JPS61292634A - フオトレジスト用ポリマ−組成物 - Google Patents
フオトレジスト用ポリマ−組成物Info
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- JPS61292634A JPS61292634A JP61128264A JP12826486A JPS61292634A JP S61292634 A JPS61292634 A JP S61292634A JP 61128264 A JP61128264 A JP 61128264A JP 12826486 A JP12826486 A JP 12826486A JP S61292634 A JPS61292634 A JP S61292634A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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- Y10S525/921—Polyester having terminal ethylenic unsaturation other than polyesterurethanes
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の背景）
本発明は、新規なポリマー、およびそのポリマー単独で
、もしくは他の物質とともにフォトレジストとしての使
用に関連する。さらに詳しくは、本発明は次式 式中、Ｒ１はＲｓ−（ｚ）、を示し、 Ｒ１は−〇−末端反応性基を示し、 Ｚは一〇−イソシアネートを示し、 ｐはゼロか１であるが、常がゼロの時はｐもゼロであり
、 Ｐｌは有機の残基を示し、 ｍはゼロか１であるが、外が１の時は常がゼロであり、 Ｒ８は有機の残基を示し、 Ｐ、は有機の残基を示し、 ｒはゼロか１であるが、情とｎの両者がゼロの時のみｒ
がゼロであシ、 Ｒ１は有機の残基を示し、 ｎはゼロか１であシ、 Ｒ４は＝（Ｆ）ｗ−Ｒ８を示し、 Ｖは一〇−インシアネートを示し、 Ｗはゼロか１であるが、ｍがゼロの時はＷもゼロであシ
、 Ｒ６は一〇−末端反応性基を示し、 ｉは２〜６の自然数であり、 Ｒ１はＩリハイドロキシ化合物の残基である、 Ｋよってあられされるポリマーに関連する。
、もしくは他の物質とともにフォトレジストとしての使
用に関連する。さらに詳しくは、本発明は次式 式中、Ｒ１はＲｓ−（ｚ）、を示し、 Ｒ１は−〇−末端反応性基を示し、 Ｚは一〇−イソシアネートを示し、 ｐはゼロか１であるが、常がゼロの時はｐもゼロであり
、 Ｐｌは有機の残基を示し、 ｍはゼロか１であるが、外が１の時は常がゼロであり、 Ｒ８は有機の残基を示し、 Ｐ、は有機の残基を示し、 ｒはゼロか１であるが、情とｎの両者がゼロの時のみｒ
がゼロであシ、 Ｒ１は有機の残基を示し、 ｎはゼロか１であシ、 Ｒ４は＝（Ｆ）ｗ−Ｒ８を示し、 Ｖは一〇−インシアネートを示し、 Ｗはゼロか１であるが、ｍがゼロの時はＷもゼロであシ
、 Ｒ６は一〇−末端反応性基を示し、 ｉは２〜６の自然数であり、 Ｒ１はＩリハイドロキシ化合物の残基である、 Ｋよってあられされるポリマーに関連する。
フォトレジストを用いるプロセスの基本は、活性な光に
露光した後に回路基板ブランクスのある部分からはと９
除くことができるが残りの部分からはとり除くことがで
きない材料を使用することにある。この材料は高い解像
度をもっていなければならない、すなわちそれは、露光
された部分と露光されなかった部分とが明確に区別され
るような材料でなければならない。さらに、次のエツチ
ング工程で余分の金属箔がとり除かれないようにするた
めに、光硬化した耐食膜がその下にある金属にしっかり
と接着していなくてはならない。
露光した後に回路基板ブランクスのある部分からはと９
除くことができるが残りの部分からはとり除くことがで
