JPS6129732A - Ｍｔｆ測定装置 - Google Patents
Ｍｔｆ測定装置Info
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- JPS6129732A JPS6129732A JP15079584A JP15079584A JPS6129732A JP S6129732 A JPS6129732 A JP S6129732A JP 15079584 A JP15079584 A JP 15079584A JP 15079584 A JP15079584 A JP 15079584A JP S6129732 A JPS6129732 A JP S6129732A
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- light
- lens
- mtf
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0292—Testing optical properties of objectives by measuring the optical modulation transfer function
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明はＭＴＦ測定装置に関する。
従来技術
通常、レンズの光学的諸特性の測定には、被検レンズに
よって得られる点俊あるいは線像の光強度分布を光電検
出し、フーリエ変換等の信号処理を行ないＭＴＦを求め
るＭＴＦ測定が行なわれている。第２図は、かかる従来
のＭＴＦ測定装置の概略構成図を示している。なお、以
下の説明において図示の部材で同一機能を奏する部材等
には同一符号を付し、その説明を省略する。
よって得られる点俊あるいは線像の光強度分布を光電検
出し、フーリエ変換等の信号処理を行ないＭＴＦを求め
るＭＴＦ測定が行なわれている。第２図は、かかる従来
のＭＴＦ測定装置の概略構成図を示している。なお、以
下の説明において図示の部材で同一機能を奏する部材等
には同一符号を付し、その説明を省略する。
図中、１は被検レンズ、２はチャート板、３は光源、２
４はスクリーン、５ｍ 、５ｂは受光素子、６ａ 、６
ｂは受光素子の周辺回路をそれぞれ示している。チャー
ト板２とスクリーン２４は被検レンズ１を介して互いに
対向して配置され、チャート板２のレンズの反対側に配
置された光源３は、チャート板２上の第１のスリン）
２２ａ及び第２のスリン） ２２ｂを照明し光路２７ａ
、２７ｂに従い被検レンズ１を介してスクリーン２４上
に各々のスリット像２８ｍ 、２８ｂを投影する。スク
リーン２４上に配設される受光素子５ａ 、５ｂは光軸
に垂直な面上を走査出来る走査機構を具備しあるいはＣ
ＣＤ素子のごとく自己査定形の受光素子で構成され、ま
た、該受光素子の周辺回路６ａ 、８ｂは、受光素子の
駆動回路、検出増幅回路、Ａ／Ｄ 禁換回路、記憶回路
等により構成されるものである。
４はスクリーン、５ｍ 、５ｂは受光素子、６ａ 、６
ｂは受光素子の周辺回路をそれぞれ示している。チャー
ト板２とスクリーン２４は被検レンズ１を介して互いに
対向して配置され、チャート板２のレンズの反対側に配
置された光源３は、チャート板２上の第１のスリン）
２２ａ及び第２のスリン） ２２ｂを照明し光路２７ａ
、２７ｂに従い被検レンズ１を介してスクリーン２４上
に各々のスリット像２８ｍ 、２８ｂを投影する。スク
リーン２４上に配設される受光素子５ａ 、５ｂは光軸
に垂直な面上を走査出来る走査機構を具備しあるいはＣ
ＣＤ素子のごとく自己査定形の受光素子で構成され、ま
た、該受光素子の周辺回路６ａ 、８ｂは、受光素子の
駆動回路、検出増幅回路、Ａ／Ｄ 禁換回路、記憶回路
等により構成されるものである。
しかるに、上記従来のＭＴＦ測定装置によれば、レンズ
口径が大きくかつ、拡大倍率が大きい場合、 には、ス
クリーンが大形化し装置の大形化をまねくのみならず、
被検レンズの測定精度を高める為に多数点でのＭＴＦ測
定をする場合には、測定点数と同数の受光素子及び各受
光素子に対応した数の周辺回路を具備する必要がありＭ
ＴＦ装置の構成が極めて複雑となる欠点を有している。
