JPS613878A - 部材表層の浸炭焼入れ方法 - Google Patents
部材表層の浸炭焼入れ方法Info
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- JPS613878A JPS613878A JP12197484A JP12197484A JPS613878A JP S613878 A JPS613878 A JP S613878A JP 12197484 A JP12197484 A JP 12197484A JP 12197484 A JP12197484 A JP 12197484A JP S613878 A JPS613878 A JP S613878A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/40—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using liquids, e.g. salt baths, liquid suspensions
- C23C8/42—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using liquids, e.g. salt baths, liquid suspensions only one element being applied
- C23C8/44—Carburising
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
不発明は鉄系部材表層の浸炭方法および浸炭焼入れ方法
に関する。
に関する。
部材表層に浸炭処理を施すこと、および浸炭処理された
部材を鋳入れすることは従来より広く行われているとこ
ろである。ところで従来浸炭方法は固体浸炭、液体浸炭
およびガス浸炭に大別されるが、いづれの方法にも欠点
が多い。
部材を鋳入れすることは従来より広く行われているとこ
ろである。ところで従来浸炭方法は固体浸炭、液体浸炭
およびガス浸炭に大別されるが、いづれの方法にも欠点
が多い。
即ち、固体浸炭は部材を固体浸炭剤とともに浸炭箱につ
めて密閉し、加熱炉で長時間加熱する方法であるが、表
面炭素濃度、浸炭深さの正確な調節が困難で、過剰浸炭
の傾向がめるうえ、作業環境がわるく、作業人員を多く
必要とする。
めて密閉し、加熱炉で長時間加熱する方法であるが、表
面炭素濃度、浸炭深さの正確な調節が困難で、過剰浸炭
の傾向がめるうえ、作業環境がわるく、作業人員を多く
必要とする。
また液体浸炭はシアン化ソーダ（ＮａＣＮ ）を主成分
とする溶融塩浴中に部材を数十分から数時間程度浸漬し
、浸炭と同時に窒化をする方法であるが、浴の組成が時
間とともに変動しやすいので管理がめんどうであるばか
りでなく、有毒であるので排気装置や公害対策装置が必
須とされ □る。近年急速に普及したガス浸炭はＣ
Ｏガスを主成分とする浸炭性ガス中で部材を数十分から
数時間加熱する方法であって、表面炭素濃度の調節が可
能であり、かつ浸炭が均一におこなわれ、作業環境もよ
く、また自動化と品質管理が実施し易いなど多くの利点
を有するものの、設備費が高く、作業に専門的ガ知識を
必要とし、特に間題とされる点は爆発の危険があるなど
多くの問題点をかかえている。
とする溶融塩浴中に部材を数十分から数時間程度浸漬し
、浸炭と同時に窒化をする方法であるが、浴の組成が時
間とともに変動しやすいので管理がめんどうであるばか
りでなく、有毒であるので排気装置や公害対策装置が必
須とされ □る。近年急速に普及したガス浸炭はＣ
Ｏガスを主成分とする浸炭性ガス中で部材を数十分から
数時間加熱する方法であって、表面炭素濃度の調節が可
能であり、かつ浸炭が均一におこなわれ、作業環境もよ
く、また自動化と品質管理が実施し易いなど多くの利点
を有するものの、設備費が高く、作業に専門的ガ知識を
必要とし、特に間題とされる点は爆発の危険があるなど
多くの問題点をかかえている。
本発明者は辷記従来浸炭方法にそれぞれ存する問題点を
解消する目的で本発明をなすにいたったものでろって、
少くとも浸炭層をそれ程深くしなくてもよい、従って浸
炭焼入れ硬化層の厚みを深く要求されない部材に対する
簡易かつ秒単位の浸炭方法および浸炭焼入れ方法を提供
するものである。
解消する目的で本発明をなすにいたったものでろって、
少くとも浸炭層をそれ程深くしなくてもよい、従って浸
炭焼入れ硬化層の厚みを深く要求されない部材に対する
簡易かつ秒単位の浸炭方法および浸炭焼入れ方法を提供
するものである。
本願第１発明の要旨は
常温で粘性の低い液状を呈するアルコール中に浸漬され
ている部材の所定部分表層を誘導加熱手段を用いて所定
時間をかけて所定温度まで加熱することにより、ヒ記部
材の昇温表面に接するアルコールの熱分解によって生ず
る活性炭素を昇温表層の組織中に浸透拡散せしめること を特徴とする部材表層の浸炭方法にある。
ている部材の所定部分表層を誘導加熱手段を用いて所定
時間をかけて所定温度まで加熱することにより、ヒ記部
材の昇温表面に接するアルコールの熱分解によって生ず
る活性炭素を昇温表層の組織中に浸透拡散せしめること を特徴とする部材表層の浸炭方法にある。
これを以下に詳述する。
アルコールは周知の如く炭化水素基と水酸基が結合した
構造をもち、その種類も多いが、あとで詳述するように
当該アルコール中に浸漬された部材の表層が極めて短時
間加熱昇温している間に表層に触れているアルコールを
作用させなければならないので、粘性が低く流動性に富
むものが適し、かつ沸点が比較的低い方が好ましい。し
かし、揮発性に富むものは安定性に欠ける。従ってメタ
ノールＣＴ（、−ＯＨおよびエタノールＣＨ，−ＣＨ２
−ＯＨがその性質上と経済とから最適でろり、またドブ
ロバノールＣＨｓ （ＣＨ２）ｔ ＯＨでもよい。
構造をもち、その種類も多いが、あとで詳述するように
当該アルコール中に浸漬された部材の表層が極めて短時
間加熱昇温している間に表層に触れているアルコールを
作用させなければならないので、粘性が低く流動性に富
