JPS6137761A - ポリアルキル芳香族ポリスルホン酸を製造し、重い相の分離によりこれを回収する方法 - Google Patents
ポリアルキル芳香族ポリスルホン酸を製造し、重い相の分離によりこれを回収する方法Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［発明の技術分野］
本発明はポリスルホン化有機化合物（ｐｏ＋ｙｓｕ＋ｔ
’ｏｎａｔｅｄ ｏｒｇａｎｉｃ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ
）の製造方法に関し、特に、芳香族化合物と硫酸を液相
反応させることによってポリスルホン酸を製造する方法
、および優先的水溶性（ｐｒｅｆｅｒｅｎｔｉａｌ ｗ
ａｔｅｒ ５ｏｌｕｂｉｌｉｔｙ ）であるスルホン酸
を、重い相（ｈｅａｖｙ ｐｈａｓｅ ）から回収する
新規な多湘液液抽出（−ｕｌｔｉ−ｐｈａｓｅ ｌ１ｑ
ｕｉｄ−ｌｉｑｕｉｄ ｅＸｔｒ’ａｃｔｉｏｎ）の方
法に関する。
’ｏｎａｔｅｄ ｏｒｇａｎｉｃ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ
）の製造方法に関し、特に、芳香族化合物と硫酸を液相
反応させることによってポリスルホン酸を製造する方法
、および優先的水溶性（ｐｒｅｆｅｒｅｎｔｉａｌ ｗ
ａｔｅｒ ５ｏｌｕｂｉｌｉｔｙ ）であるスルホン酸
を、重い相（ｈｅａｖｙ ｐｈａｓｅ ）から回収する
新規な多湘液液抽出（−ｕｌｔｉ−ｐｈａｓｅ ｌ１ｑ
ｕｉｄ−ｌｉｑｕｉｄ ｅＸｔｒ’ａｃｔｉｏｎ）の方
法に関する。
［発明の技術的背Ｉｌｌ
スルホン化剤、しばしば芳香族化合物に、通常２０％オ
レウムすなわち８０９２０％、１−１２８’０４８０％
の混合物のかたちの硫酸を反応させて製造することが好
ましい。この反応では多くの場合、２種類以上のスルホ
ン酸が生成する。
レウムすなわち８０９２０％、１−１２８’０４８０％
の混合物のかたちの硫酸を反応させて製造することが好
ましい。この反応では多くの場合、２種類以上のスルホ
ン酸が生成する。
このスルホン酸の少なくとも１種類は優先的油溶性であ
り、それ以外の少なくとも１種類は優先的水溶性である
。キングとシルク（Ｋ ｉｎｇａｎｄＴｈｌｅｌｃｋｅ
）の米国特許第２．７６４．５４８号明細書に、ジノ
ニルナフタレンモノスルホン酸の製造方法が記されてい
る。この宅ノスルホン酸塩は油類に対して比較的高い溶
解性を有し、またこの塩からは、異常なほど高いさび抑
制効果を有する化合物を作ることができる。上記明細書
には、ジノニルナフタレンを硫酸でスルホン化すると、
ジノニルナフタレンのジスルホン酸も生成すること、お
よびこのジスルホン酸は水性の相に蓄積され、この水性
相は後に分離廃棄されることが記されている。通常の工
業的条件では、主にモノスルホン酸が生成するため、ジ
スルホン酸は副生成物として扱われ捨てられている。
り、それ以外の少なくとも１種類は優先的水溶性である
。キングとシルク（Ｋ ｉｎｇａｎｄＴｈｌｅｌｃｋｅ
）の米国特許第２．７６４．５４８号明細書に、ジノ
ニルナフタレンモノスルホン酸の製造方法が記されてい
る。この宅ノスルホン酸塩は油類に対して比較的高い溶
解性を有し、またこの塩からは、異常なほど高いさび抑
制効果を有する化合物を作ることができる。上記明細書
には、ジノニルナフタレンを硫酸でスルホン化すると、
ジノニルナフタレンのジスルホン酸も生成すること、お
よびこのジスルホン酸は水性の相に蓄積され、この水性
相は後に分離廃棄されることが記されている。通常の工
業的条件では、主にモノスルホン酸が生成するため、ジ
スルホン酸は副生成物として扱われ捨てられている。
しかし実はポリアルキル芳香族ポリスルホン酸、特にア
ルキルナフタレンポリスルホン酸及びその誘導体は、界
面活性剤や触媒として非常に有効である。特にジノニル
ナフタレンジスルホン酸（略してＤＮＮＤＳＡ）は、メ
ラミンホルムアルデヒド樹脂に基づくコーティングの製
造における触媒として商業的に重要である。その用法は
り、Ｖ。
ルキルナフタレンポリスルホン酸及びその誘導体は、界
面活性剤や触媒として非常に有効である。特にジノニル
ナフタレンジスルホン酸（略してＤＮＮＤＳＡ）は、メ
ラミンホルムアルデヒド樹脂に基づくコーティングの製
造における触媒として商業的に重要である。その用法は
り、Ｖ。
ギヤラヒャ−（Ｇａｌｌａｃｈｅｒ）の米国特許第３．
９７９，４７８号明細書や、Ｌ、Ｊ、カルボ（ｃａｌｂ
ｏ）らの第４．２００．７２９号明細書に開示されてい
る。
９７９，４７８号明細書や、Ｌ、Ｊ、カルボ（ｃａｌｂ
ｏ）らの第４．２００．７２９号明細書に開示されてい
る。
ＤＮＮＤＳＡは、前記の特許第２．７６４，５４８号明
細書においてジノニルナフタレンスルホン酸の生成反応
の副生成物として報告されている。
細書においてジノニルナフタレンスルホン酸の生成反応
の副生成物として報告されている。
この特許ではバッチ法で水洗浄することによって、モノ
スルホン酸生成物から、ジスルホン酸および硫酸を分離
除去している。シルクはこれに続いて米国特許第３．９
４７．８５９号明細書において、スルホン酸類を含む炭
化水素の相の中からＤＮＮＤＳＡを回収するための連続
操作工程を示している。その方法では、初めに多段カラ
ムで水により向流抽出を行ない、続いて第２の多段階カ
ラムで高級アルカノールにより上記水溶液の自流抽出を
行なう。
スルホン酸生成物から、ジスルホン酸および硫酸を分離
除去している。シルクはこれに続いて米国特許第３．９
４７．８５９号明細書において、スルホン酸類を含む炭
化水素の相の中からＤＮＮＤＳＡを回収するための連続
操作工程を示している。その方法では、初めに多段カラ
ムで水により向流抽出を行ない、続いて第２の多段階カ
ラムで高級アルカノールにより上記水溶液の自流抽出を
行なう。
（以後の記述では、ＤＮＮＤＳＡという言葉は、ジノニ
ルナフタレンジスルホン酸だけでなく、モノノニルナフ
タレンジスルホン酸やトリノニルナフタレンジスルホン
酸を少量含んだジノニルナフタレンスルホン酸の混合物
をも指すものとする。）これらの従来技術は、比較的低
濃度のＤＮＮＤＳＡ（ジノニルナフタレンモノスルホン
酸の１〜１０％程度）を含む粗スルホン酸からＤＮＮＤ
ＳＡを回収するには効果があるが、０ＮＮＤ８Ａを高濃
度に含んだ粗スルホン酸からＤＮＮＤＳＡを＾収率で得
るのに適当な方法ではない。
ルナフタレンジスルホン酸だけでなく、モノノニルナフ
タレンジスルホン酸やトリノニルナフタレンジスルホン
酸を少量含んだジノニルナフタレンスルホン酸の混合物
をも指すものとする。）これらの従来技術は、比較的低
濃度のＤＮＮＤＳＡ（ジノニルナフタレンモノスルホン
酸の１〜１０％程度）を含む粗スルホン酸からＤＮＮＤ
ＳＡを回収するには効果があるが、０ＮＮＤ８Ａを高濃