口径が大きくかつ、拡大倍率が大きい場合、 には、ス
クリーンが大形化し装置の大形化をまねくのみならず、
被検レンズの測定精度を高める為に多数点でのＭＴＦ測
定をする場合には、測定点数と同数の受光素子及び各受
光素子に対応した数の周辺回路を具備する必要がありＭ
ＴＦ装置の構成が極めて複雑となる欠点を有している。
更に、多数配設された受光素子間の素子特性のバラツキ
等に起因したいわゆる機差な生じやすく、機差補正等を
行う為には更に複雑な回路構成を要する等の多くの問題
点を有するものであった。
等に起因したいわゆる機差な生じやすく、機差補正等を
行う為には更に複雑な回路構成を要する等の多くの問題
点を有するものであった。
発明の目的
本発明は、上記した従来のＭＴＦ測定装置が有している
問題点を解消し、多測定点における被検レンズのＭＴＦ
測定を高精度に、かつ、簡便に行うことができる使いか
ってのよいＭＴＦ測定装置を提供することを目的とする
。
問題点を解消し、多測定点における被検レンズのＭＴＦ
測定を高精度に、かつ、簡便に行うことができる使いか
ってのよいＭＴＦ測定装置を提供することを目的とする
。
発明の概要
本発明は、上記目的を達成するために、被検レンズによ
り少なくとも２のスリットやピンホール等のテストパタ
ーンを投影し、その投影像の光強度分布を受光素子によ
って光電変換して検出してその出力により上記被検レン
ズのＭＴＦを測定するＭＴＦ測定装置において、前記投
影を１ケ所？＝結像する少なくとも１のミラ一手段と、
前記結像する光路の少なくとも１を所望に選択して遮断
もしくは変更させる回避手段を設け、多測定点でのＭＴ
Ｆ測定を高精度かつ簡便に行うことができるようにした
ものである。
り少なくとも２のスリットやピンホール等のテストパタ
ーンを投影し、その投影像の光強度分布を受光素子によ
って光電変換して検出してその出力により上記被検レン
ズのＭＴＦを測定するＭＴＦ測定装置において、前記投
影を１ケ所？＝結像する少なくとも１のミラ一手段と、
前記結像する光路の少なくとも１を所望に選択して遮断
もしくは変更させる回避手段を設け、多測定点でのＭＴ
Ｆ測定を高精度かつ簡便に行うことができるようにした
ものである。
以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第１図は本発明の構成の概要を示す概略構成図である。
１は被検レンズ、２はスリット、ピンホール等のテスト
パターンを有するチャート板、３は光源、４は結像平面
、５は受光素子、６は受光素子の周辺回路、７ａ 、
７ｂは光路、８は投影像、９はミラー、１０は遮光板を
それぞれ示し、チャート板２上のスリン） ２ａ 、２
ｂ等のテストパターンは光源３によって照明され被検レ
ンズ１を介して受光素子５上に投影するようにミラー９
を設置するとともに、光路の少ｆｘ くとも１を遮断す
る遮光板１０を設けて構成されている。上記構成によれ
ば、光源３はチャート板２上のｍｌのスリン）２ａ及び
第２のスリン） ２ｂを照明し光路１ａ及び１ｂに従い
被検レンズ１を介して結像平面４上に各々のスリット像
を投射する。しかるに光路１ｂは前記被検レンズ１と結
像平面４との中間に配置されるミラー９の介在によって
光路が変更され、他の光路１ａにより結像平面４上に投
影されるスリット２ａの投影像に重なって像８を結像す
る。遮光板１０は図示の矢印方向に適宜移動して光路の
少なくとも１を遮断し、上記型なった像８を分離し、分
離した各りの投影像を受光素子５は得て所望のＭＴＦ測
定ができるように作用するものである。なお、前記ミラ
ー９は、上記測定ｖｃｉｌにおいて、例えば、次のよう
にして最適な位置において、例えば、次のようにして最
適な位置に設定することができる。積り、第１のスリッ
ト２ａ及び第２のスリン） ２ｂ上にそれぞれ仮想点Ａ
及びＢを想定する。更に、ミラー９を設置せず、光路１
ｂは被検レンズ１を通過した後もその光路を屈曲するこ
となく結像平面」二に仮想結像Ｂ′を結像すると仮想す
る。前記第１のスリン）２ｄ上の点Ａの結像平面上の結
像点にと前記Ｂ′点とを結ぶ直線な吊とし、該直線伍に
垂直かつｍ／２を通過する面が前記光路７ｂと交わる位
置にミラー９を前記賃に垂直な面と平行に設置して構成
