JPS6139915A - 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法Info
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- JPS6139915A JPS6139915A JP16271184A JP16271184A JPS6139915A JP S6139915 A JPS6139915 A JP S6139915A JP 16271184 A JP16271184 A JP 16271184A JP 16271184 A JP16271184 A JP 16271184A JP S6139915 A JPS6139915 A JP S6139915A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3116—Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
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- G11B5/3113—Details for improving the magnetic domain structure or avoiding the formation or displacement of undesirable magnetic domains
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の分野）
本発明は磁気ディスク、磁気テープ等の磁気記録媒体上
を摺動して各種の信号の記録再生を行なう磁気ヘッドお
よびその製造方法に関し、特に詳細には小型の磁気記録
媒体に対して記録再生を行なうのに適した薄膜磁気ヘッ
ドおよびその製造方法に関するものである。
を摺動して各種の信号の記録再生を行なう磁気ヘッドお
よびその製造方法に関し、特に詳細には小型の磁気記録
媒体に対して記録再生を行なうのに適した薄膜磁気ヘッ
ドおよびその製造方法に関するものである。
（発明の技術的背景および先行技術）
従来より、磁気記録媒体を用いて各種の信号を記録再生
する磁気記録再生装置が種々開発されており、近年、磁
気記録媒体の形状が多様化、小型化するにつれて、これ
らの媒体に情報を記録し、この記録された情報を再生す
る手段である磁気ヘッドについても多様な媒体に適した
種々の磁気ヘッドの開発が進められている。例えば最内
周記録半径が１５Ｍ、最外周記録半径が２０＃Ｉｌ＋＋
程度の小型の円板状磁気記録媒体を用いて記録再生を行
なうための磁気ヘッドとしては、ヘッド自体も小型で低
クロストークである必要があるため、従来のバルク型の
磁性材料を用いたバルクヘッドに代って薄膜型の磁気ヘ
ッドが多く用いられるようになっている。このような薄
膜磁気ヘッドは、微細な形状に容易に作製でき、マルチ
チャンネル化およびクロストークの低減がはかれる等の
利点があることから、特に高トラツク密度の媒体を用い
て記録再生を行なう狭トラツク磁気ヘッドとして注目さ
れている。
する磁気記録再生装置が種々開発されており、近年、磁
気記録媒体の形状が多様化、小型化するにつれて、これ
らの媒体に情報を記録し、この記録された情報を再生す
る手段である磁気ヘッドについても多様な媒体に適した
種々の磁気ヘッドの開発が進められている。例えば最内
周記録半径が１５Ｍ、最外周記録半径が２０＃Ｉｌ＋＋
程度の小型の円板状磁気記録媒体を用いて記録再生を行
なうための磁気ヘッドとしては、ヘッド自体も小型で低
クロストークである必要があるため、従来のバルク型の
磁性材料を用いたバルクヘッドに代って薄膜型の磁気ヘ
ッドが多く用いられるようになっている。このような薄
膜磁気ヘッドは、微細な形状に容易に作製でき、マルチ
チャンネル化およびクロストークの低減がはかれる等の
利点があることから、特に高トラツク密度の媒体を用い
て記録再生を行なう狭トラツク磁気ヘッドとして注目さ
れている。
この薄膜磁気ヘッドとしては、磁極を形成するための上
部磁性層と下部磁性層が基板上に薄膜により成膜されて
なるものが一般的であるが、このような構造の薄膜磁気
ヘッドにおいて非常にトラック幅の狭い磁気ヘッドを得
ようとすると、薄膜による上下磁性層を、ヨーク長に比
べてトラック幅が小さくなるように成膜しなければなら
なくなる。しかしながら、トラック幅よりもヨーク長の
大きい形状の磁性層にお、いては、形状異方性により、
磁性層内の自発磁化の方向がヨーク長方向に向き易（な
る。このため再生時の磁気記録媒体からの再生信号磁界