度に含んだ粗スルホン酸からＤＮＮＤＳＡを＾収率で得
るのに適当な方法ではない。
ジノニルナフタレンのスルホン化に基づいて粗スルホン
酸中のＤＮＮＤＳＡの割合を多くするためには、生成物
中のジスルホン化の割合を増加させるため、スルホン化
剤のジノニルナフタレンに対する比率を大きくする必要
がある。これは種々の反応剤を使用する多くの方法によ
って達成することができる。例えば、ジノニルナフタレ
ンの炭化水素溶液を２０％オレウムで処理することによ
り、また連続反応器内でジノニルナフタレンに三酸化硫
黄と空気の混合物を接触させたりすることによって達成
される。本発明は決してＤＮＮＤＳＡを比較的高濃度に
含む粗スルホン酸を得るための方法を制限するものでは
ない。
酸中のＤＮＮＤＳＡの割合を多くするためには、生成物
中のジスルホン化の割合を増加させるため、スルホン化
剤のジノニルナフタレンに対する比率を大きくする必要
がある。これは種々の反応剤を使用する多くの方法によ
って達成することができる。例えば、ジノニルナフタレ
ンの炭化水素溶液を２０％オレウムで処理することによ
り、また連続反応器内でジノニルナフタレンに三酸化硫
黄と空気の混合物を接触させたりすることによって達成
される。本発明は決してＤＮＮＤＳＡを比較的高濃度に
含む粗スルホン酸を得るための方法を制限するものでは
ない。
本発明の目的は、ＤＮＮＤＳＡとジノニルナフタレンモ
ノスルホン酸と硫酸と炭化水素溶媒とを含む粗スルホン
酸混合物から、高純度のＤＮＮＤＳＡを分離するための
新しい方法を提供することである。
ノスルホン酸と硫酸と炭化水素溶媒とを含む粗スルホン
酸混合物から、高純度のＤＮＮＤＳＡを分離するための
新しい方法を提供することである。
０ＮＮＤＳＡと、ジノニルナフタレンモノスルホン酸と
、少量溶は込んだ硫酸と炭化水素溶媒とを含む粗スルホ
ン酸混合物を、はぼ１／２倍容量の水と混合し約５０〜
９０℃に加熱すると、この混合物は３つの液相に分離す
ることが見出された。
、少量溶は込んだ硫酸と炭化水素溶媒とを含む粗スルホ
ン酸混合物を、はぼ１／２倍容量の水と混合し約５０〜
９０℃に加熱すると、この混合物は３つの液相に分離す
ることが見出された。
この３相系の最下相はモノスルホン酸と溶媒を含む有機
相であり、中間相は水中に硫酸を含む相であり、そして
最下相は主にＤＮＮＤＳＡと水を含む相である。驚いた
ことに好ましい具体例では最下相であるＤＮＮＤＳＡ相
に、供給物における全ＤＮＮＤＳＡの約半分以上が、水
中にＤＮＮＤＳＡｍ度約５０％で含まれる。この最下相
には硫酸や炭化水素はほとんど存在しない。したがって
この最下相を容易に分離し、これを直接処理することに
よって高品質のＤＮＮＤＳＡ濃縮物またはＤＮＮＤＳＡ
製品を得ることができる。
相であり、中間相は水中に硫酸を含む相であり、そして
最下相は主にＤＮＮＤＳＡと水を含む相である。驚いた
ことに好ましい具体例では最下相であるＤＮＮＤＳＡ相
に、供給物における全ＤＮＮＤＳＡの約半分以上が、水
中にＤＮＮＤＳＡｍ度約５０％で含まれる。この最下相
には硫酸や炭化水素はほとんど存在しない。したがって
この最下相を容易に分離し、これを直接処理することに
よって高品質のＤＮＮＤＳＡ濃縮物またはＤＮＮＤＳＡ
製品を得ることができる。
さらにこの方法は、ジドデシルナフタレンジスルホン酸
など種々のポリアルキル芳香族ポリスルホン酸の製造に
広〈実施することができること、そしてこれらの価値あ
る生成物も高純度かつ高収率で得られることが見出され
た。
など種々のポリアルキル芳香族ポリスルホン酸の製造に
広〈実施することができること、そしてこれらの価値あ
る生成物も高純度かつ高収率で得られることが見出され
た。
［発明の概要］
本発明は、その広い見地によると、少なくとも１種類の
ポリアルキル芳香族ポリスルホン酸をより高収率で製造
するための１、下記の工程（ａ）〜（ｄ）を含む方法を
提供する。： （ａ）ポリアルキル芳香族化合物の少なくとも１種類と
、硫酸と、水に対して非混和性であり比重が約１．０未
満である不活性な希釈剤との混合物を撹拌する工程、 （ｂ）上記混合物を複数の液相に分離させ、この相の１
つである反応済の酸（ｓｐｅｎｔ ａｃｉｄ）の相を流
出させる工程、 （ｃ）実質的にポリアルキル芳香族ポリスルホン酸と水
とを含む相を最下相とする３つの相が生成するような分
量の水を、上記工程で残存した相に添加する工程、 （ｄ）上記最下相を分離する工程。
ポリアルキル芳香族ポリスルホン酸をより高収率で製造
するための１、下記の工程（ａ）〜（ｄ）を含む方法を
提供する。： （ａ）ポリアルキル芳香族化合物の少なくとも１種類と
、硫酸と、水に対して非混和性であり比重が約１．０未
満である不活性な希釈剤との混合物を撹拌する工程、 （ｂ）上記混合物を複数の液相に分離させ、この相の１
つである反応済の酸（ｓｐｅｎｔ ａｃｉｄ）の相を流
出させる工程、 （ｃ）実質的にポリアルキル芳香族ポリスルホン酸と水
とを含む相を最下相とする３つの相が生成するような分
量の水を、上記工程で残存した相に添加する工程、 （ｄ）上記最下相を分離する工程。
本発明は、その好ましい面では、少なくとも１種類のポ
リアルキル芳香族ポリスルホン酸をより高収率で製造す
るための、下記の工程を含む二回スルホン化（ｄｅａｌ
−８ｕｌｆｏｎａｔｉｏｎ）法を提供する。＝（ａ）ポ
リアルキル芳香族化合物の少なくとも１種類と、硫酸と
、水に対して非混和性であり比重が約１．０未満である
不活性な希釈剤との混合物を撹拌する工程、 （ｂ）上記混合物を複数の液相に分離させ、この相の１
つである反応済の酸の相を流出させる工程、（ｃ）上記
工程で残留した相に硫酸を添加し、得られた混合物を撹
拌する工程、 （ｄ）上記混合物を複数の液相に分離させ、この相の１
つである反応済の酸の相を流出させる工程、（ｅ）実質
的にポリアルキル芳香族ポリスルホン酸と水とを含む相
を最下相とする３つの相が生成するような分ｌの水を、
上記工程で残存した相に添加する工程、 （ｆ）上記最下相を分離する工程。
リアルキル芳香族ポリスルホン酸をより高収率で製造す
るための、下記の工程を含む二回スルホン化（ｄｅａｌ
−８ｕｌｆｏｎａｔｉｏｎ）法を提供する。＝（ａ）ポ
リアルキル芳香族化合物の少なくとも１種類と、硫酸と
、水に対して非混和性であり比重が約１．０未満である
不活性な希釈剤との混合物を撹拌する工程、 （ｂ）上記混合物を複数の液相に分離させ、この相の１
つである反応済の酸の相を流出させる工程、（ｃ）上記
工程で残留した相に硫酸を添加し、得られた混合物を撹
拌する工程、 （ｄ）上記混合物を複数の液相に分離させ、この相の１
つである反応済の酸の相を流出させる工程、（ｅ）実質
的にポリアルキル芳香族ポリスルホン酸と水とを含む相
を最下相とする３つの相が生成するような分ｌの水を、
