JPS613895A - クロムめつき方法 - Google Patents
クロムめつき方法Info
- Publication number
- JPS613895A JPS613895A JP12470584A JP12470584A JPS613895A JP S613895 A JPS613895 A JP S613895A JP 12470584 A JP12470584 A JP 12470584A JP 12470584 A JP12470584 A JP 12470584A JP S613895 A JPS613895 A JP S613895A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- bath
- chromium
- rare earth
- liter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はクロムめっき方法に関する。
クロムめっきは、硬度が高いこと、耐摩耗性および耐腐
食性に優れていることなどから工業的めっきとして有用
である。しかしながら、クロム酸を使用するため、大気
汚染の問題や排水処理の困難性、さらにはエネルギー収
支が低いことなどの理由により、必ずしも好ましいめっ
きとはされていない。
食性に優れていることなどから工業的めっきとして有用
である。しかしながら、クロム酸を使用するため、大気
汚染の問題や排水処理の困難性、さらにはエネルギー収
支が低いことなどの理由により、必ずしも好ましいめっ
きとはされていない。
ところで、排水処理の問題は、近年の公害処理技術の発
展に伴ない、他の排水処理よりは繁雑とはいえ、その処
理技術としては確立したといえる。しかし、エネルギー
収支の低いことはかなり宿命的であって、現在のように
サージェント浴を基本とするクロムめっき浴を用いてい
る限りある程度やむをえないことである。従来、クロム
めっきにおける電流効率が１０ないし２０％と低かった
その主な原因は、めっき中に発生する水素にあることは
周知の通りである。電流効率を改善するためにこれまで
種々の提案がなされてきているが、従来の高電流効率ク
ロムめっき方法にあっては、めっき被膜の光沢の点でな
お満足できるものではなかった。
展に伴ない、他の排水処理よりは繁雑とはいえ、その処
理技術としては確立したといえる。しかし、エネルギー
収支の低いことはかなり宿命的であって、現在のように
サージェント浴を基本とするクロムめっき浴を用いてい
る限りある程度やむをえないことである。従来、クロム
めっきにおける電流効率が１０ないし２０％と低かった
その主な原因は、めっき中に発生する水素にあることは
周知の通りである。電流効率を改善するためにこれまで
種々の提案がなされてきているが、従来の高電流効率ク
ロムめっき方法にあっては、めっき被膜の光沢の点でな
お満足できるものではなかった。
ところで、クロムめっきが硬度が高く、光沢に優れてい
るその主な原因は、めっき中において水素が発生するこ
とにある。したがって電流効率の向上と、光沢の向上と
は相反する要求事項である。
るその主な原因は、めっき中において水素が発生するこ
とにある。したがって電流効率の向上と、光沢の向上と
は相反する要求事項である。
従来のサージェント浴において、実用領域以外の低温・
低電流密度領域で、その電流効率が２０〜３５％になる
ことが知られている。したしながら、この領域における
クロムめっき被膜は灰色で、光沢がないこともよく知ら
れている。
低電流密度領域で、その電流効率が２０〜３５％になる
ことが知られている。したしながら、この領域における
クロムめっき被膜は灰色で、光沢がないこともよく知ら
れている。
これまで、クロムめっきにおいては、他のめっきにおけ
るような光沢剤の添加は必要とされていなかった。それ
は、上に述べたようにめっき中における水素の発生が光
沢に寄与するからであるとともに、めっき浴における高
いクロム酸濃度および著しく低いＰＨに対して安定な光
沢剤がなかったことにもよる。すなわち、これまでのク
ロムめっきは、光沢剤を必要としない自然の狭い光沢範
囲を最適電解条件としておこなわれていたにすぎず、光
沢剤の開発は全く未知の分野であったといえる。
るような光沢剤の添加は必要とされていなかった。それ
は、上に述べたようにめっき中における水素の発生が光
沢に寄与するからであるとともに、めっき浴における高
いクロム酸濃度および著しく低いＰＨに対して安定な光
沢剤がなかったことにもよる。すなわち、これまでのク
ロムめっきは、光沢剤を必要としない自然の狭い光沢範
囲を最適電解条件としておこなわれていたにすぎず、光
沢剤の開発は全く未知の分野であったといえる。
本発明者等は、従来のクロムめっきにおける低電流効率
の原因となっている水素発生に注目し。
の原因となっている水素発生に注目し。