や記録時の記録電流から生じる記録信号磁界等の外部磁
界に応答する際には、前記磁性層内の磁化機構は磁壁の
移動によるものが主となるため記録再生時の応答速度が
低下してしまう。従って、上記のような薄膜磁気ヘッド
においては、高周波数領域での磁気効率が低下し、また
Ｓ／Ｎ比も低くなるとともに、再生時にはバルクハウゼ
ンノイズが多くなるなどの不都合が生じていた。
部磁性層と下部磁性層が基板上に薄膜により成膜されて
なるものが一般的であるが、このような構造の薄膜磁気
ヘッドにおいて非常にトラック幅の狭い磁気ヘッドを得
ようとすると、薄膜による上下磁性層を、ヨーク長に比
べてトラック幅が小さくなるように成膜しなければなら
なくなる。しかしながら、トラック幅よりもヨーク長の
大きい形状の磁性層にお、いては、形状異方性により、
磁性層内の自発磁化の方向がヨーク長方向に向き易（な
る。このため再生時の磁気記録媒体からの再生信号磁界
や記録時の記録電流から生じる記録信号磁界等の外部磁
界に応答する際には、前記磁性層内の磁化機構は磁壁の
移動によるものが主となるため記録再生時の応答速度が
低下してしまう。従って、上記のような薄膜磁気ヘッド
においては、高周波数領域での磁気効率が低下し、また
Ｓ／Ｎ比も低くなるとともに、再生時にはバルクハウゼ
ンノイズが多くなるなどの不都合が生じていた。
（発明の目的）
本発明は上記のような問題点に鑑みてなされたものであ
り、高トラツク密度の媒体の記録再生に適する狭いトラ
ック幅を有し、しかも高周波数特性にすぐれ、Ｓ／Ｎ比
も良好でバルクハウゼンノイズの少ない高性能な薄膜磁
気ヘッドおよびその製造方法を提供することを目的とす
るものである。
り、高トラツク密度の媒体の記録再生に適する狭いトラ
ック幅を有し、しかも高周波数特性にすぐれ、Ｓ／Ｎ比
も良好でバルクハウゼンノイズの少ない高性能な薄膜磁
気ヘッドおよびその製造方法を提供することを目的とす
るものである。
（発明の構成）
本発明のＷＩＩＩｌ磁、気ヘッドは、薄膜による上部磁
性層のトラック幅方向の長さがヨーク長よりも大きく、
また下部磁性層は磁気ヘッドの基板内に挟持されており
、磁気ヘッドのトラック幅を規定する幅と、この幅より
も大きい高さを有することを特徴とするものである。こ
のような構造の１ｌｌＩ磁気ヘツドにおいては、形状異
方性により、上部磁性層の磁化容易軸はトラック幅方向
となり、また下部磁性層によって狭いトラック幅を規定
することが可能になる。
性層のトラック幅方向の長さがヨーク長よりも大きく、
また下部磁性層は磁気ヘッドの基板内に挟持されており
、磁気ヘッドのトラック幅を規定する幅と、この幅より
も大きい高さを有することを特徴とするものである。こ
のような構造の１ｌｌＩ磁気ヘツドにおいては、形状異
方性により、上部磁性層の磁化容易軸はトラック幅方向
となり、また下部磁性層によって狭いトラック幅を規定
することが可能になる。
また本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は゛、磁気ヘッ
ドのトラック幅を規定する幅と、眼幅よりも大きい高さ
を有する下部磁性層を磁気ヘッドの −基板内に挾持
せしめ、この下部磁性層および基板の上部にトラック幅
方向の長さがヨーク長よりも大きい上部磁性層を薄膜に
より成膜することを特徴とするものである。上記のよう
に本発明の方法では、上部磁性層は薄膜により成膜され
るが、下部磁性層は薄膜に限らず、バルク薄体の接着な
どにより設けられてもよい。
ドのトラック幅を規定する幅と、眼幅よりも大きい高さ
を有する下部磁性層を磁気ヘッドの −基板内に挾持
せしめ、この下部磁性層および基板の上部にトラック幅
方向の長さがヨーク長よりも大きい上部磁性層を薄膜に
より成膜することを特徴とするものである。上記のよう
に本発明の方法では、上部磁性層は薄膜により成膜され
るが、下部磁性層は薄膜に限らず、バルク薄体の接着な
どにより設けられてもよい。
（実施態様）
以下、図面により本発明の実施態様について説明する。
なお本実施態様においては２チヤンネルの薄膜磁気ヘッ
ドを例にとって説明する。
ドを例にとって説明する。
第１図の斜視図に示すように本発明の薄膜磁気ヘッドの
製造方法においては、まず非磁性体であるガラス、サフ
ァイア、非磁性フェライト、アルミナチタンカーバイト
（ＡＱ、２０３ Ｔ ｉ Ｃ）等の基板１と一定の幅を
有する高透磁率磁性体からなる下部磁性層２が交互に積
層され、下部磁性層２は基板１内に挾持される。この下
部磁性層２は、第２図（ａ）に示すようにパーマロイ、
