JPS6136289B2 - - Google Patents
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- JPS6136289B2 JPS6136289B2 JP52018194A JP1819477A JPS6136289B2 JP S6136289 B2 JPS6136289 B2 JP S6136289B2 JP 52018194 A JP52018194 A JP 52018194A JP 1819477 A JP1819477 A JP 1819477A JP S6136289 B2 JPS6136289 B2 JP S6136289B2
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Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子計算機などのフアイルメモリーと
して使用されている磁気デイスク、特に耐摩耗
性、表面潤滑性のすぐれた磁気デイスクに関する
ものである。
して使用されている磁気デイスク、特に耐摩耗
性、表面潤滑性のすぐれた磁気デイスクに関する
ものである。
従来、磁気デイスクの耐摩耗性、表面潤滑性を
向上させるためには、磁気デイスクの表面に潤滑
剤を塗布する方法が用いられている。
向上させるためには、磁気デイスクの表面に潤滑
剤を塗布する方法が用いられている。
しかし、潤滑剤の塗布により、耐摩耗性を持た
せるためにはデイスク表面を多孔性にし、潤滑剤
を多量に付着させる必要がある。ここでデイスク
表面を多孔性にする方法として種々考えられてい
るが潤滑剤の効果を最適化する手段がなく、潤滑
剤を多量に付着させている。ところが潤滑剤を多
量に付着させるヘツドとの粘着力が大きくなると
いう大きな欠陥がある。
せるためにはデイスク表面を多孔性にし、潤滑剤
を多量に付着させる必要がある。ここでデイスク
表面を多孔性にする方法として種々考えられてい
るが潤滑剤の効果を最適化する手段がなく、潤滑
剤を多量に付着させている。ところが潤滑剤を多
量に付着させるヘツドとの粘着力が大きくなると
いう大きな欠陥がある。
したがつて本発明の目的は、ヘツドの粘着力の
小さい、耐摩耗性、表面潤滑性のすぐれた磁気デ
イスクを提供することである。
小さい、耐摩耗性、表面潤滑性のすぐれた磁気デ
イスクを提供することである。
本発明の磁気デイスクは、表面を多孔性とし、
ここに潤滑剤を含浸させたものである。
ここに潤滑剤を含浸させたものである。
以下本発明の詳細について説明する。
磁気デイスクは記録密度の向上とともに磁気デ
イスクの記録媒体層の厚さは次第に薄くなり、か
つ記録媒体と磁気ヘツドの間の浮動間隔も狭くな
る傾向にあるため、高記録密度の磁気デイスクに
はより一層平滑で、しかも耐摩耗性、耐衝撃性に
一段と優れた塗膜が要求されている。さらに、最
近の磁気デイスクである記録密度5600BPIの新鋭
機種のデータモジユールでは記録媒体の厚さは約
１μ、磁気デイスクと磁気ヘツド（荷重10ｇ）の
浮動間隔は0.8μ、回転数3000rpmで記録再生す
るのであるが、磁気デイスク停止時には磁気ヘツ
ドは磁気デイスク塗膜表面に接触しており、磁気
デイスク駆動時に磁気ヘツドは磁気デイスク塗膜
表面を約２秒間こすりながら滑走し、回転数が約
1000rpmに達したとき磁気ヘツドは磁気デイスク
表面から浮上する。また、磁気デイスク停止時に
は、回転数が約1000rpmまで低下すると、磁気ヘ
ツドは再び磁気デイスク塗膜表面を約２秒間こす
りながら滑走し、磁気デイスクが完全に停止した
ときには、磁気デイスク表面上に完全に接触す
る。以上のように記録媒体層の厚さの極めて新し
いタイプのデーターモジユール用磁気デイスクは
従来に比べ駆動停止のメカニズムが大巾に変更さ
れており、将来の高密度磁気デイスクはこのタイ
プが主流となる可能性が極めて大きい。この駆動
停止のメカニズムは、Con‐tact Start Stop（接
触駆動停止）と呼ばれており、このタイプの磁気
デイスクの塗膜には従来にない種類の耐摩耗性が
特に要求されている。
イスクの記録媒体層の厚さは次第に薄くなり、か
