943A JP S6141943 A JPS6141943 A JP S6141943A JP 16280984 A JP16280984 A JP 16280984A JP 16280984 A JP16280984 A JP 16280984A JP S6141943 A JPS6141943 A JP S6141943A
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- JP
- Japan
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- dust
- gas
- probe
- sampling device
- gas sampling
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/02—Devices for withdrawing samples
- G01N1/22—Devices for withdrawing samples in the gaseous state
- G01N1/2247—Sampling from a flowing stream of gas
- G01N1/2258—Sampling from a flowing stream of gas in a stack or chimney
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/02—Devices for withdrawing samples
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- G01N2001/2261—Sampling from a flowing stream of gas in a stack or chimney preventing condensation (heating lines)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、ダストまたはダスト及び蒸気が多く含まれて
いる燃焼排ガスのガス分析装置に用いる湿式ガスサンプ
リング装置ｌに関するものである〇（従来の技術） 従来の水エゼクタ−を用いた湿式ガスサンプリング装置
は、第４図に示される様にボイラーの煙道や各種熱処理
炉の炉壁にガスサンプリング用プローブ１を設置し、水
エゼクタ−３のガス吸引能力を利用してプローブ１より
ガス導管７を通して水エゼクタ−まで炉内排ガスを吸引
する湿式ガスサンプリング装置が用いられている０ （発明が解決しようとする１８Ｉ題点）しかし、この様
な湿式ガスサンプリング装置では（１）サンプリングガ
ス中にダストまたはダスト及び蒸気が多く含まれている
場合、水エゼクタ−３におけるエゼクタ−駆動用の水の
一部がガス導管２の内壁に飛散し、この飛散した水にダ
ストが付着してガス導管２の内部が閉塞され、ガスサン
プリングが出来なくなる。（２）サンプリングガス中に
ダスト及び蒸気が多く含まれている場合、プローブ１や
ガス導管２の通過過程でサンプルガスが露点温度以下に
冷却されてプローブ１やガス導管２の内壁部に結露し、
この結露液にダストが付着してプローブ１やガス導管２
の内部が閉塞され、ガスサンプリングが出来なくなる。
いる燃焼排ガスのガス分析装置に用いる湿式ガスサンプ
リング装置ｌに関するものである〇（従来の技術） 従来の水エゼクタ−を用いた湿式ガスサンプリング装置
は、第４図に示される様にボイラーの煙道や各種熱処理
炉の炉壁にガスサンプリング用プローブ１を設置し、水
エゼクタ−３のガス吸引能力を利用してプローブ１より
ガス導管７を通して水エゼクタ−まで炉内排ガスを吸引
する湿式ガスサンプリング装置が用いられている０ （発明が解決しようとする１８Ｉ題点）しかし、この様
な湿式ガスサンプリング装置では（１）サンプリングガ
ス中にダストまたはダスト及び蒸気が多く含まれている
場合、水エゼクタ−３におけるエゼクタ−駆動用の水の
一部がガス導管２の内壁に飛散し、この飛散した水にダ
ストが付着してガス導管２の内部が閉塞され、ガスサン
プリングが出来なくなる。（２）サンプリングガス中に
ダスト及び蒸気が多く含まれている場合、プローブ１や
ガス導管２の通過過程でサンプルガスが露点温度以下に
冷却されてプローブ１やガス導管２の内壁部に結露し、
この結露液にダストが付着してプローブ１やガス導管２
の内部が閉塞され、ガスサンプリングが出来なくなる。
等の問題がある０１（問題点を解決するための構成）
本発明は、従来のこの様な問題点を解決するためになさ
れたものであり、定期的に簡易な保守を実施するだけで
ダストによる閉塞を防止出来るサンプリング装置を提供
することを目的とする０この目的を達成するため本発明
のガスサンプリング装置は水エゼクタ−を用いた湿式ガ
スサンプリング装置において、水エゼクタ−の前段にガ
