JPS6134827B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6134827B2 JPS6134827B2 JP58168343A JP16834383A JPS6134827B2 JP S6134827 B2 JPS6134827 B2 JP S6134827B2 JP 58168343 A JP58168343 A JP 58168343A JP 16834383 A JP16834383 A JP 16834383A JP S6134827 B2 JPS6134827 B2 JP S6134827B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sterilization
- valve
- exhalation
- gas circulation
- fan
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Landscapes
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は主としてベツド用マツト、衣類を対象
とした滅菌可能な乾燥装置の改良に関する。
とした滅菌可能な乾燥装置の改良に関する。
従来のこの種滅菌乾燥装置は病人用マツトや患
者用衣類、その他の用具の滅菌用に供されるもの
で、一般には高圧蒸気滅菌器とエチレンオキサイ
ドガス滅菌器がある。
者用衣類、その他の用具の滅菌用に供されるもの
で、一般には高圧蒸気滅菌器とエチレンオキサイ
ドガス滅菌器がある。
すなわち、高圧蒸気滅菌器は高温、高湿度の蒸
気に高い圧力を加えて被滅菌物を滅菌処理するも
ので、高圧、高温、高湿度に耐えられない被滅菌
物のためにはエチレンオキサイドガスを滅菌ガス
として使用した低温ガス滅菌器が使用されてい
る。
気に高い圧力を加えて被滅菌物を滅菌処理するも
ので、高圧、高温、高湿度に耐えられない被滅菌
物のためにはエチレンオキサイドガスを滅菌ガス
として使用した低温ガス滅菌器が使用されてい
る。
しかし、高圧蒸気滅菌器を用いてリネン、ガー
ゼあるいはベツド用マツトなどの被滅菌物を滅菌
処理するために重ねられた被滅菌物の中心部まで
高温高圧蒸気を浸透させるにはかなりの時間が掛
り、能率的でなかつた。また、特に水分を含有し
ている被滅菌物の滅菌処理には長時間の処理時間
が必要であつた。
ゼあるいはベツド用マツトなどの被滅菌物を滅菌
処理するために重ねられた被滅菌物の中心部まで
高温高圧蒸気を浸透させるにはかなりの時間が掛
り、能率的でなかつた。また、特に水分を含有し
ている被滅菌物の滅菌処理には長時間の処理時間
が必要であつた。
また、エチレンオキサイドガス滅菌器を用いる
場合、被滅菌物の内部まで確実に滅菌処理するた
めにはエチレンオキサイドガスが被滅菌物の内部
にまで充分浸透するようにする必要があり、従つ
て滅菌室は被滅菌物の内部まで充分に減圧できる
ように高い真空状態が得られるように製作しなけ
ればならず、さらに滅菌後、被滅菌物の内部に浸
透したエチレンオキサイドガスの残留分を完全に
除去することは困難なものであり、残留ガスの中
和作業が必要となるという欠点があつた。また、
エチレンオキサイドガスは、水によつて変質し、
滅菌効果が減少されてしまうし、取扱いに十分な
注意を要するという欠点があつた。
場合、被滅菌物の内部まで確実に滅菌処理するた
めにはエチレンオキサイドガスが被滅菌物の内部
にまで充分浸透するようにする必要があり、従つ
て滅菌室は被滅菌物の内部まで充分に減圧できる
ように高い真空状態が得られるように製作しなけ
ればならず、さらに滅菌後、被滅菌物の内部に浸
透したエチレンオキサイドガスの残留分を完全に
除去することは困難なものであり、残留ガスの中
和作業が必要となるという欠点があつた。また、
エチレンオキサイドガスは、水によつて変質し、
滅菌効果が減少されてしまうし、取扱いに十分な
注意を要するという欠点があつた。
本発明は上記の点に鑑みなされたもので、加熱
空気を被滅菌物に迅速に浸透させ、短時間で能率
よく、乾燥が行えるようにし、さらに加熱空気に