むものが適し、かつ沸点が比較的低い方が好ましい。し
かし、揮発性に富むものは安定性に欠ける。従ってメタ
ノールＣＴ（、−ＯＨおよびエタノールＣＨ，−ＣＨ２
−ＯＨがその性質上と経済とから最適でろり、またドブ
ロバノールＣＨｓ （ＣＨ２）ｔ ＯＨでもよい。
アルコール中に浸漬された部材は、浸炭せんとする部分
の表面を誘導加熱される。誘導加熱は公知の如く急速加
熱手段でアリ、所望温度まで部材表層を秒単位の短時間
で昇温可能である。
の表面を誘導加熱される。誘導加熱は公知の如く急速加
熱手段でアリ、所望温度まで部材表層を秒単位の短時間
で昇温可能である。
しかし本発明では部材表層を単に所定温度まで可及的短
時間に昇温せしめるものではない。部材表層が少くとも
アルコールの沸点以ヒの温度に昇温し、尚該昇温した表
面に接触しているアルコールが熱分解して活性炭素を生
じ、これが昇温し九部材表層に十分浸透拡散しうる時間
的余裕が必要でおるとともに、一方では表面の過剰浸炭
濃度となるのを回避し、他方では部材表層の肌あれを避
け、かつ結晶粒の粗大化を回避するように制御する。即
ち、本発明では部材表層を誘導加熱する加熱コイルの電
源出力を制御して所定時間をかけて所定温度に達するよ
うに調節する。これは後記実験例によって更に詳述する
が、加熱時間と温度との関係において、少くとも６０町
以内でなければ誘導加熱を用いた浸炭のメリット・・・
短時間での処理・・・は失われるであろうし、好ましく
は２０度以下での加熱時間で処理される。また当該時間
内に処理すれば、その間に到達する最高温度が１，１０
０℃以辷であっても、肌あれや結晶粒の粗大化を惹起す
ることなしに５０〜６０μｍの浸炭層を形成しうる。
時間に昇温せしめるものではない。部材表層が少くとも
アルコールの沸点以ヒの温度に昇温し、尚該昇温した表
面に接触しているアルコールが熱分解して活性炭素を生
じ、これが昇温し九部材表層に十分浸透拡散しうる時間
的余裕が必要でおるとともに、一方では表面の過剰浸炭
濃度となるのを回避し、他方では部材表層の肌あれを避
け、かつ結晶粒の粗大化を回避するように制御する。即
ち、本発明では部材表層を誘導加熱する加熱コイルの電
源出力を制御して所定時間をかけて所定温度に達するよ
うに調節する。これは後記実験例によって更に詳述する
が、加熱時間と温度との関係において、少くとも６０町
以内でなければ誘導加熱を用いた浸炭のメリット・・・
短時間での処理・・・は失われるであろうし、好ましく
は２０度以下での加熱時間で処理される。また当該時間
内に処理すれば、その間に到達する最高温度が１，１０
０℃以辷であっても、肌あれや結晶粒の粗大化を惹起す
ることなしに５０〜６０μｍの浸炭層を形成しうる。
使用されるアルコールは水溶液ではない。秒単位の加熱
中に浸炭を進行せしめる関係上濃度が高いことが好まし
く、また浸炭能も後述実験例が示す如く、加熱時間と加
熱温度との関係から管理が容易である。
中に浸炭を進行せしめる関係上濃度が高いことが好まし
く、また浸炭能も後述実験例が示す如く、加熱時間と加
熱温度との関係から管理が容易である。
またアルコールは、当該アルコール以外に浸炭剤として
使用可能と考えられる有機溶剤に比べて穏やかな浸炭を
するようでろり、安定性がある。例えば本発明者が本発
明をなすに到る過程で行った実験例中で、アセトンをそ
のまま使用した場合には供試体の表面過剰浸炭を生じ、
水溶液として使用した場合には高い浸炭能を示しはする
ものの表層全面に均質な浸炭層を得ることができなかっ
た。これに反し、アルコールはそのまま使用しても表面
過剰浸炭の虞れなく、また水溶液にしないため均質な浸
炭，１−を保証しうろこととなる。
使用可能と考えられる有機溶剤に比べて穏やかな浸炭を
するようでろり、安定性がある。例えば本発明者が本発
明をなすに到る過程で行った実験例中で、アセトンをそ
のまま使用した場合には供試体の表面過剰浸炭を生じ、
水溶液として使用した場合には高い浸炭能を示しはする
ものの表層全面に均質な浸炭層を得ることができなかっ
た。これに反し、アルコールはそのまま使用しても表面
過剰浸炭の虞れなく、また水溶液にしないため均質な浸
炭，１−を保証しうろこととなる。
ところで、部材表層に浸炭をする本来の目的は部材表層
の浸炭焼入れにある。それ故、本願は上記第１発明によ
って開示した浸炭方法が施された部材についての焼入れ
方法を更に提供するものでおる。
の浸炭焼入れにある。それ故、本願は上記第１発明によ
って開示した浸炭方法が施された部材についての焼入れ
方法を更に提供するものでおる。
本願第２発明の要旨は、
常温で粘性の低い液状を呈するアルコ−、７１／中に部
材を浸漬し、当該部材の所定部分表層を誘導加熱手段を
用いて所定時間をかけてＡＣ１変態点以ヒの所定温度ま
で加熱し、直ちに急冷を施す。
材を浸漬し、当該部材の所定部分表層を誘導加熱手段を
用いて所定時間をかけてＡＣ１変態点以ヒの所定温度ま
で加熱し、直ちに急冷を施す。
ことを特徴とする部材衣層の浸炭がε入れ方法にある。
当該第２発明は浸炭濃度ならびに深さをそれ程要求され
ない特殊な場合に適用される焼入れ方法である。急冷は
部材をｖｉし、かつ誘導加熱が行われるアルコールが満
された槽内を撹拌して、流動するアルコールで昇温表層
を冷却するか、あるいは加熱停止後直ちに部材を槽中よ
り取り出し、例えば水・油・ンリブルその他通常の焼入
れ冷却手段で急冷して焼入れする。この場合は部材の昇
温加熱されている時間が短いため、活性炭素の浸透・拡
散の度合が低い。それ故、部材の成分元素としてＭｎ
、 Ｃｒ その他の焼入性の良好な元素を十分含有し
、Ｃのみが不足しているような場合に浸炭処理によって
これを補足し、薄いが硬度の高い表面硬化層を得たいよ
うな際゛に用いられる。
ない特殊な場合に適用される焼入れ方法である。急冷は
部材をｖｉし、かつ誘導加熱が行われるアルコールが満
された槽内を撹拌して、流動するアルコールで昇温表層
を冷却するか、あるいは加熱停止後直ちに部材を槽中よ
り取り出し、例えば水・油・ンリブルその他通常の焼入