きない材料を使用することにある。この材料は高い解像
度をもっていなければならない、すなわちそれは、露光
された部分と露光されなかった部分とが明確に区別され
るような材料でなければならない。さらに、次のエツチ
ング工程で余分の金属箔がとり除かれないようにするた
めに、光硬化した耐食膜がその下にある金属にしっかり
と接着していなくてはならない。
たとえば米国特許第４，４２２，９１４号に記載されて
いるように、多くのポリマーが７オトレゾストとして広
く使用されている。しかしながら、画質、接着性ならび
に剥膜性といったような前述した基本的な性能は、本発
明によるポリマーによってさらに改良された。
いるように、多くのポリマーが７オトレゾストとして広
く使用されている。しかしながら、画質、接着性ならび
に剥膜性といったような前述した基本的な性能は、本発
明によるポリマーによってさらに改良された。
迅速で効率よく光硬化するためｋは、そのようなポリマ
ーはか表り多量の光硬化開始剤を含んでいることが望ま
しいということが以前から見出されていた。しかしその
ような多量の光硬化開始剤が系内に均一に溶解している
場合でも、光硬化開始剤の大部分は、依然として光硬化
した最終生成物中においても化学的に結合していないの
で、これらの光硬化した材料の物性を損う効果を及ぼす
。
ーはか表り多量の光硬化開始剤を含んでいることが望ま
しいということが以前から見出されていた。しかしその
ような多量の光硬化開始剤が系内に均一に溶解している
場合でも、光硬化開始剤の大部分は、依然として光硬化
した最終生成物中においても化学的に結合していないの
で、これらの光硬化した材料の物性を損う効果を及ぼす
。
多量の光硬化開始剤を用いる場合のもう一つの欠点は、
活性な光に対して露光した時に結合していない光硬化開
始剤による副反応がおこる可能性があることである。
活性な光に対して露光した時に結合していない光硬化開
始剤による副反応がおこる可能性があることである。
そこで、本発明の第１の目的は、フォトレジスト用光重
合性組成物として用いた場合に、高い解像度をもつグリ
ント回路・９ターンを形成するよりなポリマーを提供す
ることにある。
合性組成物として用いた場合に、高い解像度をもつグリ
ント回路・９ターンを形成するよりなポリマーを提供す
ることにある。
本発明のもう一つの目的は、フォトレジストトして用い
た場合に、光硬化しなかった部分は水溶液によって容易
に除去できるようなポリマーを提供することにある。
た場合に、光硬化しなかった部分は水溶液によって容易
に除去できるようなポリマーを提供することにある。
本発明のもう一つの目的は、フォトレジストとして用い
て光硬化した場合に、その下にある回路基板によく接着
するよう表ポリマーを提供することにある。
て光硬化した場合に、その下にある回路基板によく接着
するよう表ポリマーを提供することにある。
本発明のもう一つの目的は、フォトレジストトして用い
て光硬化した場合に、アルカリ溶液によって容易に剥離
できるようなポリマーを提供することにある。
て光硬化した場合に、アルカリ溶液によって容易に剥離
できるようなポリマーを提供することにある。
本発明のさらにもう一つの目的は、光硬化開始剤成分が
その主鎖に化学的に結合してとシこまれているようなポ
リマーを提供することにある。
その主鎖に化学的に結合してとシこまれているようなポ
リマーを提供することにある。
（発明の概略）
本発明のポリマーは次式、
または
式中、Ｒ１はＲＩ、−（Ｚ）、を示し、Ｒ５は−Ｏ−末
端反応性基を示し、 Ｚは一〇−インシアネートを示し、 ｐはゼロか１であるが、舟がゼロの時はｐもゼロであシ
、 ＰＫは有機の残基を示し、 常はゼロか１であるが、外が１の時は常がゼロであシ、 Ｒ８は有機の残基を示し、 ｉは２〜６の自然数であシ、 Ｐ、は有機の残基を示し、 τはゼロか１であるが、仇とｎの両者がゼロの時のみデ