サージェント浴の電位−電流密度曲線の−０，７〜−１
，２Ｖ前後に現れる第３枝といわれる水素発生電位に相
当する大きな電位ピークに影響を与えることのできる物
質を見出すべく研究を重ねた結果、クロムめっき浴に希
土類元素またはその化合物を添加することによって、上
記ピークが著しく小さくなるか、ピークの形をとらなく
なることを見出した。この結果、電解時の水素発生が著
しく減少したようには思われなかった（電流効率がほと
んど変化しないことから）が、従来無光沢であるとされ
ていた電解条件（例えば、３０℃、１０〜５０Ａ／ｄｍ
”）でもクロム析出物の光沢が著しく高いことがわかっ
た。
，２Ｖ前後に現れる第３枝といわれる水素発生電位に相
当する大きな電位ピークに影響を与えることのできる物
質を見出すべく研究を重ねた結果、クロムめっき浴に希
土類元素またはその化合物を添加することによって、上
記ピークが著しく小さくなるか、ピークの形をとらなく
なることを見出した。この結果、電解時の水素発生が著
しく減少したようには思われなかった（電流効率がほと
んど変化しないことから）が、従来無光沢であるとされ
ていた電解条件（例えば、３０℃、１０〜５０Ａ／ｄｍ
”）でもクロム析出物の光沢が著しく高いことがわかっ
た。
と′ころで、従来、ニッケル、銅、金、銀などの電解め
っきではよく知られている複合めっきは、クロムにおい
ては実用が困難であるとされていた。これは、主に、上
記した水素の発生が複合。
っきではよく知られている複合めっきは、クロムにおい
ては実用が困難であるとされていた。これは、主に、上
記した水素の発生が複合。
めっきの析出を妨害していたものである。しかしながら
、上に述べたように、クロムめっき浴に希土類元素また
はその化合物を添加することによって、クロム複合めっ
きが可能となるという本実をも見出した。
、上に述べたように、クロムめっき浴に希土類元素また
はその化合物を添加することによって、クロム複合めっ
きが可能となるという本実をも見出した。
したがって、この発明の目的は、通常のクロムめっきに
あっては光沢の向上を計ることができ、かつ複合めっき
をも可能とするクロムめっき方法を提供することにある
。
あっては光沢の向上を計ることができ、かつ複合めっき
をも可能とするクロムめっき方法を提供することにある
。
すなわち、この発明のクロムめっき方法は、クロムめっ
き処理に当り、クロムめっき浴に希土類元素およびその
化合物からなる群の中から選ばれた少なくとも１種の希
土類系物質を配合したクロムめっき浴をめっき浴として
用いることを特徴とするものである。
き処理に当り、クロムめっき浴に希土類元素およびその
化合物からなる群の中から選ばれた少なくとも１種の希
土類系物質を配合したクロムめっき浴をめっき浴として
用いることを特徴とするものである。
複合めっきをおこなう場合は、めっき浴にセラミック微
粉末を分散・含有させる。
粉末を分散・含有させる。
通常、めっき浴は、希土類元素またはその化合物を、金
属として少なくとも約０．０１グラム／す７トルの割合
で含有する。
属として少なくとも約０．０１グラム／す７トルの割合
で含有する。
以下、この発明をさらに詳しく説明すると、クロムめっ
き浴に添加する希土類系物質は、元素の形態にあるスカ
ンジウム、イツトリウム、セリウム、ランタン、プラセ
オジム、ネオジム、プロメチウム、サマリウム、ユーロ
ピシウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム
、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム
、および（または）ルテチウム、並びにその化合物であ
る。希土類元素の化合物としては、硫酸塩、塩酸塩、硝
酸塩等の無機酸塩；酢酸塩、酒石酸塩等の有機酸塩；酸
化物；窒化物；炭化物；ポウ化物がある。これら希土類
系物質は混合物の形態で用いてもよく、あるいは合金例
えばいわゆるミツシュメタルの形態で用いてもよい。
き浴に添加する希土類系物質は、元素の形態にあるスカ
ンジウム、イツトリウム、セリウム、ランタン、プラセ
オジム、ネオジム、プロメチウム、サマリウム、ユーロ
ピシウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム
、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム
、および（または）ルテチウム、並びにその化合物であ
る。希土類元素の化合物としては、硫酸塩、塩酸塩、硝
酸塩等の無機酸塩；酢酸塩、酒石酸塩等の有機酸塩；酸
化物；窒化物；炭化物；ポウ化物がある。これら希土類
系物質は混合物の形態で用いてもよく、あるいは合金例
えばいわゆるミツシュメタルの形態で用いてもよい。
上記希土類系化合物の添加量は、一般に、金属に換算し
て少なくとも約０．０１グラム／リツト ル（浴）の割