れ冷却手段で急冷して焼入れする。この場合は部材の昇
温加熱されている時間が短いため、活性炭素の浸透・拡
散の度合が低い。それ故、部材の成分元素としてＭｎ
、 Ｃｒ その他の焼入性の良好な元素を十分含有し
、Ｃのみが不足しているような場合に浸炭処理によって
これを補足し、薄いが硬度の高い表面硬化層を得たいよ
うな際゛に用いられる。
これに対し、通常は適当な浸炭濃度と可及的Ｋｍい浸炭
層の形成およびこれから得られる可及的に厚い焼入れ硬
化層が要求されるものである。この要求に応するために
なされたのが次に示す第３発明でおる。
層の形成およびこれから得られる可及的に厚い焼入れ硬
化層が要求されるものである。この要求に応するために
なされたのが次に示す第３発明でおる。
本願第３発明の要旨は、
常温で粘性の低い液状を呈するアルコール中に浸漬され
ている部材の所定部分表層を誘導加熱手段を用いて所定
時間をかけて所定温度まで加熱し、加熱終了後アルコー
ル中で放冷して浸炭処理を施し、ついでアルコール中か
ら引１！あげられた部材の浸炭処理きれた部分を誘導加
熱手段を用いて所定の焼入れ温度１で表面加熱のうえ急
冷する゛ ことを特徴とする部材衣１−の浸炭焼入れ方法にある。
ている部材の所定部分表層を誘導加熱手段を用いて所定
時間をかけて所定温度まで加熱し、加熱終了後アルコー
ル中で放冷して浸炭処理を施し、ついでアルコール中か
ら引１！あげられた部材の浸炭処理きれた部分を誘導加
熱手段を用いて所定の焼入れ温度１で表面加熱のうえ急
冷する゛ ことを特徴とする部材衣１−の浸炭焼入れ方法にある。
当該第３発明は部材の所定部分表層をアルコール中で誘
導加熱したのち、そのままアルコール中で昇温部分が常
温もしくは活性炭素の組織内への浸透可能な温度以下に
低下するまで放冷することにより、活性炭素が部材表層
の組織内へ十分浸透・拡散する時間を与え、適当な浸炭
濃度と深い浸炭層を得るようＫしたのち、部材をアルコ
ール中より引きめげ、浸炭処理部分を誘導加熱焼入れす
るものである。浸炭処理本来の目的は部材表層の焼入れ
性を向ヒせし７めることにアリ、従ってＦ記焼入れはこ
れに先立つ浸炭処理に関係づけられる。勿論部材の成分
元素のＭ、ｎやＣｒその他の元素も当然燐入れ効果に影
響を及はすが、浸炭処理における浸炭濃度と浸炭層の深
さが焼入れ硬化層形成を左右する主要因となる。而ｌ−
で当該第３発明は部材の所定部分表層に適当な浸炭濃度
と可及的に深い浸炭層を極めて短時間で形成し、かつ急
速加熱を旨とする誘導加熱によって上記浸炭層を炉入れ
硬化層とする短時間熱処理として特徴ずけられる。
導加熱したのち、そのままアルコール中で昇温部分が常
温もしくは活性炭素の組織内への浸透可能な温度以下に
低下するまで放冷することにより、活性炭素が部材表層
の組織内へ十分浸透・拡散する時間を与え、適当な浸炭
濃度と深い浸炭層を得るようＫしたのち、部材をアルコ
ール中より引きめげ、浸炭処理部分を誘導加熱焼入れす
るものである。浸炭処理本来の目的は部材表層の焼入れ
性を向ヒせし７めることにアリ、従ってＦ記焼入れはこ
れに先立つ浸炭処理に関係づけられる。勿論部材の成分
元素のＭ、ｎやＣｒその他の元素も当然燐入れ効果に影
響を及はすが、浸炭処理における浸炭濃度と浸炭層の深
さが焼入れ硬化層形成を左右する主要因となる。而ｌ−
で当該第３発明は部材の所定部分表層に適当な浸炭濃度
と可及的に深い浸炭層を極めて短時間で形成し、かつ急
速加熱を旨とする誘導加熱によって上記浸炭層を炉入れ
硬化層とする短時間熱処理として特徴ずけられる。
では、表面が過剰浸炭とならず、肌あれを生ぜしめず、
かつ結晶粒を粗大化することなしに、部材の所定部分表
層を適当な浸炭濃度の可及的に深い浸炭層とするアルコ
ール中での部材所定部分の誘導加熱−所定時間をかけた
所定温度までの加熱−は如何に行われるべきか。Ｅ記加
熱時間と加熱温度の設定は被処理部材の成分元素の含有
率および使用するアルコールの種類によってそれぞれ異
る浸炭能で当然左右されることとなるので、実行に際し
て配慮されなければな □らない。
かつ結晶粒を粗大化することなしに、部材の所定部分表
層を適当な浸炭濃度の可及的に深い浸炭層とするアルコ
ール中での部材所定部分の誘導加熱−所定時間をかけた
所定温度までの加熱−は如何に行われるべきか。Ｅ記加
熱時間と加熱温度の設定は被処理部材の成分元素の含有
率および使用するアルコールの種類によってそれぞれ異
る浸炭能で当然左右されることとなるので、実行に際し
て配慮されなければな □らない。
本発明者は本発明の効果を実証するため、多数の実験を
行ったが、その一部を下記に示す。
行ったが、その一部を下記に示す。
実験例 １゜
Ｏ供試体・・・材質； ５Ｃｒ４１５
硬さ；Ｈｖ
寸法；φ１７＋＋＋ｍ
１３０酵゛
Ｏ浸炭処理・・・Ｌ記供試体ＴＰＯＡ１〜Ａ １２を第
１表に示す如く、それぞれ目標最高加熱温度を９００〜
１．２００℃の４段階に、またそれぞれの目標最高加熱
温度に達するまでの所要加熱時間を５〜１５度の３段階
に定め、第１図に示す装置を用いて供試体を誘導加熱し
、加熱終了後そのまま常温まで放冷した。図においてＢ
は供試体ＴＰを載置するアスベスト製支持台、Ｃは誘導
加熱コイル、Ｍはアルコールであって本実験ではメタノ
ール ｃＨａｏＨを用いた。
１表に示す如く、それぞれ目標最高加熱温度を９００〜
１．２００℃の４段階に、またそれぞれの目標最高加熱
温度に達するまでの所要加熱時間を５〜１５度の３段階
に定め、第１図に示す装置を用いて供試体を誘導加熱し
、加熱終了後そのまま常温まで放冷した。図においてＢ
は供試体ＴＰを載置するアスベスト製支持台、Ｃは誘導
加熱コイル、Ｍはアルコールであって本実験ではメタノ
ール ｃＨａｏＨを用いた。
淘、第１表中の各供試体ＴＰごとに示
されている温度は実行加熱温度計測値である。
また、第２図（ａ） 、 （ｂ）および（ｃ）はそれぞ
れ５寅、１０ｓｅｃおよび１．５ｓｅｃ加熱した際の各
供試体ＴＰの昇温曲線を示すものである。
れ５寅、１０ｓｅｃおよび１．５ｓｅｃ加熱した際の各
供試体ＴＰの昇温曲線を示すものである。
第 １ 表
力