センダスト、アモルファス合金等の金属磁性体２ａを５
１０２ 、Ｓ ｉ ０２を分散含有せしめた樹脂等から
なる絶縁層２ｂを介して複数層積層したものであっても
よいし、第２図（ｂ）に示すようにフェライト等の酸化
物磁性体の単層であってもよい。前者の下部磁性層は蒸
着、スパッタ、メッキ、バルク薄体の接＠等の方法によ
って基板１内に挾持せしめられ、また後者の下部磁性層
は接着等の方法によって基板１内に挾持せしめられる。
製造方法においては、まず非磁性体であるガラス、サフ
ァイア、非磁性フェライト、アルミナチタンカーバイト
（ＡＱ、２０３ Ｔ ｉ Ｃ）等の基板１と一定の幅を
有する高透磁率磁性体からなる下部磁性層２が交互に積
層され、下部磁性層２は基板１内に挾持される。この下
部磁性層２は、第２図（ａ）に示すようにパーマロイ、
センダスト、アモルファス合金等の金属磁性体２ａを５
１０２ 、Ｓ ｉ ０２を分散含有せしめた樹脂等から
なる絶縁層２ｂを介して複数層積層したものであっても
よいし、第２図（ｂ）に示すようにフェライト等の酸化
物磁性体の単層であってもよい。前者の下部磁性層は蒸
着、スパッタ、メッキ、バルク薄体の接＠等の方法によ
って基板１内に挾持せしめられ、また後者の下部磁性層
は接着等の方法によって基板１内に挾持せしめられる。
なお、下部磁性層２の幅はその高さく図、中上下方向）
よりも小さいものとなっている。
よりも小さいものとなっている。
このように積層された基板１と下部磁性層２からなる積
層体は、少なくとも上面３が平滑になるように仕上げら
れた後、第３図に示すように各下部磁性層２の上部にコ
イル４が両端部４ａ、４ａを突出させてうず巻き状に積
層される。これらの積層体の上部にはさらに、第４図に
示すように薄膜により高透磁率磁性体であるパーマロイ
、センダスト、アモルファス合金等からなる上部磁性層
５が成膜される。この上部磁性層５は前記コイル４を２
つずつ覆い、かつ前記コイルの両端部４ａ。
層体は、少なくとも上面３が平滑になるように仕上げら
れた後、第３図に示すように各下部磁性層２の上部にコ
イル４が両端部４ａ、４ａを突出させてうず巻き状に積
層される。これらの積層体の上部にはさらに、第４図に
示すように薄膜により高透磁率磁性体であるパーマロイ
、センダスト、アモルファス合金等からなる上部磁性層
５が成膜される。この上部磁性層５は前記コイル４を２
つずつ覆い、かつ前記コイルの両端部４ａ。
４ａを上方に露出させるように形成され、前記下部磁性
層の幅（図中矢印ｄ）方向の長さく図中矢印ａ）がヨー
ク長（図中矢印ｂ）よりも大きくなっている。上記のよ
うに積層された磁気ヘッドの集合体は第４図中破線で示
す位置で切断されてそれぞれ薄膜磁気ヘッド単体となる
。
層の幅（図中矢印ｄ）方向の長さく図中矢印ａ）がヨー
ク長（図中矢印ｂ）よりも大きくなっている。上記のよ
うに積層された磁気ヘッドの集合体は第４図中破線で示
す位置で切断されてそれぞれ薄膜磁気ヘッド単体となる
。
このように製造された１１磁気ヘツドにおいてはそのト
ラック幅は前記下部磁性層２の幅によって規定され、こ
の下部磁性層の幅は、基板１上に積層された際の下部磁
性層の厚みであることがら、下部磁性層２が１膜であっ
てもバルクであっても、トラック幅は小さく設定するこ
とができる。また（矢印ａ）がヨーク長（矢印ｂ）より
も大きぐなっているので、形状異方性により磁性層の内
部磁化は磁化容易軸がトラック幅方向に、磁化困難軸が
トラック幅方向と直交する方向になる。このため、信号
の記録再生時に前記磁化困難軸方向（ヨーク長方向）に
外部磁界が印加□されると、磁性層内の磁化機構は回転
磁化によるものが主となるので、記録再生時の応答速度
が向上する。なお、以上説明した本発明の一実施態様に
おいては、下部磁性層２のヨーク長方向の長さは、高さ
く矢印Ｃ）よりも大きいものとなっているが、この下部
磁性 □層２の高さはそのままにしてヨーク長方、向の
長さを前記高さよりも小さいものとすると、下部磁性層
においても形状異方性により磁性層内の磁化容易軸を高
さ方向にすることができる。この場合にＣも磁化容易軸
は外部磁界の印加さむる方向（ヨーク長方向）と垂直に
なるので、上部磁性層と同様に下部磁性層内での磁化機
構は回転磁化によるものが主となり、一層良好な記録再
生を行なうことのできる磁気ヘッドが得られる。また本
実１Ｍ態様□においては２チヤンネルの薄膜磁気ヘッド
を例にとって説明したが、チャンネル数は言うまでもな
ぐ２チヤンネルに限定されるものではなく、１チヤンネ
ル以上の任意のチャンネルの薄膜磁気ヘッドについて本
発明を適、用することができる。