つ記録媒体と磁気ヘツドの間の浮動間隔も狭くな
る傾向にあるため、高記録密度の磁気デイスクに
はより一層平滑で、しかも耐摩耗性、耐衝撃性に
一段と優れた塗膜が要求されている。さらに、最
近の磁気デイスクである記録密度5600BPIの新鋭
機種のデータモジユールでは記録媒体の厚さは約
１μ、磁気デイスクと磁気ヘツド（荷重10ｇ）の
浮動間隔は0.8μ、回転数3000rpmで記録再生す
るのであるが、磁気デイスク停止時には磁気ヘツ
ドは磁気デイスク塗膜表面に接触しており、磁気
デイスク駆動時に磁気ヘツドは磁気デイスク塗膜
表面を約２秒間こすりながら滑走し、回転数が約
1000rpmに達したとき磁気ヘツドは磁気デイスク
表面から浮上する。また、磁気デイスク停止時に
は、回転数が約1000rpmまで低下すると、磁気ヘ
ツドは再び磁気デイスク塗膜表面を約２秒間こす
りながら滑走し、磁気デイスクが完全に停止した
ときには、磁気デイスク表面上に完全に接触す
る。以上のように記録媒体層の厚さの極めて新し
いタイプのデーターモジユール用磁気デイスクは
従来に比べ駆動停止のメカニズムが大巾に変更さ
れており、将来の高密度磁気デイスクはこのタイ
プが主流となる可能性が極めて大きい。この駆動
停止のメカニズムは、Con‐tact Start Stop（接
触駆動停止）と呼ばれており、このタイプの磁気
デイスクの塗膜には従来にない種類の耐摩耗性が
特に要求されている。
本発明は前述の如く、記録層の極めて薄い磁気
デイスクの耐摩耗性を向上させ、該デイスク接触
駆動停止時の破損等の事故を大巾に低減せしめた
ものである。
デイスクの耐摩耗性を向上させ、該デイスク接触
駆動停止時の破損等の事故を大巾に低減せしめた
ものである。
すなわち、本発明者らは強磁性体微粒子を高分
子結合剤溶液中に分散せしめてなる強磁性体組成
物に非磁性体微粒子を添加することにより、形成
塗膜の強度を増大せしめると同時に、塗膜に無数
の１μ以下の微細な孔を形成せしめ、空孔部に液
状潤滑剤を含浸させ、随時、塗膜表面への潤滑剤
を補給せしめることに成功した。
子結合剤溶液中に分散せしめてなる強磁性体組成
物に非磁性体微粒子を添加することにより、形成
塗膜の強度を増大せしめると同時に、塗膜に無数
の１μ以下の微細な孔を形成せしめ、空孔部に液
状潤滑剤を含浸させ、随時、塗膜表面への潤滑剤
を補給せしめることに成功した。
高分子結合剤としては、エポキシ／フエノール
系の高分子材料が、磁気デイスク用として特に好
ましいのでこれを用いて以下説明する。
系の高分子材料が、磁気デイスク用として特に好
ましいのでこれを用いて以下説明する。
塗膜に孔が無い場合には、塗布された潤滑剤は
すべて塗膜表面に付着し、その結果、ヘツドとの
粘着力が大きくなり過ぎ、好ましくない。また、
ヘツドとの粘着力が大きくならないように潤滑剤
を塗布しようとすると塗膜表面には微量の潤滑剤
しか付着せず、寿命の点で問題である。
すべて塗膜表面に付着し、その結果、ヘツドとの
粘着力が大きくなり過ぎ、好ましくない。また、
ヘツドとの粘着力が大きくならないように潤滑剤
を塗布しようとすると塗膜表面には微量の潤滑剤
しか付着せず、寿命の点で問題である。
その点、本発明のように１μ以下の径の微細な
孔を無数に形成させておけば、塗膜表面に微量の
潤滑剤を存在させ、孔に多量の潤滑剤を貯蔵し、
潤滑剤を随時塗膜表面へ供給することが可能であ
る。
孔を無数に形成させておけば、塗膜表面に微量の
潤滑剤を存在させ、孔に多量の潤滑剤を貯蔵し、
潤滑剤を随時塗膜表面へ供給することが可能であ
る。
本発明の実施例において、潤滑剤としてはバー
フロロアルキルポリエーテルをフレオン溶液にし
て用い、浸漬法により塗布を行なつた。
フロロアルキルポリエーテルをフレオン溶液にし
て用い、浸漬法により塗布を行なつた。
なお、周知の潤滑剤でも類似の効果が認められ
る。
る。
非磁性微粒子としては、酸化アルミニウム、酸
化ジルコニウム、シリコンカーバイト、焼結珪酸
アルミニウム等があり、これらの粒径は0.05〜
0.5μの範囲のものが望ましく、添加量ととして
は、強磁性体粒子の５〜30％の範囲が望ましい。
塗膜強度を大きくするという観点からは、アルミ