することができる。
パターンを有するチャート板、３は光源、４は結像平面
、５は受光素子、６は受光素子の周辺回路、７ａ 、
７ｂは光路、８は投影像、９はミラー、１０は遮光板を
それぞれ示し、チャート板２上のスリン） ２ａ 、２
ｂ等のテストパターンは光源３によって照明され被検レ
ンズ１を介して受光素子５上に投影するようにミラー９
を設置するとともに、光路の少ｆｘ くとも１を遮断す
る遮光板１０を設けて構成されている。上記構成によれ
ば、光源３はチャート板２上のｍｌのスリン）２ａ及び
第２のスリン） ２ｂを照明し光路１ａ及び１ｂに従い
被検レンズ１を介して結像平面４上に各々のスリット像
を投射する。しかるに光路１ｂは前記被検レンズ１と結
像平面４との中間に配置されるミラー９の介在によって
光路が変更され、他の光路１ａにより結像平面４上に投
影されるスリット２ａの投影像に重なって像８を結像す
る。遮光板１０は図示の矢印方向に適宜移動して光路の
少なくとも１を遮断し、上記型なった像８を分離し、分
離した各りの投影像を受光素子５は得て所望のＭＴＦ測
定ができるように作用するものである。なお、前記ミラ
ー９は、上記測定ｖｃｉｌにおいて、例えば、次のよう
にして最適な位置において、例えば、次のようにして最
適な位置に設定することができる。積り、第１のスリッ
ト２ａ及び第２のスリン） ２ｂ上にそれぞれ仮想点Ａ
及びＢを想定する。更に、ミラー９を設置せず、光路１
ｂは被検レンズ１を通過した後もその光路を屈曲するこ
となく結像平面」二に仮想結像Ｂ′を結像すると仮想す
る。前記第１のスリン）２ｄ上の点Ａの結像平面上の結
像点にと前記Ｂ′点とを結ぶ直線な吊とし、該直線伍に
垂直かつｍ／２を通過する面が前記光路７ｂと交わる位
置にミラー９を前記賃に垂直な面と平行に設置して構成
することができる。
実施例
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第３図は、本発明になるＭＴＦ測定装置の一実施例を示
す説明図で、被検レンズ１、チャート板２、光源３、結
像平面４、受光素子５、ミラー９及び遮光板１０の位置
関係を示している。ミラー９は、結像点にと理想結像点
Ｗとを結ぶ直線伍の中点Ｃを通り直線賃に垂直な面で、
第２のスリット２ｂを通過する光路７ｂとの交点を通る
直線１に平行かつ点Ｃから（ｍ−ｔａｎα）／２の距離
に配置されるものである。なお、上記αは直線ｉと、前
記第２のスリン）２ｂを通過する光路７ｂとの角度を表
わす。また、光路の少なくとも１を所望に遮断する遮光
板１０は、図示の矢印の方向に適宜移動可能に設置され
てなる。上記実施例の構成によれば、遮光板１０を適宜
移動して第１のスリン）２ａ及び第２のスリン）２ｂの
投影を、第２のスリットについてはミラー９を介して、
単一の受光素子５上に選択して結像し、被検レンズのＭ
ＴＦ測定をなすことができるものである。
す説明図で、被検レンズ１、チャート板２、光源３、結
像平面４、受光素子５、ミラー９及び遮光板１０の位置
関係を示している。ミラー９は、結像点にと理想結像点
Ｗとを結ぶ直線伍の中点Ｃを通り直線賃に垂直な面で、
第２のスリット２ｂを通過する光路７ｂとの交点を通る
直線１に平行かつ点Ｃから（ｍ−ｔａｎα）／２の距離
に配置されるものである。なお、上記αは直線ｉと、前
記第２のスリン）２ｂを通過する光路７ｂとの角度を表
わす。また、光路の少なくとも１を所望に遮断する遮光
板１０は、図示の矢印の方向に適宜移動可能に設置され
てなる。上記実施例の構成によれば、遮光板１０を適宜
移動して第１のスリン）２ａ及び第２のスリン）２ｂの
投影を、第２のスリットについてはミラー９を介して、
単一の受光素子５上に選択して結像し、被検レンズのＭ
ＴＦ測定をなすことができるものである。
第４図は、本発明の第２の実施例の概略構成図を示す。
本実施例においては、チャート板４２上に第１のスリン
）２ａ、第２のスリット２ｂ及び第３のスリンｌ−２（
１を設けるとともに、第３のスリットを通過する光路７
ｄの光路な変更する第２のミラー４Ｂを第１のミラー９
と別に配設して構成したもので、ミラー４９は、結像点
Ａ′と理想結像点σとを結ぶ直線五の中点Ｃ′を通り直
線五に垂直な面で、第３のスリン）２ｄを通過する光路