滅菌ガスを加えて被滅菌物の効率のよい滅菌乾燥
を行うようにした滅菌可能な乾燥装置を提供する
もので、その要旨は避滅菌物を収容する気密性を
有する二室一組の滅菌室を設け、その一方の滅菌
室と他方の滅菌室とに加熱空気を交互に送気させ
るためにフアンと両方の組の滅菌室との間に呼気
側流路切換弁を介装させた呼気側ガス循環路を連
設し、かつ他方の滅菌室と一方の滅菌室とより交
互に加熱空気を排気させるために前記フアンと両
方の滅菌室との間に吸気側流路切換弁を介装させ
吸気側ガス循環路を連設し、前記フアンと呼気側
流路切換弁との間の呼気側ガス循環路に開閉弁お
よびヒータを配装し、また該開閉弁の前後の呼気
側ガス循環路に加熱空気を大気中に排気させるた
めの開閉弁付排気路および清浄空気を両方の滅菌
室に交互に供給するための開閉弁付導入路を、そ
れぞれ連設し、さらに適宜滅菌ガス供給部を前記
ヒータに連設可能となしたことを特徴とする滅菌
可能な乾燥装置にある。
空気を被滅菌物に迅速に浸透させ、短時間で能率
よく、乾燥が行えるようにし、さらに加熱空気に
滅菌ガスを加えて被滅菌物の効率のよい滅菌乾燥
を行うようにした滅菌可能な乾燥装置を提供する
もので、その要旨は避滅菌物を収容する気密性を
有する二室一組の滅菌室を設け、その一方の滅菌
室と他方の滅菌室とに加熱空気を交互に送気させ
るためにフアンと両方の組の滅菌室との間に呼気
側流路切換弁を介装させた呼気側ガス循環路を連
設し、かつ他方の滅菌室と一方の滅菌室とより交
互に加熱空気を排気させるために前記フアンと両
方の滅菌室との間に吸気側流路切換弁を介装させ
吸気側ガス循環路を連設し、前記フアンと呼気側
流路切換弁との間の呼気側ガス循環路に開閉弁お
よびヒータを配装し、また該開閉弁の前後の呼気
側ガス循環路に加熱空気を大気中に排気させるた
めの開閉弁付排気路および清浄空気を両方の滅菌
室に交互に供給するための開閉弁付導入路を、そ
れぞれ連設し、さらに適宜滅菌ガス供給部を前記
ヒータに連設可能となしたことを特徴とする滅菌
可能な乾燥装置にある。
以下、本発明を図面を参照して詳細に説明す
る。
る。
第1図は滅菌可能な乾燥装置の概略構成を示す
正面図、第2図は同じく側面図である。第1図お
よび第2図において、1は滅菌可能な乾燥装置に
して、これは、気密性を有する二室一組の滅菌室
2A,2Bをフアン3を介して呼気側ガス循環路
4および吸気側ガス循環路5によつてそれぞれ連
通し、前記滅菌室2A,2B内に収容されるベツ
ド用マツト、衣類、リンネルなどの被滅菌物の滅
菌、乾燥処理を行うものである。
正面図、第2図は同じく側面図である。第1図お
よび第2図において、1は滅菌可能な乾燥装置に
して、これは、気密性を有する二室一組の滅菌室
2A,2Bをフアン3を介して呼気側ガス循環路
4および吸気側ガス循環路5によつてそれぞれ連
通し、前記滅菌室2A,2B内に収容されるベツ
ド用マツト、衣類、リンネルなどの被滅菌物の滅
菌、乾燥処理を行うものである。
しかして、呼気側ガス循環路4は三股状に形成
され、そのうちの一路はフアン3の排気側に連設
された共通路41で、残りの二路はそれぞれの滅
菌室2A,2Bに各別に連設されている。そし
て、前記呼気側ガス循環路4の三股状交点には呼
気側流路切換弁6が介装されており、共通路41
を送気されてくる滅菌ガスを適宜含有する加熱空
気を一方の滅菌室2Aあるいは他方の滅菌室2B
に交互に給送するために設けられている。また、
前記共通路41には滅菌、乾燥処理時に開放して
いる開閉弁7が介装され、かつこの開閉弁7と呼
気側流路切換弁6との間の共通路41にはヒータ
8が介挿接続されている。さらに、前記開閉弁7
とヒータ8との間には、滅菌ガスを適宜含有する
加熱空気の排気時に開放する開閉弁9を有する大
気導入路10が連通しており、この大気導入路1
0の先端には、細菌除去フイルタ11が備えられ
ている。さらにまた、フアン3の排気側と開閉弁
7との間には滅菌ガスを適宜含有する加熱空気の
排気時に開放する開閉弁12を有する排気路13
が連通している。
され、そのうちの一路はフアン3の排気側に連設
された共通路41で、残りの二路はそれぞれの滅
菌室2A,2Bに各別に連設されている。そし