がゼロであシ、 Ｒ８は有機の残基を示し、 Ｐ、は４リハイドロキシ化合物の残基であシ、 外はゼロか１であり、 Ｒ４は−（Ｊ’）ｗ−Ｒｓを示し、 ｒは一〇−インシアネートを示し、 Ｗはゼロか１であるが、常がゼロの時はりもゼロであシ
、 Ｒ６は一〇−末端反応性基を示す、 によってあられされる。
端反応性基を示し、 Ｚは一〇−インシアネートを示し、 ｐはゼロか１であるが、舟がゼロの時はｐもゼロであシ
、 ＰＫは有機の残基を示し、 常はゼロか１であるが、外が１の時は常がゼロであシ、 Ｒ８は有機の残基を示し、 ｉは２〜６の自然数であシ、 Ｐ、は有機の残基を示し、 τはゼロか１であるが、仇とｎの両者がゼロの時のみデ
がゼロであシ、 Ｒ８は有機の残基を示し、 Ｐ、は４リハイドロキシ化合物の残基であシ、 外はゼロか１であり、 Ｒ４は−（Ｊ’）ｗ−Ｒｓを示し、 ｒは一〇−インシアネートを示し、 Ｗはゼロか１であるが、常がゼロの時はりもゼロであシ
、 Ｒ６は一〇−末端反応性基を示す、 によってあられされる。
好ましくは、上の式において、ｐがゼロ、Ｗがゼロ、ｍ
がゼロ、ｒが１でｎが１である。好ましくＲ，、−（Ａ
−Ｒ１，）ｆ−０−で、この場合Ｒ７は水素、メチルま
たはエチルであり、 Ｒ，は１〜６個の炭素原子を含む直鎖状または分校状ア
ルキル基で、ｄは１〜１０の自然数であシ、Ｒｔｓはア
ルキル基であるか、もしくは複素環成分Ａを含む複素環
の残基であシ、 ＡはＯＳＮまたはＳであシ、 Ｒ１４はアルキルまたはアリールで、そしてｆは１〜６
の自然数である。
がゼロ、ｒが１でｎが１である。好ましくＲ，、−（Ａ
−Ｒ１，）ｆ−０−で、この場合Ｒ７は水素、メチルま
たはエチルであり、 Ｒ，は１〜６個の炭素原子を含む直鎖状または分校状ア
ルキル基で、ｄは１〜１０の自然数であシ、Ｒｔｓはア
ルキル基であるか、もしくは複素環成分Ａを含む複素環
の残基であシ、 ＡはＯＳＮまたはＳであシ、 Ｒ１４はアルキルまたはアリールで、そしてｆは１〜６
の自然数である。
好ましくはＲ６は
で、この場合Ｒ１は１〜６個の炭素原子を含む直鎖状ま
たは分枝状アルキルであシ、 −は１〜１０の自然数であり、 Ｒ１゜は水素、メチルまたはエチルであシ、Ｒ１，はア
ルキルまたはアリールであシ、Ｂは０． Ｎ、またはＳ
であり、 は１〜６の自然数であシ、そして −６はアルキル基であるか、もしくは複素環成分Ｂを含
む複素環の残基である。
たは分枝状アルキルであシ、 −は１〜１０の自然数であり、 Ｒ１゜は水素、メチルまたはエチルであシ、Ｒ１，はア
ルキルまたはアリールであシ、Ｂは０． Ｎ、またはＳ
であり、 は１〜６の自然数であシ、そして −６はアルキル基であるか、もしくは複素環成分Ｂを含
む複素環の残基である。
Ｏ
好ましくはＲ，カーＣ−Ｒ，−Ｃテ、Ｒ，−１）１Ｇ
残基である。さらに好ましくはＲ１とＲ５は−に
れらのポリマーはいろいろな方法で合成する二ができる
。しかし好ましい合成経路は、ノア７ハイドライド（ジ
酸無水物）と末端に水酸基を有するポリマーとを反応さ
せた後、その反応生成物を末端に水酸基をもっ１官能性
または多官能性アクリレートあるいはメタクリレートと
反応させるか、もしくは末端に水酸基をもち０．Ｎまた
はＳなどのへテロ原子を少くとも１個以上含む水素ドナ
ーと反応させることである。これらの４リマーにはフォ
トレノストとしてばかりでなく他の用途もある。これら
のポリマーは、オーバーコートや印刷や装飾コートや゛
保護コートなどとしても使用される。たとえば、もしこ
れらのポリマーを塗布後硬化させた表面にペンキをスプ
レーされたり鉛筆で落書きされた場合には、そのポリマ
ー塗布膜はペンキや鉛筆書きとともに、アルカリでとシ
除くことができる。
。しかし好ましい合成経路は、ノア７ハイドライド（ジ
酸無水物）と末端に水酸基を有するポリマーとを反応さ
せた後、その反応生成物を末端に水酸基をもっ１官能性
または多官能性アクリレートあるいはメタクリレートと
反応させるか、もしくは末端に水酸基をもち０．Ｎまた