７ｄとの交点を通る直線ｋに平行かつ点Ｃ′から（′Ｆ
＆・ｔａｎβ）／２の距離に配置されるものである。な
お、上記βは直線五と前記光路７ｄとのなす角度を示す
。また、遮光板１０は、図示の矢印の方向に移動し、前
記第１．第２．第３のスリットを通過する光路７ａ 、
７ｂ、７ｄの少なくとも１を選択して遮断し、択一して
各スリットの投影像を単一の受光素子５上に結像し、被
検レンズのＭＴＦ測定をなすことができるものである。
）２ａ、第２のスリット２ｂ及び第３のスリンｌ−２（
１を設けるとともに、第３のスリットを通過する光路７
ｄの光路な変更する第２のミラー４Ｂを第１のミラー９
と別に配設して構成したもので、ミラー４９は、結像点
Ａ′と理想結像点σとを結ぶ直線五の中点Ｃ′を通り直
線五に垂直な面で、第３のスリン）２ｄを通過する光路
７ｄとの交点を通る直線ｋに平行かつ点Ｃ′から（′Ｆ
＆・ｔａｎβ）／２の距離に配置されるものである。な
お、上記βは直線五と前記光路７ｄとのなす角度を示す
。また、遮光板１０は、図示の矢印の方向に移動し、前
記第１．第２．第３のスリットを通過する光路７ａ 、
７ｂ、７ｄの少なくとも１を選択して遮断し、択一して
各スリットの投影像を単一の受光素子５上に結像し、被
検レンズのＭＴＦ測定をなすことができるものである。
なお、上記実施例ではスリットの数を３としたが、３に
限られることなく所望の数のスリットとする事も勿論可
能であり、ミラーの数もそれに対応して２に限られるこ
となく多数のミラーを配設すること等の改変も勿論可能
である。
限られることなく所望の数のスリットとする事も勿論可
能であり、ミラーの数もそれに対応して２に限られるこ
となく多数のミラーを配設すること等の改変も勿論可能
である。
第５図に、本発明の第３の実施例の概略構成図を示す。
本実施例においては、遮光板１０によって適宜選択され
るチャート板２上の第１のスリン）２ａ及び第２のスリ
ン）２ｂを通過する光路５７ｍ 、５７ｂに各々の光路
な変更するミラー５９ａ及び５９ｂを配設するとともに
、両方のミラー５９ａ。
るチャート板２上の第１のスリン）２ａ及び第２のスリ
ン）２ｂを通過する光路５７ｍ 、５７ｂに各々の光路
な変更するミラー５９ａ及び５９ｂを配設するとともに
、両方のミラー５９ａ。
５９ｂを介して相貫なり合い結像する結像点Ｅに受光素
子５５を配置して構成される。なお、上記ミラー５９ａ
、５９ｂは、ミラーを配設しない場合の理想像点に又
はＢ′と結像点Ｅとをそれぞれ結ぶ直線伍又はゴの中点
Ｃ又はσを通り直線迅又はぽに垂直な面で、かつ光路５
７ｍ又は５７ｂとの交点の位置、積り、前記中点Ｃ又は
σから１又はｉ′の位置に配設されるものである。本実
施例によると、ミラー５９ｍ及び５９ｂで光路５７ａ及
び５７ｂは光路が変更され、ミラーを有さない場合に比
較して光路が屈曲した公文被検レンズ側に配置される受
光素子上にスリット像を結像できるので、装置構成を更
に小型にできる効果を有すると同時に、受光素子の配置
位置が被検レンズの主軸上に限定されることなく装置構
成上の便利となる効を奏する。
子５５を配置して構成される。なお、上記ミラー５９ａ
、５９ｂは、ミラーを配設しない場合の理想像点に又
はＢ′と結像点Ｅとをそれぞれ結ぶ直線伍又はゴの中点
Ｃ又はσを通り直線迅又はぽに垂直な面で、かつ光路５
７ｍ又は５７ｂとの交点の位置、積り、前記中点Ｃ又は
σから１又はｉ′の位置に配設されるものである。本実
施例によると、ミラー５９ｍ及び５９ｂで光路５７ａ及
び５７ｂは光路が変更され、ミラーを有さない場合に比
較して光路が屈曲した公文被検レンズ側に配置される受
光素子上にスリット像を結像できるので、装置構成を更
に小型にできる効果を有すると同時に、受光素子の配置
位置が被検レンズの主軸上に限定されることなく装置構
成上の便利となる効を奏する。
第６図は、本発明の第４の実施例を示す概略構成図であ
る。本実施例においては上記他の実施例のととく遮光板
を有することなく、チャート板２上の第１のスリット２
ａを通過する光路６７ａの被検レンズ１と受光素子５と
の間に適宜回動して光路に介入し光路を変更させるミラ
ー６９ａと、第２のスリン）２ｂを通ずる光路６７ｂに
常時介在して適宜回動じて光路の変更角度を可変とする