て、前記呼気側ガス循環路4の三股状交点には呼
気側流路切換弁6が介装されており、共通路41
を送気されてくる滅菌ガスを適宜含有する加熱空
気を一方の滅菌室2Aあるいは他方の滅菌室2B
に交互に給送するために設けられている。また、
前記共通路41には滅菌、乾燥処理時に開放して
いる開閉弁7が介装され、かつこの開閉弁7と呼
気側流路切換弁6との間の共通路41にはヒータ
8が介挿接続されている。さらに、前記開閉弁7
とヒータ8との間には、滅菌ガスを適宜含有する
加熱空気の排気時に開放する開閉弁9を有する大
気導入路10が連通しており、この大気導入路1
0の先端には、細菌除去フイルタ11が備えられ
ている。さらにまた、フアン3の排気側と開閉弁
7との間には滅菌ガスを適宜含有する加熱空気の
排気時に開放する開閉弁12を有する排気路13
が連通している。
また、前記吸気側ガス循環路5は三股状に形成
され、そのうちの一路は前記フアン3の吸気側に
連設された共通路51で、残りの二路はそれぞれ
滅菌室2A,2Bに各別に連設されている。そし
て、吸気側ガス循環路5の三股状の交点には吸気
側流路切換弁14が介装されており、一方の滅菌
室2Aおよび他方の滅菌室2Bより交互に送気さ
れてくる滅菌ガスを含有する加熱空気を共通路5
1へ給送するために設けられている。
され、そのうちの一路は前記フアン3の吸気側に
連設された共通路51で、残りの二路はそれぞれ
滅菌室2A,2Bに各別に連設されている。そし
て、吸気側ガス循環路5の三股状の交点には吸気
側流路切換弁14が介装されており、一方の滅菌
室2Aおよび他方の滅菌室2Bより交互に送気さ
れてくる滅菌ガスを含有する加熱空気を共通路5
1へ給送するために設けられている。
さらに、図中15はホルマリン水溶液などの貯
溜槽にして、この貯溜槽15に貯溜されているホ
ルマリン水溶液は定量ポンプ16により一定量吸
引され、薬液気化部17に供給されることとな
る。この薬液気化部17はホルマリン水溶液を気
化させて滅菌ガスであるホルマリンガスを得るた
めに設けられており、この滅菌ガスは前記ヒータ
3に供給されるようになつており、前記貯溜槽1
5、定量ポンプ16、薬液気化部17などにより
滅菌ガス供給部を形成している。
溜槽にして、この貯溜槽15に貯溜されているホ
ルマリン水溶液は定量ポンプ16により一定量吸
引され、薬液気化部17に供給されることとな
る。この薬液気化部17はホルマリン水溶液を気
化させて滅菌ガスであるホルマリンガスを得るた
めに設けられており、この滅菌ガスは前記ヒータ
3に供給されるようになつており、前記貯溜槽1
5、定量ポンプ16、薬液気化部17などにより
滅菌ガス供給部を形成している。
さらにまた、前記一方の滅菌室2Aと他方の滅
菌室2Bとを仕切る隔壁18には両滅菌室2A,
2Bの圧力差が一定圧(400mmAq)以上にならな
いように調整弁19が備えられている。
菌室2Bとを仕切る隔壁18には両滅菌室2A,
2Bの圧力差が一定圧(400mmAq)以上にならな
いように調整弁19が備えられている。
このように構成した滅菌可能な乾燥装置1は、
両滅菌室2A,2Bのそれぞれに被滅菌物を収容
し、扉を閉じて気密状態にしたのち、定量ポンプ
16によつて貯溜槽15より一定量のホルマリン
水溶液を薬液気化部17に供給する。この薬液気
化部17においてホリマリン水溶液を気化し、滅
菌ガスとしてヒータ8に供給する。ヒータ8はフ
アン3によつて循環送気される空気を滅菌ガスと
共に加熱し、一定時間毎に呼気側流路切換弁6お
よび吸気側流路切換弁14を連動させて切換え、
交互に一方の滅菌室2Aあるいは他方の滅菌室2
Bに滅菌ガス含有加熱空気を給送し、かつ他方の
滅菌室2Bあるいは一方の滅菌室2Aより滅菌ガ
スを含有する加熱空気を送気して両滅菌室2A,
2B内を繰返し加減圧させて、滅菌処理を行う。
この両滅菌室2A,2B内の圧力は±200mmAqの
範囲を交互に変化し、その周期は1サイクル2秒
間隔である。そして、滅菌ガスを含有する加熱空
気の温度が80℃のときはほぼ1時間で滅菌処理が
行え、温度60℃のときはほぼ2時間で滅菌処理が
行える。
両滅菌室2A,2Bのそれぞれに被滅菌物を収容