ス導管内部洗浄用の水洗器をまたプローブ内部及びガス
導管内部を間欠的にパージするパーシロを設置し、さら
にプローブ内部及びガス導管内部の温度をサンプリング
ガスの露点温度以下にならない様にプローブ及びガス導
管の外側を加熱保温してプローブ内部及びガス導管内部
におけるダスト付着を防止し、ガスサンプリングを実施
しない時はプローブ内部及びガス導管内部をエアーパー
ジしてプローブ内部及びガス導管内部の付着ダストを除
去し、ガスサンプリング時は常時水洗器内面に亘って水
洗用の水を流して付着ダストを除去することを特徴とす
るものである。
れたものであり、定期的に簡易な保守を実施するだけで
ダストによる閉塞を防止出来るサンプリング装置を提供
することを目的とする０この目的を達成するため本発明
のガスサンプリング装置は水エゼクタ−を用いた湿式ガ
スサンプリング装置において、水エゼクタ−の前段にガ
ス導管内部洗浄用の水洗器をまたプローブ内部及びガス
導管内部を間欠的にパージするパーシロを設置し、さら
にプローブ内部及びガス導管内部の温度をサンプリング
ガスの露点温度以下にならない様にプローブ及びガス導
管の外側を加熱保温してプローブ内部及びガス導管内部
におけるダスト付着を防止し、ガスサンプリングを実施
しない時はプローブ内部及びガス導管内部をエアーパー
ジしてプローブ内部及びガス導管内部の付着ダストを除
去し、ガスサンプリング時は常時水洗器内面に亘って水
洗用の水を流して付着ダストを除去することを特徴とす
るものである。
（実施例）
本発明の更に詳しい構成を一興体例を示す第１図に基い
て説明すれば、プローブ１は先端ＩＡが炉内に後端ＩＢ
が炉外に位置する様炉壁６に設置される０プローブ後端
ＩＢはガス導管２に接続される０ガス導管２は分舷され
一方の端が水洗器４のガス人口４Ａに接続され他方の端
がパーシロ６に接続されておりまた水洗器４のガス出口
４Ｂはエゼクタ−３に接続されている。炉ｆｉＳ外に位
置するプローブ１およびガス導管２の外周はヒータ７お
よび断熱材８で覆われ内部の温度をサンプルガスの露点
温度以下とならない様加熱保温されて−いる。水洗器４
は、水洗水入口４０を有し内部には水溜用の囲い４Ｄが
均一の高さに設置され、水洗器の内壁に亘って全周を均
一に水が流れる様構成されている０エゼクタ−３は駆動
水を駆動水入口８Ａに送入することにより駆動され、サ
ンプルガスはプローブ１、ガス導管２、水洗器会を経由
してエゼクタ−３に至り駆動水および水洗水とともにエ
ゼクタ−８の駆動水出口３Ｂより外部へ送付される０ 以上の様に構成されたガスサンプリング装置では、たと
えサンプリングとともにダストが吸引されたとしても （１）炉壁５外に位置するプローブ１およびガス導管２
の内部は、ヒータ７および断熱材８でサンプルガスの露
点温度以下にならない様に５Ｊｕ熱保温さ０ているため
に結露によりプローブ１およびガス導管２の内壁にダス
トが固着すること（まなく、たとえダストが内壁に付着
してもその一部。
て説明すれば、プローブ１は先端ＩＡが炉内に後端ＩＢ
が炉外に位置する様炉壁６に設置される０プローブ後端
ＩＢはガス導管２に接続される０ガス導管２は分舷され
一方の端が水洗器４のガス人口４Ａに接続され他方の端
がパーシロ６に接続されておりまた水洗器４のガス出口
４Ｂはエゼクタ−３に接続されている。炉ｆｉＳ外に位
置するプローブ１およびガス導管２の外周はヒータ７お
よび断熱材８で覆われ内部の温度をサンプルガスの露点
温度以下とならない様加熱保温されて−いる。水洗器４
は、水洗水入口４０を有し内部には水溜用の囲い４Ｄが
均一の高さに設置され、水洗器の内壁に亘って全周を均
一に水が流れる様構成されている０エゼクタ−３は駆動
水を駆動水入口８Ａに送入することにより駆動され、サ
ンプルガスはプローブ１、ガス導管２、水洗器会を経由
してエゼクタ−３に至り駆動水および水洗水とともにエ
ゼクタ−８の駆動水出口３Ｂより外部へ送付される０ 以上の様に構成されたガスサンプリング装置では、たと
えサンプリングとともにダストが吸引されたとしても （１）炉壁５外に位置するプローブ１およびガス導管２
の内部は、ヒータ７および断熱材８でサンプルガスの露
点温度以下にならない様に５Ｊｕ熱保温さ０ているため
に結露によりプローブ１およびガス導管２の内壁にダス
トが固着すること（まなく、たとえダストが内壁に付着
してもその一部。
ストは乾燥状態であるため）ぐ−シロより定期的にエア
パージするだけでプローブ先端ＩＡよりダストを炉内に
吹き出して除去できる。
パージするだけでプローブ先端ＩＡよりダストを炉内に
吹き出して除去できる。
（２）水洗器に侵入したダストは水洗水が常時水洗器の
全面に亘って流れているため付着することなくエゼクタ
−８をへて外部に送付される０このためエゼクタ−駆動
水の飛水によるダスト付着が防止できる０ 第２図および第８図に示される従来技術のサンプリング
装置と本発明のサンプリング装置を射撃１てダストまた
はダスト及び蒸気の多し）燃焼排力゛ス中の酸素濃度を