０焼入れ・・・浸炭処理された各供試体ＴＰを、空気中
で下記に示す同一条件により焼入れした。焼入れ時の供
試体が示す温度特性曲線を第３図に示す。
で下記に示す同一条件により焼入れした。焼入れ時の供
試体が示す温度特性曲線を第３図に示す。
加熱時間；２，５（８）
加熱温度；９３０℃
焼入れ冷却剤；水
Ｏ実験結果・・・Ｌ記処理を経た浸炭焼入れ済供試体Ｔ
Ｐそれぞれを以下の確性試験に付した。
Ｐそれぞれを以下の確性試験に付した。
（１）硬さ試験：各供試体ＴＰそれぞれの断面表層部の
硬さを測定１７た。
硬さを測定１７た。
測定結果は第４図（、）〜（ｄ）に示す硬さ分布線図の
とおりであった。各図では浸炭処理時の目標最高加熱温
度を同じくする供試体それぞれの測定結果を折線グラフ
として同−図Ｅに表示するようにしてあり、（ａ＞は９
００℃、（ｂ）は１． ｏ ｏ ｏ℃、（Ｃ）は１．１
００℃、（ｄ）は１．２００℃に設定した供試体ＴＰそ
れぞれの結果を示す。
とおりであった。各図では浸炭処理時の目標最高加熱温
度を同じくする供試体それぞれの測定結果を折線グラフ
として同−図Ｅに表示するようにしてあり、（ａ＞は９
００℃、（ｂ）は１． ｏ ｏ ｏ℃、（Ｃ）は１．１
００℃、（ｄ）は１．２００℃に設定した供試体ＴＰそ
れぞれの結果を示す。
図（ａ）〜（ｄ）それぞれから、加熱時間が長くなる程
、浸炭硬化層（例えば硬さ）ＩＶ５５０以上−供試体Ｔ
Ｐを浸炭処理せずに焼入れした場合の硬さはＨＶ、５０
（！程。
、浸炭硬化層（例えば硬さ）ＩＶ５５０以上−供試体Ｔ
Ｐを浸炭処理せずに焼入れした場合の硬さはＨＶ、５０
（！程。
度となる）が厚くなり、また図（、）〜（ｄ）間の比較
をら目標最高温度が高くなるに従って硬化層が厚くなる
ことが明確に認められた。表面硬さはいずれの供試体も
酵８５０前后を示している。
をら目標最高温度が高くなるに従って硬化層が厚くなる
ことが明確に認められた。表面硬さはいずれの供試体も
酵８５０前后を示している。
（２）組織観察；供試体ＴＰＡＩ〜Ａ１２それぞれの断
面表層部分の組織顕微鏡写真 （Ｘ４００）を写り、観察した。これを第５図（ａ）〜
（１）として示す。（ａ）〜（１）はそれぞれＴ Ｐ
Ａ １〜１２に該当する。
面表層部分の組織顕微鏡写真 （Ｘ４００）を写り、観察した。これを第５図（ａ）〜
（１）として示す。（ａ）〜（１）はそれぞれＴ Ｐ
Ａ １〜１２に該当する。
観察の結果、いづれもマルテンサイト
を示す組織の表面層が供試体ＴＰごとに厚みの異る白色
層となっているのが認められた。白色層の厚みを浸炭処
理における加熱時間と加熱温度との関係を第６図に示す
。白丸および線Ａは５秒加熱の黒丸および線Ｂは１０秒
加熱の、また三角印および線Ｃは１５秒加熱の供試体そ
れぞれの白色層厚みおよびこれから求め得る傾向線を表
わすものでおる。
層となっているのが認められた。白色層の厚みを浸炭処
理における加熱時間と加熱温度との関係を第６図に示す
。白丸および線Ａは５秒加熱の黒丸および線Ｂは１０秒
加熱の、また三角印および線Ｃは１５秒加熱の供試体そ
れぞれの白色層厚みおよびこれから求め得る傾向線を表
わすものでおる。
同比較のため、第７図（ａ）および（ｂ）に供試体素材
の表面層と芯部との同一倍率 （Ｘ４００ ）による組織顕微鏡写真を示す。
の表面層と芯部との同一倍率 （Ｘ４００ ）による組織顕微鏡写真を示す。
（３）結晶粒度測定試験・・・供試体Ａ１２の結晶粒顕
微鏡写真を作成して結晶粒度測定を行った。これを第８
図に示す。倍率は ４００倍である。
微鏡写真を作成して結晶粒度測定を行った。これを第８
図に示す。倍率は ４００倍である。
試験結果は粒度番号Ａ８〜扁１０であ
った。
（４） Ｅ Ｐ Ｍ Ａ分析・・・Ｘ線マイクロアナ２
４勺１−を用いて浸炭濃度測定を行った。使用した供試
体ＴＰはＡ９であった。
４勺１−を用いて浸炭濃度測定を行った。使用した供試
体ＴＰはＡ９であった。
試験結果を特性曲線として第９図に示
す。図において線Ｂで表わすＦｅ−にα ７５二強度を
水平に保っているのに対し、１ｆｌｊ、Ａで表わすＣ−
にαでは表面が最高強度であって、芯方向へ向ってなめ
らかに強度を減少し、表面から芯方向へほぼ６０μｍ入
ったあたりから強度を水平に保っており、Ｌ配水平部分
強度レベルが素材成分Ｃ含有量反応と見做されるのでほ
ぼ６０μｍまで浸炭効果がるり、かつ表面は素材成分Ｃ
含有量のほぼ２倍にまでＣ濃度が高められたことが確認
された。
水平に保っているのに対し、１ｆｌｊ、Ａで表わすＣ−
にαでは表面が最高強度であって、芯方向へ向ってなめ
らかに強度を減少し、表面から芯方向へほぼ６０μｍ入
ったあたりから強度を水平に保っており、Ｌ配水平部分
強度レベルが素材成分Ｃ含有量反応と見做されるのでほ
ぼ６０μｍまで浸炭効果がるり、かつ表面は素材成分Ｃ
含有量のほぼ２倍にまでＣ濃度が高められたことが確認
された。
Ｌ記各種試験結果から、本実験例供試体ＴＰはメタノー
ル中で所定時間をかけた所定温度までの訪導加熱と引き
つづくメタノール中での放冷およびその後に施す誘導加
熱焼入れによって、表面硬さを）ＩＶ８５０前後とし、
芯部方向へ硬さを緩やかに減少する、はぼ６０〜８０μ
ｍの深さの浸炭焼入れ硬化層を形成しうること、また得
られた硬化層は表面過剰浸炭にはならないことが証明さ
れた。
ル中で所定時間をかけた所定温度までの訪導加熱と引き
つづくメタノール中での放冷およびその後に施す誘導加
熱焼入れによって、表面硬さを）ＩＶ８５０前後とし、
芯部方向へ硬さを緩やかに減少する、はぼ６０〜８０μ
ｍの深さの浸炭焼入れ硬化層を形成しうること、また得
られた硬化層は表面過剰浸炭にはならないことが証明さ
れた。
本発明者はさらに次の実験を行い、他の表面硬化処理方
法との比較を試みた。
法との比較を試みた。
実験例 ２゜
Ｏ供試体・・・材質；５１７Ｃ相当材
素材硬さ：Ｈｖ２００
Ｅ配素材を第１０図に示す寸法（単位；閣）に切削加工
のうえ、４群に分けてそれぞれに処理を施しまたは施さ
ず供試体とした。これを第２表に示す。
のうえ、４群に分けてそれぞれに処理を施しまたは施さ
ず供試体とした。これを第２表に示す。
第 ２ 表