し、扉を閉じて気密状態にしたのち、定量ポンプ
16によつて貯溜槽15より一定量のホルマリン
水溶液を薬液気化部17に供給する。この薬液気
化部17においてホリマリン水溶液を気化し、滅
菌ガスとしてヒータ8に供給する。ヒータ8はフ
アン3によつて循環送気される空気を滅菌ガスと
共に加熱し、一定時間毎に呼気側流路切換弁6お
よび吸気側流路切換弁14を連動させて切換え、
交互に一方の滅菌室2Aあるいは他方の滅菌室2
Bに滅菌ガス含有加熱空気を給送し、かつ他方の
滅菌室2Bあるいは一方の滅菌室2Aより滅菌ガ
スを含有する加熱空気を送気して両滅菌室2A,
2B内を繰返し加減圧させて、滅菌処理を行う。
この両滅菌室2A,2B内の圧力は±200mmAqの
範囲を交互に変化し、その周期は1サイクル2秒
間隔である。そして、滅菌ガスを含有する加熱空
気の温度が80℃のときはほぼ1時間で滅菌処理が
行え、温度60℃のときはほぼ2時間で滅菌処理が
行える。
被滅菌物の滅菌処理後滅菌ガスを排気させるた
めには、開閉弁7を閉鎖し、開閉弁9および12
を開放する。このため、細菌除去フイルタ11を
介して大気導入路10にフアン3によつて清浄な
空気が吸引され、フアン3の排気側から排気路1
3に滅菌ガスを含有する加熱空気が排気されらる
ことになる。この排気・乾燥処理中においても呼
気側流路切換弁6および吸気側流路切換弁14を
連動させて切換え、一方の滅菌室2Aおよび他方
の滅菌室2Bに大気導入路10より交互に清浄空
気を送り込み、かつ他方の滅菌室2Bおよび一方
の滅菌室2Aより滅菌ガス含有加熱空気をフアン
3によつて交互に送気し、排気路13を介して排
気させる。すなわち、両滅菌室2A,2B内に収
容されている被滅菌物内の残留ガスを圧力変動を
繰返しながら排気させる。この滅菌ガスを排気す
るためには両滅菌室2A,2B内の圧力を大気圧
とこの大気圧より400mmAq低い圧力範囲を繰返し
て変化させる。このため滅菌ガスの排気に要する
時間が従来数十時間あるいは数日の単位を要して
いたところを十数分の単位で排気できることとな
り、従来と比較して格段に短時間で排気できるこ
ととなる。
めには、開閉弁7を閉鎖し、開閉弁9および12
を開放する。このため、細菌除去フイルタ11を
介して大気導入路10にフアン3によつて清浄な
空気が吸引され、フアン3の排気側から排気路1
3に滅菌ガスを含有する加熱空気が排気されらる
ことになる。この排気・乾燥処理中においても呼
気側流路切換弁6および吸気側流路切換弁14を
連動させて切換え、一方の滅菌室2Aおよび他方
の滅菌室2Bに大気導入路10より交互に清浄空
気を送り込み、かつ他方の滅菌室2Bおよび一方
の滅菌室2Aより滅菌ガス含有加熱空気をフアン
3によつて交互に送気し、排気路13を介して排
気させる。すなわち、両滅菌室2A,2B内に収
容されている被滅菌物内の残留ガスを圧力変動を
繰返しながら排気させる。この滅菌ガスを排気す
るためには両滅菌室2A,2B内の圧力を大気圧
とこの大気圧より400mmAq低い圧力範囲を繰返し
て変化させる。このため滅菌ガスの排気に要する
時間が従来数十時間あるいは数日の単位を要して
いたところを十数分の単位で排気できることとな
り、従来と比較して格段に短時間で排気できるこ
ととなる。
なお、本実施例では滅菌ガス含有加熱空気を用
いて被滅菌物の滅菌乾燥処理を行つた例を説明し
たが、例えばウレタンフオームなどの乾燥のみを
本装置を使用して行う場合には、滅菌ガス供給部
よりヒータへの滅菌ガスの供給を遮断し、前述の
実施例と同様に両滅菌室2A,2Bに加熱乾燥空
気を交互に繰返し、給排させ、そののち開閉弁7
を併じ、開閉弁9,12を開放して清浄空気の供
給を受けながらさらに加熱乾燥空気を両滅菌室2
A,2Bに交互に繰返し給送排気すれば、確実な
乾燥が行える。
いて被滅菌物の滅菌乾燥処理を行つた例を説明し
たが、例えばウレタンフオームなどの乾燥のみを
本装置を使用して行う場合には、滅菌ガス供給部
よりヒータへの滅菌ガスの供給を遮断し、前述の
実施例と同様に両滅菌室2A,2Bに加熱乾燥空
気を交互に繰返し、給排させ、そののち開閉弁7
を併じ、開閉弁9,12を開放して清浄空気の供