分析した場合の比較におしｚで、従来技術では第２図に
示す如く分析開始後８時間でガス導管２の内壁にダスト
が耐着し始め燃焼排力。
全面に亘って流れているため付着することなくエゼクタ
−８をへて外部に送付される０このためエゼクタ−駆動
水の飛水によるダスト付着が防止できる０ 第２図および第８図に示される従来技術のサンプリング
装置と本発明のサンプリング装置を射撃１てダストまた
はダスト及び蒸気の多し）燃焼排力゛ス中の酸素濃度を
分析した場合の比較におしｚで、従来技術では第２図に
示す如く分析開始後８時間でガス導管２の内壁にダスト
が耐着し始め燃焼排力。
スの吸引状態が悪くなり燃焼排ガス中の０．濃度は殆ん
ど一定でも分析装置の指示値は次第に高くなった０これ
に対し本発明では第８図に示す如く１回／１日の頻度で
エアーパージをするだけで分析装置の指示値は安定して
おり、ダスト付着に起因するプローブ及びガスｉ管内部
さらに水洗器内部のＰＡ塞は生じていない０ （効果） 以上述べたとおり本発明のガスサンプリング装置はダス
トまたはダスト及び蒸気が多く含まれているサンプリン
グガスでもプローブ及びガス導管内部をさらに水洗器内
部でのダスト付着に起因する閉塞を生じることなく長期
間安定してガスサンプリング出来るものであり工業上極
めて有用なものである。
ど一定でも分析装置の指示値は次第に高くなった０これ
に対し本発明では第８図に示す如く１回／１日の頻度で
エアーパージをするだけで分析装置の指示値は安定して
おり、ダスト付着に起因するプローブ及びガスｉ管内部
さらに水洗器内部のＰＡ塞は生じていない０ （効果） 以上述べたとおり本発明のガスサンプリング装置はダス
トまたはダスト及び蒸気が多く含まれているサンプリン
グガスでもプローブ及びガス導管内部をさらに水洗器内
部でのダスト付着に起因する閉塞を生じることなく長期
間安定してガスサンプリング出来るものであり工業上極
めて有用なものである。
第１図は本発明のガスサンプリング装置の一具体例を模
式的に示す説明図、 第２図は従来技術のガスサンプリング装置を用いてダス
トまたはダスト及び蒸気の多い燃焼排ガス中の酸素濃度
を計測した場合の分析計の指示値の推移を示す説明図、 第３図は本発明のガスサンプリング装置を用いてダスト
またはダスト及び蒸気の多い燃焼排ガス中の酸素濃度を
計測した場合の分析計の指示値の推移を示す説明図、 第４ＦＸＪは従来のガスサンプリング装置の一具体例を
（・４式的に示す説明図である。 １・・・プローブ ＩＡ・・・プローブ先端Ｉ
Ｂ・・・プローブ後端 ２・・・ガス導管３・・・エ
セクタ−３Ａ・・・駆動水入口８Ｂ・・・駆動水出口
４・・・水洗器４Ａ・・・ガス入口 ４
Ｂ・・・ガス出口４Ｃ・・・水洗水入口 ４Ｄ・
・・囲い５°゛炉壁 ６・・・パージロア
・・・ヒータ ８・・・断熱材特許出願人
宇部化学工業株式会社 同 出願人 日本碍子株式会社 第１図 第２図 縫遂晴間（Ｈとン 第３図 第４図
式的に示す説明図、 第２図は従来技術のガスサンプリング装置を用いてダス
トまたはダスト及び蒸気の多い燃焼排ガス中の酸素濃度
を計測した場合の分析計の指示値の推移を示す説明図、 第３図は本発明のガスサンプリング装置を用いてダスト
またはダスト及び蒸気の多い燃焼排ガス中の酸素濃度を
計測した場合の分析計の指示値の推移を示す説明図、 第４ＦＸＪは従来のガスサンプリング装置の一具体例を
（・４式的に示す説明図である。 １・・・プローブ ＩＡ・・・プローブ先端Ｉ
Ｂ・・・プローブ後端 ２・・・ガス導管３・・・エ
セクタ−３Ａ・・・駆動水入口８Ｂ・・・駆動水出口
４・・・水洗器４Ａ・・・ガス入口 ４
Ｂ・・・ガス出口４Ｃ・・・水洗水入口 ４Ｄ・
・・囲い５°゛炉壁 ６・・・パージロア
・・・ヒータ ８・・・断熱材特許出願人
宇部化学工業株式会社 同 出願人 日本碍子株式会社 第１図 第２図 縫遂晴間（Ｈとン 第３図 第４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ガスサンプリング用のガス導管に水エゼクターを連
結した湿式ガスサンプリング装置において、前記ガス導
管にダスト付着防止用の水洗器を設けることを特徴とす
るダストまたはダスト及び蒸気の多いガス用のガスサン
プリング装置。 ２、前記ガス導管を加熱保温する加熱保温器を設けるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のガスサンプ
リング装置。 ３、ガスサンプリング時に、前記水洗器の内面の全面に
亘つて水洗用の水を連続的に流すことを特徴とする特許
請求の範囲第１項または第２項記載のガスサンプリング
装置。 ４、前記ガス導管内部を間欠的にエヤーパージするパー
ジ口を前記ガス導管内部に設けることを特徴とする特許
請求の範囲第１項または第２項または第３項記載のガス