はＳなどのへテロ原子を少くとも１個以上含む水素ドナ
ーと反応させることである。これらの４リマーにはフォ
トレノストとしてばかりでなく他の用途もある。これら
のポリマーは、オーバーコートや印刷や装飾コートや゛
保護コートなどとしても使用される。たとえば、もしこ
れらのポリマーを塗布後硬化させた表面にペンキをスプ
レーされたり鉛筆で落書きされた場合には、そのポリマ
ー塗布膜はペンキや鉛筆書きとともに、アルカリでとシ
除くことができる。
（好ましい具体例の記載）
本発明のポリマーは次式、
または
式中、Ｒ１はＲｓ−（ｚ）、を示し、
Ｒ３は−〇−末端反応性基を示し、
Ｚは一〇−インシアネートを示し、
ｐはゼｐか１であるが、情がゼロの時はｐもゼロであり
、 Ｐ、は有機の残基を示し、 常はゼロか１であるが、外が１の時は毒がゼロであシ、 Ｒ３は有機の残基を示し、 ｉは２〜６の自然数であり、 Ｐ、は有機の残基を示し、 ｒはゼロか１であるが、倶と外の両者がゼロの時のみｒ
がゼロでＴｏシ、 Ｒ１，は有機の残基を示し、 Ｒ４は、ｊｆ １７ハイドロキシ化合物の残基であシ、 ｎはゼロか１であり、 Ｒ２は−（Ｆ）ｗ−Ｒ，を示し、 ｒは一〇−インシアネートを示し、 Ｗはゼロか１であるが、常がゼロの時は卯もゼロであシ
、 Ｒ８は−０−末端反応性基を示す、 によってあられされる。
、 Ｐ、は有機の残基を示し、 常はゼロか１であるが、外が１の時は毒がゼロであシ、 Ｒ３は有機の残基を示し、 ｉは２〜６の自然数であり、 Ｐ、は有機の残基を示し、 ｒはゼロか１であるが、倶と外の両者がゼロの時のみｒ
がゼロでＴｏシ、 Ｒ１，は有機の残基を示し、 Ｒ４は、ｊｆ １７ハイドロキシ化合物の残基であシ、 ｎはゼロか１であり、 Ｒ２は−（Ｆ）ｗ−Ｒ，を示し、 ｒは一〇−インシアネートを示し、 Ｗはゼロか１であるが、常がゼロの時は卯もゼロであシ
、 Ｒ８は−０−末端反応性基を示す、 によってあられされる。
好ましくは、上の式において、ｐがゼロ、Ｗがゼロ、鶏
がゼロ、ｒが１で外が１である。好ましくＲｌａ ＜
Ａ−Ｒ１４）／ ０−で、この場合ＲＹは水素、メチ
ルまたはエチルであり、 Ｒ１は１〜６個の炭素原子を含む直鎖状または分校状ア
ルキル基で、ｄは１〜１０の自然数であシ、Ｒ１１はア
ルキル基であるか、もしくは複素環成分Ａを含む複素環
の残基であシ、 Ａは０．ＮｔたはＳであシ、 Ｒ１４はアルキルまたはアリールで、そしてｆは１〜６
の自然数である。
がゼロ、ｒが１で外が１である。好ましくＲｌａ ＜
Ａ−Ｒ１４）／ ０−で、この場合ＲＹは水素、メチ
ルまたはエチルであり、 Ｒ１は１〜６個の炭素原子を含む直鎖状または分校状ア
ルキル基で、ｄは１〜１０の自然数であシ、Ｒ１１はア
ルキル基であるか、もしくは複素環成分Ａを含む複素環
の残基であシ、 Ａは０．ＮｔたはＳであシ、 Ｒ１４はアルキルまたはアリールで、そしてｆは１〜６
の自然数である。
好ましくはＲ６は
で、この場合Ｒ９は１〜６個の炭素原子を含む直鎖状ま
たは分校状アルキルであシ、 ｄは１〜１０の自然数であシ、 Ｒ１゜は水素、メチルまたはエチルであシ、Ｒ１！はア
ルキルまたはアリールであり、ＢはＯ，Ｎ、またはＳで
あシ、 ｇは１〜６の自然数であシ、そして Ｒ１６はアルキル基であるか、もしくは複素環成分Ｂを
含む複素環の残基である。
たは分校状アルキルであシ、 ｄは１〜１０の自然数であシ、 Ｒ１゜は水素、メチルまたはエチルであシ、Ｒ１！はア
ルキルまたはアリールであり、ＢはＯ，Ｎ、またはＳで
あシ、 ｇは１〜６の自然数であシ、そして Ｒ１６はアルキル基であるか、もしくは複素環成分Ｂを
含む複素環の残基である。
Ｒ１がＲｌｍ−（”１４）／−０−の構造をもつ場合、
好ましくはＲ３はＣＭ、−０−ＣＨ，−ＣＨ，−０−１
ＣＨ，−０−ＣＭ、 ＣＢ、−０−ＣＨ，ＣＭ、−０−
１またはＲｏが−０（Ｒｔｓ Ｂａｇ Ｒｔｓの構造を
もつ場合、好ましくはＲ６は一〇−ＣＨ，−ＣＨ，−０
−ＣＨ３、−０−ＣＨ，−ＣＭ、−０−Ｃ巧−Ｃ鳥−〇
−ＣＭ３、または好ましくはＰ、は、１〜５０個のくり
かえし単位からなるアルキレン、ポリエーテル、ポリエ
ステル、ポリカーボネートまたはそれらの混合物である
。好ましくはＰ、は、１〜５０個のくり返えし単位から
なるアルキレン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリカ
ーボネートまたはそれらの混合物である。Ｚとして好ま
しい式は 環族、脂肪族または芳香族の基であり、Ｖとして合Ｒａ
ｔは脂環族、脂肪族または芳香族の基である。
好ましくはＲ３はＣＭ、−０−ＣＨ，−ＣＨ，−０−１
ＣＨ，−０−ＣＭ、 ＣＢ、−０−ＣＨ，ＣＭ、−０−
１またはＲｏが−０（Ｒｔｓ Ｂａｇ Ｒｔｓの構造を
もつ場合、好ましくはＲ６は一〇−ＣＨ，−ＣＨ，−０
−ＣＨ３、−０−ＣＨ，−ＣＭ、−０−Ｃ巧−Ｃ鳥−〇
−ＣＭ３、または好ましくはＰ、は、１〜５０個のくり
かえし単位からなるアルキレン、ポリエーテル、ポリエ
ステル、ポリカーボネートまたはそれらの混合物である
。好ましくはＰ、は、１〜５０個のくり返えし単位から
なるアルキレン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリカ
ーボネートまたはそれらの混合物である。Ｚとして好ま
しい式は 環族、脂肪族または芳香族の基であり、Ｖとして合Ｒａ
ｔは脂環族、脂肪族または芳香族の基である。
機の残基である。さらに好ましくは、Ｒ１とＲ８で、こ
の場合Ｔは−Ｃ−１−ＣＭ、−１−Ｓ−１−０＋、また
は−ＳＯ，−１であるが、その中でべ戸が好ましい。好
ましくはＰ、は、１〜５０個のくシ返えし単位からなる
ポリエーテル、ポリエステル、ポリカーボネートまたは
それらの混合物でちる。Ｒ４は次のような多官能性の基
である場合も０−ＣＨ −０−ＣＭ、 、 本発明のぽリヤーをフォトレジストとして使用する場合
、とのポリマーのカルボキシル基は、光硬化したフォト
レジストを濃いアルカリ溶液によるは〈膜性、光硬化し
たフォトレジストの回路基板に対する優れた密着性、な
らびに光硬化しなかった７オトレソストの水溶液による
現像性を与える。好ましい本発明のポリマーは、ウレタ
ン結合の代りに・エステル型の結合をもつポリマーであ
る。
の場合Ｔは−Ｃ−１−ＣＭ、−１−Ｓ−１−０＋、また
は−ＳＯ，−１であるが、その中でべ戸が好ましい。好
ましくはＰ、は、１〜５０個のくシ返えし単位からなる
ポリエーテル、ポリエステル、ポリカーボネートまたは
それらの混合物でちる。Ｒ４は次のような多官能性の基
である場合も０−ＣＨ −０−ＣＭ、 、 本発明のぽリヤーをフォトレジストとして使用する場合
、とのポリマーのカルボキシル基は、光硬化したフォト
レジストを濃いアルカリ溶液によるは〈膜性、光硬化し
たフォトレジストの回路基板に対する優れた密着性、な
らびに光硬化しなかった７オトレソストの水溶液による
現像性を与える。好ましい本発明のポリマーは、ウレタ
ン結合の代りに・エステル型の結合をもつポリマーであ
る。
エステル型の結合は反応性に富むウレタン基を含まない
ことでカルボキシル基に思兎をもたらす。
ことでカルボキシル基に思兎をもたらす。
上記の構造をもつポリマーを合成する場合には、上記の
構造のポリマーを生成しうるあらゆる成分を利用するこ
とができる。これらのプリマーはいろいろな方法で合成
できる。用いる反応物の割合は、そのポリマーにとシこ
む反応性基の数と必要な置換割合に応じて変化する。あ
る特定のポリマーを合成するために最適な反応時間や温
度などの条件を定めることは、実験者の普段の合成経験
に依存する問題である。
構造のポリマーを生成しうるあらゆる成分を利用するこ
とができる。これらのプリマーはいろいろな方法で合成
できる。用いる反応物の割合は、そのポリマーにとシこ
む反応性基の数と必要な置換割合に応じて変化する。あ
る特定のポリマーを合成するために最適な反応時間や温
度などの条件を定めることは、実験者の普段の合成経験
に依存する問題である。
次式
またはＲｓｓ ＜Ａ−Ｒｌａ）ＩＯを示し、Ｒ１は水
素、メチルまたはエチルを示し、Ｒ１は１〜６個の炭素
原子を含む直鎖状または分校状のアルキル基を示し、 ｄは１〜１０の自然数であり、 Ｒｌｍはアルキル基であるか、もしくは複素環盛分Ａを
含む複素環の残基であシ、 Ａは０． Ｎ、またはＳであり、 Ｒ１４はアルキルまたはアリールを示し、ｆは１〜６の
自然数であυ、 Ｒ１は有機の残基を示し、 ｉは２〜６の自然数であシ、 Ｐ、は末端に水酸基をもつ有機化合物の残基を示し、 Ｒ４は、ｌ ＩＪハイＹロキシ化合物の残基を示し、 Ｒ３は有機の残基を示し、 −０−（Ｒ，！−Ｂ）、 Ａｔｅを示し、Ｒ，は１〜
６個の炭素原子を含む直鎖状または分校状のアルキル基
を示し１ ｅは１〜１０の自然数であシ、 Ｒ１゜は水素、メチルまたはエチルを示し、Ｒｌｓはア
ルキルまたはアリールを示し、ＢはＯ，Ｎ、またはＳで
あ）、 ｇは１〜乙の自然数であシ、 Ｒ１６はアルキル基であるか、もしくは複素環成分Ｂを
含む複素環の残基である、 によってあられされる、本発明のポリマーを合成するた
めの好ましい方法は、まず末端に水酸基をもつポリマー
（ポリオール）を利用することによってなされる。末端
の水酸基とは、ポリマー分子の中央に結合されている基
ではなく、ポリマーの両端に孤立している水酸基、もし
くは大きなポリマー分子に結合している側鎖の端に結合
しているような水酸基を意味する。したがって末端に水
酸基をもつポリマーが多官能性でない場合には、そのポ
リマーは両端に孤立している水酸基をもっている。有用
なポリオールには、１〜５０個のくシ返えし単位からな
るポリエーテル、ぼりエステル、ポリカーボネートまた
はそれらの混合物などかある。そのポリエーテル、ポリ
エステルまたはポリカーボネートは両末端あるいはその
いくつかの枝分れのうちの少くとも２つ以上の末端にお
いて酸無水物と反応する能力さえあれば、基本的にはど
んな構造であってもよい。そのポリエーテル、ポリエス
テルまたはポリカーボネートは２５０〜ＩＱ、０００の
分子量であることが好ましい。ポリエステルとポリエー
テルが末端に水酸基をもつ好ましいポリマーで、利用可
能なポリエステルやポリエーテルなどには次のようなも
のがある：ポリ（ジエチレングリコールアジイート）、
ポリ（エチレングリコールアソペート）、ポリエチレン
オキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリ（テトラメチ
レンオキシド）、ポリ（エチレンオキシド−プロピレン
オキシド）共重合体、ポリ（ネオペンチルグリコールア
ジペート）、ポリ（ノナメチレンオキシド）、およびポ
リ（カプロラクトン）。
素、メチルまたはエチルを示し、Ｒ１は１〜６個の炭素
原子を含む直鎖状または分校状のアルキル基を示し、 ｄは１〜１０の自然数であり、 Ｒｌｍはアルキル基であるか、もしくは複素環盛分Ａを
含む複素環の残基であシ、 Ａは０． Ｎ、またはＳであり、 Ｒ１４はアルキルまたはアリールを示し、ｆは１〜６の
自然数であυ、 Ｒ１は有機の残基を示し、 ｉは２〜６の自然数であシ、 Ｐ、は末端に水酸基をもつ有機化合物の残基を示し、 Ｒ４は、ｌ ＩＪハイＹロキシ化合物の残基を示し、 Ｒ３は有機の残基を示し、 −０−（Ｒ，！−Ｂ）、 Ａｔｅを示し、Ｒ，は１〜
６個の炭素原子を含む直鎖状または分校状のアルキル基
を示し１ ｅは１〜１０の自然数であシ、 Ｒ１゜は水素、メチルまたはエチルを示し、Ｒｌｓはア
ルキルまたはアリールを示し、ＢはＯ，Ｎ、またはＳで
あ）、 ｇは１〜乙の自然数であシ、 Ｒ１６はアルキル基であるか、もしくは複素環成分Ｂを
含む複素環の残基である、 によってあられされる、本発明のポリマーを合成するた
めの好ましい方法は、まず末端に水酸基をもつポリマー
（ポリオール）を利用することによってなされる。末端
