JPS6135909B2 - - Google Patents
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- JPS6135909B2 JPS6135909B2 JP52119870A JP11987077A JPS6135909B2 JP S6135909 B2 JPS6135909 B2 JP S6135909B2 JP 52119870 A JP52119870 A JP 52119870A JP 11987077 A JP11987077 A JP 11987077A JP S6135909 B2 JPS6135909 B2 JP S6135909B2
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Classifications
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- B05B9/03—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent material, without essentially mixing with gas or vapour characterised by means for supplying liquid or other fluent material
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- B05B9/085—Apparatus to be carried on or by a person, e.g. of knapsack type with a liquid pump
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- F04B23/02—Pumping installations or systems having reservoirs
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- F04C9/00—Oscillating-piston machines or pumps
- F04C9/002—Oscillating-piston machines or pumps the piston oscillating around a fixed axis
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は噴射装置に関し、特に圧力を印加して
所定物質を噴出する機械的な噴射装置に関する。
所定物質を噴出する機械的な噴射装置に関する。
従来においては多くの種々の噴射装置があるが
エーロゾルタイプとポンプタイプの噴霧器を含ん
でいる。例えばエーロゾルタイプの噴霧器では、
周囲に危険を及ぼし、そしてかかる噴霧器で噴射
されたエーロゾル物質が周囲に潜在的な害を及ぼ
すという理由によりこゝ数年かゝる噴霧器は不法
とされている。更にこのエーロゾルタイプのもの
は特に内部圧力に耐え得る構造の容器が必要であ
り、また子供が扱つて顔面や目に潜在的に害のあ
る物質が噴出される危険性がある。更には、エー
ロゾル物質と噴霧される物質との間で化学的に両
立しえないため使用上の限界がある。ポンプタイ
プの噴霧器は、先のエーロゾルタイプの欠点はな
いが、以下の若干の理由により満足なものではな
い。すなわち、噴霧するための圧力がプランジヤ
又はトリガ機構の使用者の指による操作によつて
発生されるために、使用が困難でかつ不正確とな
る欠点がある。更には、各噴霧が先述した如くプ
ランジヤやトリガ等の操作毎になされるので、噴
霧時間が制限され、よつて必要量の噴霧を行うた
めには何回も繰返して操作しなければならない欠
点がある。また子供によつて不注意に操作される
と潜在的害を有する物質が噴霧されるから、これ
また子供に危険を与えるものである。
エーロゾルタイプとポンプタイプの噴霧器を含ん
でいる。例えばエーロゾルタイプの噴霧器では、
周囲に危険を及ぼし、そしてかかる噴霧器で噴射
されたエーロゾル物質が周囲に潜在的な害を及ぼ
すという理由によりこゝ数年かゝる噴霧器は不法
とされている。更にこのエーロゾルタイプのもの
は特に内部圧力に耐え得る構造の容器が必要であ
り、また子供が扱つて顔面や目に潜在的に害のあ
る物質が噴出される危険性がある。更には、エー
ロゾル物質と噴霧される物質との間で化学的に両
立しえないため使用上の限界がある。ポンプタイ
プの噴霧器は、先のエーロゾルタイプの欠点はな
いが、以下の若干の理由により満足なものではな
い。すなわち、噴霧するための圧力がプランジヤ
又はトリガ機構の使用者の指による操作によつて
発生されるために、使用が困難でかつ不正確とな
る欠点がある。更には、各噴霧が先述した如くプ
ランジヤやトリガ等の操作毎になされるので、噴
霧時間が制限され、よつて必要量の噴霧を行うた
めには何回も繰返して操作しなければならない欠
点がある。また子供によつて不注意に操作される
と潜在的害を有する物質が噴霧されるから、これ
また子供に危険を与えるものである。
本発明は上述した欠点を除去するためになされ
たものであり、従つて本発明によれば、スプレー
ノズルや操作器を一回操作するのみで比較的長く
かつ強い圧力による噴霧が可能な簡単で強固な装
置が得られる。更に、本発明の装置ではより大き
な噴霧圧力を発生するために極めて少ない入力圧
又はトルクでよく、また噴出される物質の圧力は
調整可能である。
たものであり、従つて本発明によれば、スプレー
ノズルや操作器を一回操作するのみで比較的長く
かつ強い圧力による噴霧が可能な簡単で強固な装
置が得られる。更に、本発明の装置ではより大き
な噴霧圧力を発生するために極めて少ない入力圧
又はトルクでよく、また噴出される物質の圧力は
調整可能である。
更には、物質の噴出を行うためには二回の操作
を行うようになつているために子供等へ与える危
険は減少する。また独特な漏洩逆流（リークバツ
ク）装置が設けられているので噴出されるべき圧
力印加された内容物が容器内へ徐々にリークバツ
クして行く。従つて噴出用貯蔵部には溜まること
がないから、子供等によつて続いてノズル等が活
性化されても物質の噴出は行われない。
を行うようになつているために子供等へ与える危
険は減少する。また独特な漏洩逆流（リークバツ
ク）装置が設けられているので噴出されるべき圧
力印加された内容物が容器内へ徐々にリークバツ
クして行く。従つて噴出用貯蔵部には溜まること
がないから、子供等によつて続いてノズル等が活
性化されても物質の噴出は行われない。
本発明の目的は機械的に動作し、比較的に低入
力圧を有するものを比較的高圧で噴出する噴射装
置を提供することである。
力圧を有するものを比較的高圧で噴出する噴射装
置を提供することである。
本発明の他の目的は、単に１回の噴出ノズル若
しくはバルブの操作により長い噴射時間が可能で
あり、従つてノズル若しくはバルブをくり返し操
作することなしに必要な量の物質を噴出すること
が可能な機械的に動作する噴射装置を提供するこ
とである。
しくはバルブの操作により長い噴射時間が可能で
あり、従つてノズル若しくはバルブをくり返し操
作することなしに必要な量の物質を噴出すること
が可能な機械的に動作する噴射装置を提供するこ
とである。
本発明の更に他の目的は、加圧して噴出される
べき物質の貯蔵量を徐々に増大して貯蔵する貯蔵
手段を有し、そして実質的に一定の噴出圧力で必
要な時間貯蔵手段から物質を連続的に、選択的に
噴出しうる手段を有する機械的に動作する噴射装
置を提供することである。
べき物質の貯蔵量を徐々に増大して貯蔵する貯蔵
手段を有し、そして実質的に一定の噴出圧力で必
要な時間貯蔵手段から物質を連続的に、選択的に
噴出しうる手段を有する機械的に動作する噴射装
置を提供することである。
本発明の別の目的は、長い時間物質の噴出を行
うために加圧下で物質を貯蔵する貯蔵手段を含み
また注水治療やかん腸のために用いることができ
従つて、従来用いることが困難であつた注水治療
やかん腸等に容易に用いることの可能な、機械的
に動作する噴射装置を提供することである。
うために加圧下で物質を貯蔵する貯蔵手段を含み