ミラー６９ｂとを配設して構成したもので、ミラー ６
９ａ及び６９ｂは、図示の矢印の方向に所望に回動して
、受光素子５上に結像する光路を選択して回避させ、所
望の被検レンズＭＴＦ測定を行うことができるものであ
る。本実施例によれば、被検レレズの被測定点数が増加
した場合に、前記他の実施例のごとく遮光板を用いて構
成するに比較して装置の構成が簡単になる効を奏するも
のである。
る。本実施例においては上記他の実施例のととく遮光板
を有することなく、チャート板２上の第１のスリット２
ａを通過する光路６７ａの被検レンズ１と受光素子５と
の間に適宜回動して光路に介入し光路を変更させるミラ
ー６９ａと、第２のスリン）２ｂを通ずる光路６７ｂに
常時介在して適宜回動じて光路の変更角度を可変とする
ミラー６９ｂとを配設して構成したもので、ミラー ６
９ａ及び６９ｂは、図示の矢印の方向に所望に回動して
、受光素子５上に結像する光路を選択して回避させ、所
望の被検レンズＭＴＦ測定を行うことができるものであ
る。本実施例によれば、被検レレズの被測定点数が増加
した場合に、前記他の実施例のごとく遮光板を用いて構
成するに比較して装置の構成が簡単になる効を奏するも
のである。
第７図Ａ、Ｈに上記実施例において用いるチャート板の
一例を示す。チャート板には図示のごとく少なくとも２
のスリットやピンホール等が配設される。
一例を示す。チャート板には図示のごとく少なくとも２
のスリットやピンホール等が配設される。
第８図Ａ、Ｂは、上記実施例において用いる連光板の一
例を示す。Ａは単一の矩形透過孔を有する例、Ｂは２の
短形透過窓を有する例をそれぞれ示す。
例を示す。Ａは単一の矩形透過孔を有する例、Ｂは２の
短形透過窓を有する例をそれぞれ示す。
発明の詳細
な説明してきたように本発明によれば、被検レンズのＭ
ＴＦ測定において、被測定点数が多くても単一の受光素
子で結像の強度分布を求めることができるので、多数の
受光素子を用いる従来技術と比較して受光素子特性バラ
ツキの影響を受けず、周辺駆動回路等を単純化できる小
型かつ高精度で使いやすいＭＴＦ測定装置を提供するこ
とができる。
ＴＦ測定において、被測定点数が多くても単一の受光素
子で結像の強度分布を求めることができるので、多数の
受光素子を用いる従来技術と比較して受光素子特性バラ
ツキの影響を受けず、周辺駆動回路等を単純化できる小
型かつ高精度で使いやすいＭＴＦ測定装置を提供するこ
とができる。
なお、上記実施例ではテストパターンの数を２ないし３
の場合について説明したが、それに限られることなく、
また、受光素子は、ＣＣＤ等の固体撮像素子や撮像管等
の各種の光電変換装置により構成することが可能であり
、これらの改変は本発明の技術的箱別な逸脱するもので
はないこと明らかである。
の場合について説明したが、それに限られることなく、
また、受光素子は、ＣＣＤ等の固体撮像素子や撮像管等
の各種の光電変換装置により構成することが可能であり
、これらの改変は本発明の技術的箱別な逸脱するもので
はないこと明らかである。
第１図は本発明の構成概略図、第２図は従来のＭＴＦ測
定装置の概略構成図、第３図は本発明の一実施例を示す
説明図、第４図は本発明の第２実施例を示す概略構成図
、第５図は本発明の第３の実施例を示す概略構成図、第
６図は本発明の第４の実施例を示す概略構成図、第７図
はチャート板の例を示す説明図、第８図は遮光板の例を
示す説明図である。 １ ・・・・・・・・・・・・被検レンズ２ ・・・・
・・・・・・・・チャート板３ ・・・・・・・・・・
・・光源 ５ ・・・・・・・・・・・・受光素子７ａ、７ｂ・・
・・・・光路 ９．４９，５９，６９ａ、６９ｂ −−・ ミ ラ
−１０・・・・・・・・・・・・遮光板 第１図 第２図 第３図 第６図 第６図 第７図 第８図 手続補正書（自発） １、ｇ件の表列＼ 昭＃５９年 特 ｇ’ｆ＃ 第１５０７９５号２、発
明の名称 ＭＴＦ測定装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都渋谷区幡ケ谷２丁目４３番２号名 称
（０３７）オリンパス光学工業株式会社代表者 下
山敏部 ４、代 理 人 ６、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」及び「発明の詳細な説明」