合である。好ましい添加量は。
て少なくとも約０．０１グラム／リツト ル（浴）の割
合である。好ましい添加量は。
０．１グラム／リットルないし１０グラム／リットルで
ある。
ある。
上記希土類系物質が添加される水系クロムめっき浴に特
に制限はない０代表的なものはサージェント浴等六価の
クロム（無水クロム酸）を主体とするものである。しか
しながら、三価のクロムを主体としたものであってもよ
い。そのようなりロムめっき浴としては、硫酸クロムを
主体としこれに硫酸アンモニウム、深索等を配合したも
め、正価塩化クロムを主成分とする公知の浴、あるいは
特公昭５５−３８４３５号に記載されているもの等があ
る。この後者のクロムめっき浴は、無水クロム酸溶液に
、硫化水素、亜硫酸塩、次亜硫酸塩またはチオ硫酸塩の
ような硫黄含有塩を無水クロム酸重量の５〜１５％の割
合で配合したものである。
に制限はない０代表的なものはサージェント浴等六価の
クロム（無水クロム酸）を主体とするものである。しか
しながら、三価のクロムを主体としたものであってもよ
い。そのようなりロムめっき浴としては、硫酸クロムを
主体としこれに硫酸アンモニウム、深索等を配合したも
め、正価塩化クロムを主成分とする公知の浴、あるいは
特公昭５５−３８４３５号に記載されているもの等があ
る。この後者のクロムめっき浴は、無水クロム酸溶液に
、硫化水素、亜硫酸塩、次亜硫酸塩またはチオ硫酸塩の
ような硫黄含有塩を無水クロム酸重量の５〜１５％の割
合で配合したものである。
この発明に従ってクロム複合めっきをおこなう場合は、
上記クロムめっき浴にセラミック微粉末を分散させ、攪
拌しながらめっき処理をおこなう。セラミックとしては
、ケイ素、アルミニウム、タングステン等の酸化物、炭
化物、窒化物、ホウ化物、ケイ化物、硫化物などがある
。これらセラミックの粒径は、目的により細かければ細
かい程よいが、現在入手できるものは、通常、粒径０．
２．ｕ、ｍないし２５０ ｉＬｍであり、浴に対して、
１ないし８００グラム／リットルの割合で添加配合する
とよい。このめっき処理により、クロムめっき被膜にセ
ラミンク微粉末が分散固定された複合めっき被膜が得ら
れる。
上記クロムめっき浴にセラミック微粉末を分散させ、攪
拌しながらめっき処理をおこなう。セラミックとしては
、ケイ素、アルミニウム、タングステン等の酸化物、炭
化物、窒化物、ホウ化物、ケイ化物、硫化物などがある
。これらセラミックの粒径は、目的により細かければ細
かい程よいが、現在入手できるものは、通常、粒径０．
２．ｕ、ｍないし２５０ ｉＬｍであり、浴に対して、
１ないし８００グラム／リットルの割合で添加配合する
とよい。このめっき処理により、クロムめっき被膜にセ
ラミンク微粉末が分散固定された複合めっき被膜が得ら
れる。
めっき処理条件は、一般におこなわれているクロムめっ
き条件に従う。通常、電流密度は５ないし１００ Ａ
／ ｄ ｍ であり、浴温度は一１０℃ないし７０６
Ｃである。
き条件に従う。通常、電流密度は５ないし１００ Ａ
／ ｄ ｍ であり、浴温度は一１０℃ないし７０６
Ｃである。
既に述べたように、この発明のめっき方法によれば、通
常のクロムめっきにおいて従来無光沢領域の電解条件に
おいてもめっき被膜の光沢が著しい。その原理は未だ充
分に解明されてはいないが、上記の希土類系物質がめつ
き浴中において反応して希土類のクロム酸塩を形成し、
微細な浮遊物となって析出核となり、物理的に陰極析出
クロムの微細構造化に寄与し、光沢クロム析出物を析出
させるか、あるいは僅かに溶解した希土類イオンが陰極
反応に作用し、水素過電圧やクロム析出。
常のクロムめっきにおいて従来無光沢領域の電解条件に
おいてもめっき被膜の光沢が著しい。その原理は未だ充
分に解明されてはいないが、上記の希土類系物質がめつ
き浴中において反応して希土類のクロム酸塩を形成し、
微細な浮遊物となって析出核となり、物理的に陰極析出
クロムの微細構造化に寄与し、光沢クロム析出物を析出
させるか、あるいは僅かに溶解した希土類イオンが陰極
反応に作用し、水素過電圧やクロム析出。
反応に電気化学的な作用をすることが予測される。
また、複合めっきにあっては、セラミック微粉末が共析
する結果、クロムの優れた物性すなわち高硬度、耐摩耗
、耐腐食、耐熱等の緒特性をそれらセラミックによって
さらに向上させることができる。したがって、めっきと
しては極限に近いとされ、かつクロムめっきの機能の限
界ともされる物性をさらに向上させ、より高度の要求に
対応できるため、工業的に殊に有用であるといえる。
する結果、クロムの優れた物性すなわち高硬度、耐摩耗
、耐腐食、耐熱等の緒特性をそれらセラミックによって
さらに向上させることができる。したがって、めっきと
しては極限に近いとされ、かつクロムめっきの機能の限
界ともされる物性をさらに向上させ、より高度の要求に
対応できるため、工業的に殊に有用であるといえる。