Ｏ各種試験・・・Ｌ記供試体群Ａ、Ｂ、ＣおよびＤをそ
れぞれ下記の試験に付した。
れぞれ下記の試験に付した。
（１）組織観察・・・各供試体の組織顕微鏡写真（Ｘ４
００）により組織観察を行った。第１１図の（ａ）は供
試体Ａ、（ｂ）は供試体Ｂ１（Ｃ）は供試体Ｃ，（ｄ）
は供試体りそれぞれの写真であり、（ａ）ではマルテン
サイト組織とされた供試体Ａの表向から相当深さまでお
だやかな浸炭の状態（推定Ｃ＝ ０．６０〜０．８０％
）が、（ｂ）ではマルテンサイト組織が、（Ｃ）では（
ｄ）に示される供試体ｐの未処理組織（フェライト・パ
ーライト）が窒化処理工程でやや和犬した組織の表−面
に層状の窒化層（約１５μｍ）が認められた。
００）により組織観察を行った。第１１図の（ａ）は供
試体Ａ、（ｂ）は供試体Ｂ１（Ｃ）は供試体Ｃ，（ｄ）
は供試体りそれぞれの写真であり、（ａ）ではマルテン
サイト組織とされた供試体Ａの表向から相当深さまでお
だやかな浸炭の状態（推定Ｃ＝ ０．６０〜０．８０％
）が、（ｂ）ではマルテンサイト組織が、（Ｃ）では（
ｄ）に示される供試体ｐの未処理組織（フェライト・パ
ーライト）が窒化処理工程でやや和犬した組織の表−面
に層状の窒化層（約１５μｍ）が認められた。
（２）硬さ試験・・・各供試体の断面硬さをマイクロビ
ッカース硬さ計で測定した。試験条件は浸炭層および窒
化層の厚さが薄いことから荷重＝２５ｔ、時間＝１５８
とし、その測定結果を縦軸（硬さくＨｖ ）、横軸に表
面からの距離（畷）をとった図表ヒにプロットし、分布
曲線を求めた。
ッカース硬さ計で測定した。試験条件は浸炭層および窒
化層の厚さが薄いことから荷重＝２５ｔ、時間＝１５８
とし、その測定結果を縦軸（硬さくＨｖ ）、横軸に表
面からの距離（畷）をとった図表ヒにプロットし、分布
曲線を求めた。
第１２図の（ａ）はＡの、（ｂ）はＢの、（ｃ）はＣの
、（ｄ）はＤの供試体それぞれの結果を示すもので、（
ａ）は（ｂ）との比較において表面から５０〜６０μｔ
ｎまで浸炭されて焼入れ硬さくＨｖ５００前後）を１：
廻るＨｖ８００を示していることが明らかに認められ、
また（ｅ）は（ｄ）との比較において表面硬さＨｖ４４
０を最高硬さとした２０μｍ程度の高窒化Ｉｆｉと深さ
１００μｍ以辷まで読上軽度の窒化影響と推定されるｔ
（ｖ３００以下の硬さとなっているのが認められた。
、（ｄ）はＤの供試体それぞれの結果を示すもので、（
ａ）は（ｂ）との比較において表面から５０〜６０μｔ
ｎまで浸炭されて焼入れ硬さくＨｖ５００前後）を１：
廻るＨｖ８００を示していることが明らかに認められ、
また（ｅ）は（ｄ）との比較において表面硬さＨｖ４４
０を最高硬さとした２０μｍ程度の高窒化Ｉｆｉと深さ
１００μｍ以辷まで読上軽度の窒化影響と推定されるｔ
（ｖ３００以下の硬さとなっているのが認められた。
（３） Ｅ Ｐ Ｍ Ａ分析・・・Ｘ線マイクロアナラ
イザーを使用して供試体Ａについては炭素、供試体ＣＫ
りいては窒素の濃度測定を行い、それぞれＣＫα曲線お
よびＮＫα曲線を求めた。分光結晶はＰｂ５Ｄを使用し
た。
イザーを使用して供試体Ａについては炭素、供試体ＣＫ
りいては窒素の濃度測定を行い、それぞれＣＫα曲線お
よびＮＫα曲線を求めた。分光結晶はＰｂ５Ｄを使用し
た。
第１３図（イ）は供試体Ａの、（ロ）は供試体Ｂの測定
結果から求めたそれぞれの特性曲線であって、（イ）の
曲線Ｃで示すＣＫα特性曲線は表面から深さほぼ６０μ
ｍに至るまでの間表面濃度を最高として漸減する炭素量
の浸炭層の存在が、また←）の曲線Ｎで示すＮＫα特性
曲線は表面からの深さ１５μｍ付近をピークとする深さ
３０μｍまでの窒化ｌ斡の存在が確認された。同、図（
イ）における曲線ＦはＦｅ の濃度を示すものである
。
結果から求めたそれぞれの特性曲線であって、（イ）の
曲線Ｃで示すＣＫα特性曲線は表面から深さほぼ６０μ
ｍに至るまでの間表面濃度を最高として漸減する炭素量
の浸炭層の存在が、また←）の曲線Ｎで示すＮＫα特性
曲線は表面からの深さ１５μｍ付近をピークとする深さ
３０μｍまでの窒化ｌ斡の存在が確認された。同、図（
イ）における曲線ＦはＦｅ の濃度を示すものである
。
（４）回転的は疲れ試験・・・各供試体を小野式回転曲
げ疲れ試験機を用いて試験した。試験条件は応力振巾０
８＝３０〜８０Ｋｆｆ／／Ｊ、疲労限１００万回とし、
その試験結果を第１４図に示すＳ−Ｎ線図とした。
げ疲れ試験機を用いて試験した。試験条件は応力振巾０
８＝３０〜８０Ｋｆｆ／／Ｊ、疲労限１００万回とし、
その試験結果を第１４図に示すＳ−Ｎ線図とした。
図において＠に、Ｂ、ＣおよびＤそれぞれは供試体Ａ、
Ｂ、ＣおよびＤの応力振巾（Ｋｑｆ／、Ｊ”）と繰り返
し回数との関係を示し、疲労限が本発明実施供試体Ａで
は６５Ｋｆｆ／＋ａｌ＋高周波焼入れ実施供試体Ｂでは
５０に９ｆ／Ｊ。
Ｂ、ＣおよびＤの応力振巾（Ｋｑｆ／、Ｊ”）と繰り返
し回数との関係を示し、疲労限が本発明実施供試体Ａで
は６５Ｋｆｆ／＋ａｌ＋高周波焼入れ実施供試体Ｂでは
５０に９ｆ／Ｊ。
イオン窒化実施供試体Ｃでは４７Ｋｇｆ／−。
未処理供試体りではく３０〜ｆ／Ｅｊであることが判明
した。
した。
Ｅ記実験例２の結果から、本発明がイオン窒化に比べて
は勿論のこと、炭素含有量が少ない場合の高周波焼入れ
処理に比べても格段に秀れた機械的性質向上方法でるる
ことが証明された。
は勿論のこと、炭素含有量が少ない場合の高周波焼入れ
処理に比べても格段に秀れた機械的性質向上方法でるる
ことが証明された。
本発明者はさらに次の実験を行って、焼入れし難い低炭
素鋼に不発明を実施した場合の効果を求めた。
素鋼に不発明を実施した場合の効果を求めた。
実験例 ３゜
ａ供試体・・・素材； ５ｔｏｃ
硬さ：Ｈｖ＝１９’０
ヒ記素材を実験例２における第１０図に示すと同様な寸
法に切削加工のうえ、ＡおよびＢの２群に分け、Ａ群は
メチルアルコールで１，０７０℃×２Ｏ８の浸炭処理し
たのち高周波焼入れ（９２０℃Ｘ４Ｓ） してＡ供試体
群とし、Ｂ群はその−１ま高周波焼入れ（９２０℃×４
８）のみを施しＢ供試体群とした。伺Ａ供試体群の表面