上記工程で残存した相に添加する工程、 （ｆ）上記最下相を分離する工程。
［詳細な構成］
スルホン化反応の当業者にとっては、多くの芳香族有機
基体が優先的油溶性（有機炭化水素またはこれに準する
ものによって抽出可能）のスルホン酸及び優先的水溶性
のスルホン酸になることが良く知られている。これらの
芳香族有機基体とは、ベンゼンや、アルキルベンゼン、
トルエン、キシレン、ポリアルキルベンゼン、高級アル
キルモノ、ジ、ポリ置換ベンゼン類、等のベンゼン同族
体、さらにこれらに対応するナフタレン化合物などであ
る。上記優先的油溶性のスルホン酸と優先的水溶性のス
ルホン酸は、本発明の広い見地のもとで互いに分離され
る。もちろん充分な数の環位置（ｒｉｎｏ ｐｏｓｉＮ
ｏｎ ）が、スルホン化部位を提供するため置換されな
いで芳香族核上に残っていることは当然である。Ｏまた
は１個の芳香族炭素−水素基をもつポリアルキル芳香族
は基体として不適当である。基体の分子量は約３５０以
上が好ましい。
基体が優先的油溶性（有機炭化水素またはこれに準する
ものによって抽出可能）のスルホン酸及び優先的水溶性
のスルホン酸になることが良く知られている。これらの
芳香族有機基体とは、ベンゼンや、アルキルベンゼン、
トルエン、キシレン、ポリアルキルベンゼン、高級アル
キルモノ、ジ、ポリ置換ベンゼン類、等のベンゼン同族
体、さらにこれらに対応するナフタレン化合物などであ
る。上記優先的油溶性のスルホン酸と優先的水溶性のス
ルホン酸は、本発明の広い見地のもとで互いに分離され
る。もちろん充分な数の環位置（ｒｉｎｏ ｐｏｓｉＮ
ｏｎ ）が、スルホン化部位を提供するため置換されな
いで芳香族核上に残っていることは当然である。Ｏまた
は１個の芳香族炭素−水素基をもつポリアルキル芳香族
は基体として不適当である。基体の分子量は約３５０以
上が好ましい。
上記の工程（ａ）の実施に当たっては、硫酸、オレウム
、三酸化硫黄と空気、またはこの他の均等物（ｅｑｕｉ
ｖａｌｅｎｔ）と混合することによってスルホン化する
ことのできるポリアルキル芳香族化合物を使用すること
ができる。好ましい具体例では、ポリアルキル芳香族化
合物としてナフタレン化合物を用いることが考えられる
。また別の好ましい具体例においては、ポリアルキル芳
香族化合物のアルキル基は、オクチル、ノニル、デシル
、ウンデシル及びドデシル、またはこれらの組合わせの
中から選択し、ざらに分枝の多いアルキル基をが好まし
い。より好ましい具体例では、ポリアルキル芳香族化合
物は、ジノニルナフタレンまたはジドデシルナフタレン
からなる群から選ばれ、特に最も好ましいのは枝分れの
多いノニル基を有する置換ナフタレン類である。
、三酸化硫黄と空気、またはこの他の均等物（ｅｑｕｉ
ｖａｌｅｎｔ）と混合することによってスルホン化する
ことのできるポリアルキル芳香族化合物を使用すること
ができる。好ましい具体例では、ポリアルキル芳香族化
合物としてナフタレン化合物を用いることが考えられる
。また別の好ましい具体例においては、ポリアルキル芳
香族化合物のアルキル基は、オクチル、ノニル、デシル
、ウンデシル及びドデシル、またはこれらの組合わせの
中から選択し、ざらに分枝の多いアルキル基をが好まし
い。より好ましい具体例では、ポリアルキル芳香族化合
物は、ジノニルナフタレンまたはジドデシルナフタレン
からなる群から選ばれ、特に最も好ましいのは枝分れの
多いノニル基を有する置換ナフタレン類である。
前述のように、この明細書で使用する硫酸という言葉は
、オレウム、８０３と空気、その他これに準するものを
含む。スルホン化剤としての酸の量および／または濃度
は広い範囲にわたって使用できるが、活性スルホン化剤
とポリアルキル芳香族化合物とのモル比率が、少なくと
も１．１：１を満たす量であることが好ましい。このモ
ル比は１．５：１から約２．５：１の範囲であるのが好
ましい。単一のスルホン化反応の時、最低モル比は約１
．３：１以上とする。
、オレウム、８０３と空気、その他これに準するものを
含む。スルホン化剤としての酸の量および／または濃度
は広い範囲にわたって使用できるが、活性スルホン化剤
とポリアルキル芳香族化合物とのモル比率が、少なくと
も１．１：１を満たす量であることが好ましい。このモ
ル比は１．５：１から約２．５：１の範囲であるのが好
ましい。単一のスルホン化反応の時、最低モル比は約１
．３：１以上とする。
上記工程（ａ）、また好ましい具体例において選択的に
工程（ｃ）において行なわれるスルホン化工程では、ポ
リアルキル芳香族ナフタレン化合物は溶媒に溶解されて
いる。この溶媒は反応条件下で硫酸のようなスルホン化
剤と好ましくない反応を起こす芳香族類またはオレフィ
ン類を実質的に含まないものを用いる。このようにスル
ホン化反応中にポリアルキル芳香族化合物用の溶媒を使
用するのは、反応を液相状態に維持するのに必要なこと
である。これによってスルホン化反応の間、スルホン化
用の酸と基体のナフタレンを完全に混合することができ
る。スルホン化の後に存在する溶媒の量が充分であると
、ポリスルホン酸は液状に保たれ、相分離によって、こ
のポリアルキル芳香族ポリスルホン酸を含む溶媒相から
反応済の酸を分離することができる。
工程（ｃ）において行なわれるスルホン化工程では、ポ
リアルキル芳香族ナフタレン化合物は溶媒に溶解されて
いる。この溶媒は反応条件下で硫酸のようなスルホン化
剤と好ましくない反応を起こす芳香族類またはオレフィ
ン類を実質的に含まないものを用いる。このようにスル
ホン化反応中にポリアルキル芳香族化合物用の溶媒を使
用するのは、反応を液相状態に維持するのに必要なこと
である。これによってスルホン化反応の間、スルホン化
用の酸と基体のナフタレンを完全に混合することができ
る。スルホン化の後に存在する溶媒の量が充分であると
、ポリスルホン酸は液状に保たれ、相分離によって、こ
のポリアルキル芳香族ポリスルホン酸を含む溶媒相から
反応済の酸を分離することができる。
反応済の酸の分離を可能にするために、上記のような物
理的、化学的性質を有するほか、比重が約１．０未満の
希釈剤を選ぶべきである。この溶剤の比重は約０．７〜
０．８であることが好ましい。スルホン化反応において
ほとんどのポリアルキル芳香族化合物のより好ましい希
釈剤は、石油ナフサ、ヘキサン、ヘプタン、オクタンま
たはこれらの混合物である。
理的、化学的性質を有するほか、比重が約１．０未満の
希釈剤を選ぶべきである。この溶剤の比重は約０．７〜
０．８であることが好ましい。スルホン化反応において
ほとんどのポリアルキル芳香族化合物のより好ましい希
釈剤は、石油ナフサ、ヘキサン、ヘプタン、オクタンま
たはこれらの混合物である。
ポリアルキル芳香族化合物用の希釈剤の比重が小さいほ
ど、有機相と反応済の酸の相との分離を簡単にそして完
全に行なうことができる。