以下、この発明を実施例によってさらに説明する。
実施例 １
通常サージェント浴すなわち、無水クロム酸２５０グラ
ム／リットルおよび硫酸２．５グラム／リットルよりな
る浴に、硫酸ランタンを０．１〜ｌＯダラム／リットル
の割合で添加し、陰極として黄銅・、陽極として鉛を用
いて、電流密度１０〜５０Ａ／ｄｍ２、浴温３０〜４０
”Ｃで１０分間電解処理をおこなった。
ム／リットルおよび硫酸２．５グラム／リットルよりな
る浴に、硫酸ランタンを０．１〜ｌＯダラム／リットル
の割合で添加し、陰極として黄銅・、陽極として鉛を用
いて、電流密度１０〜５０Ａ／ｄｍ２、浴温３０〜４０
”Ｃで１０分間電解処理をおこなった。
硫酸ランタンを添加しない通常浴の場合、電流密度が５
ＯＡ／ｄｍ２ のとき、陰極周囲のみ光沢のある灰色の
クロムめっき被膜が得られたー。他の条件下では、灰色
ないし黒灰色の粗いめっき被膜となった。
ＯＡ／ｄｍ２ のとき、陰極周囲のみ光沢のある灰色の
クロムめっき被膜が得られたー。他の条件下では、灰色
ないし黒灰色の粗いめっき被膜となった。
一方、この発明の浴を用いた場合、硫酸ランタンを０．
１グラム／リットルの割合で添加した浴においては、電
流密度１０ Ａ ／ ｄ ｍ” の条件を除き、全条件
の下でほぼ完全な光沢クロムめっき被膜を得た。硫酸ラ
ンタンを０．２グラム／リットル以上添加した浴におい
ては、全ての電解条件の下でも完全な光沢のあるクロム
めっき被膜を得ることができた。電流効率は、２７．０
〜３３．５％と通常浴の場合とほぼ同等かそれよりもや
や高かった。
１グラム／リットルの割合で添加した浴においては、電
流密度１０ Ａ ／ ｄ ｍ” の条件を除き、全条件
の下でほぼ完全な光沢クロムめっき被膜を得た。硫酸ラ
ンタンを０．２グラム／リットル以上添加した浴におい
ては、全ての電解条件の下でも完全な光沢のあるクロム
めっき被膜を得ることができた。電流効率は、２７．０
〜３３．５％と通常浴の場合とほぼ同等かそれよりもや
や高かった。
また、クロムめっき被膜の硬さは、通常浴を用いた場合
は、ｍｙ（ビッカース硬さ）が°６８０〜７４０であっ
たが、この発明の浴を用いた場合、硫酸ランタンを０．
１グラム／リットル含むものにおいてＨｖが８５０〜１
２４ｏであり、特に硫酸ランタンを０．５グラム／リッ
トル以上含むものにおいてはＨｖが１４５０にも達する
硬質クロムめっき被Ｈりを得ることができた。
は、ｍｙ（ビッカース硬さ）が°６８０〜７４０であっ
たが、この発明の浴を用いた場合、硫酸ランタンを０．
１グラム／リットル含むものにおいてＨｖが８５０〜１
２４ｏであり、特に硫酸ランタンを０．５グラム／リッ
トル以上含むものにおいてはＨｖが１４５０にも達する
硬質クロムめっき被Ｈりを得ることができた。
実施例 ？
実施例１の通常浴に、酸化ランタンを０．１〜ｌＯダラ
ム／リットルの割合で添加した浴について、浴温ｌＯ〜
８０℃、電流密度１０〜１２０Ａ／ｄｍ２ の範囲条件
で同様此電解処理をおこなったところ、全範囲条件で優
れた光沢を有するクロムめっき被膜を得た。
ム／リットルの割合で添加した浴について、浴温ｌＯ〜
８０℃、電流密度１０〜１２０Ａ／ｄｍ２ の範囲条件
で同様此電解処理をおこなったところ、全範囲条件で優
れた光沢を有するクロムめっき被膜を得た。
実施例 ３
実施例１の通常浴に、市販のミツシュメタル（セリウム
３３％）粉末を１グラム／リットルの割合で攪拌しつつ
添加しクロムめっき浴を調製した。この浴を用い、浴温
２０〜６０℃、電流密度２０〜５０Ａ／ｄｍ２で電解処
理をおこなったところ、全範囲条件の下で光沢の優れた
クロムめっき被膜を得た。電流効率は１５，５〜３５．
５％の範囲内にあり、浴温が低い程効率が高かった。
３３％）粉末を１グラム／リットルの割合で攪拌しつつ
添加しクロムめっき浴を調製した。この浴を用い、浴温
２０〜６０℃、電流密度２０〜５０Ａ／ｄｍ２で電解処
理をおこなったところ、全範囲条件の下で光沢の優れた
クロムめっき被膜を得た。電流効率は１５，５〜３５．
５％の範囲内にあり、浴温が低い程効率が高かった。
実施例 ４
無水クロム酸５０〜１０００グラム／リットルにサージ
ェント浴比の硫酸１グラム／リットルないし１グラム／
リットルを添加した種々の浴を用い、浴温４０℃、電流
密度１５ Ａ ／ ｄ’ｍ２ の条件で電解処理をおこ
なったところ、析出物は全て灰色でｉった。これらの浴
にクロム酸に対しｌ／１００量の硫酸セリウムを添加し
て電解処理をおこなったところ、全ての条件において光
沢クロムめっき被膜を得ることができた。
ェント浴比の硫酸１グラム／リットルないし１グラム／
リットルを添加した種々の浴を用い、浴温４０℃、電流
密度１５ Ａ ／ ｄ’ｍ２ の条件で電解処理をおこ
なったところ、析出物は全て灰色でｉった。これらの浴
にクロム酸に対しｌ／１００量の硫酸セリウムを添加し
て電解処理をおこなったところ、全ての条件において光