また注水治療やかん腸のために用いることができ
従つて、従来用いることが困難であつた注水治療
やかん腸等に容易に用いることの可能な、機械的
に動作する噴射装置を提供することである。
本発明の他の目的は、異なる物質を貯蔵するた
め複数の貯蔵手段と貯蔵手段からの物質を放出し
て混合し、必要な時間加圧して噴出する手段とを
含む機械的に動作する噴射装置を提供することで
ある。
め複数の貯蔵手段と貯蔵手段からの物質を放出し
て混合し、必要な時間加圧して噴出する手段とを
含む機械的に動作する噴射装置を提供することで
ある。
本発明の更に他の目的は、加圧動作可能でかつ
加圧下で物質の貯蔵のための貯蔵手段中へ噴出す
べき物質を徐々に導入する第１の拡張自在の空間
画定手段と、貯蔵手段から貯蔵された加圧下の物
質を噴出させる手段とを含み、スプレーノズル若
しくはリリーズバルブを単に１回操作するのみで
長い時間物質の加圧噴出が可能な機械的に動作す
る噴射装置を提供することである。
加圧下で物質の貯蔵のための貯蔵手段中へ噴出す
べき物質を徐々に導入する第１の拡張自在の空間
画定手段と、貯蔵手段から貯蔵された加圧下の物
質を噴出させる手段とを含み、スプレーノズル若
しくはリリーズバルブを単に１回操作するのみで
長い時間物質の加圧噴出が可能な機械的に動作す
る噴射装置を提供することである。
本発明の別の目的は、実質的に連続して長い時
間物質を加圧噴出することのできる貯蔵手段を含
み、ねじ山のあるびんや容器等に容易に取付けら
れる機械的に動作する噴射装置を提供することで
ある。
間物質を加圧噴出することのできる貯蔵手段を含
み、ねじ山のあるびんや容器等に容易に取付けら
れる機械的に動作する噴射装置を提供することで
ある。
本発明の更に別の目的は、実質的に連続した加
圧噴出のために加圧下で物質を貯蔵蓄積する手段
を含み、金属容器等に取付けることのできる機械
的に動作する噴射装置を提供することである。
圧噴出のために加圧下で物質を貯蔵蓄積する手段
を含み、金属容器等に取付けることのできる機械
的に動作する噴射装置を提供することである。
本発明の目的は、比較的構成が簡単なかつ製造
上安価な装置であつて、少ない部品を用いて容易
にモールド可能であり、経済的で機械的に動作す
る噴射装置を提供することである。
上安価な装置であつて、少ない部品を用いて容易
にモールド可能であり、経済的で機械的に動作す
る噴射装置を提供することである。
本発明の目的は、物質の噴出のために加圧下で
物質を貯蔵する手段と、貯蔵手段に関連して設け
られた漏洩逆流手段とを含み、貯蔵物質が所定期
間中に容器へ漏洩して逆流し、もつて以前に貯蔵
されていた物質が子供等により扱われたときに予
期せざる噴出の危険を防止することのできる機械
的に動作する噴射装置を提供することである。
物質を貯蔵する手段と、貯蔵手段に関連して設け
られた漏洩逆流手段とを含み、貯蔵物質が所定期
間中に容器へ漏洩して逆流し、もつて以前に貯蔵
されていた物質が子供等により扱われたときに予
期せざる噴出の危険を防止することのできる機械
的に動作する噴射装置を提供することである。
本発明の更に他の目的は、加圧下で物質を徐々
に貯蔵して行く貯蔵手段を含み、長い期間実質的
に一定の圧力で物質を連続して噴出することが可
能であり、また貯蔵手段にバイパス手段が設けら
れているから、貯蔵物質への貯蔵手段の過剰圧力
を除くことのできる機械的に動作する噴射装置を
提供することである。
に貯蔵して行く貯蔵手段を含み、長い期間実質的
に一定の圧力で物質を連続して噴出することが可
能であり、また貯蔵手段にバイパス手段が設けら
れているから、貯蔵物質への貯蔵手段の過剰圧力
を除くことのできる機械的に動作する噴射装置を
提供することである。
本発明の別の目的は、装置外部で可動自在な手
動操作用部材を有し、当該部材は第１の拡張自在
な空間画定部材と連結されており、この画定部材
が貯蔵手段中に物質を徐々に貯蔵するように動作
し、実質的に連続した一定の圧力噴霧状態で長い
時間物質を噴出するものであり、当該操作用部材
は貯蔵手段から物質が放出されている間静止状態
にあるような機械的に動作する噴射装置を提供す
ることである。
動操作用部材を有し、当該部材は第１の拡張自在
な空間画定部材と連結されており、この画定部材
が貯蔵手段中に物質を徐々に貯蔵するように動作
し、実質的に連続した一定の圧力噴霧状態で長い
時間物質を噴出するものであり、当該操作用部材
は貯蔵手段から物質が放出されている間静止状態
にあるような機械的に動作する噴射装置を提供す
ることである。
以下本発明を添付図面を用いて詳述する。
第１図乃至第５図は本発明の一実施例を示す図
であり、装置D1は本体１０を含み、本体１０
は、適当な容器Ｃのねじ山が設けられた頚部と係
合するための内部ねじ山１３をその内壁に有する
下方向に延びた環状の筒状部材１２が設けられた
大略円板状の基板１１を有している。第１の空間
画定部材１４は基板の上面で実質的に基板の中心
に当該基板１１と一体に設けられており、また伝
達シリンダである第１及び第２のピストン室を画
定する互いに反対にかつ外方向に開口した円筒状
の孔１５及び１６を含んでいる。このピストン室
は共に開口した外部端を有し画定用の壁部材１７
内でその内部端が終端している。この壁部材１７
は、ピストン室１５及び１６とその両端で連結し
た下端部を通して伸長した通路１８を有してい
る。当該壁１７はまた、通路１８とその下端で連
結した上方向に貫通して伸長した長孔１９を有し
ており、その上面では直径が大となつた部分２０
を有している。
であり、装置D1は本体１０を含み、本体１０
は、適当な容器Ｃのねじ山が設けられた頚部と係
合するための内部ねじ山１３をその内壁に有する
下方向に延びた環状の筒状部材１２が設けられた
大略円板状の基板１１を有している。第１の空間
画定部材１４は基板の上面で実質的に基板の中心
に当該基板１１と一体に設けられており、また伝
達シリンダである第１及び第２のピストン室を画
定する互いに反対にかつ外方向に開口した円筒状
の孔１５及び１６を含んでいる。このピストン室
は共に開口した外部端を有し画定用の壁部材１７
内でその内部端が終端している。この壁部材１７
は、ピストン室１５及び１６とその両端で連結し
た下端部を通して伸長した通路１８を有してい
る。当該壁１７はまた、通路１８とその下端で連
結した上方向に貫通して伸長した長孔１９を有し
ており、その上面では直径が大となつた部分２０
を有している。
孔部１９及び２０はスプリング部材２２が設け
られた上方向に向いた肩部２１を画定している。
Ｏリング封止部材２３は、噴射手段２５の下方に
伸長した管状部材２４と係合して封止するために
下端部近傍で孔１９に嵌合されている。管状部材
２４は、第２図及び第３図に示す位置に通常は噴
射手段２５を付勢するスプリング２２と協働する
端部で直径が大きい環状部分２６を有している。
管状部材２４はまた、それと同軸に貫通しかつ管
状部材２４の下端部から上方向に位置した終端部
を有する長手方向の通路２７が設けられており、
当該通路２７の終端部でその通路と連結した横方
向の通路２８が通路２７内に設けられている。
られた上方向に向いた肩部２１を画定している。
Ｏリング封止部材２３は、噴射手段２５の下方に
伸長した管状部材２４と係合して封止するために
下端部近傍で孔１９に嵌合されている。管状部材
２４は、第２図及び第３図に示す位置に通常は噴
射手段２５を付勢するスプリング２２と協働する
端部で直径が大きい環状部分２６を有している。
管状部材２４はまた、それと同軸に貫通しかつ管
状部材２４の下端部から上方向に位置した終端部
を有する長手方向の通路２７が設けられており、
当該通路２７の終端部でその通路と連結した横方
向の通路２８が通路２７内に設けられている。
伝達ピストンである一対のピストン２９及び３
０はピストン室１５及び１６内で往復運動を行う
ように設けられており、その横断面が大略Ｔ字形
をした後方に伸長した本体部分３１及び３２を有
しており、当該本体部分はそれぞれ上方向突起３
５及び３６がその上面に設けられた切断部分３３
及び３４を有している。
０はピストン室１５及び１６内で往復運動を行う
ように設けられており、その横断面が大略Ｔ字形
をした後方に伸長した本体部分３１及び３２を有