給を受けながらさらに加熱乾燥空気を両滅菌室2
A,2Bに交互に繰返し給送排気すれば、確実な
乾燥が行える。
なおまた、本実施例ではホルマリン水溶液を薬
液気化部17において滅菌ガスに気化させた例で
説明したが、薬液気化部17をヒータ8で兼用さ
せ、このヒータ8によつてホルマリン水溶液を気
化させるようにしてもよいことは勿論である。
液気化部17において滅菌ガスに気化させた例で
説明したが、薬液気化部17をヒータ8で兼用さ
せ、このヒータ8によつてホルマリン水溶液を気
化させるようにしてもよいことは勿論である。
以上詳細に説明したとおり本発明は被滅菌物が
収容された二室一組の滅菌室は、一方の滅菌室が
加熱空気あるいは滅菌ガス含有加熱空気の送気に
よつて加圧されている時には他方の滅菌室が排気
によつて減圧され、反対に前記他方の滅菌室が加
熱空気あるいは滅菌ガス含有加熱空気の送気によ
つて加圧されている時には前記一方の滅菌室が排
気によつて減圧されるものであり、これを繰返し
行なうことによつて各滅菌室では減圧された状態
で加熱空気あるいは滅菌ガス含有加熱空気が供給
されるため、二室一組の滅菌室で同時に、加熱空
気あるいは滅菌ガス含有加熱空気が被滅菌物の内
部にまで短時間で浸透することとなり、従来の高
圧を掛けたり、高真空によつて被滅菌物の乾燥処
理,滅菌処理を行なわせる装置と異なり、低圧で
あるため繰返し操作を行い易く、よつて簡易に滅
菌室が製作でき、製作費が低減できるものであ
る。また、滅菌処理後に被滅菌物の内部に浸透し
た滅菌ガスの残留分を除去する場合も、二室一組
の滅菌室は、一方の滅菌室が清浄空気の送気によ
つて加圧されている時には他方の滅菌室が排気に
よつて減圧され、反対に前記他方の滅菌室が清浄
空気の送気によつて加圧されている時には前記一
方の滅菌室が排気によつて減圧されるもので、こ
れを繰返し行なえば各滅菌室では減圧された状態
で清浄空気が供給されてこれが被滅菌物内部に浸
透し、排気時には被滅菌物内に残留した滅菌ガス
がこの清浄空気と一緒に排気されるため、残留滅
菌ガスの除去は二室一組の滅菌室で同時に進行
し、短時間でほぼ完全に排気でき、よつて従来行
つていた被滅菌物の残留ガスを中和させる作業が
不必要となつた。
収容された二室一組の滅菌室は、一方の滅菌室が
加熱空気あるいは滅菌ガス含有加熱空気の送気に
よつて加圧されている時には他方の滅菌室が排気
によつて減圧され、反対に前記他方の滅菌室が加
熱空気あるいは滅菌ガス含有加熱空気の送気によ
つて加圧されている時には前記一方の滅菌室が排
気によつて減圧されるものであり、これを繰返し
行なうことによつて各滅菌室では減圧された状態
で加熱空気あるいは滅菌ガス含有加熱空気が供給
されるため、二室一組の滅菌室で同時に、加熱空
気あるいは滅菌ガス含有加熱空気が被滅菌物の内
部にまで短時間で浸透することとなり、従来の高
圧を掛けたり、高真空によつて被滅菌物の乾燥処
理,滅菌処理を行なわせる装置と異なり、低圧で
あるため繰返し操作を行い易く、よつて簡易に滅
菌室が製作でき、製作費が低減できるものであ
る。また、滅菌処理後に被滅菌物の内部に浸透し
た滅菌ガスの残留分を除去する場合も、二室一組
の滅菌室は、一方の滅菌室が清浄空気の送気によ
つて加圧されている時には他方の滅菌室が排気に
よつて減圧され、反対に前記他方の滅菌室が清浄
空気の送気によつて加圧されている時には前記一
方の滅菌室が排気によつて減圧されるもので、こ
れを繰返し行なえば各滅菌室では減圧された状態
で清浄空気が供給されてこれが被滅菌物内部に浸
透し、排気時には被滅菌物内に残留した滅菌ガス
がこの清浄空気と一緒に排気されるため、残留滅
菌ガスの除去は二室一組の滅菌室で同時に進行
し、短時間でほぼ完全に排気でき、よつて従来行
つていた被滅菌物の残留ガスを中和させる作業が
不必要となつた。
第1図は本発明に係る滅菌可能な乾燥装置の一
実施例の概略構成を示す正面図、第2図は同じく
側面図である。 1:滅菌可能な乾燥装置、2A,2B:滅菌
室、3:フアン、4:呼気側ガス循環路、5:吸
気側ガス循環路、6:呼気側流路切換弁、7,
9,12:開閉弁、8:ヒータ、10:大気導入
路、13:排気路、14:吸気側流路切替弁、1