硬さは Ｈｖ８２０であった。
法に切削加工のうえ、ＡおよびＢの２群に分け、Ａ群は
メチルアルコールで１，０７０℃×２Ｏ８の浸炭処理し
たのち高周波焼入れ（９２０℃Ｘ４Ｓ） してＡ供試体
群とし、Ｂ群はその−１ま高周波焼入れ（９２０℃×４
８）のみを施しＢ供試体群とした。伺Ａ供試体群の表面
硬さは Ｈｖ８２０であった。
Ｏ回転曲げ疲れ試験・・・実験例２における同試験と全
く同一条件で供試体を試験し、 Ｓ−Ｎ曲線図とした。これを第１５図に示す。曲線Ａは
Ａ供試体群の、曲線ＢはＢ供試体群のものである。
く同一条件で供試体を試験し、 Ｓ−Ｎ曲線図とした。これを第１５図に示す。曲線Ａは
Ａ供試体群の、曲線ＢはＢ供試体群のものである。
第１５図からＡ供試体群では疲労限は
６１初ｆ／−でるることが認められ、低炭素鋼でも本発
明の実施によって耐摩耗性とともに耐久性を顕著に増大
しうろことが明確にされた。
明の実施によって耐摩耗性とともに耐久性を顕著に増大
しうろことが明確にされた。
本発明者はさらに多くの実験を行った結果、表面肌荒れ
を生ぜず、結晶粒の粗大化を招くことなく浸炭焼入れ硬
化層を形成するには、加熱温度を高く設定した場合には
加熱時間が１５就以内、加熱温度を低く押えた場合には
６０ｓｅｃ以内とすること、また丘記実験例以との深さ
−例えば１００ μｍ程度の硬化層（Ｈｖ５５０以上）
は１．１００〜１，１５０℃までの加熱温度に昇温する
のに２０就−の加熱時間をかけて到達させるようにすれ
ば効率的に得られて好ましいことも判明した。
を生ぜず、結晶粒の粗大化を招くことなく浸炭焼入れ硬
化層を形成するには、加熱温度を高く設定した場合には
加熱時間が１５就以内、加熱温度を低く押えた場合には
６０ｓｅｃ以内とすること、また丘記実験例以との深さ
−例えば１００ μｍ程度の硬化層（Ｈｖ５５０以上）
は１．１００〜１，１５０℃までの加熱温度に昇温する
のに２０就−の加熱時間をかけて到達させるようにすれ
ば効率的に得られて好ましいことも判明した。
また、本発明者は使用アルコールをメタノールからエタ
ノールに変えて実験を行ったところ、Ｅ記実験例とほぼ
近似する結果を得た。従って常温で粘性の低い液状を呈
するアルコールなら、本発明における浸炭剤となし得る
ことが判明した。
ノールに変えて実験を行ったところ、Ｅ記実験例とほぼ
近似する結果を得た。従って常温で粘性の低い液状を呈
するアルコールなら、本発明における浸炭剤となし得る
ことが判明した。
本発明浸炭方法によれば、
（１）従来方法に比べて、秒単位という画期的な短い処
理時間で適切な浸炭濃度の浸炭層を部材表層５０〜１０
０μｍの厚さに形成可能であり、（２）従来方法では浸
炭不要部分に浸炭防止処置をしていたが、浸炭防止処置
は一切不要で所望部分表層の浸炭処理が自由に行い得、 （３）従来方法では処理温度まで加熱炉、塩浴炉、ガス
浸炭炉等を昇温せしめたうえで浸炭処理が行われていた
が、これらの準備時間は不要となるばかりでなく、エネ
ルギーの高効率使用が可能となり、 （４）さらにランニングコストも低コストですむなど種
々顕著な効果がある。
理時間で適切な浸炭濃度の浸炭層を部材表層５０〜１０
０μｍの厚さに形成可能であり、（２）従来方法では浸
炭不要部分に浸炭防止処置をしていたが、浸炭防止処置
は一切不要で所望部分表層の浸炭処理が自由に行い得、 （３）従来方法では処理温度まで加熱炉、塩浴炉、ガス
浸炭炉等を昇温せしめたうえで浸炭処理が行われていた
が、これらの準備時間は不要となるばかりでなく、エネ
ルギーの高効率使用が可能となり、 （４）さらにランニングコストも低コストですむなど種
々顕著な効果がある。
また本発明浸炭焼入れ方法によれば、
（１）浸炭処理時間と合算して極めて短時間の処理時間
で部材の浸炭焼入れが可能となり、（２）これによって
得られた処理部材は耐摩耗性・疲労限等の機械的性質が
他の処理方法によるものより格段に秀れ、 （３）そのうえ、浸炭加熱時の誘導加熱設備と、焼入れ
加熱時の誘導加熱設備とが共用可能であるので設備費が
安くなる などの効果がアリ、従って本発明浸炭焼入れ方法は、従
来方法程の浸炭硬化層深さは期待しえないが、極めて短
時間・簡易かつ安価に部材光層に浸炭焼入れを施しうる
ものとして、軽荷重部材の耐摩耗性向上を図る場合や、
冷間プレス加工のため低炭素鋼を用いざるを得ない部材
の所望部分に耐摩耗性と耐久性とを付与せんとするよう
な場合などにその効果を発揮するものとして広く利用し
うろこととなり、その齋らす効果は顕著である。
で部材の浸炭焼入れが可能となり、（２）これによって
得られた処理部材は耐摩耗性・疲労限等の機械的性質が
他の処理方法によるものより格段に秀れ、 （３）そのうえ、浸炭加熱時の誘導加熱設備と、焼入れ
加熱時の誘導加熱設備とが共用可能であるので設備費が
安くなる などの効果がアリ、従って本発明浸炭焼入れ方法は、従
来方法程の浸炭硬化層深さは期待しえないが、極めて短
時間・簡易かつ安価に部材光層に浸炭焼入れを施しうる
ものとして、軽荷重部材の耐摩耗性向上を図る場合や、
冷間プレス加工のため低炭素鋼を用いざるを得ない部材
の所望部分に耐摩耗性と耐久性とを付与せんとするよう
な場合などにその効果を発揮するものとして広く利用し
うろこととなり、その齋らす効果は顕著である。
第１図〜第９図までは実験例１に関するもので、第１図
は本発明浸炭方法を供試体に施す際に用いた実験例装置
の一部断面正面図、第２図（ａ）〜（ｅ）はそれぞれ浸
炭時の加熱昇温線図、第３図は焼入れ時の温度特性曲線
図、第４図（ａｔ〜（ｄ＞はそれぞれの供試体について
行った硬さ試験の結果を示す硬さ分布線図、ｆ４ＪＪ５
図（ａ）〜（１）はそれぞれの供試体の組織顕微鏡写真
図、第６図は浸炭処理時の加熱時間と加熱温度との関係
において求めた浸炭層厚み形成傾向線図、第７図（ａ）
および（ｂ）はそれぞれ供試体素材表層部および芯部の
組織顕微鏡写真図、第８図は本発明浸炭φ入れ供試体の
結晶粒顕微鏡写真図、第９図は本発明浸炭焼入れ供試体
のＸ線マイクロアナライザーによる測定結果から求めた
Ｃ−にα特性曲線図であり、第１０図〜第１４図は実験