ナのような硬い粒子で、粒径の大きい粒子を多量
に添加するほど有利であるが、30％越えるとかえ
つて塗膜強度は低下する。塗膜を多孔質にすると
いう観点でみると、粒径の小さな非磁性粒子を多
量に添加するほど有利である。また、電気的欠陥
に着目すると、粒子の小さな非磁性粒子をなるべ
く少なく添加するほど有利である。（なお、５％
未満では十分効果を発揮しない。） したがつて、高記録密度の磁気デイスクをつく
るための最も好ましい非磁性粒子の粒径と添加量
は１μ以下の粒径で、５〜20％の範囲である。
化ジルコニウム、シリコンカーバイト、焼結珪酸
アルミニウム等があり、これらの粒径は0.05〜
0.5μの範囲のものが望ましく、添加量ととして
は、強磁性体粒子の５〜30％の範囲が望ましい。
塗膜強度を大きくするという観点からは、アルミ
ナのような硬い粒子で、粒径の大きい粒子を多量
に添加するほど有利であるが、30％越えるとかえ
つて塗膜強度は低下する。塗膜を多孔質にすると
いう観点でみると、粒径の小さな非磁性粒子を多
量に添加するほど有利である。また、電気的欠陥
に着目すると、粒子の小さな非磁性粒子をなるべ
く少なく添加するほど有利である。（なお、５％
未満では十分効果を発揮しない。） したがつて、高記録密度の磁気デイスクをつく
るための最も好ましい非磁性粒子の粒径と添加量
は１μ以下の粒径で、５〜20％の範囲である。
塗膜表面に孔が形成される理由は、正確には分
からない。しかし一応つぎのように考えられる。
高分子結合剤は、硬化前の塗料の状態のとき磁性
体及び非磁性体微粒子の表面に吸着する。塗料中
には吸着されていない高分子結合剤も多量にあ
る。もし磁性体の量が非常に多いとその分だけ高
分子結合剤が磁性体に吸着されるので、塗料中に
吸着されない状態で存在する高分子結合剤の量が
その分だけ減少し、塗料はみかけ上希薄溶液にな
る。このような塗膜を乾燥すると塗膜に孔が形成
される。しかし、実際の塗膜では磁性体の量をあ
まり増加させると塗膜の硬度が低下するので磁性
体の一部に代えて非磁性体であつて硬度の高い物
質を加える。従つて高分子結合剤の種類、磁性体
及び非磁性体微粒子の種類、これらの組み合わせ
の選択が問題となる。
からない。しかし一応つぎのように考えられる。
高分子結合剤は、硬化前の塗料の状態のとき磁性
体及び非磁性体微粒子の表面に吸着する。塗料中
には吸着されていない高分子結合剤も多量にあ
る。もし磁性体の量が非常に多いとその分だけ高
分子結合剤が磁性体に吸着されるので、塗料中に
吸着されない状態で存在する高分子結合剤の量が
その分だけ減少し、塗料はみかけ上希薄溶液にな
る。このような塗膜を乾燥すると塗膜に孔が形成
される。しかし、実際の塗膜では磁性体の量をあ
まり増加させると塗膜の硬度が低下するので磁性
体の一部に代えて非磁性体であつて硬度の高い物
質を加える。従つて高分子結合剤の種類、磁性体
及び非磁性体微粒子の種類、これらの組み合わせ
の選択が問題となる。
以下、本発明を実施例を参照して詳細に説明す
る。
る。
実施例 １
エポキシ樹指45重量部、フエノール樹脂40重量
部およびビニル樹脂15重量部よりなるバインダー
をシクロヘキサン400重量部に溶解せしめた溶液
に磁性酸化鉄γ―Fe2O2150重量部と平均粒径１
μのアルミナ粒子15重量部を添加し、ホールミル
混練により磁性酸化鉄及びアルミナ粒子を分散せ
しめることにより、粘度100cpsの塗布液を調整
した。つぎにあらかじめ表面を清浄にしたアルミ
ニウム板に上記塗布液を塗布する。この塗膜中の
磁性粉を周知の方法により配向せしめる。つぎ
に、200℃，２時間，熱硬化後、塗膜をＨCLA0.02
μのあらさで１μの塗膜厚になるように表面加工
した。上記方法により製造した磁気デイスクをさ
らに10％パーフロロアルキルポリエーテルのフレ
オン溶液に５分間浸漬してから５分間で引きあげ
た。以上のプロセスにより製造した磁気デイスク
について、つぎのような耐Con‐tact Start Stop
試験を行なつた。すなわち、磁気デイスクの全ト
ラツクをカバーするような形で、６×４m／ｍの
サイズの磁気ヘツド（フエラライト製）を両面に