7:薬液気化部。
実施例の概略構成を示す正面図、第2図は同じく
側面図である。 1:滅菌可能な乾燥装置、2A,2B:滅菌
室、3:フアン、4:呼気側ガス循環路、5:吸
気側ガス循環路、6:呼気側流路切換弁、7,
9,12:開閉弁、8:ヒータ、10:大気導入
路、13:排気路、14:吸気側流路切替弁、1
7:薬液気化部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 被滅菌物を収容する気密性を有する二室一組
の滅菌室を設け、その一方の滅菌室と他方の滅菌
室とに加熱空気を交互に送気させるためにフアン
と両方の滅菌室との間に呼気側流路切換弁を介在
させた呼気側ガス循環路を連接し、かつ他方の滅
菌室と一方の滅菌室とより交互に加熱空気を排気
させるために前記フアンと両方の滅菌室との間に
吸気側流路切換弁を介装させた吸気側ガス循環路
を連接し、前記フアンと呼気側流路切換弁との間
の呼気側ガス循環路に開閉弁およびヒータを配装
し、また該開閉弁の前後の呼気側ガス循環路に加
熱空気を大気中に排気させるため開閉弁付排気路
および清浄空気を両方の滅菌室に交互に供給する
ための開閉弁付大気導入路を、それぞれ連接した
ことを特徴とする滅菌可能な乾燥装置。 2 被滅菌物を収容する気密性を有する二室一組
の滅菌室を設け、その一方の滅菌室と他方の滅菌
室とに滅菌ガス含有加熱空気を交互に送気させる
ためにフアンと両方の滅菌室との間に呼気側流路
切換弁を介在させた呼気側ガス循環路を連接し、
かつ他方の滅菌室と一方の滅菌室とより交互に滅
菌ガス含有加熱空気を排気させるために前記フア
ンと両方の滅菌室との間に吸気側流路切換弁を介
装させた吸気側ガス循環路を連接し、前記フアン
と呼気側流路切換弁との間の呼気側ガス循環路に
開閉弁およびヒータを配装し、また該開閉弁の前
後の呼気側ガス循環路に滅菌ガス含有加熱空気を
大気中に排気させるための開閉弁付排気路および
清浄空気を両方の滅菌室に交互に供給するための
開閉弁付大気導入路を、それぞれ連接し、前記ヒ
ータには滅菌ガス供給部を連接したことを特徴と
する滅菌可能な乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58168343A JPS6060853A (ja) | 1983-09-14 | 1983-09-14 | 滅菌可能な乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58168343A JPS6060853A (ja) | 1983-09-14 | 1983-09-14 | 滅菌可能な乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6060853A JPS6060853A (ja) | 1985-04-08 |
| JPS6134827B2 true JPS6134827B2 (ja) | 1986-08-09 |
Family
ID=15866299
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58168343A Granted JPS6060853A (ja) | 1983-09-14 | 1983-09-14 | 滅菌可能な乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6060853A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61245228A (ja) * | 1985-04-23 | 1986-10-31 | Arupain Kk | 光学式タツチパネルにおける位置検出方法 |
-
1983
- 1983-09-14 JP JP58168343A patent/JPS6060853A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6060853A (ja) | 1985-04-08 |
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