ラック幅は前記下部磁性層２の幅によって規定され、こ
の下部磁性層の幅は、基板１上に積層された際の下部磁
性層の厚みであることがら、下部磁性層２が１膜であっ
てもバルクであっても、トラック幅は小さく設定するこ
とができる。また（矢印ａ）がヨーク長（矢印ｂ）より
も大きぐなっているので、形状異方性により磁性層の内
部磁化は磁化容易軸がトラック幅方向に、磁化困難軸が
トラック幅方向と直交する方向になる。このため、信号
の記録再生時に前記磁化困難軸方向（ヨーク長方向）に
外部磁界が印加□されると、磁性層内の磁化機構は回転
磁化によるものが主となるので、記録再生時の応答速度
が向上する。なお、以上説明した本発明の一実施態様に
おいては、下部磁性層２のヨーク長方向の長さは、高さ
く矢印Ｃ）よりも大きいものとなっているが、この下部
磁性 □層２の高さはそのままにしてヨーク長方、向の
長さを前記高さよりも小さいものとすると、下部磁性層
においても形状異方性により磁性層内の磁化容易軸を高
さ方向にすることができる。この場合にＣも磁化容易軸
は外部磁界の印加さむる方向（ヨーク長方向）と垂直に
なるので、上部磁性層と同様に下部磁性層内での磁化機
構は回転磁化によるものが主となり、一層良好な記録再
生を行なうことのできる磁気ヘッドが得られる。また本
実１Ｍ態様□においては２チヤンネルの薄膜磁気ヘッド
を例にとって説明したが、チャンネル数は言うまでもな
ぐ２チヤンネルに限定されるものではなく、１チヤンネ
ル以上の任意のチャンネルの薄膜磁気ヘッドについて本
発明を適、用することができる。
（発明の効果）
以上詳細に説明したように、上記のような製造、方法に
より作られた本発明の薄膜磁気ヘッドにおい・では、下
部磁性層が基板によって挟持されているために、下部磁
性層が薄膜であってもバルクであってもトラック幅を小
さく規定することができるので従来の薄膜磁気ヘッドと
同等以上に高トラツク密度の媒体への磁気記録再生特性
を得ることができるとともに、上部磁性層のトラック幅
方向の長さが、ヨーク長よりも大きくなるように上部磁
性層を成膜したことにより、上部磁性層の磁化容易軸は
トラック幅方向となるので、信号の記録再生時にヨーク
長方向の外部磁界が印加されると、回転磁化により磁性
体層内部の磁化が行なわれる。
より作られた本発明の薄膜磁気ヘッドにおい・では、下
部磁性層が基板によって挟持されているために、下部磁
性層が薄膜であってもバルクであってもトラック幅を小
さく規定することができるので従来の薄膜磁気ヘッドと
同等以上に高トラツク密度の媒体への磁気記録再生特性
を得ることができるとともに、上部磁性層のトラック幅
方向の長さが、ヨーク長よりも大きくなるように上部磁
性層を成膜したことにより、上部磁性層の磁化容易軸は
トラック幅方向となるので、信号の記録再生時にヨーク
長方向の外部磁界が印加されると、回転磁化により磁性
体層内部の磁化が行なわれる。
従って回転磁化は磁壁の移動による磁化に比べて応答速
度が速いことから高周波数特性にすぐれＳ／Ｎ比も良好
であるとともにバルクハウゼンノイズも少ない高性能な
薄膜磁気ヘッドを提供することが可能となる。また前述
のように下部磁性層のヨーク長方向の長さをその高さに
比べ小さくすると上記のような本発明の薄膜磁気ヘッド
の特性は一層すぐれたものとなる。
度が速いことから高周波数特性にすぐれＳ／Ｎ比も良好
であるとともにバルクハウゼンノイズも少ない高性能な
薄膜磁気ヘッドを提供することが可能となる。また前述
のように下部磁性層のヨーク長方向の長さをその高さに
比べ小さくすると上記のような本発明の薄膜磁気ヘッド
の特性は一層すぐれたものとなる。
第１図は本発明の薄膜磁気ヘッドの基板および下部磁性
層を示す斜視図、 第２図は下部磁性層の違いによる構造の差異を示す第１
図の一部拡大図、 第３図は第１図に示した積層体にコイルを積層した状態
を示す斜視図、 第４図は第３図に示した積層体に上部磁性層を積層した
状態を示す斜視図である。 １・・・基 板 ２・・・下部磁性層４・・・
コイル ５・・・上部磁性層第１図 第２図 〈自発）手続ネ甫正書 特許庁長官 殿 昭和５９年９月
２０日特願昭５９−１６２７１１号 ２、発明の名称 １膜磁気ヘツドおよびその製造方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 任 所 神奈川県南足柄市中沼２１０番地名 称
富士写真フィルム株式会社４、代理人 東京都港区六本木５丁目２番１号 ６、補正により増加する発明の数 な し８、補