沢クロムめっき被膜を得ることができた。
実施例 ５
実施例３の浴に、粒径２．Ｏｇｍの炭化ケイ素粉末をｌ
ＯＯ〜８００グラム／リットルの割合で攪拌しながら徐
々に加えてクロム複合めっき浴を調製した。この浴を用
い、浴温２０〜４０℃、電流密度２０Ａ／ｄｍ２の条件
で１時間電解処理をおこなった・ 炭化ケイ素の量が増加するにつれて、複合めっき被膜の
Ｈｖは１１００から１４５０に変化したが、炭化ケイ素
の量が１５０グラム／リットル以、 ′上ではＨｖ
は１４５０でほぼ一定であった。これら複合めっき被膜
を塩酸で処理し、残渣より炭化ケイ素量を分析したとこ
ろ、複合めっき被膜中に炭化ケイ素が１６２〜３．０重
量％の割合で共析していることがわかった。
ＯＯ〜８００グラム／リットルの割合で攪拌しながら徐
々に加えてクロム複合めっき浴を調製した。この浴を用
い、浴温２０〜４０℃、電流密度２０Ａ／ｄｍ２の条件
で１時間電解処理をおこなった・ 炭化ケイ素の量が増加するにつれて、複合めっき被膜の
Ｈｖは１１００から１４５０に変化したが、炭化ケイ素
の量が１５０グラム／リットル以、 ′上ではＨｖ
は１４５０でほぼ一定であった。これら複合めっき被膜
を塩酸で処理し、残渣より炭化ケイ素量を分析したとこ
ろ、複合めっき被膜中に炭化ケイ素が１６２〜３．０重
量％の割合で共析していることがわかった。
同様にして、アルミナ粉末（粒径０．５ＩＬｍ）を５０
〜２００グラム／リットルの割合で添加したところ、ア
ルミナを２．１〜２．５重量％の割合で共析させること
ができた。これら複合めっき被膜のＨｖは１２００〜１
３５０であり、安定した硬さを得ることができた。
〜２００グラム／リットルの割合で添加したところ、ア
ルミナを２．１〜２．５重量％の割合で共析させること
ができた。これら複合めっき被膜のＨｖは１２００〜１
３５０であり、安定した硬さを得ることができた。
こうして得た複合めっき被膜について、 ４ａｂａｒ摩
耗試験機を用い、摩耗輪（Ｏ９１０）によって１０００
０回転後の被膜の減量を測定した。その結果、複合めっ
き被膜の減量は、クロムめっきのみの被膜の減量の１／
２となり、耐摩耗性が著しく向上した。
耗試験機を用い、摩耗輪（Ｏ９１０）によって１０００
０回転後の被膜の減量を測定した。その結果、複合めっ
き被膜の減量は、クロムめっきのみの被膜の減量の１／
２となり、耐摩耗性が著しく向上した。
実施例 ６
硫酸クロム２００グラム／リットル、硫酸アンモニウム
４５０グラム／リットルおよび尿素２４０グラム／リッ
トルよりなる浴に粒径２／Ｌｍのｋｌ、 化ケイ素粉末
を３００グラム／リットルの割合で添加しく浴のｐＨ２
，２〜２ 、５） 、浴温４５℃、電流密度１５Ａ／ｄ
ｍ”の条件で電解処理をおこなった。こうして、炭化ケ
イ素が１重量％共析したクロムめっき被膜を得た。
４５０グラム／リットルおよび尿素２４０グラム／リッ
トルよりなる浴に粒径２／Ｌｍのｋｌ、 化ケイ素粉末
を３００グラム／リットルの割合で添加しく浴のｐＨ２
，２〜２ 、５） 、浴温４５℃、電流密度１５Ａ／ｄ
ｍ”の条件で電解処理をおこなった。こうして、炭化ケ
イ素が１重量％共析したクロムめっき被膜を得た。
実施例 ７
無水クロム酸１５０グラム／リツｉ・ル、次亜硫酸すト
リウム１５グラム／リットルおよび硫酸ランク７０．５
グラム／リットルよりなる浴を用い、浴温３５℃、電流
密度８０Ａ／ｄｍ２で３０分間電解をおこなったところ
、光沢の優れたクロムめっき被膜を得た。この被膜のＨ
ｖは１５００であった。
リウム１５グラム／リットルおよび硫酸ランク７０．５
グラム／リットルよりなる浴を用い、浴温３５℃、電流
密度８０Ａ／ｄｍ２で３０分間電解をおこなったところ
、光沢の優れたクロムめっき被膜を得た。この被膜のＨ
ｖは１５００であった。
Claims (3)
- （１）クロムめっき処理に当り、クロムめっき浴に希土
類元素およびその化合物からなる群の中から選ばれた少
なくとも１種の希土類系物質を配合したクロムめっき浴
をめっき浴として用いることを特徴とするクロムめっき
方法。 - （２）めっき浴がセラミック微粉末を分散・含有するも
のである特許請求の範囲第１項記載のクロムめっき方法
。 - （３）めっき浴が希土類系物質を、金属として少なくと
も約０．０１グラム／リットルの割合で含有する特許請
求の範囲第１項または第２項記載のクロムめっき方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12470584A JPS613895A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | クロムめつき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12470584A JPS613895A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | クロムめつき方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS613895A true JPS613895A (ja) | 1986-01-09 |