ど、有機相と反応済の酸の相との分離を簡単にそして完
全に行なうことができる。
相分離させて反応済の酸の相を流出した後、３つの相が
形成されるのに充分な量の水を加える。
形成されるのに充分な量の水を加える。
この３相系は、反応済の酸の相を流出した後に残される
単一の有機相、すなわち、希釈と、モノおよびポリスル
ホン酸類、分離されなかった少量の硫酸、不純物、そし
て反応副生成物を含む有機相に水を加えることによって
生じる。
単一の有機相、すなわち、希釈と、モノおよびポリスル
ホン酸類、分離されなかった少量の硫酸、不純物、そし
て反応副生成物を含む有機相に水を加えることによって
生じる。
理論によって拘束されることを意図するものではないが
、水は少なくとも数種類の作用を果たしているように思
われる。第１に水は大部分のポリスルホン酸生成物を、
おそらく水和物の形で抽出する。第２に、水は少量の残
留した硫酸を抽出し、また、オレウムまたは空気／ＳＯ
ｓの場合は、残留した三酸化硫黄を硫酸として溶解させ
る。充分な量の水を加えると、この水によって実質的に
硫酸溶液からなる中間相と、実質的にポリスルホン酸を
含む実質的に水性の最下相とが形成される。
、水は少なくとも数種類の作用を果たしているように思
われる。第１に水は大部分のポリスルホン酸生成物を、
おそらく水和物の形で抽出する。第２に、水は少量の残
留した硫酸を抽出し、また、オレウムまたは空気／ＳＯ
ｓの場合は、残留した三酸化硫黄を硫酸として溶解させ
る。充分な量の水を加えると、この水によって実質的に
硫酸溶液からなる中間相と、実質的にポリスルホン酸を
含む実質的に水性の最下相とが形成される。
このような相分離は、加える水の量を、有機相に残った
未分離の硫酸が水に抽出されて約７％硫酸水溶液となる
ような量とすることによって達成される。硫酸溶液がこ
の濃度またはこれ以上の濃度である場合、ポリスルホン
酸のこの硫酸相への溶解性が抑制されるのでその結、果
として、この酸はより重い実質的に水性の最下相にさら
に濃縮されるようになる。しかし有機相から抽出される
硫酸の量が、約１２％以上の濃度の硫酸溶液を形成する
ような量であると、この硫酸溶液は、ジおよびポリスル
ホン酸を含む実質的に水性の溶液よりも重くなって最下
相となってしまうか、または、ポリスルホン酸を含む実
質的に水性の相と分離しなくなってしまう。したがって
３相系生成工程における水の添加量は、中勤相の硫酸濃
度が約７〜約１２％となるようにすることが望ましい。
未分離の硫酸が水に抽出されて約７％硫酸水溶液となる
ような量とすることによって達成される。硫酸溶液がこ
の濃度またはこれ以上の濃度である場合、ポリスルホン
酸のこの硫酸相への溶解性が抑制されるのでその結、果
として、この酸はより重い実質的に水性の最下相にさら
に濃縮されるようになる。しかし有機相から抽出される
硫酸の量が、約１２％以上の濃度の硫酸溶液を形成する
ような量であると、この硫酸溶液は、ジおよびポリスル
ホン酸を含む実質的に水性の溶液よりも重くなって最下
相となってしまうか、または、ポリスルホン酸を含む実
質的に水性の相と分離しなくなってしまう。したがって
３相系生成工程における水の添加量は、中勤相の硫酸濃
度が約７〜約１２％となるようにすることが望ましい。
別の好ましい具体例では、加える水の量は、反応済の酸
を流出させた後に残される有機相の全容積の約０．４倍
から約０．６倍の量とする。
を流出させた後に残される有機相の全容積の約０．４倍
から約０．６倍の量とする。
前述したように、最も好ましい具体例では、工程（ｂ）
で相分離させ反応済の酸を流出させた後に残った有機相
に、再び硫酸を加えて撹拌する、すなわち二回処理を行
なう。こうして再度硫酸を加えて生じる混合物を撹拌し
た後の、この方法の残りの工程は実質的に変わらない。
で相分離させ反応済の酸を流出させた後に残った有機相
に、再び硫酸を加えて撹拌する、すなわち二回処理を行
なう。こうして再度硫酸を加えて生じる混合物を撹拌し
た後の、この方法の残りの工程は実質的に変わらない。
この二回処理法は、ポリスルホン酸の収率を特に向上さ
せる。
せる。
本質的なことではないが、重い相（工程（ｅ）と（ｆ）
）の濃度は、この最下相におけるポリアルキル芳香族ポ
リスルホン酸が固化しないように充分に高く維持するこ
とが好ましい。この温度は物質の性質によって決まるが
、一般には、穏やかな温度たとえば大体５５℃〜７５℃
であり、６０〜７０℃が好ましい。
）の濃度は、この最下相におけるポリアルキル芳香族ポ
リスルホン酸が固化しないように充分に高く維持するこ
とが好ましい。この温度は物質の性質によって決まるが
、一般には、穏やかな温度たとえば大体５５℃〜７５℃
であり、６０〜７０℃が好ましい。
ポリスルホン酸は多くの方法で回収することができ、そ
の方法は通常生成物の最終用途により決められる。一つ
の方法では、重い相の濃縮物を２０％カセイソーダ水溶
液の添加により直接中和し、界面活性特性を有する組成
物を形成する。あるいは低級脂肪族アルコールを加えて
、アミノ樹脂のための触媒として有用な組成物を生成さ
せてもよい。
の方法は通常生成物の最終用途により決められる。一つ
の方法では、重い相の濃縮物を２０％カセイソーダ水溶
液の添加により直接中和し、界面活性特性を有する組成
物を形成する。あるいは低級脂肪族アルコールを加えて
、アミノ樹脂のための触媒として有用な組成物を生成さ
せてもよい。
［好ましい具体例］
図面において、スルホン化反応器２には、撹拌装置、冷
却および加熱用のコイル、及び、適当な希釈剤とポリア
ルキル芳香族化合物との混合物を導入する導管４、さら
に希釈剤を加えるための導管６、硫酸を入れるための導
管８が設けられている。一つの方法として、初めにポリ
アルキル芳香族化合物、溶液を導入し、次いで適当量の
硫酸を入れる。そしてこの混合物を１０℃〜６５℃、好
ましくは２５℃〜５５℃の温度で１〜３時間、撹拌して
スルワン化反応がほぼ終了するまで反応させる。
却および加熱用のコイル、及び、適当な希釈剤とポリア
ルキル芳香族化合物との混合物を導入する導管４、さら
に希釈剤を加えるための導管６、硫酸を入れるための導
管８が設けられている。一つの方法として、初めにポリ
アルキル芳香族化合物、溶液を導入し、次いで適当量の
硫酸を入れる。そしてこの混合物を１０℃〜６５℃、好
ましくは２５℃〜５５℃の温度で１〜３時間、撹拌して
スルワン化反応がほぼ終了するまで反応させる。
撹拌を止めてこの混合物を静置すると、有機相と反応済
の酸を含む下相との２相に相分離するの′で、この酸の
相をたとえば導管１２を通して、反応済の酸捕集用゛の
槽に（図示せず）に流出さ゛せる。
の酸を含む下相との２相に相分離するの′で、この酸の
相をたとえば導管１２を通して、反応済の酸捕集用゛の
槽に（図示せず）に流出さ゛せる。
この時、導管８を用いて第２添加量の硫酸を加える。こ