の水酸基とは、ポリマー分子の中央に結合されている基
ではなく、ポリマーの両端に孤立している水酸基、もし
くは大きなポリマー分子に結合している側鎖の端に結合
しているような水酸基を意味する。したがって末端に水
酸基をもつポリマーが多官能性でない場合には、そのポ
リマーは両端に孤立している水酸基をもっている。有用
なポリオールには、１〜５０個のくシ返えし単位からな
るポリエーテル、ぼりエステル、ポリカーボネートまた
はそれらの混合物などかある。そのポリエーテル、ポリ
エステルまたはポリカーボネートは両末端あるいはその
いくつかの枝分れのうちの少くとも２つ以上の末端にお
いて酸無水物と反応する能力さえあれば、基本的にはど
んな構造であってもよい。そのポリエーテル、ポリエス
テルまたはポリカーボネートは２５０〜ＩＱ、０００の
分子量であることが好ましい。ポリエステルとポリエー
テルが末端に水酸基をもつ好ましいポリマーで、利用可
能なポリエステルやポリエーテルなどには次のようなも
のがある：ポリ（ジエチレングリコールアジイート）、
ポリ（エチレングリコールアソペート）、ポリエチレン
オキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリ（テトラメチ
レンオキシド）、ポリ（エチレンオキシド−プロピレン
オキシド）共重合体、ポリ（ネオペンチルグリコールア
ジペート）、ポリ（ノナメチレンオキシド）、およびポ
リ（カプロラクトン）。
末端に水酸基をもつ利用可能な多官能性ポリエーテル、
トリメチロールグロノぜン、ペンタエリスリトール、お
よびジペンタエリスリトールなどかある。末端に水酸基
をもつ好ましいポリマーは、ポリ（ソエテレングリコー
ルアノペート）とポリ（テトラメチレンオキシド）であ
る。
トリメチロールグロノぜン、ペンタエリスリトール、お
よびジペンタエリスリトールなどかある。末端に水酸基
をもつ好ましいポリマーは、ポリ（ソエテレングリコー
ルアノペート）とポリ（テトラメチレンオキシド）であ
る。
゛末端に水酸基をもつポリマー（ポリオール）を、少く
とも２倍量以上過剰の当量数のゾアンノ・イドライドと
混合するーすなわち、末端の水酸基あたシ少くとも２個
の酸無水物基と混合し、ポリオールの末端の水酸基が反
応して消費し尽されるまで反応を進める。その反応混合
物を１６０〜２００℃に加熱し、その温度で約４時間係
つのが好ましい。この反応はリン酸あるいはβ−カルボ
キシエチルアクリレートやマレイン酸付加物などの有機
のカルボン酸のような酸触媒によって促進される。
とも２倍量以上過剰の当量数のゾアンノ・イドライドと
混合するーすなわち、末端の水酸基あたシ少くとも２個
の酸無水物基と混合し、ポリオールの末端の水酸基が反
応して消費し尽されるまで反応を進める。その反応混合
物を１６０〜２００℃に加熱し、その温度で約４時間係
つのが好ましい。この反応はリン酸あるいはβ−カルボ
キシエチルアクリレートやマレイン酸付加物などの有機
のカルボン酸のような酸触媒によって促進される。
用いる触媒の濃度は５００ ｐｐｍ〜５０重量％の範囲
であるが、好ましい触媒濃度はＣＬ１〜５重量％である
。利用可能なジアンハイドライドには、ベンゾフェノン
テトラカルボン酸ジアンハイドライド（ペンゾフエノン
ゾアンハイドライド）、ピロメリット酸シアンハイドラ
イド、およびベンゾフェニルテトラカルボン酸ジアンハ
イドライドなどがある。未反応のま＼残っているアンハ
イドライド基は次の反応に使われる。
であるが、好ましい触媒濃度はＣＬ１〜５重量％である
。利用可能なジアンハイドライドには、ベンゾフェノン
テトラカルボン酸ジアンハイドライド（ペンゾフエノン
ゾアンハイドライド）、ピロメリット酸シアンハイドラ
イド、およびベンゾフェニルテトラカルボン酸ジアンハ
イドライドなどがある。未反応のま＼残っているアンハ
イドライド基は次の反応に使われる。