| JPH0573835B2 JPH0573835B2 (ja) | 1993-10-15 |
Family
ID=14892056
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12470584A Granted JPS613895A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | クロムめつき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS613895A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1042753C (zh) * | 1994-06-02 | 1999-03-31 | 北京科技大学 | 一种三价铬镀液 |
| US6013380A (en) * | 1996-11-11 | 2000-01-11 | Teiko Piston Ring Co., Ltd. | Composite chromium plating film and sliding member covered thereof |
| US6054225A (en) * | 1996-11-11 | 2000-04-25 | Teikoku Piston Ring Co., Ltd. | Composite chromium plating film and sliding member covered thereof |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50104141A (ja) * | 1974-01-23 | 1975-08-16 | ||
| JPS5717960A (en) * | 1980-07-07 | 1982-01-29 | Toshiba Corp | Image forming system apparatus |
| JPS5929119A (ja) * | 1982-08-09 | 1984-02-16 | Sanwa Kako Kk | 導電性ポリエチレンフォームの接着方法 |
| JPS59123792A (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-17 | Toshiba Corp | 耐摩耗性被覆 |
-
1984
- 1984-06-18 JP JP12470584A patent/JPS613895A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50104141A (ja) * | 1974-01-23 | 1975-08-16 | ||
| JPS5717960A (en) * | 1980-07-07 | 1982-01-29 | Toshiba Corp | Image forming system apparatus |
| JPS5929119A (ja) * | 1982-08-09 | 1984-02-16 | Sanwa Kako Kk | 導電性ポリエチレンフォームの接着方法 |
| JPS59123792A (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-17 | Toshiba Corp | 耐摩耗性被覆 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1042753C (zh) * | 1994-06-02 | 1999-03-31 | 北京科技大学 | 一种三价铬镀液 |
| US6013380A (en) * | 1996-11-11 | 2000-01-11 | Teiko Piston Ring Co., Ltd. | Composite chromium plating film and sliding member covered thereof |
| US6054225A (en) * | 1996-11-11 | 2000-04-25 | Teikoku Piston Ring Co., Ltd. | Composite chromium plating film and sliding member covered thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0573835B2 (ja) | 1993-10-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Thiemig et al. | Influence of pulse plating parameters on the electrocodeposition of matrix metal nanocomposites | |
