JPS6133435U - 半導体製造装置 - Google Patents

半導体製造装置

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JPS6133435U
JPS6133435U JP11730784U JP11730784U JPS6133435U JP S6133435 U JPS6133435 U JP S6133435U JP 11730784 U JP11730784 U JP 11730784U JP 11730784 U JP11730784 U JP 11730784U JP S6133435 U JPS6133435 U JP S6133435U
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JP
Japan
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semiconductor manufacturing
manufacturing equipment
etching solution
container
etching
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Application number
JP11730784U
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English (en)
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敏威 和田
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】 第1図は、本考案の一実施例を示す構成図てある。 1・・・エッチング液のタンク、2・・・エッチング液
を放出するコック、3・・・基板水洗用シャワー、4・
・・エッチング用ガラス容器、5・・・GaAs基板、
6・・・モーター、7・・・ヒーター、8・・・フラス
コ、9・・・真空ポンプ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. コツチング用容器に、半導体基板をエツチスグ液中で回
    転させる回転機構と、容器内からエッチング液を急速に
    廃棄するポンプ機構と、基板を水洗するシャワーと、エ
    ッチング液温を一定にするヒータとを備えたことを特徴
    とする半導体製造装置。
JP11730784U 1984-07-31 1984-07-31 半導体製造装置 Pending JPS6133435U (ja)

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JP11730784U JPS6133435U (ja) 1984-07-31 1984-07-31 半導体製造装置

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JP11730784U JPS6133435U (ja) 1984-07-31 1984-07-31 半導体製造装置

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JPS6133435U true JPS6133435U (ja) 1986-02-28

Family

ID=30676221

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JP11730784U Pending JPS6133435U (ja) 1984-07-31 1984-07-31 半導体製造装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6431388U (ja) * 1987-08-07 1989-02-27

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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