例２に関するもので、第１０図は供試体の形状・寸法を
示す正面図、第１１図（ａ）〜（ｄ）はそれぞれ本発明
浸炭焼入れ供試体、焼入れ供試体、イオン窒化供試体お
よび未処理供試体の組織顕微鏡写真図、第１２図（ａ）
〜（ｄ）はそれぞれ第１１図（ａ） 〜（ｄ）に示す
各供試体の硬さ試験の結果を表わす図、第１３図（イ）
および（ロ）はそれぞれ不発明浸炭焼入れ供試体および
イオン窒化供試体のＸ線マイクロアナライザーによる測
定結果から求めたＣ−にαおよびＮ−にα特性曲線図、
第１４図は処理を異にする供試体群それぞれを回転曲は
疲れ試験に付して得た結果から求めたそれぞれのＳ−Ｎ
線図であり、第１５図は実験例３における本発明浸炭焼
入れ供試体の回転曲げ疲れ試験の結果から求めたＳ−Ｎ
線図である。 第１図 第 ２ 図 （０） Ａｒ１替り向 第３図 Ｃ ０１２３４５６ｓｅｃ υも ｊ吉１ 第４図 ９論−１−ｘｌｏ−７ｍｍ −Ｈ面−ｔ−ｘｌＯ−’
ｍｒｒ＋×４００ ×４００ ×４００ ｘ４００ ｘ４００ 第 ６ 図 ０．０１ ０．０５ ０．１０ ｍｍ白の
、身、厚Ｊ−Ａ 第７図 ×４００ （、ｂ） ×４００ 第８図 第９図 第Ｈ図 第１２図 −４ふ 第 １３ Ｂ
は本発明浸炭方法を供試体に施す際に用いた実験例装置
の一部断面正面図、第２図（ａ）〜（ｅ）はそれぞれ浸
炭時の加熱昇温線図、第３図は焼入れ時の温度特性曲線
図、第４図（ａｔ〜（ｄ＞はそれぞれの供試体について
行った硬さ試験の結果を示す硬さ分布線図、ｆ４ＪＪ５
図（ａ）〜（１）はそれぞれの供試体の組織顕微鏡写真
図、第６図は浸炭処理時の加熱時間と加熱温度との関係
において求めた浸炭層厚み形成傾向線図、第７図（ａ）
および（ｂ）はそれぞれ供試体素材表層部および芯部の
組織顕微鏡写真図、第８図は本発明浸炭φ入れ供試体の
結晶粒顕微鏡写真図、第９図は本発明浸炭焼入れ供試体
のＸ線マイクロアナライザーによる測定結果から求めた
Ｃ−にα特性曲線図であり、第１０図〜第１４図は実験
例２に関するもので、第１０図は供試体の形状・寸法を
示す正面図、第１１図（ａ）〜（ｄ）はそれぞれ本発明
浸炭焼入れ供試体、焼入れ供試体、イオン窒化供試体お
よび未処理供試体の組織顕微鏡写真図、第１２図（ａ）
〜（ｄ）はそれぞれ第１１図（ａ） 〜（ｄ）に示す
各供試体の硬さ試験の結果を表わす図、第１３図（イ）
および（ロ）はそれぞれ不発明浸炭焼入れ供試体および
イオン窒化供試体のＸ線マイクロアナライザーによる測
定結果から求めたＣ−にαおよびＮ−にα特性曲線図、
第１４図は処理を異にする供試体群それぞれを回転曲は
疲れ試験に付して得た結果から求めたそれぞれのＳ−Ｎ
線図であり、第１５図は実験例３における本発明浸炭焼
入れ供試体の回転曲げ疲れ試験の結果から求めたＳ−Ｎ
線図である。 第１図 第 ２ 図 （０） Ａｒ１替り向 第３図 Ｃ ０１２３４５６ｓｅｃ υも ｊ吉１ 第４図 ９論−１−ｘｌｏ−７ｍｍ −Ｈ面−ｔ−ｘｌＯ−’
ｍｒｒ＋×４００ ×４００ ×４００ ｘ４００ ｘ４００ 第 ６ 図 ０．０１ ０．０５ ０．１０ ｍｍ白の
、身、厚Ｊ−Ａ 第７図 ×４００ （、ｂ） ×４００ 第８図 第９図 第Ｈ図 第１２図 −４ふ 第 １３ Ｂ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、）常温で粘性の低い液状を呈するアルコール中に浸
漬されている部材の所定部分表層を誘導加熱手段を用い
て所定時間をかけて所定温度まで加熱することにより、
上記部材の昇温表面に接するアルコールの熱分解によっ
て生ずる活性炭素を昇温表面の組織中に浸透拡散せしめ
ることを特徴とする部材表層の浸炭方法。 ２、）アルコールがメタノールである特許請求の範囲第
１項記載の部材の局部浸炭方法。 ３、）アルコールがエタノールである特許請求の範囲第
１項記載の部材表層の浸炭方法。 ４、）アルコール中に浸漬された部材を誘導加熱する時
間が２０ｓｅｃ以下である特許請求の範囲第１項記載の
部材表層の浸炭方法。 ５、）誘導加熱後の部材をアルコール中で放冷すること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の部材表層の浸
炭方法。 ６、）常温で粘性の低い液状を呈するアルコール中に部
材を浸漬し、当該部材の所定部分表層を誘導加熱手段を
用いて所定時間をかけてＡｃ＿１変態点以上の所定温度
まで加熱し、直ちに急冷を施すことを特徴とする部材表
層の浸炭焼入れ方法。 ７、）急冷が部材表面を流動するアルコールによって行
われることを特徴とする特許請求の範囲第６項記載の部
材表層の浸炭焼入れ方法。 ８、）急冷がアルコール以外の冷却流体によって行われ
ることを特徴とする特許請求の範囲第６項記載の部材表
層の浸炭焼入れ方法。 ９、）常温で粘性の低い液状を呈するアルコール中に浸
漬されている部材の所定部分表層を誘導加熱手段を用い
て所定時間をかけて所定温度まで加熱し、加熱終了後ア
ルコール中で放冷して浸炭処理を施し、ついでアルコー
ル中から引きあげられた部材の浸炭処理された部分を誘
導加熱手段を用いて所定の焼入れ温度まで表面加熱のう
え急冷することを特徴とする部材表層の浸炭焼入れ方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12197484A JPS613878A (ja) | 1984-06-15 | 1984-06-15 | 部材表層の浸炭焼入れ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12197484A JPS613878A (ja) | 1984-06-15 | 1984-06-15 | 部材表層の浸炭焼入れ方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS613878A true JPS613878A (ja) | 1986-01-09 |
| JPH0477070B2 JPH0477070B2 (ja) | 1992-12-07 |
Family