の硫酸の第２添加は行なわなくてもよいが、行なうこと
が好ましい。第２の硫酸添加を行なった後は、撹拌工程
と流出工程を繰返す。
の硫酸の第２添加は行なわなくてもよいが、行なうこと
が好ましい。第２の硫酸添加を行なった後は、撹拌工程
と流出工程を繰返す。
硫酸のスルホン化添加と流出除去を終えた後、好ましく
は導管１４を通して有機相を静置、洗浄用のタンク１６
へ移した優、導管１７を通して後述する適量の水を加え
、この水／有機混合物をタンク１８内で撹拌する。撹拌
を止めると、この混合物は直ちに前述のように３相に分
離するので、導管１８から重い最下相を取出して生成物
貯蔵器２０に流し込む。
は導管１４を通して有機相を静置、洗浄用のタンク１６
へ移した優、導管１７を通して後述する適量の水を加え
、この水／有機混合物をタンク１８内で撹拌する。撹拌
を止めると、この混合物は直ちに前述のように３相に分
離するので、導管１８から重い最下相を取出して生成物
貯蔵器２０に流し込む。
以下の例は限定するためのものではないが、当業者に知
られた適当な装置を使用して、実験室規模およびプラン
ト規模で行なった。そして以下に述べ、かつ表にまとめ
たような結果を得た。
られた適当な装置を使用して、実験室規模およびプラン
ト規模で行なった。そして以下に述べ、かつ表にまとめ
たような結果を得た。
［
実験室用フラスコ内で、ジノニルナフタフタレンの４８
重量％ヘプタン溶液３１６Ｑを、２０％オレウムで２回
（１回当たり１１３Ｇ）処理した。
重量％ヘプタン溶液３１６Ｑを、２０％オレウムで２回
（１回当たり１１３Ｇ）処理した。
添加は、それぞれ約１．５時間かけた。反応中の温度は
、開始時の２６℃から、第１添加の終了時の最高３７℃
の範囲であった。オレウムの第１添加を完了した後、反
応済の酸を流出させ捕集した。
、開始時の２６℃から、第１添加の終了時の最高３７℃
の範囲であった。オレウムの第１添加を完了した後、反
応済の酸を流出させ捕集した。
オレウムの第２添加完了後、最初の半分の反応済の酸を
再び反応フラスコの内容物に混ぜ、それからこの混合物
全体を水１１ｍ℃で処理した。そして静置して反応済の
酸を沈ませ、この反応済の酸２０５Ｑを取り出し、ヘプ
タン中の粗スルホン酸３３７Ｑが残った。
再び反応フラスコの内容物に混ぜ、それからこの混合物
全体を水１１ｍ℃で処理した。そして静置して反応済の
酸を沈ませ、この反応済の酸２０５Ｑを取り出し、ヘプ
タン中の粗スルホン酸３３７Ｑが残った。
この粗生成物を７１℃に加熱し、予めこれと同温度に加
熱しておいた水３７５Ｑを加え、混合した。この混合物
は速やかに３相に分離した。この３相系の最上相は有機
相、中間相は水性相、最下相は暗色粘性の相である。こ
の最下相５３．２Ｇを回収し、滴定したところ、ＤＮＮ
ＤＳＡｉ１度は４８％であった。この重い相は冷却によ
り固化した。
熱しておいた水３７５Ｑを加え、混合した。この混合物
は速やかに３相に分離した。この３相系の最上相は有機
相、中間相は水性相、最下相は暗色粘性の相である。こ
の最下相５３．２Ｇを回収し、滴定したところ、ＤＮＮ
ＤＳＡｉ１度は４８％であった。この重い相は冷却によ
り固化した。
有機残留物を数回、水で洗浄した。この抽出物には全Ｄ
ＮＮＤＳＡの約半分に相当する２４．４ＱのＤＮＮＤＳ
Ａが含まれていることがわかった。
ＮＮＤＳＡの約半分に相当する２４．４ＱのＤＮＮＤＳ
Ａが含まれていることがわかった。
ＤＮＮＤＳＡの総収量は４９．８０であった。
！ＬＬｆＬｌ
プラント規模において、ジノニルナフタレン４１３７ポ
ンドを含む、ジノニルナフタレンのへブタン液１１７５
ガロンを、２０％オレウムで２回（１回当たり１９６ガ
ロン）処理してスルホン化した。オレウムの第１添加の
後に反応済の酸を除去した。２度のオレウム添加を終え
た後、反応済の酸全部を生成物と一緒にし、ヘプタン１
４７ガロンと水３４ガロンを加え混合した。そして反応
済の酸を沈ませ、これを流出させた後、水７００ガロン
と３５％過酸化水素１５ガロンを加えて混合した。重い
相には１２０５ボンドのＤＮＮＤＳＡが含まれていた。
ンドを含む、ジノニルナフタレンのへブタン液１１７５
ガロンを、２０％オレウムで２回（１回当たり１９６ガ
ロン）処理してスルホン化した。オレウムの第１添加の
後に反応済の酸を除去した。２度のオレウム添加を終え
た後、反応済の酸全部を生成物と一緒にし、ヘプタン１
４７ガロンと水３４ガロンを加え混合した。そして反応
済の酸を沈ませ、これを流出させた後、水７００ガロン
と３５％過酸化水素１５ガロンを加えて混合した。重い
相には１２０５ボンドのＤＮＮＤＳＡが含まれていた。
この重い相のＤＮＮＤＳＡは、０．５％の硫酸および０
．５％未満のへブタンを含む水の中に５１．２％の濃度
で含まれていた。
．５％未満のへブタンを含む水の中に５１．２％の濃度
で含まれていた。
洗浄水、およびさらに２回の洗浄によって得た水には、
１００％ＤＮＮＤＳＡが合わせて２３３ボンド含まれて
いた。
１００％ＤＮＮＤＳＡが合わせて２３３ボンド含まれて
いた。
支Ｌｆｆｉｉ
実施例１および２においては、２０％オレウムに含まれ
る有効ＳＯ３とジノニルナフタレンとのモル比は１．５
：１に保たれていた。本実施例ではこの比を１．８：１
まで大きくした。ジノニルナフタレンの５２％へブタン
溶液９００ガロンを、２０％オレウムで同様に２回処理
した。したがって８０３とＤＮＮの比は２回の添加合計
で１．８＝１であった。最初のオレウム添加後、反応済
の酸を除去した。２回目のオレウム添加の後、ヘプタン
を３２０ガロン加えて、このヘプタンおよび生成物およ
び反応液酸の混合物を１時間撹拌した。
る有効ＳＯ３とジノニルナフタレンとのモル比は１．５
：１に保たれていた。本実施例ではこの比を１．８：１
まで大きくした。ジノニルナフタレンの５２％へブタン
溶液９００ガロンを、２０％オレウムで同様に２回処理
した。したがって８０３とＤＮＮの比は２回の添加合計
で１．８＝１であった。最初のオレウム添加後、反応済
の酸を除去した。２回目のオレウム添加の後、ヘプタン
を３２０ガロン加えて、このヘプタンおよび生成物およ
び反応液酸の混合物を１時間撹拌した。
その後、このバッチを静置して、反応済の酸を沈ませ流
出させた。それから３５％過酸化水素水３０ガロン、お
よび水６００ガロンを加え、バッチ内の内容物と混合さ
せた。すぐに重い相が分離し、これを第２混合タンクに
流入した。この重い相は約１％の硫酸と無視できるほど
のへブタンを含む水に、ＤＮＮＤＳＡを５７％含むもの
であった。
出させた。それから３５％過酸化水素水３０ガロン、お
よび水６００ガロンを加え、バッチ内の内容物と混合さ
せた。すぐに重い相が分離し、これを第２混合タンクに
流入した。この重い相は約１％の硫酸と無視できるほど
のへブタンを含む水に、ＤＮＮＤＳＡを５７％含むもの
であった。
重い相中のＤＮＮＤＡの総量は約１１８０ボンドであっ
た。第１の洗浄およびこれに続く同体積の水洗浄からさ
らに４００ボンドのＤＮＮＳＡが回収された。
た。第１の洗浄およびこれに続く同体積の水洗浄からさ
らに４００ボンドのＤＮＮＳＡが回収された。
宜１＋１
この実施例は、上記の二回スルホン化と制御された洗浄
技術を使用することによる重い相のジドデシルナフタレ
ンジスルホン酸の濃厚物の製造の可能性を示す。まずニ
トロベンゼン溶媒中で塩化アルミニウム触媒を用いて、
ナフタレンをテトラプロピレンでアルキル化した。この
アルキル化で合成されたジドデシルナフタレン２１１Ｑ
を等重量のへブタンで希釈した。そしてこのＤＮＮのへ
ブタン溶液を２０％オレウムで２回（１回当たり１２２
！；ｌ）処理しスルホン化した。各オレウム処理の後に
、反応済の酸を分離し流出させた。スルホン化は４０℃
で行なった。また全有効８０３とフルキレートとのモル
比は約２．０：１であった。
技術を使用することによる重い相のジドデシルナフタレ
ンジスルホン酸の濃厚物の製造の可能性を示す。まずニ
トロベンゼン溶媒中で塩化アルミニウム触媒を用いて、
ナフタレンをテトラプロピレンでアルキル化した。この
アルキル化で合成されたジドデシルナフタレン２１１Ｑ
を等重量のへブタンで希釈した。そしてこのＤＮＮのへ
ブタン溶液を２０％オレウムで２回（１回当たり１２２
！；ｌ）処理しスルホン化した。各オレウム処理の後に
、反応済の酸を分離し流出させた。スルホン化は４０℃
で行なった。また全有効８０３とフルキレートとのモル
比は約２．０：１であった。
この反応からヘプタン中の粗スルホン酸４４１Ｑを回収
し、これにヘプタン１１０ｒｒｌと温水２７０ｍｋを分
離ろうとで加え良く撹拌した。放置すると密度の高い重
い相が底に溜った。この相は、全体で３４．３Ｇあり、
ジドデシルナフタレンスルホン酸を５６．１％含んでい
た。一方、上方の有機相を数回、水で洗浄した。重い相
の洗浄水を含めて全ての洗浄水を集めると、さらに２０
．４ｇのジスルホン酸が回収されたので、ジドデシルナ
フタレンジスルホン酸の総収量は３９．６ａとなった。
し、これにヘプタン１１０ｒｒｌと温水２７０ｍｋを分
離ろうとで加え良く撹拌した。放置すると密度の高い重
い相が底に溜った。この相は、全体で３４．３Ｇあり、
ジドデシルナフタレンスルホン酸を５６．１％含んでい
た。一方、上方の有機相を数回、水で洗浄した。重い相
の洗浄水を含めて全ての洗浄水を集めると、さらに２０
．４ｇのジスルホン酸が回収されたので、ジドデシルナ
フタレンジスルホン酸の総収量は３９．６ａとなった。
表１に上記実施例の結果を示す。
表 １
Ｐワ
ル比 液濃度％ と他ア
ルキｌルＡ、従来の方法 ０．８５ 重
い相なし ０．０４：１１、実験室規模
１．５＋１ ４８ ０．３３：
１２、プラント規模 １．５：１ ５１．２
０．３４：１３、プラント規模 １．８
：１ ５７ ０．４２：１４、
実験室規模 ２．Ｏ：１ ５６．１
０．１９：１ｄａ ジノニルナフタレン ｂ ジノニルナフタレンジスルホン酸 ０ ２０％オレウム中 ｄ ジドデシルナフタレンジスルホン酸ニジドデシルナ
フタレンａｔｉ 実施例４の一般的操作を繰り返し行なったが、ここでは
ジデシルナフタレンに代えてジノニルナフタレンを用い
た。また活性スルホン化剤とポリアルキル芳香族の総体
的モル比は１．１：１とした。ジノニルナフタレンの５
０％へブタン溶液４００Ｑを、２０％オレウムで２回（
１回当たり１１０Ｇ）処理した後、粗スルホン酸４１１
Ｑを分離回収した。そして８０℃の水２００Ｑを加え撹
拌し、静置した。分離採取した重い相１０ＧｌはＤＮＮ
ＤＳＡを５４．７％含んでいた。水性相、および更に２
回の洗浄から、さらに３８ｇのＤＮＮＤＳＡが得られた
。この結果は、本発明に係る二回スルホン化において重
い相を形成するのに必要なモル比の最小値を示している
。
ルキｌルＡ、従来の方法 ０．８５ 重
い相なし ０．０４：１１、実験室規模
１．５＋１ ４８ ０．３３：
１２、プラント規模 １．５：１ ５１．２
０．３４：１３、プラント規模 １．８
：１ ５７ ０．４２：１４、
実験室規模 ２．Ｏ：１ ５６．１
０．１９：１ｄａ ジノニルナフタレン ｂ ジノニルナフタレンジスルホン酸 ０ ２０％オレウム中 ｄ ジドデシルナフタレンジスルホン酸ニジドデシルナ
フタレンａｔｉ 実施例４の一般的操作を繰り返し行なったが、ここでは
ジデシルナフタレンに代えてジノニルナフタレンを用い
た。また活性スルホン化剤とポリアルキル芳香族の総体
的モル比は１．１：１とした。ジノニルナフタレンの５
０％へブタン溶液４００Ｑを、２０％オレウムで２回（
１回当たり１１０Ｇ）処理した後、粗スルホン酸４１１
Ｑを分離回収した。そして８０℃の水２００Ｑを加え撹
拌し、静置した。分離採取した重い相１０ＧｌはＤＮＮ
ＤＳＡを５４．７％含んでいた。水性相、および更に２
回の洗浄から、さらに３８ｇのＤＮＮＤＳＡが得られた
。この結果は、本発明に係る二回スルホン化において重
い相を形成するのに必要なモル比の最小値を示している
。
！
実施例５の操作を繰返したが、ここではオレウム処理は
一回だけにした。この実施例のモル比は１．３：１であ
る。ジノニルナフタレンのへブタン溶液（ＤＮＮ濃度５
０％）３００Ｑを２０％オレウム１９０ｇで１回処理し
、４０℃でスルホン化した。粗スルホン酸３１３．７ａ
を回収した。
一回だけにした。この実施例のモル比は１．３：１であ
る。ジノニルナフタレンのへブタン溶液（ＤＮＮ濃度５
０％）３００Ｑを２０％オレウム１９０ｇで１回処理し
、４０℃でスルホン化した。粗スルホン酸３１３．７ａ
を回収した。
１／２倍体積の水（８０℃）を加え混合し、静置した。
そしてＤＮＮＤＳＡ濃度５２％の重い相７．２Ｑを回収
した。水性相、および、続いて行なった洗浄から、さら
に１０．８０のＤＮＮＤＳが得られた。この結果は本発
明に係る単一スルホン化において重い相を形成するのに
必要なモル比の最小値を示している。
した。水性相、および、続いて行なった洗浄から、さら
に１０．８０のＤＮＮＤＳが得られた。この結果は本発
明に係る単一スルホン化において重い相を形成するのに
必要なモル比の最小値を示している。
以上の実験結果は、本発明に係る方法によって、ポリア
ルキルポリスルホン酸の収率が従来技術と比較して大幅
に向上することを示している。しかもこのスルホン酸は
比較的純度が高いの、で、複雑な精製工程および／また
は濃縮工程を経ずに直接有用な生成物に変化させること
ができる。
ルキルポリスルホン酸の収率が従来技術と比較して大幅
に向上することを示している。しかもこのスルホン酸は
比較的純度が高いの、で、複雑な精製工程および／また
は濃縮工程を経ずに直接有用な生成物に変化させること
ができる。
この明細書中に記した特許は参考文献として挙げである
。当業者は以上の詳細な記述をもとにして、種々の変形
を考えることができることは明らかだろう。例えば、希
釈剤としてヘプタンの代わりにイソオクタンを使用した
り、活性スルホン化剤としてオレウムの代わりに、ＳＯ
２と空気、またはクロロスルホン酸を使用したり、また
、ジノニルナフタレンやジドデシルナフタレンに代えて
ジオクチルナフタレンやジノニルアントラセンを使用し
たりすることができる。これらの明白な変形例は全て、
特許請求の範囲に記載した本発明の技術的範囲に含まれ
ることを意図している。
。当業者は以上の詳細な記述をもとにして、種々の変形
を考えることができることは明らかだろう。例えば、希
釈剤としてヘプタンの代わりにイソオクタンを使用した
り、活性スルホン化剤としてオレウムの代わりに、ＳＯ
２と空気、またはクロロスルホン酸を使用したり、また
、ジノニルナフタレンやジドデシルナフタレンに代えて
ジオクチルナフタレンやジノニルアントラセンを使用し
たりすることができる。これらの明白な変形例は全て、
特許請求の範囲に記載した本発明の技術的範囲に含まれ
ることを意図している。
図面は本発明の一実施例に係る反応方法を行なうため、
およびその生成物を回収するために適した装置配置の略
図である。 ２・・・反応器、４． ６． ８．１２． Ｕ・・・導
管、１６・・・タンク、１７．１８・・・導管、２０・
・・生成物貯蔵器。
およびその生成物を回収するために適した装置配置の略
図である。 ２・・・反応器、４． ６． ８．１２． Ｕ・・・導
管、１６・・・タンク、１７．１８・・・導管、２０・
・・生成物貯蔵器。
Claims (16)
- （１）（ａ）ポリアルキル芳香族化合物の少なくとも１
種類と、硫酸と、水に対して非混和性であり比重が約１
．０未満である不活性な希釈剤との混合物を撹拌する工
程と、 （ｂ）上記混合物を複数の液相に分離させ、この相の１
つである反応済の酸の相を流出させる工程と、 （ｃ）実質的にポリアルキル芳香族ポリスルホン酸と水
とを含む相を最下相とする３つの相を生成させる分量の
水を、上記工程で残存した相に添加する工程と、 （ｄ）上記最下相を分離する工程と、 を包含するポリアルキル芳香族ポリスルホン酸の製造方
法。 - （２）（ａ）ポリアルキル芳香族化合物を少なくとも１
種類と、硫酸と、水に対して非混和性であり比重が約１
．０未満である不活性な希釈剤との混合物を撹拌する工
程と、 （ｂ）上記混合物を複数の液相に分離させ、この相の１
つである反応済の酸の相を流出させる工程と、 （ｃ）上記工程で残留した相に硫酸を添加し、得られた
混合物を撹拌する工程と、 （ｄ）上記混合物を複数の液相に分離させ、この相の１
つである反応済の酸の相を流出させる工程と、 （ｅ）実質的にポリアルキル芳香族ポリスルホン酸と水
とを含む相を最下相とする３つの相が生成するような分
量の水を、上記工程で残存した相に添加する工程と、 （ｆ）上記最下相を分離する工程と、 を包含するポリアルキル芳香族ポリスルホン酸の製造方
法。 - （３）（ａ）ジノニルナフタレン化合物の少なくとも１
種類と、硫酸と、水に対して非混和性であり比重が約１
．０未満である不活性な希釈剤との混合物を撹拌する工
程と、（ｂ）上記混合物を複数の液相に分離させ、この
相の１つである反応済の酸の相を流出させる工程と、 （ｃ）実質的にジノニルナフタレンジスルホン酸と水と
を含む相を最下相とする３つの相が生成するような分量
の水を、上記工程で残存した相に添加する工程と、 （ｄ）上記最下相を分離する工程と、 を包含するジノニルナフタレンジスルホン酸の製造方法
。 - （４）（ａ）ジノニルナフタレン化合物の少なくとも１
種類と、硫酸と、水に対して非混和性であり比重が約１
．０未満である不活性な希釈剤との混合物を撹拌する工
程と、 （ｂ）上記混合物を複数の液相に分離させ、この相の１
つである反応済の酸の相を流出させる工程と、 （ｃ）上記工程で残留した相に硫酸を添加し、得られた
混合物を撹拌する工程と、 （ｄ）上記混合物を複数の液相に分離させ、この相の１
つである反応済の酸の相を流出させる工程と、 （ｅ）実質的にジノニルナフタレンジスルホン酸と水と
を含む相を最下相とする３つの相が生成するような分量
の水を、上記工程で残存した相に添加する工程と、 （ｄ）上記最下相を分離する工程と、 を包含するジノニルナフタレンジスルホン酸の製造方法
。 - （５）ポリアルキル芳香族化合物のアルキル基は、オク
チル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル
基またはこれらの任意の組合わせの中から選択されたも
のである特許請求の範囲第１項または第２項記載の方法
。 - （６）アルキル基は分枝が多いものである特許請求の範
囲第１項、第２項、第３項または第４項記載の方法。 - （７）ポリアルキル芳香族化合物はナフタレン化合物で
ある特許請求の範囲第５項記載の方法。 - （８）上記希釈剤の比重は約０．７から約０．８の範囲
内である特許請求の範囲第１項、第２項、第３項または
第４項記載の方法。 - （９）上記希釈剤は、ナフサ、ヘキサン、ヘプタン、オ
クタン又はこれらの任意の混合物の中から選択したもの
である特許請求の範囲第１項、第２項、第３項または第
４項記載の方法。 - （１０）上記の添加する水の分量は、この添加工程の直
前の工程で残留した液体の容積の約０．４倍から約０．
６倍の量である特許請求の範囲第１項、第２項、第３項
または第４項記載の方法。 - （１１）上記添加する水の分量は、硫酸が約７％から約
１２％含まれた中間相の形成をもたらすような量である
特許請求の範囲第１項、第２項、第３項または第４項記
載の方法。 - （１２）水を添加する工程およびその直後の工程におけ
る温度を、上記最下相中のポリアルキル芳香族ポリスル
ホン酸の固化を充分防止できるように維持する特許請求
の範囲第１項、第２項、第３項または第４項記載の方法
。 - （１３）生成したポリアルキル芳香族ポリスルホン酸の
分子量は約３５０以上である特許請求の範囲第１項また
は第２項記載の方法。 - （１４）活性スルホン化剤とポリアルキル芳香族化合物
のモル比は、実質的に約１．１：１以上である特許請求
の範囲第１項または第２項記載の方法。 - （１５）活性スルホン化剤とポリアルキル芳香族化合物
のモル比は、約１．５：１から約２．５：１の範囲内で
ある特許請求の範囲第１項又は第２項又は第４項記載の
方法。 - （１６）活性スルホン化剤とジノニルナフタレン化合物
のモル比は、実質的に約１．３：１以上である特許請求
の範囲第３項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/632,528 US4943656A (en) | 1984-07-19 | 1984-07-19 | Process for the production of polyalkylaromatic polysulfonic acids and recovery by heavy phase separation |