しており、当該本体部分はそれぞれ上方向突起３
５及び３６がその上面に設けられた切断部分３３
及び３４を有している。
手動操作可能で、外部に面した操作又は荷重部
材（手段）３７が本体１０に取付けられており、
上壁３８、及び基板１１の底面下にその下端が突
出した下方向の環状の筒状周壁３９を有してい
る。スナツプスプリング４０の如き適当な係止部
材が筒状周壁３９の下端と基板１１との間に嵌合
されて当該装置の操作位置に操作又は荷重部材を
係止している。操作部材は本体１０に対して回動
自在であり下面上で下方に突出した波状構成４１
を有しており、また同様にその下面上で波状構成
４１と共に形成された波状のカムトラツク４２を
有している。ピストン２９及び３０上の上方向突
起３５及び３６がカムトラツク４２とかみ合い、
よつて操作部材３７を回動させることによりピス
トン２９及び３０が往復運動をすることになりピ
ストン室１５及び１６内へ容器から物質が交互に
吸収されて、貯蔵室４３中へ放出される。
材（手段）３７が本体１０に取付けられており、
上壁３８、及び基板１１の底面下にその下端が突
出した下方向の環状の筒状周壁３９を有してい
る。スナツプスプリング４０の如き適当な係止部
材が筒状周壁３９の下端と基板１１との間に嵌合
されて当該装置の操作位置に操作又は荷重部材を
係止している。操作部材は本体１０に対して回動
自在であり下面上で下方に突出した波状構成４１
を有しており、また同様にその下面上で波状構成
４１と共に形成された波状のカムトラツク４２を
有している。ピストン２９及び３０上の上方向突
起３５及び３６がカムトラツク４２とかみ合い、
よつて操作部材３７を回動させることによりピス
トン２９及び３０が往復運動をすることになりピ
ストン室１５及び１６内へ容器から物質が交互に
吸収されて、貯蔵室４３中へ放出される。
貯蔵室４３は貯蔵シリンダである第２の空間画
定部材４４内で画定されており、当該部材４４
は、基板１１内の凹部４７と嵌合しかつ超音波封
止が接着剤等によりそれに固着された上壁４６を
有する円筒状ハウジングを含んでいる。この上壁
４６は貫通して設けられた中央開口４８を含み、
可撓性の羽打バルブ４９が開口４８を覆つて上壁
４６の下面に取付けられており、貯蔵室４３内の
物質の圧力に抗して開口を塞ぎ、また管状部材２
４を開口４８を通して下方向へ動かして羽打バル
ブ４９と係合させて開くことが可能となつてい
る。Ｏリング封止材５０は、上壁４６と基板１１
との間の接合部すなわち分離線で開口４８内に設
けられており、それにより、管状部材２４が開口
４８を貫通して押し下げられた場合にその管状部
材２４の側面と係合して封止し、管状部材２４を
通り越して物質が逃げるのを防止している。管状
部材２４の下方向移動状態では、その中の横方向
通路２８はＯリング５０下に位置しているため
に、貯蔵室４３内の物質は管状部材を通して上方
へ出ることが可能であり、噴射手段２５を通つて
噴出される。底壁５１は円筒状ハウジング４５の
下端にて適当に封止されており、かつその中央に
開口５１ａを有している。貯蔵ピストンであるピ
ストン５２はハウジング４５内で往復運動可能に
摺動自在に設けられており、コイル状スプリング
５３の如き付勢部材が底壁５１とピストンの下面
との間に係止され、ピストンを上方に付勢してい
る。従つて貯蔵室４３内の物質には圧力が加えら
れていることになる。ブローバイ通路５４は円筒
状ハウジング４５の側壁の内面に形成されてお
り、ピストン５２が最下位置にあるときにピスト
ン５２の上面より高い位置まで底壁５１から上方
へ延びている。従つて、貯蔵室には物質が余分に
貯蔵されていることがない。換言すれば、操作部
材３７をピストン２９及び３０に往復運動をさせ
るために回動したときに物質が貯蔵室内に徐々に
蓄えられ、従つてピストン５２が次第に下方へ下
がり、ピストン５２が最下部へ来たときには、貯
蔵室内へ導入された過剰の物質は通路５４を通つ
てピストンをバイパスして容器へもどることにな
る。
定部材４４内で画定されており、当該部材４４
は、基板１１内の凹部４７と嵌合しかつ超音波封
止が接着剤等によりそれに固着された上壁４６を
有する円筒状ハウジングを含んでいる。この上壁
４６は貫通して設けられた中央開口４８を含み、
可撓性の羽打バルブ４９が開口４８を覆つて上壁
４６の下面に取付けられており、貯蔵室４３内の
物質の圧力に抗して開口を塞ぎ、また管状部材２
４を開口４８を通して下方向へ動かして羽打バル
ブ４９と係合させて開くことが可能となつてい
る。Ｏリング封止材５０は、上壁４６と基板１１
との間の接合部すなわち分離線で開口４８内に設
けられており、それにより、管状部材２４が開口
４８を貫通して押し下げられた場合にその管状部
材２４の側面と係合して封止し、管状部材２４を
通り越して物質が逃げるのを防止している。管状
部材２４の下方向移動状態では、その中の横方向
通路２８はＯリング５０下に位置しているため
に、貯蔵室４３内の物質は管状部材を通して上方
へ出ることが可能であり、噴射手段２５を通つて
噴出される。底壁５１は円筒状ハウジング４５の
下端にて適当に封止されており、かつその中央に
開口５１ａを有している。貯蔵ピストンであるピ
ストン５２はハウジング４５内で往復運動可能に
摺動自在に設けられており、コイル状スプリング
５３の如き付勢部材が底壁５１とピストンの下面
との間に係止され、ピストンを上方に付勢してい
る。従つて貯蔵室４３内の物質には圧力が加えら
れていることになる。ブローバイ通路５４は円筒
状ハウジング４５の側壁の内面に形成されてお
り、ピストン５２が最下位置にあるときにピスト
ン５２の上面より高い位置まで底壁５１から上方
へ延びている。従つて、貯蔵室には物質が余分に
貯蔵されていることがない。換言すれば、操作部
材３７をピストン２９及び３０に往復運動をさせ
るために回動したときに物質が貯蔵室内に徐々に
蓄えられ、従つてピストン５２が次第に下方へ下
がり、ピストン５２が最下部へ来たときには、貯
蔵室内へ導入された過剰の物質は通路５４を通つ
てピストンをバイパスして容器へもどることにな
る。
第３，５図に示す様に、円筒状ハウジング４５
の１側部に沿つて軸方向に拡張部分５５が形成さ
れており、その中を通路５６が貫通して設けられ
ている。当該拡張部分５５は空間画定部材４４の
底壁５１の下で下端が下方向へ突出しており、筒
状部分５８を有している。筒状部分５８は容器Ｃ
の底近傍に伸長しており、そこから物質を導入す
る。チエツクバルブ５９が通路５６の上端に設け
られ、水平方向に伸長した通路６０から通路５６
への逆流防止となつている。この通路６０は一端
が通路５６と、又他端が通路１８と連結してい
る。従つて、ピストン２９及び３０が外方向に摺
動したとき、ピストン室１５及び１６は拡大し、
よつて管状部分５８及び通路５６を通つて上方向
に吸引され、チエツクバルブ５９を介して通路６
０及び１８を通つてピストン室内へ導入される。
次にピストンを内方向へ摺動させると、ピストン
室内の物質は押圧されて下方へ付勢され、開口４
８及び羽打バルブ４９を通して貯蔵室４３へ導入
される。
の１側部に沿つて軸方向に拡張部分５５が形成さ
れており、その中を通路５６が貫通して設けられ
ている。当該拡張部分５５は空間画定部材４４の
底壁５１の下で下端が下方向へ突出しており、筒
状部分５８を有している。筒状部分５８は容器Ｃ
の底近傍に伸長しており、そこから物質を導入す
る。チエツクバルブ５９が通路５６の上端に設け
られ、水平方向に伸長した通路６０から通路５６
への逆流防止となつている。この通路６０は一端
が通路５６と、又他端が通路１８と連結してい
る。従つて、ピストン２９及び３０が外方向に摺
動したとき、ピストン室１５及び１６は拡大し、
よつて管状部分５８及び通路５６を通つて上方向
に吸引され、チエツクバルブ５９を介して通路６
０及び１８を通つてピストン室内へ導入される。
次にピストンを内方向へ摺動させると、ピストン
室内の物質は押圧されて下方へ付勢され、開口４
８及び羽打バルブ４９を通して貯蔵室４３へ導入
される。
望ましくは第２図に示す如く漏洩用の孔６１を
円筒状ハウジング４５の上部近くの側壁に設け、
貯蔵室４３から容器Ｃへ物質をゆつくりとリーク
バツクさせることができる。こうすることにより
物質が貯蔵室４３内に長時間維持されることはな
く、よつて子供等が当該噴射装置を取付けた容器
を扱つて噴射手段２５を押圧しても、貯蔵室内か
ら物質が噴射されることはない。開口６１は、通
常動作時に貯蔵室から物質が噴出される時間や圧
力に影響を及ぼすことのないような十分に小さな
ものとする必要があり、他方、貯蔵室に蓄えられ
て所定時間の間に噴出されることのないようなと
きにはその物質がリークバツクしうるような大き
さでなければならない。
円筒状ハウジング４５の上部近くの側壁に設け、
貯蔵室４３から容器Ｃへ物質をゆつくりとリーク
バツクさせることができる。こうすることにより
物質が貯蔵室４３内に長時間維持されることはな
く、よつて子供等が当該噴射装置を取付けた容器
を扱つて噴射手段２５を押圧しても、貯蔵室内か
ら物質が噴射されることはない。開口６１は、通
常動作時に貯蔵室から物質が噴出される時間や圧
力に影響を及ぼすことのないような十分に小さな
ものとする必要があり、他方、貯蔵室に蓄えられ
て所定時間の間に噴出されることのないようなと
きにはその物質がリークバツクしうるような大き
さでなければならない。
本発明の他の実施例を第６図にD2として示
す。装置D2の一部は説明の便宜上取り除かれて
示してある。装置D2の構造及び動作は第１図乃
至第５図で述べたものと実質的に同じである。異
なる部分としては、ピストン５２′が一対の封止
用リング５２ａ及び５２ｂを有しており、ハウジ
ング４５′内でコイルスプリングの代りに、ピス
トン５２′を上方に付勢するために、空間画定部
材４４′の室６２内に空気等の圧力流体を用いた
ものである。適当な付属物６３が装置D2の組立
前に室６２を充填するために設けられている。
す。装置D2の一部は説明の便宜上取り除かれて
示してある。装置D2の構造及び動作は第１図乃
至第５図で述べたものと実質的に同じである。異
なる部分としては、ピストン５２′が一対の封止
用リング５２ａ及び５２ｂを有しており、ハウジ
ング４５′内でコイルスプリングの代りに、ピス
トン５２′を上方に付勢するために、空間画定部
材４４′の室６２内に空気等の圧力流体を用いた
ものである。適当な付属物６３が装置D2の組立
前に室６２を充填するために設けられている。
本実施例においては、ピストン５２′の封止用
リング５２ａは室６２内の加圧されたガス流体を
封止するのに用いられ、他方封止用リング５２ｂ
は貯蔵部４３内の物質を封止するのに用いられ
る。
リング５２ａは室６２内の加圧されたガス流体を
封止するのに用いられ、他方封止用リング５２ｂ
は貯蔵部４３内の物質を封止するのに用いられ
る。
本発明の他の実施例を第７図乃至第９図に示し
当該装置D3は、容器Ｃに取付けるために内部に
ねじ山が設けられた下方向に延びた円筒状壁１２
を有する基板１１ａを含む本体１０′を有してい
る。基板１１ａの上面には基板中に形成された半
円筒状の周壁を有する溝部６４が設けられてお
り、また横方向に伸長した半円筒状の空洞部６５
が溝部６４の内側で半径方向に設けられている。
そして軸方向に伸びた孔６６と空洞部６５の一端
とが連結しており、孔６６は円筒状壁１２の内方
向で下方向に延びた突起６７を貫通しており、管
５８がそれに嵌合されている。チエツクバルブ６
８は管５８と突起６７とを関連付けるものであ
り、通路６６から管５８を通る逆流を防ぐ。半円
筒状溝６９はその一端で半円筒の空洞６４と連絡
しており、他端で溝６４と連絡している。
当該装置D3は、容器Ｃに取付けるために内部に
ねじ山が設けられた下方向に延びた円筒状壁１２
を有する基板１１ａを含む本体１０′を有してい
る。基板１１ａの上面には基板中に形成された半
円筒状の周壁を有する溝部６４が設けられてお
り、また横方向に伸長した半円筒状の空洞部６５
が溝部６４の内側で半径方向に設けられている。
そして軸方向に伸びた孔６６と空洞部６５の一端
とが連結しており、孔６６は円筒状壁１２の内方
向で下方向に延びた突起６７を貫通しており、管
５８がそれに嵌合されている。チエツクバルブ６
８は管５８と突起６７とを関連付けるものであ
り、通路６６から管５８を通る逆流を防ぐ。半円
筒状溝６９はその一端で半円筒の空洞６４と連絡
しており、他端で溝６４と連絡している。
本体１０′はまた基板１１ａに取付けられ封止
された上部１１ｂを含んでおり、それには、基板
１１ａの溝６４と共に円筒状の周壁を有する貯蔵
室を画定するための相対する半円筒状の周壁を有
する溝６４ａが形成されている。上部１１ｂには
また、基板１１ａの半円筒状の空洞部６５と溝６
９と共に、円筒状のピストン室７２及び通路７３
を画定するための半円筒状の構造７１が一体に形
成されている。羽打バルブ７４は本体１０′に取
付けられており、通路７３の一端を貯蔵室７０と
連結してピストン室７０から貯蔵室７２中への流
入を可能とすると共に、その逆流を防止するもの
である。
された上部１１ｂを含んでおり、それには、基板
１１ａの溝６４と共に円筒状の周壁を有する貯蔵
室を画定するための相対する半円筒状の周壁を有
する溝６４ａが形成されている。上部１１ｂには
また、基板１１ａの半円筒状の空洞部６５と溝６
９と共に、円筒状のピストン室７２及び通路７３
を画定するための半円筒状の構造７１が一体に形
成されている。羽打バルブ７４は本体１０′に取
付けられており、通路７３の一端を貯蔵室７０と
連結してピストン室７０から貯蔵室７２中への流
入を可能とすると共に、その逆流を防止するもの
である。
ピストン７５はピストン室７２内で往復運動可
能でありカムトラツク４２′と係合した上方向突
起７６を有している。このトラツク４２′は操作
部材３７′の下面に波状の下方に突出した壁部４
１′の下面内に形成されており、そして環状貯蔵
室７０の内側で半径方向に設けられている。
能でありカムトラツク４２′と係合した上方向突
起７６を有している。このトラツク４２′は操作
部材３７′の下面に波状の下方に突出した壁部４
１′の下面内に形成されており、そして環状貯蔵
室７０の内側で半径方向に設けられている。
第７図及び第９図に示す如く、通路７７が貯蔵
室７０から空洞７８へ延びており、この空洞７８
には羽打バルブ７９が、噴射手段２５′の管状部
材８１中を貫通する孔８０を通常は閉じるように
取付けられている。スプリング８２が通常上方向
に付勢されるように管状部材８１と係合してい
る。ピストン８３が貯蔵室７０内で往復可能にな
つており、貯蔵室７０の容積を減ずる方向にスプ
リング４８により第１方向へ付勢されている。画
定用壁８５が貯蔵室７０内に設けられており、ピ
ストン８３と共に室の対向端部を画定している。
従つて、操作部材３７′を回動して、ピストン室
７２内でピストン７５を往復運動させ、管５８を
通してチエツクバルブ６８及び通路６６を介して
ピストン室７２内へ物質を吸引することができ
る。操作部材３７′を続けて回動させることによ
り、ピストン７５が動き、室７２の容積が小とな
り、よつて通路７３及び羽打バルブ７４を通つて
貯蔵室７０中に物量を導入することができる。更
に操作部材３７′の回動を続行してピストン７５
の往復運動をなせば、貯蔵室内に物質が導入さ
れ、よつて蓄積される。しかる後に、噴霧手段２
５を押圧すれば、管状部材８１が下方向に移動し
羽打バルブ７９を開けることになり、よつて通路
７７と管状部材８１中の開孔を通つて貯蔵室から
加圧された物質が放出される。
室７０から空洞７８へ延びており、この空洞７８
には羽打バルブ７９が、噴射手段２５′の管状部
材８１中を貫通する孔８０を通常は閉じるように
取付けられている。スプリング８２が通常上方向
に付勢されるように管状部材８１と係合してい
る。ピストン８３が貯蔵室７０内で往復可能にな
つており、貯蔵室７０の容積を減ずる方向にスプ
リング４８により第１方向へ付勢されている。画
定用壁８５が貯蔵室７０内に設けられており、ピ
ストン８３と共に室の対向端部を画定している。
従つて、操作部材３７′を回動して、ピストン室
７２内でピストン７５を往復運動させ、管５８を
通してチエツクバルブ６８及び通路６６を介して
ピストン室７２内へ物質を吸引することができ
る。操作部材３７′を続けて回動させることによ
り、ピストン７５が動き、室７２の容積が小とな
り、よつて通路７３及び羽打バルブ７４を通つて
貯蔵室７０中に物量を導入することができる。更
に操作部材３７′の回動を続行してピストン７５
の往復運動をなせば、貯蔵室内に物質が導入さ
れ、よつて蓄積される。しかる後に、噴霧手段２
５を押圧すれば、管状部材８１が下方向に移動し
羽打バルブ７９を開けることになり、よつて通路
７７と管状部材８１中の開孔を通つて貯蔵室から
加圧された物質が放出される。
第１０図には本発明の更に他の実施例を示し、
装置D4は前述の実施例装置と基本的に動作構成
が同等であるが、本例においては、噴射用ノズル
２５や２５′の代りに装置中に延びて羽打バルブ
を開けるための管状部材８４を有するバルブ作動
ボタン８３が設けられている。チユーブ８５が出
力部８６につながれており、必要なときに用いる
放出管８７へ加圧流体を運ぶ。
装置D4は前述の実施例装置と基本的に動作構成
が同等であるが、本例においては、噴射用ノズル
２５や２５′の代りに装置中に延びて羽打バルブ
を開けるための管状部材８４を有するバルブ作動
ボタン８３が設けられている。チユーブ８５が出
力部８６につながれており、必要なときに用いる
放出管８７へ加圧流体を運ぶ。
例えば、本発明の当該装置は注水治療やかん腸
等を施す場合に用いることができる。この場合、
噴出圧力はチユーブ８５内に設けた適当な従来の
手段を用いて調整することができるし、また装置
内の流体の通路に取付けられた手段を用いて適当
な圧力に制御することができる。
等を施す場合に用いることができる。この場合、
噴出圧力はチユーブ８５内に設けた適当な従来の
手段を用いて調整することができるし、また装置
内の流体の通路に取付けられた手段を用いて適当
な圧力に制御することができる。
第１１図は本発明の別の実施例を示す図であ
り、装置D5は、前述の例と基本的には同じ動作
構成を有するものであるが、容器の上部に位置す
る代りに、容器の底部に設けられる。その場合に
は長いチユーブ（図示しない）を噴射機構２５か
ら容器の底部近くまで延在させる。
り、装置D5は、前述の例と基本的には同じ動作
構成を有するものであるが、容器の上部に位置す
る代りに、容器の底部に設けられる。その場合に
は長いチユーブ（図示しない）を噴射機構２５か
ら容器の底部近くまで延在させる。
第１２図は本発明の他の実施例を示す図で、第
３図の例と実質的に同一であるが、通路５６の上
端に位置しているチエツクバルブ５９′が通路５
６の下端でその突出部５７′中に設けられてい
る。
３図の例と実質的に同一であるが、通路５６の上
端に位置しているチエツクバルブ５９′が通路５
６の下端でその突出部５７′中に設けられてい
る。
第１３図乃至第１５図には本発明の別の実施例
を示し、当該装置D7は、上壁８９及び下方に延
びた円筒状周壁９０を有する大略逆カツプ状の操
作部材若しくは荷重部材８８を含んでいる。下方
に突出したウエブ若しくは壁９１は操作部材８８
とその一端で一体に形成され、ソケツト又は凹部
がその下面に形成されている。本体９３は、容器
Ｃ上のねじ山と係合するねじ山を内面に有する下
方に延びた円筒状壁９４を有し、更に貯蔵室９６
を画定し壁９４の内側で半径方向に設けられた下
方に延びた円筒状壁９５を有している。ピストン
９７は貯蔵室内で往復運動自在であり室９６の容
積を減少する方向にスプリング９８により上方へ
付勢されている。閉塞用壁９９は壁９５の底部に
取付けられ中央に貫通孔１００を有する。
を示し、当該装置D7は、上壁８９及び下方に延
びた円筒状周壁９０を有する大略逆カツプ状の操
作部材若しくは荷重部材８８を含んでいる。下方
に突出したウエブ若しくは壁９１は操作部材８８
とその一端で一体に形成され、ソケツト又は凹部
がその下面に形成されている。本体９３は、容器
Ｃ上のねじ山と係合するねじ山を内面に有する下
方に延びた円筒状壁９４を有し、更に貯蔵室９６
を画定し壁９４の内側で半径方向に設けられた下
方に延びた円筒状壁９５を有している。ピストン
９７は貯蔵室内で往復運動自在であり室９６の容
積を減少する方向にスプリング９８により上方へ
付勢されている。閉塞用壁９９は壁９５の底部に
取付けられ中央に貫通孔１００を有する。
本体９３の上面には半円筒状弓形溝１０１が形
成され、上部本体部１０３に形成された同様な半
円筒状溝１０２と共に、隔壁１０６の両側で一対
の円筒状の弓形のピストン室１０４及び１０５を
画定している。操作部材８８のウエブ若しくは突
出部９１に対して直径線上で実質的に反対側に当
該隔壁１０６は位置している。
成され、上部本体部１０３に形成された同様な半
円筒状溝１０２と共に、隔壁１０６の両側で一対
の円筒状の弓形のピストン室１０４及び１０５を
画定している。操作部材８８のウエブ若しくは突
出部９１に対して直径線上で実質的に反対側に当
該隔壁１０６は位置している。
半円形で両端を有するピストン１０７が上部及
び下部本体１０３と９３により画定された円形の
ピストン室内で往復運動可能であり、ピストンの
中間で一部切欠かれた部分１０８に上方向突起１
０９が設けられており、操作部材８８のウエブ９
１内のソケツト９２と係合し、よつて両方向に操
作部材８８を回動させると、ピストン１０７は各
ピストン室１０４及び１０５内を往復運動するこ
とになる。従つてピストンヘツド１０７ａ及び１
０７ｂは、各ピストン室内へ物質を吸収若しくは
放出する動作を交互に行う。
び下部本体１０３と９３により画定された円形の
ピストン室内で往復運動可能であり、ピストンの
中間で一部切欠かれた部分１０８に上方向突起１
０９が設けられており、操作部材８８のウエブ９
１内のソケツト９２と係合し、よつて両方向に操
作部材８８を回動させると、ピストン１０７は各
ピストン室１０４及び１０５内を往復運動するこ
とになる。従つてピストンヘツド１０７ａ及び１
０７ｂは、各ピストン室内へ物質を吸収若しくは
放出する動作を交互に行う。
そして、通路５６が貯蔵室ハウジング９５の一
側面上の拡張部分５５中を通して形成され、バル
ブ５９′がその中に設けられている。従つて、ピ
ストン１０７が例えば第１３図において時計方向
へ移動したときピストンヘツド１０７ｂはピスト
ン室１０５を増大させてバルブ室１０８ａへの吸
引が生じ、バルブ１０９ａが移動して通路１１０
と５６とが連結される。よつて物質が通路５６及
びバルブ１０９ａを介してピストン室１０５中へ
導入される。同時に、ピストンヘツド１０７ａは
隔壁１０６へ向つて移動するから、ピストン室１
０４の容積が減少し、圧力が生じてバルブ室１０
８ｂのバルブ１０９ｂを移動させて、通路１１
０，５６とピストン室１０４との間の連結を防止
する。しかしながら、圧力は通路１１１を通して
伝達されるから、バルブ１１２が右方向へ移動
し、室１１４内で通路１１１と１１３と連結され
ることになる。従つて、前にピストン室１０４中
へ導入されていた物質は貯蔵室９６中へ通路１１
１及び１１３を通して放出される。ピストン１０
７を反対方向すなわち反時計方向に移動させたと
きには、第３図の矢印で示すような流れが生じ
る。従つて操作部材８８を両方向に回動させるこ
とにより、ピストン１０７が往復運動をなし、貯
蔵室９６内へ物質を徐々に蓄えることができ、噴
出手段２５により噴出させることができる。
側面上の拡張部分５５中を通して形成され、バル
ブ５９′がその中に設けられている。従つて、ピ
ストン１０７が例えば第１３図において時計方向
へ移動したときピストンヘツド１０７ｂはピスト
ン室１０５を増大させてバルブ室１０８ａへの吸
引が生じ、バルブ１０９ａが移動して通路１１０
と５６とが連結される。よつて物質が通路５６及
びバルブ１０９ａを介してピストン室１０５中へ
導入される。同時に、ピストンヘツド１０７ａは
隔壁１０６へ向つて移動するから、ピストン室１
０４の容積が減少し、圧力が生じてバルブ室１０
８ｂのバルブ１０９ｂを移動させて、通路１１
０，５６とピストン室１０４との間の連結を防止
する。しかしながら、圧力は通路１１１を通して
伝達されるから、バルブ１１２が右方向へ移動
し、室１１４内で通路１１１と１１３と連結され
ることになる。従つて、前にピストン室１０４中
へ導入されていた物質は貯蔵室９６中へ通路１１
１及び１１３を通して放出される。ピストン１０
７を反対方向すなわち反時計方向に移動させたと
きには、第３図の矢印で示すような流れが生じ
る。従つて操作部材８８を両方向に回動させるこ
とにより、ピストン１０７が往復運動をなし、貯
蔵室９６内へ物質を徐々に蓄えることができ、噴
出手段２５により噴出させることができる。
本発明の更に別の実施例を第１６図乃至第１８
図に示す。当該装置D8は大略逆カツプ状の操作
部材１１５を含んでおり、当該部材１１５は上壁
１１６と下方向に延びた側壁１１７とを有してい
る。そして下方に突出した波状構造１１８が操作
部材１１５の内側で側壁１１７の上縁端近傍に設
けられ、その下面にはその波状と対応した形状の
カムトラツク１１９を有している。底面板１２０
は操作部材１１５に組込まれており、大略半径方
向に形成された上方向の伸長部１２１を有しま
た、一対の対向したピストン室１２３及び１２４
を画定する中間に位置した隔壁１２２を有してい
る。ピストン１２５及び１２６はピストン室１２
３及び１２４中で往復運動自在であり、互いにカ
ムトラツク１１９と係合した上方向突起１２７及
び１２８を有している。従つて操作部材１１５の
回動によつて、ピストン１２５及び１２６が同時
に往復運動を行うことになる。一対の同様な貯蔵
室１２９及び１３０がユニツトとして形成されて
適当に固定されかつ基板１２０の下面に接着され
ている。そしてその中に互いに往復運動自在なよ
うにピストン１３１及び１３２を有している。室
１２９及び１３０は互いに通路１３３及び１３４
によりその上端部で連結されており、排出用管１
３６中の横方向の孔１３５と連結するように配置
されている。孔１３７は排出管１３６中を貫通し
て延びており、通路１３５と連結している。従つ
て貯蔵室１２９及び１３０内の各物質は通路１３
５に入り、混合されて通路１３６を通つて噴出さ
れる。本実施例の装置の特殊な用途の例として
は、液体を空気と混合させて泡を形成してシエー
ビングクリームとして噴出するために用いる。
図に示す。当該装置D8は大略逆カツプ状の操作
部材１１５を含んでおり、当該部材１１５は上壁
１１６と下方向に延びた側壁１１７とを有してい
る。そして下方に突出した波状構造１１８が操作
部材１１５の内側で側壁１１７の上縁端近傍に設
けられ、その下面にはその波状と対応した形状の
カムトラツク１１９を有している。底面板１２０
は操作部材１１５に組込まれており、大略半径方
向に形成された上方向の伸長部１２１を有しま
た、一対の対向したピストン室１２３及び１２４
を画定する中間に位置した隔壁１２２を有してい
る。ピストン１２５及び１２６はピストン室１２
３及び１２４中で往復運動自在であり、互いにカ
ムトラツク１１９と係合した上方向突起１２７及
び１２８を有している。従つて操作部材１１５の
回動によつて、ピストン１２５及び１２６が同時
に往復運動を行うことになる。一対の同様な貯蔵
室１２９及び１３０がユニツトとして形成されて
適当に固定されかつ基板１２０の下面に接着され
ている。そしてその中に互いに往復運動自在なよ
うにピストン１３１及び１３２を有している。室
１２９及び１３０は互いに通路１３３及び１３４
によりその上端部で連結されており、排出用管１
３６中の横方向の孔１３５と連結するように配置
されている。孔１３７は排出管１３６中を貫通し
て延びており、通路１３５と連結している。従つ
て貯蔵室１２９及び１３０内の各物質は通路１３
５に入り、混合されて通路１３６を通つて噴出さ
れる。本実施例の装置の特殊な用途の例として
は、液体を空気と混合させて泡を形成してシエー
ビングクリームとして噴出するために用いる。
空気が構造１２１中の開口１３８を通してピス
トン室１２３に吸引され、ピストン１２５がピス
トン室１２３の容積を減少させるように移動する
と開口１３８は羽打バルブ１３９により閉とな
る。ピストン室１２３内の空気は開口１４０及び
羽打バルブ１４１を介して貯蔵室１２９内に導入
される。同様に液体は通路１４２を通してピスト
ン室１２４内に吸引され、開口１４３及び羽打バ
ルブ１４４を通してピストン室１２４から排出さ
れる。
トン室１２３に吸引され、ピストン１２５がピス
トン室１２３の容積を減少させるように移動する
と開口１３８は羽打バルブ１３９により閉とな
る。ピストン室１２３内の空気は開口１４０及び
羽打バルブ１４１を介して貯蔵室１２９内に導入
される。同様に液体は通路１４２を通してピスト
ン室１２４内に吸引され、開口１４３及び羽打バ
ルブ１４４を通してピストン室１２４から排出さ
れる。
第１８図に示す如く、排出用管１３６はその下
端にてバルブプラグ若しくは閉塞用部材１４５を
有し、管１３６が上昇した位置すなわち非噴射位
置にあるとき開口１３３及び１３４を閉じる大き
さである。
端にてバルブプラグ若しくは閉塞用部材１４５を
有し、管１３６が上昇した位置すなわち非噴射位
置にあるとき開口１３３及び１３４を閉じる大き
さである。
本発明の他の実施例を第１９図にD9として示
し容器の上壁１５０上の環状ビード１４９と係合
した熱シールされた下方に延びた円筒状壁１４８
により金属等よりなる容器Ｃに取付けられたオー
バーカツプ１４７を含む。円筒状壁１４８は、オ
ーバーガツプ１４７に組み込まれた基板１５１上
に形成されており基板１５１はキー構造１５２に
より取付けられ、よつて基板１５１と容器との間
の相対的回転を防ぐ一方キヤツプ１４７と基板１
５１間の回転は可能となつている。
し容器の上壁１５０上の環状ビード１４９と係合
した熱シールされた下方に延びた円筒状壁１４８
により金属等よりなる容器Ｃに取付けられたオー
バーカツプ１４７を含む。円筒状壁１４８は、オ
ーバーガツプ１４７に組み込まれた基板１５１上
に形成されており基板１５１はキー構造１５２に
より取付けられ、よつて基板１５１と容器との間
の相対的回転を防ぐ一方キヤツプ１４７と基板１
５１間の回転は可能となつている。
円筒状ハウジング１５３は基板１５１の下面に
適当に取付けられており、貯蔵室１５４を画定し
ている。そしてピストン１５５がその中でスプリ
ング１５６により上方向に付勢されている。カム
プレート１５７はキヤツプ１４７と一体構成さ
れ、その下面に形成された下方に突出した波状構
成１５８を有し、カムトラツク１５９を形成す
る。基板１５１はまたその上に円筒状構成１６０
を有し、一対のピストン室１６１及び１６２を画
定している。このピストン室内ではピストン１６
３及び１６４が往復運動可能となつている。ピス
トン１６３及び１６４はカムトラツク１５９と係
合した上方向の突起１６５及び１６６を有し、よ
つてキヤツプ１４７を回動させることによりピス
トン１６３及び１６４が往復運動する。キヤツプ
はまた押しボタン若しくは上壁部１６７を含み、
軸方向の通路１６９が貫通して設けられた活性用
管状部材１６８が固定されている。従つて、ボタ
ン１６７を下方に動かすと、管状部材１６８が点
線で示す位置まで下がり、羽打バルブ１７０をあ
け、貯蔵室１５４から通路１６９及び噴射用ノズ
ル１７１を介して加圧された物量を放出可能とす
る。
適当に取付けられており、貯蔵室１５４を画定し
ている。そしてピストン１５５がその中でスプリ
ング１５６により上方向に付勢されている。カム
プレート１５７はキヤツプ１４７と一体構成さ
れ、その下面に形成された下方に突出した波状構
成１５８を有し、カムトラツク１５９を形成す
る。基板１５１はまたその上に円筒状構成１６０
を有し、一対のピストン室１６１及び１６２を画
定している。このピストン室内ではピストン１６
３及び１６４が往復運動可能となつている。ピス
トン１６３及び１６４はカムトラツク１５９と係
合した上方向の突起１６５及び１６６を有し、よ
つてキヤツプ１４７を回動させることによりピス
トン１６３及び１６４が往復運動する。キヤツプ
はまた押しボタン若しくは上壁部１６７を含み、
軸方向の通路１６９が貫通して設けられた活性用
管状部材１６８が固定されている。従つて、ボタ
ン１６７を下方に動かすと、管状部材１６８が点
線で示す位置まで下がり、羽打バルブ１７０をあ
け、貯蔵室１５４から通路１６９及び噴射用ノズ
ル１７１を介して加圧された物量を放出可能とす
る。
第２０図は本発明に更に他の実施例をD10で示
しトリガ操作機構１７２は、ピストン１７４が往
復運動可能に設けられたピストン室１７３を含ん
でいる。ピストンはスプリング１７５により外方
へ付勢されており、ピン１７６が室１７３の外側
に突出して引き金１７７と係合している。従つて
引き金１７７の移動により室１７３の容積を減ず
る方向にピストン１７４が動く。引き金を解除す
ると、第２０図に示すように左へピストン１７４
をスプリング１７５が付勢し、よつてピストン室
１７３内へ管１７８、バルブ１７９及び通路１８
０を介して物質が吸引される。引き金を後方へ移
動させると、室１７３内の物質が加圧され通路１
８１及び羽打バルブ１８２を介して貯蔵室１８３
内へ物質が導入される。よつて、貯蔵室内のピス
トン１８４がスプリング１８５の力に抗して下方
へ付勢される。
しトリガ操作機構１７２は、ピストン１７４が往
復運動可能に設けられたピストン室１７３を含ん
でいる。ピストンはスプリング１７５により外方
へ付勢されており、ピン１７６が室１７３の外側
に突出して引き金１７７と係合している。従つて
引き金１７７の移動により室１７３の容積を減ず
る方向にピストン１７４が動く。引き金を解除す
ると、第２０図に示すように左へピストン１７４
をスプリング１７５が付勢し、よつてピストン室
１７３内へ管１７８、バルブ１７９及び通路１８
０を介して物質が吸引される。引き金を後方へ移
動させると、室１７３内の物質が加圧され通路１
８１及び羽打バルブ１８２を介して貯蔵室１８３
内へ物質が導入される。よつて、貯蔵室内のピス
トン１８４がスプリング１８５の力に抗して下方
へ付勢される。
貯蔵室１８３から物質を噴射する場合には、噴
射手段１８６を押圧し、管状部材１８７を下方へ
移動させて羽打バルブ１８８を開にして、貯蔵室
１８３と通路１８９との間を連結する。
射手段１８６を押圧し、管状部材１８７を下方へ
移動させて羽打バルブ１８８を開にして、貯蔵室
１８３と通路１８９との間を連結する。
更に必要ならば、導入開口を容器のどこかに設
けて、内容物がなくなつたときに容器内に再び導
入して満たすことができる。その導入開口の例と
しては、容器の側部、上部、底部等必要な個所に
設けることが可能であり、上述したすべての実施
例に開口を設けることもできる。
けて、内容物がなくなつたときに容器内に再び導
入して満たすことができる。その導入開口の例と
しては、容器の側部、上部、底部等必要な個所に
設けることが可能であり、上述したすべての実施
例に開口を設けることもできる。
本発明は種々の改変が可能であり、図示した例
に限定されるものではなく、特許請求の範囲によ
り示されたすべての装置に及ぶ。
に限定されるものではなく、特許請求の範囲によ
り示されたすべての装置に及ぶ。
第１図は本発明の１実施例の一部分の上方向斜
視図、第２図は第１図の２−２線の矢視方向拡大
断面図、第３図は第２図の３−３線の矢視方向拡
大断面図、第４図は第１−３図の装置の使用時に
おける噴出機構の一部拡大した断面図、第５図は
第２図の５−５線の矢視方向断面図、第６図は第
１−５図の装置においてガス状流体若しくは物質
が貯蔵室で加圧された状態を示す一部拡大断面
図、第７図は本発明の他の実施例における第５図
と同様な拡大断面図、第８図は第７図の８−８線
の矢視方向拡大断面図、第９図は第７図の９−９
線の矢視方向一部拡大断面図、第１０図は本発明
の更に他の実施例を示す上方向の一部斜視図、第
１１図は本発明の別の実施例を示す斜視図、第１
２図は本発明の他の実施例を示すもので、第３図
の取入れバルブの他の例を示す一部拡大断面図、
第１３図は本発明の更に他の実施例を示すもの
で、第７図と同様な断面図、第１４図は第１３図
の１４−１４線の矢視方向断面図、第１５図は第
１３図の１５−１５線の矢視方向断面図、第１６
図は本発明の別の実施例の第１３図と同様な断面
図、第１７図は第１６図の１７−１７線の矢視方
向断面図、第１８図は第１７図の１８−１８線の
矢視方向拡大断面図、第１９図は本発明の他の実
施例の第１５図と同様な一部拡大断面図、第２０
図は本発明の更に他の実施例の第１９図と同様な
一部断面図、第２１図は第２０図の装置の正面図
である。 主要部分の符号の説明、１，１０′，９３……
本体、１１，１１ａ……基板、１５，１６，７
２，１０４，１０５，１２３，１２４，１６１，
１６２，１７３……ピストン室、２９，３０，７
５，１０７，１２５，１２６，１６３，１６４，
１７４……ピストン、３７，３７′，８８，１４
７，１７２……操作部材、４３，７０，９６，１
５４，１８３……貯蔵室、５２，５２′，９７，
１３１，１３２，１５５，１８４……加圧用ピス
トン、２５，２５′，１８６……操作用ボタン、
D1，D2，D3，D4，D5，D6，D7，D8，D9，D10…
…噴射装置、Ｃ……容器。
視図、第２図は第１図の２−２線の矢視方向拡大
断面図、第３図は第２図の３−３線の矢視方向拡
大断面図、第４図は第１−３図の装置の使用時に
おける噴出機構の一部拡大した断面図、第５図は
第２図の５−５線の矢視方向断面図、第６図は第
１−５図の装置においてガス状流体若しくは物質
が貯蔵室で加圧された状態を示す一部拡大断面
図、第７図は本発明の他の実施例における第５図
と同様な拡大断面図、第８図は第７図の８−８線
の矢視方向拡大断面図、第９図は第７図の９−９
線の矢視方向一部拡大断面図、第１０図は本発明
の更に他の実施例を示す上方向の一部斜視図、第
１１図は本発明の別の実施例を示す斜視図、第１
２図は本発明の他の実施例を示すもので、第３図
の取入れバルブの他の例を示す一部拡大断面図、
第１３図は本発明の更に他の実施例を示すもの
で、第７図と同様な断面図、第１４図は第１３図
の１４−１４線の矢視方向断面図、第１５図は第
１３図の１５−１５線の矢視方向断面図、第１６
図は本発明の別の実施例の第１３図と同様な断面
図、第１７図は第１６図の１７−１７線の矢視方
向断面図、第１８図は第１７図の１８−１８線の
矢視方向拡大断面図、第１９図は本発明の他の実
施例の第１５図と同様な一部拡大断面図、第２０
図は本発明の更に他の実施例の第１９図と同様な
一部断面図、第２１図は第２０図の装置の正面図
である。 主要部分の符号の説明、１，１０′，９３……
本体、１１，１１ａ……基板、１５，１６，７
２，１０４，１０５，１２３，１２４，１６１，
１６２，１７３……ピストン室、２９，３０，７
５，１０７，１２５，１２６，１６３，１６４，
１７４……ピストン、３７，３７′，８８，１４
７，１７２……操作部材、４３，７０，９６，１
５４，１８３……貯蔵室、５２，５２′，９７，
１３１，１３２，１５５，１８４……加圧用ピス
トン、２５，２５′，１８６……操作用ボタン、
D1，D2，D3，D4，D5，D6，D7，D8，D9，D10…
…噴射装置、Ｃ……容器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 噴出されるべき物質の入つた容器と、前記容
器により担持されかつ前記容器の外部で可動自在
な第１手動操作手段を有する本体と、 前記本体により担持されかつ前記物質を加圧下
で貯蔵する少くとも１つの貯蔵手段と、 前記本体により担持されかつ前記容器及び前記
貯蔵手段に連結されかつ前記物質を加圧して前記
貯蔵手段へ転送すべく前記容器から前記物質を導
入するための少なくとも１つの拡張自在空間画定
手段と、 所定時間押圧して前記貯蔵手段から前記物質を
外部へ噴出するために前記貯蔵手段と連結された
第２手動操作手段とからなり、 前記拡張自在空間画定手段は伝達シリンダと前
記伝達シリンダ内で往復運動可能な伝達ピストン
を有していること、 前記第１手動操作手段は前記伝達ピストンが前
記容器から前記貯蔵手段へ前記物質を徐々に増加
して導入するように繰り返し作動可能となるよう
に前記伝達ピストンに連結されて前記伝達ピスト
ンの往復運動を行なわしめること、 前記貯蔵手段は貯蔵シリンダと該貯蔵シリンダ
内で往復運動可能な貯蔵ピストンを含み、前記貯
蔵ピストンは前記伝達ピストンの面積より大であ
り、よつて前記拡張自在空間画定手段から前記貯
蔵手段へ前記物質を蓄積させることによつて増幅
された力が得られ、その結果、前記貯蔵手段へ前
記物質を蓄積するために前記拡張自在空間画定手
段を作動させるに必要な力よりも大きい前記貯蔵
手段からの噴射力を生じること、 及び、前記貯蔵手段の最大容積は前記拡張自在
空間画定手段の最大容積よりも大きい容積を有し
ており、前記第１手動操作手段が繰り返し作動す