各32ケづつ、10ｇの負荷で載せ、Contact Start
Stopを繰返し行なつた。５万回のContact Start
Stopを行なつた後、磁気デイスクと磁気ヘツド
を調べてみたが、いずれも破壊されていなかつ
た。また、電気的欠陥の増加も認められなかつ
た。
部およびビニル樹脂15重量部よりなるバインダー
をシクロヘキサン400重量部に溶解せしめた溶液
に磁性酸化鉄γ―Fe2O2150重量部と平均粒径１
μのアルミナ粒子15重量部を添加し、ホールミル
混練により磁性酸化鉄及びアルミナ粒子を分散せ
しめることにより、粘度100cpsの塗布液を調整
した。つぎにあらかじめ表面を清浄にしたアルミ
ニウム板に上記塗布液を塗布する。この塗膜中の
磁性粉を周知の方法により配向せしめる。つぎ
に、200℃，２時間，熱硬化後、塗膜をＨCLA0.02
μのあらさで１μの塗膜厚になるように表面加工
した。上記方法により製造した磁気デイスクをさ
らに10％パーフロロアルキルポリエーテルのフレ
オン溶液に５分間浸漬してから５分間で引きあげ
た。以上のプロセスにより製造した磁気デイスク
について、つぎのような耐Con‐tact Start Stop
試験を行なつた。すなわち、磁気デイスクの全ト
ラツクをカバーするような形で、６×４m／ｍの
サイズの磁気ヘツド（フエラライト製）を両面に
各32ケづつ、10ｇの負荷で載せ、Contact Start
Stopを繰返し行なつた。５万回のContact Start
Stopを行なつた後、磁気デイスクと磁気ヘツド
を調べてみたが、いずれも破壊されていなかつ
た。また、電気的欠陥の増加も認められなかつ
た。
この磁気デイスクの塗膜表面を走査型電子顕微
鏡で観察したところ径１μ以下の孔が無数に存在
していた。この系では、液体潤滑剤はこの孔に貯
蔵され、常に塗膜表面に潤滑剤が供給されてお
り、しかも塗膜には無数のアルミナ粒子が存在し
ているため、この磁気デイスクの塗膜は耐摩耗性
と潤滑性が従来に比し極めて優れていると言え
る。
鏡で観察したところ径１μ以下の孔が無数に存在
していた。この系では、液体潤滑剤はこの孔に貯
蔵され、常に塗膜表面に潤滑剤が供給されてお
り、しかも塗膜には無数のアルミナ粒子が存在し
ているため、この磁気デイスクの塗膜は耐摩耗性
と潤滑性が従来に比し極めて優れていると言え
る。
実施例 ２
エポキシ樹脂45重量部、フエノール樹脂40重量
部およびビニル樹脂15重量部よりなるバインダー
をシクロヘキサン400重量部に溶解せしめた溶液
に磁性酸化鉄γ―Fe2O3150重量部と平均粒径0.5
μのアルミナ粒子30重量部を添加し、ボールミル
混練により磁性酸化鉄及びアルミナ粒子を分散せ
しめることにより、粘度100cpsの塗布液を調製
した。つぎにあらかじめ表面を清浄にしたアルミ
ニウム板に上記塗布液を塗布する。この塗膜中の
磁性粉を周知の方法により配向せしめる。つぎ
に、200℃、２時間，熱硬化後、塗膜をＨCLA0.02
μのあらさで１μの塗膜厚になるように表面加工
した。上記方法により製造した磁気デイスクをさ
らに10％パーフロロアルキルポリエーテルのフレ
フオン溶液に５分間浸漬してから５分間で引きあ
げた。以上のプロセスにより製造した磁気デイス
クについて、実施例１と同様にContact Start
Stop試験を行なつた結果、５万回のContact
Start Stopに磁気デイスク及び磁気ヘツドは耐
え、電気的欠陥の増加は全く認められなかつた。
部およびビニル樹脂15重量部よりなるバインダー
をシクロヘキサン400重量部に溶解せしめた溶液
に磁性酸化鉄γ―Fe2O3150重量部と平均粒径0.5
μのアルミナ粒子30重量部を添加し、ボールミル
混練により磁性酸化鉄及びアルミナ粒子を分散せ
しめることにより、粘度100cpsの塗布液を調製
した。つぎにあらかじめ表面を清浄にしたアルミ
ニウム板に上記塗布液を塗布する。この塗膜中の
磁性粉を周知の方法により配向せしめる。つぎ
に、200℃、２時間，熱硬化後、塗膜をＨCLA0.02
μのあらさで１μの塗膜厚になるように表面加工
した。上記方法により製造した磁気デイスクをさ
らに10％パーフロロアルキルポリエーテルのフレ