正の内容 １）明細書第４頁第４行 「容易に」を削除する。 ２）同頁第６行 「高トラツク密度」を「小形」と訂正する。 ３）同頁第２０行 「磁界」を「磁束」と訂正する。 ４）同真第２１行 「磁界等の外部磁界」を「磁束」と訂正する。
層を示す斜視図、 第２図は下部磁性層の違いによる構造の差異を示す第１
図の一部拡大図、 第３図は第１図に示した積層体にコイルを積層した状態
を示す斜視図、 第４図は第３図に示した積層体に上部磁性層を積層した
状態を示す斜視図である。 １・・・基 板 ２・・・下部磁性層４・・・
コイル ５・・・上部磁性層第１図 第２図 〈自発）手続ネ甫正書 特許庁長官 殿 昭和５９年９月
２０日特願昭５９−１６２７１１号 ２、発明の名称 １膜磁気ヘツドおよびその製造方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 任 所 神奈川県南足柄市中沼２１０番地名 称
富士写真フィルム株式会社４、代理人 東京都港区六本木５丁目２番１号 ６、補正により増加する発明の数 な し８、補
正の内容 １）明細書第４頁第４行 「容易に」を削除する。 ２）同頁第６行 「高トラツク密度」を「小形」と訂正する。 ３）同頁第２０行 「磁界」を「磁束」と訂正する。 ４）同真第２１行 「磁界等の外部磁界」を「磁束」と訂正する。
Claims (5)
- （１）磁極を構成する高透磁率磁性体である上部磁性層
および下部磁性層のうち、少なくとも上部磁性層が薄膜
である薄膜磁気ヘッドにおいて、前記上部磁性層のトラ
ック幅方向の長さがヨーク長よりも大きく、また前記下
部磁性層が前記ヘッドのトラック幅を規定する幅および
該幅より大きい高さを有し、前記ヘッドの基板内に挾持
されてなることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - （２）前記下部磁性層が、金属磁性体を絶縁層を介して
複数層積層したものであることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の薄膜磁気ヘッド。 - （３）前記下部磁性層が酸化物磁性体の単層であること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の薄膜磁気ヘッ
ド。 - （４）前記下部磁性層のヨーク長方向の長さが、該下部
磁性層の高さよりも小さいことを特徴とする特許請求の
範囲第１項乃至第３項のいずれか１項記載の薄膜磁気ヘ
ッド。 - （５）磁極を構成する高透磁率磁性体である上部磁性層
および下部磁性層のうち、少なくとも上部磁性層が薄膜
である薄膜磁気ヘッドを製造する方法において、前記ヘ
ッドのトラック幅を規定する幅および該幅より大きい高
さを有する下部磁性層を前記ヘッドの基板内に挟持せし
め、この下部磁性層および基板の上にコイルを形成し、
さらにこのコイル上にトラック幅方向の長さがヨーク長
よりも大きい薄膜の上部磁性層を成膜することを特徴と
する薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16271184A JPS6139915A (ja) | 1984-08-01 | 1984-08-01 | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16271184A JPS6139915A (ja) | 1984-08-01 | 1984-08-01 | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6139915A true JPS6139915A (ja) | 1986-02-26 |
| JPH0476170B2 JPH0476170B2 (ja) | 1992-12-02 |
Family
ID=15759837
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16271184A Granted JPS6139915A (ja) | 1984-08-01 | 1984-08-01 | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6139915A (ja) |
-
1984
- 1984-08-01 JP JP16271184A patent/JPS6139915A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0476170B2 (ja) | 1992-12-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |