JPS6138405A - 干渉計及びそれを含むフーリエ変換分光計 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、放射線源と、各々が放射線源のスペクトルの
異なる部分で作動する複数のビームスプリッタ−と、放
射線源からの放射線の入力ビームをビームスプリッタ−
を経て案内して２個のサブビームを発生させ、各サブビ
ームは個別の光路を−通り、ビームスプリッタ−に戻る
前に再結合ビームに形成される放射線指向手段と、２個
のサブビーム光路の光路差を変化させる手段とを具える
干渉計に関するものである。斯る干渉計を使用する計測
器には、例えば、フーリエ変換分光計がある。

再結合されたビームを受信する検出器の出力信号は変化
した光路長の関数として変化し、この変化を既知のフー
リエ変換方法により解析して、入力放射線ビームのスペ
クトルを得ることができる。

斯る分光計を、有効波長領域が特に２．５μ〜５０μで
ある赤外線領域にて、使用することができる。

実際に使用されるビームスプリッターは、光学的に平坦
な放射線透過基板の一平面に設けられ、或ル場合にはこ
のビームスプリッターの頭部に補償板を設ける。このビ
ームスプリッタ−１放射線透過基板および補償仮に利用
し得る物質によって、十分な透過性を有し且つ赤外線領
域全体にわたってほぼ５０１５０のビーム分割比を有す
る単一のビーム分割アセンブリを得ることば、困難であ
る。そのため、普通には、少なくとも２個以上のビーム
スプリッタ−を、その各々が赤外線領域の異なる部分で
機能するように使用している。したがって、干渉計の第
１ビームスプリッタ−を移動して第２ビームスプリッタ
−に置き換える手段を設ける必要がある、その場合に第
２ビームスプリッターの平面と第１ビームスプリッタ−
の平面との平行関係が正確となるようにするためには注
意を要する。

この平行関係を損うと、検出器における干渉パターンの
中心が変位し、検出器から得られる信号の品質を下げる
結果となる。これがため、広いスペクトル範囲に有効な
フーリエ変換分光計は、干渉計の各ビームスプリッタ−
を順次に、ある位置ニ移動させる精密な機構を有するビ
ームスプリッターのタレットを使用していた。テキスト
ブック「アドバンシズ　イン　ラマン　スペクトロスコ
ピーＪ　１０００年第１０巻第５章第２８６〜２８８頁
に記載されたゲソツェル（Ｇｅｎｇｅｌ）干渉計は、６
個のビームスプリッタ−と同数のものをホイールのリム
周上に装着している。

本発明の目的は、干渉計内で２個以上のビームスプリッ
タ−を使用する簡単な光学装置を提供せんとするにある
。

本発明の干渉計は、前記ビームスプリッタ−を固定位置
に配置し、前記放射線指向手段によって、再結合ビーム
を、選定したビームスプリッターから出力側に通過させ
るようにしたことを特徴とする。これにより、ワイドレ
ンジ干渉計を兼価とすると共にビームスプリッタ−を干
渉計の固定位置に装着する場合の動作の再現性を改善す
ることができる。スペクトルの各部分に対し干渉計を組
立てる際に各ビームスプリッタ−を別々に調整できるよ
うにし、これら調整は、スペクトルを一部分から他の部
分に変えても妨害されない。さらに放射線指向手段は、
ビームスプリッタ−の各々に対し１つずつビームスプリ
ッタ−を個別に発生する手段を具える。

放射線指向手段は、第１の再結合ビームが入射する第１
固定反射鏡と、第２可動反射鏡とを具え、第２反射鏡を
、第１反射鏡から反射される第１再結合ビームを出力側
に指向する第１位置と、第２再結合ビームを出力側に通
す第２位置との間で移動自在となるようにする。

または、前記放射線指向手段は、反射鏡ユニットを具え
、この反射鏡ユニットは、一対の平面平行反射鏡を具え
、この反射鏡の平面を相互に離間し、前記反射鏡ユニッ
トを、一方の再結合ビームが反射鏡ユニットの各反射鏡
により反射されて検出器への光路に出る第１の位置から
、他方の再結合ビームが前記光路に沿って出力側に直接
通る第２の位置へ、反射鍵の平面に平行な軸線を中心と
して回転自在とすることもできる。

個別入力ビームを発生する手段は、ビームスプリッター
のうちの選定した１つに単一入力ビームを向ける手段を
具えるようにすることができる。

これにより、単一の入力ビームおよびコリメーティング
レンズを使用することが可能となる。したがって、入力
ビームは任意の一期間には−のビームスプリッターだけ
を通過する。

放射線指向手段は、入力反射素子と、出力反射素子を支
持する移動台とを具え、該移動支持台を摺動部材に装着
して複数の位置に移動自在とし、この複数の位置の各位
置で放射線源からの放射線を選定ビームスプリッタ−に
有効に指向するように前記入力反射素子を配置し、且つ
再結合ビームを選定したビームスプリッタ−から出力側
に有効にＩ論量するように前記出力反射素子を配置する
ことができる。

これによっても単一入力ビームおよびコリメーティング
レンズを使用することが可能となる。

したがって、ビームスプリッターの数を、放射線指向手
段をさらに複雑にすることなく、増大することができ、
追加のビームスプリッターを収容する移動支持台の移動
回数を単に増大するだけである。一般に、どんな形式の
干渉計においても光路差変化装置は、精密機構の高価な
部品の１つである。各ビームスプリッタ−からの２個の
サブビーム間の装置を共用することは、構体を簡略化し
、原価にする効果がある。

ビームスプリッタ−からの第１サブビームがビームスプ
リッターにもどる前に一定の光路長を通り、ビームスプ
リッターからの第２サブビームが、ビームスプリッタ−
にもどる前に共通の光路長変化装置を経て光路を通るよ
うにすることができる。

アメリカ合衆国特許第４，３８３，７６２号明細書に記
載される干渉計では、一方のサブビームの光路長が増加
し、それとともに他方のサブビームの光路長が減少する
ように、ビームスプリッタ−からの２本のサブビームの
光路長を変化させている。本発明における干渉計の光路
長変化装置は、それが各ビームスプリッタ−からの個々
のサブビームを２本同時に受けつけないため、前述の米
国特許明細書の干渉計よりも小型とすることができる。

図面につき本発明の実施例を詳細に説明する。

第１図に示すように、広帯域放射線源１によって、放出
放射線を、２個の凹状の軸外しコリメータ反射鏡２およ
び３に供給し、これらコリメータ反射鏡によって放射線
１２および１３からなる平行入射ビームをビームスプリ
ッタ−４および５に夫々供給する。ビームスプリッター
４は長波長範囲で有効に機能し、ビームスプリッタ−５
は短波長範囲で有効に機能し、この２波長範囲は僅かな
程度で重複している。各ビームスプリッタ−によってそ
の入力ビームを一方のサブビーム１４　（１５）と、他
方のサブビーム１６　（１７）とに分配する。サブビー
ム１４および１５に対して共通なビーム反転平面反射鏡
６を、一定の光路長内に設ける。その他のサブビーム１
６および１７は、共通の光路長変化装置に入射し、この
装置は、軸１０を中心としてアセンブリとして回転する
移動支持台９上に装着された１対の平坦且つ平行な反射
鏡７および８を具えている。

この反射鏡７および８は、ビームスプリッタ−を通過し
た両サブビーム１６および１７を反射するに十分なだけ
垂直方向に延在させる。平坦なビーム反転反射鏡１１も
両サブビーム１６．１７を反射するに十分な程度に垂直
方向に延在させる。反転されたサブビームは、各光路を
たどって各ビームスプリッタ−にもどる。まず、サブビ
ーム１６および１７は、光路長変化装置を通ってサブビ
ーム１４および１５となり、そして一定の光路長を経て
各ビームスプリッタ−に直接にたどり着く。このサブビ
ーム１４および１５の一部がビームスプリッタ−を通過
し、サブビーム１６および１７の一部がビームスプリッ
タ−で反射されて、再結合されたビーム２３および２４
を形成する。再結合ビームは、固定された平面反射鏡２
日とヒンジ止めされた平面反射鏡２Ｇとを具えるスイッ
チング配置の形態の放射線指向装置に入射する。

下側の再結合ビーム２４は、反射鏡２６が位置２７に下
げられた場合に検出器２５に直進する。上側の再結合ビ
ーム２３は平面反射鏡２８により反射鏡２６に反射され
る。この反射鏡２６が４５°の位置に持ち上げられた場
合には、下側の再結合ビーム２４は検出器に入射せず上
側再結合ビーム２３が検出器に入射する。これら光学部
品を熱的に安定な包囲器３８内に保持する。軸外し凹状
反射鏡２９は、選定した再結合ビームを検出器２５に集
束して同心リングに干渉パターンを発生し、この同心リ
ングの中心に検出器を位置させる。使用状態では、移動
支持台９は一方向に回転し、その途中では、反射鏡２６
は一方の位置になり、所望の光路長を与える角度となる
。

次に、反射鏡２６は他の位置になり、移動支持台９は再
びその初期位置にもどる。検出器は、各回転中、各ビー
ムスプリッタ−により処理されたスペクトルの一部を抽
出し、その出力を分析する。

光路長変化装置については、英国特許出願第８４１８３
０８号明細書に記載されている。

第２図には、第１図の放射線指向手段をさらに詳細に示
している。反射鏡２６は図面平面に直角な軸３１を中心
として回動自在とする。この反射鏡２６の実線で示す位
置において、固定ねし孔に調整ねじを螺合して成る調整
自在の止め部材３０により切換えたビームの方向を制限
すると共に上側ビームにより検出器に発生したリングパ
ターンの中心に調整する。点線の下側位置において、反
射鏡２６はビーム２４の光路より下に下がり、このビー
ム２４をビーム３５として検出器に通し、ビーム２３は
図示しない器具容器で吸収される。このスイッチング配
置がフーリエ変換分光計の一部である干渉計に使用され
る場合には、第４図につき後で説明するように、干渉写
真を走査する間に反射鏡２６の位置が、安定しているこ
とだけが必要であり、正確に再現し得る位置を有する必
要はない。

第３図には、図の平面に対し垂直な軸３３を中心として
、回転自在である反射鏡台３２を利用する他のスイッチ
ング配置を示す。２個の平坦な反射鏡３４および３５を
、これらの反射表面が向い合い且つ相互に平行で且つ軸
３３に平行となるように装′着台３２に剛固に固定する
。この装着台３２の実線位置において、ビーム２３は反
射鏡３４および３６で各１回ずつ反射され、ビームが入
射する両反射鏡を固定した装着台３２の角位置に関係な
く、当初のビーム方向に平行なビーム３５となる。切換
えられたビーム２３のその当初のビーム方向に対する平
行関係のため、装着台３２の切換えられた位置での広い
許容差が保証される。装着台の切換位置における変化の
影響は、切換ビームを図に符号３７で示すようにそれ自
体から横に平行にずれることである。リング状干渉縞は
、凹状反射鏡２９で集束されて発生するため、リング状
干渉縞の中心位置は、この横方向のずれに影響を受けな
い。

第２図および第３図のスイッチング配置は、２個の干渉
針の再結合ビームを一つの検出器に切換える手段を示し
ている。これは当業者には明らかであるように、２個以
上の干渉計を第２又は３図の連動スイッチにより結合し
、検出器に対する一つの再結合ビームを選別する。

マイケルソン干渉計を第１図に関して記載したが、平行
な再結合ビームを発生する他の既知の干渉計を使用でき
ることもちろんである。また、各干渉計の１アームの光
路長を変化させる手段にはアセンブリとして回転する１
対の平坦な平行反射鏡を使用することを説明した。さら
に、光路長を変化させる他の既知の方法を干渉計に使用
することができる。

干渉計および他の光路長変化装置の詳細に関しては、チ
ャツプマン　アンド　ホール社により１９６９年出版さ
れたジェー・エフ・ジェームスおよびアール・ニス・ス
ターンベルブ著の「ザ　デザイン　オブ　オプティカル
　スペクトロメーター」における第８章を参照され度い
。また、米国特許第４３８３７６２号明細書には、本発
明に使用することのできる光路長変化装置が幾つか記載
されている。

本発明を赤外線領域で作動するフーリエ変換干渉計に使
用することに関して以下に説明する。この赤外線領域に
おいて、個々のビームスプリッタ−は、利用し得る材料
の点、５０％透過および５０％反射を与えるフィルター
コーティングのデザインの点のため、その波長範囲が制
限される。有効な波長範囲、例えば４０００ｃｍ−’　
〜２０００ｃ＋＋＋−’を利用するためには、一対のビ
ームスプリッタ−がこの波長範囲の各部分をカバーする
必要がある。

第４図には本発明によるフーリエ変換干渉計を示す。干
渉計の光学部品を構体３９により相対位置に配置し且つ
支持し、この構体３９は一般に箱体状の形態とし、内壁
を有する。入力ビーム１２および１３を広帯域赤外線源
１により供給され、凹状の反射鏡２および３によりそれ
ぞれ平行にし、さらにダブル干渉計の残りの部分を第１
図につき説明したものとする。

第１図の干渉計の平坦な反射鏡６および１１を、係属中
の英国特許出願第８４１６２６３号に記載されたような
傾斜角度調節装置に装着する。これら調節装置の一つに
よって一平面における反射ビームを傾斜させ、他の調節
装置によって他の平面におけるそのビームを傾斜させる
。装置を製造中に組立てる場合に、前記調節装置は、再
結合ビーム３５を検出器２５に入射させて縞模様が中心
にくるように合わせるのに使用する。したがって、これ
ら調節装置は、上記係属出願明細書に記載された応力の
かからない状態で構体に対し適正位置に固定する。

移動支持台１を支持構体から離れた個所に装着したモー
タ１０２により回動させる。可視放射線の、例えば、ヘ
リウムネオンレーザ９０の補助ビーム１０６を干渉計の
１つの光路を通り供給して、別体の検出器９４に再結合
ビーム９３により干渉縞を形成する。

波形成形回路９６でこの検出器の出力を使用して、−波
長の間隔で発生するサンプリング瞬時信号を発生するか
、または、レーザ光源を小部分に分けて、光路長を変化
させる。これらサンプリング信号は、サンプリング瞬時
を制御し、この制御により、各瞬時で検出器２５の出力
をサンプリングしてコンピュータ９７の入力側に提供し
、例えば既知のクーレイ　ツーキイ　アルゴリズムに基
づくプログラムを使用してビーム３５のスペクトル９８
を計算する。加えて、移動支持台を駆動するモータ１０
２の速度をサンプリング瞬時信号に応答する制御回路１
０１により制御してサンプリング速度を一定に保持する
。

スイッチング配置から出た選択結合ビーム３５を、物質
のサンプル９５を通過させて、波長の関数である吸光度
を測定する。前記凹状集光反射鏡２９をレンズ素子とし
て図式的に表す。

実際の干渉計において、第１図の下側干渉計を、例えば
２，５μ〜２５μの短波長範囲に対し使用することがで
きる。その理由は、光学部品の位置が短波長でさらに臨
界的となり、この干渉計の結合ビームが反射鏡２９を直
接通過するためである。上側の切換えられた干渉計を例
えば２５μ〜５０μの長波長範囲に使用する。

製造工程として、下側干渉計をまず固定されたビーム反
転反射鏡６および１１を使用して組立て、検出器での縞
パターンの中心にビームを合わせる。

この作業のため、可視レーザの縞パターンを使用するこ
とができ、その後で、白色光の縞パターンの中心を見つ
け出すのに使用し、この縞パターンは、２個のアームの
光路長が台９の回転により等しくなる場合にだけ可視と
なる。次に、赤外線発生源を使用し、反射鏡６および１
１の最後の調整を行ない検出器の出力を最大とする。

次に、上側結合ビームをスイッチング配置を使用して選
択し、上側ビームスプリッタ４および反射鏡止め部材３
０を調節して、検出器２５の出力が最大となり、検出器
の長波長縞パターンを中心に合わせるようにする。

第２図または第３図に示すようなビームスイツチング配
置を使用して、第５図に示す２個の干渉計の他の入力側
に、２個の入力ビーム１２および１３を供給する。単一
凹状コリメータ反射鏡３を使用して入力ビーム４３を固
定された平坦な反射鏡４２およびヒンジ連結された平坦
な反射鏡４０を具えるスイッチング配置に供給する。反
射鏡４０が位１１ｉｆ４１に下げられている場合には、
入力ビーム４３は点線１３で示すように下側ビームスプ
リッタ−５まで直接に通過する。ヒンジ連結された反射
鏡４０を上方に４５°の角度に位置させると、入力ビー
ム４３は反射鏡４２を経て上側ビームスプリッタ−４に
到達する。

反射鏡４０および２６の動きは連動しており、これらは
共に下側に位置するか、または共にヒンジ連結されて上
側に位置するかの何れかであり、放射線は上側干渉計ま
たは下側干渉計の何れかを通過する。

第６図には、本発明の他の例を示しており、第１および
５図における部品と対応する部品には同一の符号を付し
て示す。放射線指向手段は、正方形断面を有する固定さ
れた垂直な柱５２に沿って矢印５１の方向に摺動自在で
あるＬ字形往復台５０を具え、この往復台５０は、矢印
５１の方向にのみｌ自由度を有する。サブビーム１４お
よび１６並びに再結合ビーム２３と矢印方向５１とは垂
直とする。往復台５０によって、ビーム１４および２３
に平行で、矢印方向５１に対し４５＠傾斜している平坦
な反射鏡５３の形態の入力反射素子を支持する。放射線
源１は垂直下向きに、矢印方向５１に平行に平行入力ビ
ームを発生し、このビームは、矢印方向５１の方向の相
互が上向きに整列する多数のビームスプリッタ４，５お
よび５５に向は水平に反射される。往復台５０はさらに
、ビーム１２および１６に平行で矢印方向５１と４５゜
傾斜する平面反射板５６の形態の出力反射素子を支持し
て、再結合ビーム２３を垂直下向きに反射し図面の明瞭
さのため省略した集束手段を経て検出器２５に入射させ
るようする。また、入力および出力反射素子をプリズム
とすることもできる。図に点線で示される往復台の下側
位置５７において、入力ビーム１３は上側位置のビーム
１２と平行であるが、それより下に位置しており、従っ
てビームスプリッター５に入射する。再結合ビーム２４
は、上側位置における再結合ビーム２３より下に位置す
るが、下側反射鏡５６で反射された後は、最初の光路３
５に沿って検出器に入射する。さらに、往復台が上側に
移動する場合には、ビームスプリッタ−５５を選択する
ことができる。さらに複数のビームスプリッタ−を重ね
て配置させることもでき、このときのビームスプリッタ
−の数は、ビーム直径、並びにサブビームを反射する平
面反射鏡６，１１および光路長変化装置を具える平行反
射鏡７．８の、最大実高値により制限される。

往復台５０の摺動運動は、放射線源１から反射鏡５３へ
の距離を増加し、これと同時に検出器２５から反射鏡５
６への距離を同じ量だけ減少させ、またこれと逆の場合
も同じである。したがって、放射線源および検出器の間
の光路長はビームスプリッタ−を変えても一定に保たれ
る。これにより放射線源から検出器への結像は一定とな
る利点がある。

放射線源は有限の大きさであるが、入力ビームはコリメ
ータレンズを通過した後はほとんど平行である。したが
って、検出器レンズでビームの幅は、この配置において
一定となる。これがため、検出器レンズを最小の大きさ
として任意のビームスプリッターから再結合ビーム全体
を受光し得るようにする。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の２重干渉計を示す線図的外観図、 第２図は、第１出力ビーム切換配置を示す線図、第３図
は、第２出力ビームスイツチング配置を示す線図、 第４図は、第１図の２重干渉計を用いてフーリエ変換赤
外線分光計を示す線図、 第５図は、２重干渉計の他の例を示す線図、第６図は、
多重干渉計を示す線図である。 １・・・広帯域放射線源 ２．３・・・コリメータ反射鏡 ４．５・・・ビームスプリッタ− ６・・・ビーム反転反射鏡 ７．８・・・平行平面反射鏡 ９・・・移動支持台 １０・・・軸 １１・・・ビーム反転反射鏡 １２、１３・・・入力ビーム １４〜１７・・・サブビーム ２３、２４・・・再結合ビーム ２５・・・検出器 ２６・・・ヒンジ止め平面反射鏡 ２８・・・固定平面反射鏡 ３８・・・包囲器

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、放射線源と、各々が放射線源のスペクトルの異なる
   部分で作動する複数のビームスプリッターと、放射線源
   からの放射線の入力ビームをビームスプリッターを経て
   案内して２個のサブビームを発生させ、各サブビームは
   個別の光路を通り、ビームスプリッターに戻る前に再結
   合ビームに形成される放射線指向手段と、２個のサブビ
   ーム光路の光路差を変化させる手段とを具える干渉計に
   おいて、前記ビームスプリッターを固定位置に配置し、
   前記放射線指向手段によって、再結合ビームを、選定し
   たビームスプリッターから出力側に通過させるようにし
   たことを特徴とする干渉計。 ２、前記放射線指向手段がさらに、各ビームスプリッタ
   ーに対し一つずつ個別の入力ビームを発生する手段を具
   えるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第１項
   記載の干渉計。 ３、前記放射線指向手段は、第１の再結合ビームが入射
   する第１固定反射鏡と、第２可動反射鏡とを具え、第２
   反射鏡を、第１反射鏡から反射される第１再結合ビーム
   を出力側に指向する第１位置と、第２再結合ビームを出
   力側に通す第２位置との間で移動自在となるようにした
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項または第２項記
   載の干渉計。 ４、前記放射線指向手段は、反射鏡ユニットを具え、こ
   の反射鏡ユニットは、一対の平面平行反射鏡を具え、こ
   の反射鏡の平面を相互に離間し、前記反射鏡ユニットを
   、一方の再結合ビームが反射鏡ユニットの各反射鏡によ
   り反射されて検出器への光路に出る第１の位置から、他
   方の再結合ビームが前記光路に沿って出力側に直接通る
   第２の位置へ、反射鏡の平面に平行な軸線を中心として
   回転自在とするようにしたことを特徴とする特許請求の
   範囲第１項または第２項記載の干渉計。 ５、前記個別入力ビームを発生する手段は、ビームスプ
   リッターのうちの選定した１つに単一入力ビームを向け
   る手段を具えるようにしたことを特徴とする特許請求の
   範囲第２項記載の干渉計。 ６、前記放射線指向手段は、入力反射素子と、出力反射
   素子を支持する移動台とを具え、該移動支持台を摺動部
   材に装着して複数の位置に移動自在とし、この複数の位
   置の各位置で放射線源からの放射線を選定ビームスプリ
   ッターに有効に指向するように前記入力反射素子を配置
   し、且つ再結合ビームを選定したビームスプリッターか
   ら出力側に有効に指向するように前記出力反射素子を配
   置するようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第１
   項記載の干渉計。 ７、前記移動支持台をビームスプリッターの平面と平行
   な方向に摺動自在とし、入力および出力反射素子を移動
   支持台の移動方向に対し４５°の角度となるようにし、
   入力ビームおよび反射され再結合されたビームを移動支
   持台の移動方向と平行に延在させるようにしたことを特
   徴とする特許請求の範囲第６項記載の干渉計。 ８、各ビームスプリッターからのサブビームは、光路長
   差を変化させる共通手段を共有するようにしたことを特
   徴とする特許請求の範囲第１項乃至第７項の何れかに記
   載の干渉計。 ９、前記ビームスプリッターからの第１サブビームがビ
   ームスプリッターにもどる前に一定の光路長を通り、ビ
   ームスプリッターからの第２サブビームが、ビームスプ
   リッターにもどる前に共通の光路長変化装置を経て光路
   を通るようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第８
   項記載の干渉計。 １０、前記共通の光路長変化装置は、剛固に且つ相互に
   結合されてアセンブリを形成する複数の平面反射鏡と、
   第２サブビームを前記反射鏡アセンブリのうちの第１反
   射鏡に向ける手段とを具え、複数の平面反射鏡はこれら
   を、適宜装着して、第２サブビームが複数の反射鏡の各
   々からの反射によりこのアセンブリを通りアセンブリの
   第１反射鏡に入射する方向に平行且つ同一の方向にアセ
   ンブリから出るようにし、さらに光路長変化装置は、第
   ２サブビームの反射鏡に入射する角度を変えるように軸
   線を中心として前記アセンブリを回転しこれにより、第
   ２サブビームの光学的光路長を変化させるようにする手
   段を具えるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲
   第９項記載の干渉計。 １１、ビーム反転平面反射鏡を光路内に第２サブビーム
   の出射方向に直角に設け、これにより出射した第２サブ
   ビームが、反射鏡アセンブリを経てビームスプリッター
   に到る光路を通るようにしたことを特徴とする特許請求
   の範囲第１０項記載の干渉計。 １２、前記反射鏡アセンブリは、一対の平行平面反射鏡
   を具え、これら反射鏡の平面を相互に離間させ、これら
   反射鏡を回転軸に平行に延在させて、第２サブビーム全
   てを受光するようにしたことを特徴とする特許請求の範
   囲第１０項または第１１項記載の干渉計。 １３、前記回転軸を一対の平面反射鏡の反射鏡表面にほ
   ぼ平行となるようにしたことを特徴とする特許請求の範
   囲第１２項記載の干渉計。 １４、前記入力ビームを相互に平行とし、サブビームを
   相互に平行とし、且つ再結合されたビームを相互に平行
   とし、さらに、第１のビーム反転共通平面反射鏡を第１
   サブビームに対し配設し、第２のビーム反転共通反射鏡
   を第２ビームに対し配設するようにしたことを特徴とす
   る特許請求の範囲第１３項記載の干渉計。 １５、選定された再結合ビームを検出器に集束する手段
   を設けるようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第
   １項乃至第１４項の何れかに記載の干渉計。 １６、特許請求の範囲第１５項記載の干渉計を有し、検
   出器の出力信号を選定されたサブビームの光路差の変動
   の関数として処理して、放射線のスペクトルを得る手段
   を具えてなるフーリエ変換分光計。 １７、前記干渉計を、熱絶縁性キャビネット内に浮遊さ
   せた支持構体に、装着するようにしたことを特徴とする
   特許請求の範囲第１６項記載のフーリエ変換分光計。