フオン溶液に５分間浸漬してから５分間で引きあ
げた。以上のプロセスにより製造した磁気デイス
クについて、実施例１と同様にContact Start
Stop試験を行なつた結果、５万回のContact
Start Stopに磁気デイスク及び磁気ヘツドは耐
え、電気的欠陥の増加は全く認められなかつた。
実施例 ３
エポキシ樹脂45重量部、フエノール樹脂40重量
部およびビニル樹脂15重量部よりなるバインダー
をシクロヘキサノン400重量部に溶解せしめた溶
液に磁性酸化鉄γ―Fe2O3150重量部と平均粒径
0.5μのアルミナ粒子60重量部を添加し、ボール
ミル混練により磁性酸化鉄及びアルミナ粒子を分
散せしめることにより、粘度100cpsの塗布液を
調整した。つぎにあらかじめ表面を清浄にしたア
ルミニウム板に上記塗布液を塗布する。この塗膜
中の磁性粉を周知の方法により配向せしめる。つ
ぎに、200℃、２時間、熱硬化後、塗膜をＨCLA
0.02μのあらさで１μの塗膜厚になるように表面
加工した。上記方法により製造して磁気デイスク
をさらに10％のパーフロロアルキルポリエーテル
のフレオン溶液に５分間浸漬してから５分間で引
きあげた。以上のプロセスにより製造した磁気デ
イスクについてContact Start Stop試験を行なつ
た。
部およびビニル樹脂15重量部よりなるバインダー
をシクロヘキサノン400重量部に溶解せしめた溶
液に磁性酸化鉄γ―Fe2O3150重量部と平均粒径
0.5μのアルミナ粒子60重量部を添加し、ボール
ミル混練により磁性酸化鉄及びアルミナ粒子を分
散せしめることにより、粘度100cpsの塗布液を
調整した。つぎにあらかじめ表面を清浄にしたア
ルミニウム板に上記塗布液を塗布する。この塗膜
中の磁性粉を周知の方法により配向せしめる。つ
ぎに、200℃、２時間、熱硬化後、塗膜をＨCLA
0.02μのあらさで１μの塗膜厚になるように表面
加工した。上記方法により製造して磁気デイスク
をさらに10％のパーフロロアルキルポリエーテル
のフレオン溶液に５分間浸漬してから５分間で引
きあげた。以上のプロセスにより製造した磁気デ
イスクについてContact Start Stop試験を行なつ
た。
この磁気デイスクは１万回のContact Start
Stopの繰返しの後、塗膜にかすかな摺動傷が発
生した。
Stopの繰返しの後、塗膜にかすかな摺動傷が発
生した。
比較例
アルミナ粒子を全く添加しないで、実施例１と
同様に磁気デイスクをつくり、Contact Start
Stop試験を行なつた。磁気デイスクは1000回の
Contact Start Stopの繰返し後、摺動傷が発生
し、電気的欠陥も激増した。
同様に磁気デイスクをつくり、Contact Start
Stop試験を行なつた。磁気デイスクは1000回の
Contact Start Stopの繰返し後、摺動傷が発生
し、電気的欠陥も激増した。
Claims (1)
- １ エポキシ樹脂、フエノール樹脂及びビニル樹
脂よりなる高分子結合剤中に強磁性体微粒子と非
磁性体微粒子とが分散せしめられた塗膜を有する
磁気デイスクにおいて、上記非磁性体微粒子がア
ルミナ、酸化ジルコニウム、シリコンカーバイト
及び焼結珪酸アルミニウムからなる群から選ばれ
た少なくとも一種の物質からなるものであり、上
記塗膜は多孔質であり、その空孔中に液体潤滑剤
を有することを特徴とする磁気デイスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1819477A JPS53104202A (en) | 1977-02-23 | 1977-02-23 | Manufacture of magnetic disc |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1819477A JPS53104202A (en) | 1977-02-23 | 1977-02-23 | Manufacture of magnetic disc |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53104202A JPS53104202A (en) | 1978-09-11 |