ることにより前記貯蔵手段が前記物質に充たさ
れ、そして、前記第２手動操作手段を押圧して、
前記貯蔵手段から蓄積された前記物質を長く中断
することなく放出し得ることを特徴とする噴射装
置。 ２ 前記第１手動操作手段は回動部材と、前記回
動部材上に設けられたカムと、前記伝達ピストン
上に設けられ前記カムと係合する係合手段とを含
み、前記係合手段による前記カムの移動により前
記伝達ピストンが往復運動を行なうことを特徴と
する特許請求の範囲第１項の噴射装置。 ３ 一組の前記伝達ピストン及び伝達シリンダが
一対設けられ、前記伝達ピストン各々は前記伝達
ピストンを同時に往復運動させるための前記カム
と係合した係合手段を有していることを特徴とす
る特許請求の範囲第２項の噴射装置。 ４ 前記貯蔵手段は過剰圧力防止用のバイパス手
段を有することを特徴とする特許請求の範囲第１
項の噴射装置。 ５ 前記貯蔵手段は、前記物質が前記貯蔵手段か
ら前記容器へゆつくりと漏洩して逆流するように
漏洩逆流手段を有し、前記貯蔵手段中に蓄えられ
た物質が長時間その状態で放置されることがない
ようにしたことを特徴とする特許請求の範囲第１
項の噴射装置。 ６ 前記貯蔵手段は、前記貯蔵手段から前記物質
を放出する方向に前記貯蔵ピストンを付勢するた
めに前記第貯蔵シリンダ内に偏倚手段を設けたこ
とを特徴とする特許請求の範囲第３項の噴射装
置。 ７ 前記偏倚手段はコイル状スプリングであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第６項記載の噴射
装置。 ８ 前記偏倚手段は加圧ガス状物質を含むことを
特徴とする特許請求の範囲第６項の噴射装置。 ９ 前記拡張自在空間画定手段及び前記貯蔵手段
とが一方向バルブに連結され前記貯蔵手段への流
入及び流出が制御され、前記拡張自在空間画定手
段は繰り返し操作されて前記貯蔵手段中へ物質を
連続的に導入し前記物質が前記貯蔵手段内に蓄積
されることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の噴射装置。 １０ 前記第２手動操作手段は、前記貯蔵手段に
連結し前記物質を外部に放出する放出手段を有し
ており、前記放出手段により前記貯蔵手段から前
記物質が選択的に放出されることを特徴とする特
許請求の範囲第９項の噴射装置。 １１ 前記放出手段は、該放出手段の１回の操作
で前記貯蔵手段内の物質すべてを中断することな
く放出するように構成されていることを特徴とす
る特許請求の範囲第１０項の噴射装置。 １２ 前記本体は前記容器と前記本体との間の相
対的移動がないように前記本体自体を前記容器に
固定するための固定手段を有する基板を含み、前
記貯蔵シリンダは前記基板に担持され、前記第１
手動操作手段は前記基板により担持され前記基板
との間で回動自在な回動手段を含み、前記拡張自
在空間画定手段の前記伝達シリンダは前記基板に
より担持されていることを特徴とする特許請求の
範囲第１項の噴射装置。 １３ 前記固定手段は前記容器上のねじ部と係合
するねじ手段を含むことを特徴とする特許請求の
範囲第１２項の噴射装置。 １４ 前記固定手段は前記容器とクリンプ及び熱
封止して接続されることを特徴とする特許請求の
範囲第１２項の噴射装置。 １５ 前記貯蔵手段の貯蔵ピストン及び貯蔵シリ
ンダは前記容器の軸と一致した軸を有し前記基板
から下方に延びて前記容器内に位置していること
を特徴とする特許請求の範囲第１２項の噴射装
置。 １６ 前記貯蔵手段の貯蔵ピストン及び貯蔵シリ
ンダは前記基板上面に設けられ、前記貯蔵シリン
ダは前記本体の軸のまわりに弓形状に形成されて
いることを特徴とする特許請求の範囲第１２項の
噴射装置。 １７ 前記第２手動操作手段は、前記拡張自在空
間画定手段近傍で前記本体中で下方向に突出した
長い管状部材を有する放出手段を含んでおり、前
記貯蔵手段は前記管状部材と連結しうるように同
一線上に設けられた開口と前記開口を通常閉塞す
るバルブ閉塞手段とを有し、前記管状部材が前記
バルブ閉塞手段から離間した第１位置にあるとき
前記物質が前記貯蔵手段内に維持されており、ま
た前記管状部材が前記バルブ閉塞手段と係合して
前記貯蔵手段中へ延び前記バルブ閉塞手段を開状
態とする第２位置にあるとき前記貯蔵手段から物
質が前記管状部材を通して放出されるようになさ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第２項
の噴射装置。 １８ 前記拡張自在空間画定手段は前記第２手動
操作手段の軸のまわりに弓形状に延びた伝達シリ
ンダと、前記伝達シリンダ内で往復運動自在な同
じく弓形状で両端を有する伝達ピストンとを有し
ており、前記第１手動操作手段は前記伝達ピスト
ンに係合して前記伝達ピストンの往復運動を行な
わせ、前記伝達ピストンの両端間の前記伝達シリ
ンダ内に設けられた隔壁が前記伝達ピストンと共
に一対の空間を画定しており、前記第１手動操作
手段を両方向へ交互に回動させることにより前記
伝達ピストンが往復運動をなしよつて前記一対の
空間の１つの空間中へ物質を吸出し前記一対の空
間の他の空間から前記貯蔵手段中へ物質を放出す
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項の噴射
装置。 １９ 前記貯蔵手段は一対の貯蔵シリンダと前記
貯蔵シリンダの各々内で往復運動自在な貯蔵ピス
トンとを有し、前記拡張自在空間画定手段は一対
の伝達シリンダと前記伝達シリンダ内で往復運動
自在な伝達ピストンとを有し、前記拡張自在空間
画定手段の伝達シリンダの１つは前記貯蔵手段の
貯蔵シリンダの１つと連結しており、前記拡張自
在空間画定手段の伝達シリンダの他の１つは前記
貯蔵手段の貯蔵シリンダの他の１つと連結してお
り、これら伝達及び貯蔵シリンダ間にバルブが設
けられ、前記貯蔵手段の貯蔵シリンダの１つは前
記拡張自在空間画定手段の伝達シリンダの１つか
ら導入され、前記貯蔵手段の貯蔵シリンダの他の
１つは前記拡張自在空間画定手段の伝達シリンダ
の他の１つから導入され、前記拡張自在空間画定
手段の伝達シリンダの各々は互いに異なる物質と
関連しており、よつて前記貯蔵手段の貯蔵シリン
ダ各々は異なる物質をそれぞれ蓄えることを特徴
とする特許請求の範囲第１項の噴射装置。 ２０ 前記第２手動操作手段は前記貯蔵手段の貯
蔵シリンダ近傍の通路中に延びた管状部材を含
み、前記貯蔵手段の貯蔵シリンダ内に設けられた
開口が前記通路と連結されており、前記管状部材
が第１の位置にあるとき前記開口は通常バルブに
より閉塞されており、前記管状部材が第２の位置
に移動可能であり、当該第２の位置で前記バルブ
を開として前記貯蔵手段の貯蔵シリンダ及び前記
管状部材とを連結して前記貯蔵手段から前記物質
を混合して噴出することを特徴とする特許請求の
範囲第１９項の噴射装置。 ２１ 前記本体は前記容器に取付けられたオーバ
ーキヤツプを含み、前記オーバーキヤツプは前記
容器に対して回動自在であつてかつ前記第１手動
操作手段をなしており、また前記オーバーキヤツ
プはその頂部に押圧ボタンを有し、前記押圧ボタ
ンは前記第２手動操作手段の一部をなしているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項の噴射装
置。 ２２ 前記拡張自在空間画定手段の伝達シリンダ
及び前記貯蔵手段の貯蔵シリンダは互いに一方向
バルブにより連結されており、前記伝達シリンダ
から前記貯蔵シリンダへ前記物質を流入せしめ、
前記第１手動操作手段は前記本体の外部にて枢軸
により軸支されかつ前記伝達ピストンと連結され
た引き金を含み、前記引き金を操作することによ
つて前記伝達ピストンを前記伝達シリンダ内で往
復運動させ、前記容器から前記貯蔵シリンダ内へ
前記物質を吸引しかつ前記貯蔵シリンダ内へ加圧
下で前記物質を導入することを特徴とする特許請
求の範囲第１項の噴射装置。 ２３ 前記第２手動操作手段は、前記貯蔵手段に
連結され前記貯蔵手段から放出された前記物質を
受ける噴出用部材と、前記噴出用部材に連結され
前記物質を放出する放出管とを含むことを特徴と
する特許請求の範囲第１項の噴射装置。
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