| US632528 | 1984-07-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6137761A true JPS6137761A (ja) | 1986-02-22 |
| JPH0529026B2 JPH0529026B2 (ja) | 1993-04-28 |
Family
ID=24535871
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15533985A Granted JPS6137761A (ja) | 1984-07-19 | 1985-07-16 | ポリアルキル芳香族ポリスルホン酸を製造し、重い相の分離によりこれを回収する方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4943656A (ja) |
| EP (1) | EP0168778B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6137761A (ja) |
| CA (1) | CA1255695A (ja) |
| DE (1) | DE3566400D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5532042A (en) * | 1989-04-05 | 1996-07-02 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magnetic recording medium |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5929408A (en) * | 1996-09-26 | 1999-07-27 | Cytec Technology Corp. | Compositions and methods for ore beneficiation |
| US6403849B1 (en) | 2000-09-26 | 2002-06-11 | 3M Innovative Properties Company | Method for purifying perfluorocarbons |
| US20050075252A1 (en) * | 2003-10-03 | 2005-04-07 | Thomas Samuel C. | Emulsifier/detergent compounds for metalworking lubricants |
| CN100354258C (zh) * | 2006-05-19 | 2007-12-12 | 西华师范大学 | 双烷基联苯二磺酸钠及其制备方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1211923A (en) * | 1916-07-14 | 1917-01-09 | Louis M Dennis | Method of separating a sulfonic acid of a hydrocarbon of the aromatic series from sulfuric acid and of converting the sulfonic acid into a salt. |
| US2764548A (en) * | 1955-01-25 | 1956-09-25 | King Organic Chemicals Inc | Dinonylnaphthalene sulfonates and process of producing same |
| US3957859A (en) * | 1973-05-08 | 1976-05-18 | King Industries, Inc. | Process for the production of aromatic sulfonates |
| US3979478A (en) * | 1974-05-01 | 1976-09-07 | King Industries, Inc. | Catalysis of amino resin cross-linking reactions with high molecular weight sulfonic acids |
-
1984
- 1984-07-19 US US06/632,528 patent/US4943656A/en not_active Expired - Lifetime
-
1985
- 1985-06-26 CA CA000485308A patent/CA1255695A/en not_active Expired
- 1985-07-11 DE DE8585108651T patent/DE3566400D1/de not_active Expired
- 1985-07-11 EP EP85108651A patent/EP0168778B1/en not_active Expired
- 1985-07-16 JP JP15533985A patent/JPS6137761A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5532042A (en) * | 1989-04-05 | 1996-07-02 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magnetic recording medium |
| USRE38048E1 (en) * | 1989-04-05 | 2003-03-25 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magnetic recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0168778A2 (en) | 1986-01-22 |
| EP0168778B1 (en) | 1988-11-23 |
| US4943656A (en) | 1990-07-24 |
| JPH0529026B2 (ja) | 1993-04-28 |
| EP0168778A3 (en) | 1986-05-07 |
| DE3566400D1 (en) | 1988-12-29 |
| CA1255695A (en) | 1989-06-13 |
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