| JPS6136289B2 true JPS6136289B2 (ja) | 1986-08-18 |
Family
ID=11964811
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1819477A Granted JPS53104202A (en) | 1977-02-23 | 1977-02-23 | Manufacture of magnetic disc |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS53104202A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02101370A (ja) * | 1988-10-07 | 1990-04-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 冷蔵庫用扉開警報器 |
| JP2562668B2 (ja) * | 1988-07-19 | 1996-12-11 | 三洋電機株式会社 | 温度警報装置 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58200431A (ja) * | 1982-05-19 | 1983-11-22 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS5990234A (ja) * | 1982-11-15 | 1984-05-24 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク |
| JPS60263312A (ja) * | 1984-06-09 | 1985-12-26 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS6216234A (ja) * | 1985-07-12 | 1987-01-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH0789407B2 (ja) * | 1985-10-15 | 1995-09-27 | 日立マクセル株式会社 | 磁気デイスク |
| JPH0760508B2 (ja) * | 1985-12-10 | 1995-06-28 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録ディスクおよびその製造方法 |
| JPH0740349B2 (ja) * | 1986-07-08 | 1995-05-01 | 日本ゼオン株式会社 | 磁気記録媒体 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5079309A (ja) * | 1973-11-12 | 1975-06-27 |
-
1977
- 1977-02-23 JP JP1819477A patent/JPS53104202A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5079309A (ja) * | 1973-11-12 | 1975-06-27 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2562668B2 (ja) * | 1988-07-19 | 1996-12-11 | 三洋電機株式会社 | 温度警報装置 |
| JPH02101370A (ja) * | 1988-10-07 | 1990-04-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 冷蔵庫用扉開警報器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS53104202A (en) | 1978-09-11 |
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