| CA1063966A (en) | Electroplating method | |
| CN1084396C (zh) | 镀银液及使用该镀银液的镀银方法 | |
| Wilkinson | Understanding gold plating | |
| Yoshimura et al. | Preferred orientation and morphology of electrodeposited iron from iron (II) chloride solution | |
| JPS62109991A (ja) | 電気めつき液 | |
| Abd El Rehim et al. | Electrodeposition of cobalt from gluconate electrolyte | |
| Karahan et al. | Electrodeposition and properties of Zn, Zn–Ni, Zn–Fe and Zn–Fe–Ni alloys from acidic chloride–sulphate electrolytes | |
| JP2001247998A (ja) | 複合めっき方法 | |
| Yin et al. | Current pulse plating of nickel-iron alloys on rotating disk electrodes | |
| Ghorbani et al. | Electrodeposition of Ni–Fe alloys in the presence of complexing agents | |
| JPS613895A (ja) | クロムめつき方法 | |
| Maruthi et al. | Electrodeposition & characterization of Co-W alloys | |
| WO2022258621A1 (en) | Method for adjusting the brightness l* of an electroplated chromium layer | |
| JPS62120498A (ja) | 複合クロムめつきおよびめつき方法 | |
| Rajendran et al. | Electrodeposition of zinc-cobalt alloy from cyanide-free alkaline plating bath | |
| Vinokurov et al. | The structure of the chromium coatings modified by the dispersed particles | |
| GB1561908A (en) | Electroplating methods | |
| JPH06316789A (ja) | 複合クロムめっきおよびめっき方法 | |
| EP1719825A1 (en) | Electroplated coating of zinc alloy with excellent corrosion resistance and plated metal material having same | |
| Mbugua et al. | The Influence of Co Concentration on the Properties of Conventionally Electrodeposited Ni–Co–Al 2 O 3–SiC Nanocomposite Coatings | |
| Tey et al. | Effect of addition of polyethylene glycol into trivalent chromium bath on chromium coating | |
| Kavirajwar et al. | A study into the effect of a new brightener on electrodeposition and corrosion resistance of zinc. | |
| SU1344817A1 (ru) | Способ подготовки поверхности порошков алюмини и его сплавов дл нанесени гальванического покрыти | |
| US5965002A (en) | Elecrodeposition of manganese and other hard to deposit metals |