ID=14824465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12197484A Granted JPS613878A (ja) | 1984-06-15 | 1984-06-15 | 部材表層の浸炭焼入れ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS613878A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0196397A (ja) * | 1987-10-08 | 1989-04-14 | Kawasaki Steel Corp | 耐食性に優れた溶接缶用クロムめっき鋼板の製造方法 |
| JPH01219194A (ja) * | 1988-02-27 | 1989-09-01 | Nkk Corp | 電解クロメート処理鋼板の前処理方法 |
| EP1032720A1 (en) * | 1996-12-02 | 2000-09-06 | Savelis Gugel | Method of and device for producing carbide and carbon solid solution containing surface layers |
| JP2013112877A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Neturen Co Ltd | 浸炭処理方法 |
| WO2017169234A1 (ja) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 日本発條株式会社 | 中空ばね部材及び中空ばね部材製造方法 |
| US10837095B2 (en) | 2016-03-30 | 2020-11-17 | Nhk Spring Co., Ltd. | Hollow stabilizer production method and hollow stabilizer production device |
Citations (2)
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| JPS55152072A (en) * | 1979-05-18 | 1980-11-27 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Magnetic circuit construction for printing head of wire dot printer |
| JPS5845963A (ja) * | 1981-09-14 | 1983-03-17 | Oki Electric Ind Co Ltd | バネチャ−ジ形ワイヤドットヘッド |
-
1984
- 1984-06-15 JP JP12197484A patent/JPS613878A/ja active Granted
Patent Citations (2)
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| JPH0431037B2 (ja) * | 1987-10-08 | 1992-05-25 | ||
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| EP1032720A1 (en) * | 1996-12-02 | 2000-09-06 | Savelis Gugel | Method of and device for producing carbide and carbon solid solution containing surface layers |
| EP1032720A4 (en) * | 1996-12-02 | 2002-09-18 | Savelis Gugel | PROCESS AND DEVICE FOR PRODUCING SURFACE LAYERS CONTAINING SOLID CARBON SOLUTION AND CARBIDE |
| JP2013112877A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Neturen Co Ltd | 浸炭処理方法 |
| WO2017169234A1 (ja) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 日本発條株式会社 | 中空ばね部材及び中空ばね部材製造方法 |
| JPWO2017169234A1 (ja) * | 2016-03-30 | 2018-12-06 | 日本発條株式会社 | 中空ばね部材及び中空ばね部材製造方法 |
| EP3438320A4 (en) * | 2016-03-30 | 2019-08-21 | NHK Spring Co., Ltd. | HOLLOW SPRING ELEMENT AND HOLLOW SPRING ELEMENT MANUFACTURING METHOD |
| US10837095B2 (en) | 2016-03-30 | 2020-11-17 | Nhk Spring Co., Ltd. | Hollow stabilizer production method and hollow stabilizer production device |
| US10900112B2 (en) | 2016-03-30 | 2021-01-26 | Nhk Spring Co., Ltd. | Hollow spring member and hollow spring member production method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0477070B2 (ja) | 1992-12-07 |
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