サンプリング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16280984A JPS6141943A (ja) | 1984-08-03 | 1984-08-03 | ダストまたはダスト及び蒸気の多いガス用のガスサンプリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16280984A JPS6141943A (ja) | 1984-08-03 | 1984-08-03 | ダストまたはダスト及び蒸気の多いガス用のガスサンプリング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6141943A true JPS6141943A (ja) | 1986-02-28 |
| JPH049461B2 JPH049461B2 (ja) | 1992-02-20 |
Family
ID=15761631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16280984A Granted JPS6141943A (ja) | 1984-08-03 | 1984-08-03 | ダストまたはダスト及び蒸気の多いガス用のガスサンプリング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6141943A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0471146U (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-24 | ||
| JPH0479245U (ja) * | 1990-11-26 | 1992-07-10 | ||
| CN101975762A (zh) * | 2010-11-03 | 2011-02-16 | 煤炭科学研究总院重庆研究院 | 气体敏感元件防结露方法及装置 |
| CN105675356A (zh) * | 2016-03-22 | 2016-06-15 | 湖南大唐节能科技有限公司 | 烟道烟气不对称取样装置 |
| CN107589054A (zh) * | 2017-09-01 | 2018-01-16 | 中煤科工集团重庆研究院有限公司 | 一种基于β射线吸收的烟尘浓度检测机构、系统及方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0632553Y2 (ja) * | 1990-09-17 | 1994-08-24 | 未来工業株式会社 | 流体管の端末接続具 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4834192A (ja) * | 1971-09-09 | 1973-05-16 | ||
| JPS5370896A (en) * | 1976-12-07 | 1978-06-23 | Hitachi Ltd | Sampling apparatus for continuous gas analysis |
-
1984
- 1984-08-03 JP JP16280984A patent/JPS6141943A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4834192A (ja) * | 1971-09-09 | 1973-05-16 | ||
| JPS5370896A (en) * | 1976-12-07 | 1978-06-23 | Hitachi Ltd | Sampling apparatus for continuous gas analysis |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0471146U (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-24 | ||
| JPH0479245U (ja) * | 1990-11-26 | 1992-07-10 | ||
| CN101975762A (zh) * | 2010-11-03 | 2011-02-16 | 煤炭科学研究总院重庆研究院 | 气体敏感元件防结露方法及装置 |
| CN105675356A (zh) * | 2016-03-22 | 2016-06-15 | 湖南大唐节能科技有限公司 | 烟道烟气不对称取样装置 |
| CN107589054A (zh) * | 2017-09-01 | 2018-01-16 | 中煤科工集团重庆研究院有限公司 | 一种基于β射线吸收的烟尘浓度检测机构、系统及方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH049461B2 (ja) | 1992-02-20 |
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