の欄句 ７、補正の内容 （１） 別紙の通り「特許請求の範囲」を補正する。 （リ 明細書第５頁第４行目に記載する［前記投影を１
ケ所に」を「前記投影を少なくとも１ケ所に」と補正す
る。 （３）明細書第１２頁第４行目に記載する「ても申−の
受光素子で」を「ても少ない受光素子で」と補正を。 する。 （４）明細書第１２頁第１２行目を下記の通り補正する
。 「れることなく、また、受光素子は、単一の場合につい
て説明したが、第２実施例において理想結像点Ｂ′又は
Ｄ′に別の受光素子を配設してもよく、さらに、ＣＯＤ
等の固」 ８、添付書類の目録 別 紙 １ 通 別 紙 ２、特許請求の範囲 （１）被検レンズにより少なくとも２のテストパターン
を投影し、該投影像の光強度分布を光電変換してその出
力により、上記被検レンズのＭＴＦを測定するＭＴＦ測
定装置において、前記投影をｌ上玉１ケ所に結像する少
なくとも１のミラーと、前記結像する光路の少なくとも
ｌを所望に選択して遮断もしくは変更させる回避手段を
有することを特徴とするＭＴＦ測定装置。 （２）前記回避手段は、適宜移動して光路の少なくとも
１を所望に選択して遮断する遮光板により構成される特
許請求の範囲第１項記載のＭＴＦ測定装置。 （３）前記ミラーは、結像平面に垂直な少なくとも１の
面に配設されてなる特許請求の範囲第１項記載のＭＴＦ
測定装置。 （Φ 前記ミラーは、結像平面に垂直な面以外の面をそ
のミラー面として設置されてなる特許請求（５）前記ミ
ラーは、自在に回動して光路の少なくとも１を所望に選
択して光路を変更せしめ、光路を自在に回避する回避手
段を兼ねるミラーにより構成される特許請求の範囲第１
項記載の性エヱ測定装置。
定装置の概略構成図、第３図は本発明の一実施例を示す
説明図、第４図は本発明の第２実施例を示す概略構成図
、第５図は本発明の第３の実施例を示す概略構成図、第
６図は本発明の第４の実施例を示す概略構成図、第７図
はチャート板の例を示す説明図、第８図は遮光板の例を
示す説明図である。 １ ・・・・・・・・・・・・被検レンズ２ ・・・・
・・・・・・・・チャート板３ ・・・・・・・・・・
・・光源 ５ ・・・・・・・・・・・・受光素子７ａ、７ｂ・・
・・・・光路 ９．４９，５９，６９ａ、６９ｂ −−・ ミ ラ
−１０・・・・・・・・・・・・遮光板 第１図 第２図 第３図 第６図 第６図 第７図 第８図 手続補正書（自発） １、ｇ件の表列＼ 昭＃５９年 特 ｇ’ｆ＃ 第１５０７９５号２、発
明の名称 ＭＴＦ測定装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都渋谷区幡ケ谷２丁目４３番２号名 称
（０３７）オリンパス光学工業株式会社代表者 下
山敏部 ４、代 理 人 ６、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」及び「発明の詳細な説明」
の欄句 ７、補正の内容 （１） 別紙の通り「特許請求の範囲」を補正する。 （リ 明細書第５頁第４行目に記載する［前記投影を１
ケ所に」を「前記投影を少なくとも１ケ所に」と補正す
る。 （３）明細書第１２頁第４行目に記載する「ても申−の
受光素子で」を「ても少ない受光素子で」と補正を。 する。 （４）明細書第１２頁第１２行目を下記の通り補正する
。 「れることなく、また、受光素子は、単一の場合につい
て説明したが、第２実施例において理想結像点Ｂ′又は
Ｄ′に別の受光素子を配設してもよく、さらに、ＣＯＤ
等の固」 ８、添付書類の目録 別 紙 １ 通 別 紙 ２、特許請求の範囲 （１）被検レンズにより少なくとも２のテストパターン
を投影し、該投影像の光強度分布を光電変換してその出
力により、上記被検レンズのＭＴＦを測定するＭＴＦ測
定装置において、前記投影をｌ上玉１ケ所に結像する少
なくとも１のミラーと、前記結像する光路の少なくとも
ｌを所望に選択して遮断もしくは変更させる回避手段を
有することを特徴とするＭＴＦ測定装置。 （２）前記回避手段は、適宜移動して光路の少なくとも
１を所望に選択して遮断する遮光板により構成される特
許請求の範囲第１項記載のＭＴＦ測定装置。 （３）前記ミラーは、結像平面に垂直な少なくとも１の
面に配設されてなる特許請求の範囲第１項記載のＭＴＦ
測定装置。 （Φ 前記ミラーは、結像平面に垂直な面以外の面をそ
のミラー面として設置されてなる特許請求（５）前記ミ
ラーは、自在に回動して光路の少なくとも１を所望に選
択して光路を変更せしめ、光路を自在に回避する回避手
段を兼ねるミラーにより構成される特許請求の範囲第１
項記載の性エヱ測定装置。
Claims (5)
- （１）被検レンズにより少なくとも２のテストパターン
を投影し、該投影像の光強度分布を光電変換してその出
力により、上記被検レンズのＭＴＦ測定装置において、
前記投影を１ケ所に結像する少なくとも１のミラーと、
前記結像する光路の少なくとも１を所望に選択して遮断
もしくは変更させる回避手段を有することを特徴とする
ＭＴＦ測定装置。 - （２）前記回避手段は、適宜移動して光路の少なくとも
１を所望に選択して遮断する遮光板により構成される特
許請求の範囲第１項記載のＭＴＦ測定装置。 - （３）前記ミラーは、結像平面に垂直な少なくとも２の
面に配設されてなる特許請求の範囲第１項記載のＭＴＦ
測定装置。 - （４）前記ミラーは、結像平面に垂直な面以外の面をそ
のミラー面として設置されてなる特許請求の範囲第１項
記載のＭＴＦ測定装置。 - （５）前記ミラーは、自在に回動して光路の少なくとも
１を所望に選択して光路を変更せしめ、光路を自在に回
避する回避手段を兼ねるミラーにより構成される特許請
求の範囲第１項記載のＭＭＦ測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15079584A JPS6129732A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | Ｍｔｆ測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15079584A JPS6129732A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | Ｍｔｆ測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6129732A true JPS6129732A (ja) | 1986-02-10 |
Family
ID=15504596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15079584A Pending JPS6129732A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | Ｍｔｆ測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6129732A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20180136079A1 (en) * | 2015-05-13 | 2018-05-17 | Trioptics Gmbh | Device for measuring an imaging property of an optical system |
-
1984
- 1984-07-20 JP JP15079584A patent/JPS6129732A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20180136079A1 (en) * | 2015-05-13 | 2018-05-17 | Trioptics Gmbh | Device for measuring an imaging property of an optical system |
| US10386267B2 (en) * | 2015-05-13 | 2019-08-20 | Trioptics Gmbh | Device for measuring an imaging property of an optical system |
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