つぎに反応器の温度を、好ましくは９０〜１６０℃、と
くに好ましくは１１０〜１３０℃に下げ、そのジアンハ
イドライドとポリオールの反応生成物に未反応のアンハ
イドライド基と反応させるのに十分表置の、つまり未反
応のアンハイドライド基おたシ少くとも１個以上の水酸
基になるよう々量の、末端に水酸基をもつ１官能性また
は多官能性のアクリレートもしくはメタクリレート、あ
るいは末端に水酸基をもちＳ、ＯｌたはＮのよう表へテ
ロ原子を少くとも１個以上含む水素ドナーを混合し、そ
して反応混合物中に含まれるアンハイドライド基が消費
し尽されるまで反応させる。この反応の終点は赤外分析
法によって決定することができる。その反応混合物を、
好ましくは９０〜１６０℃、さらに好ましくは１１０〜
１３０℃、で約４時間保つ。その反応混合物がｒル化を
するのを防ぐために、好ましくはα０５〜０．２重量％
の２，６−ノーｔ−ブチルフェノールまたはハイドロキ
ノンモノメチルエーテルなどの禁止剤を添加するのが好
ましい。
くに好ましくは１１０〜１３０℃に下げ、そのジアンハ
イドライドとポリオールの反応生成物に未反応のアンハ
イドライド基と反応させるのに十分表置の、つまり未反
応のアンハイドライド基おたシ少くとも１個以上の水酸
基になるよう々量の、末端に水酸基をもつ１官能性また
は多官能性のアクリレートもしくはメタクリレート、あ
るいは末端に水酸基をもちＳ、ＯｌたはＮのよう表へテ
ロ原子を少くとも１個以上含む水素ドナーを混合し、そ
して反応混合物中に含まれるアンハイドライド基が消費
し尽されるまで反応させる。この反応の終点は赤外分析
法によって決定することができる。その反応混合物を、
好ましくは９０〜１６０℃、さらに好ましくは１１０〜
１３０℃、で約４時間保つ。その反応混合物がｒル化を
するのを防ぐために、好ましくはα０５〜０．２重量％
の２，６−ノーｔ−ブチルフェノールまたはハイドロキ
ノンモノメチルエーテルなどの禁止剤を添加するのが好
ましい。
末端に水酸基をもつアクリレートもしくはメタクリレー
トとして利用可能なものは、ヒドロキシエチルアクリレ
ート、ヒドロキシプロぎルアクリレート、ヒドロキシブ
チルアクリレート、ヒドロキシイソブチルアクリレート
、ヒドロキシイソペンチルアクリレート、ヒドロキシへ
キシルアクリレート、ポリプロピレングリコールモノア
クリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート
、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシエチル
アクリレート、ヒドロキシブチルメタクリレート、ヒド
ロキシイソブチルメタクリレート、ヒドロキシペンチル
メタクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタク
リレート、および？ジエチレングリコールモノメタクリ
レートなどでちる。好ましい末端に水酸基をもつメタク
リレートは、ヒドロキシエチルメタクリレートである。
トとして利用可能なものは、ヒドロキシエチルアクリレ
ート、ヒドロキシプロぎルアクリレート、ヒドロキシブ
チルアクリレート、ヒドロキシイソブチルアクリレート
、ヒドロキシイソペンチルアクリレート、ヒドロキシへ
キシルアクリレート、ポリプロピレングリコールモノア
クリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート
、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシエチル
アクリレート、ヒドロキシブチルメタクリレート、ヒド
ロキシイソブチルメタクリレート、ヒドロキシペンチル
メタクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタク
リレート、および？ジエチレングリコールモノメタクリ
レートなどでちる。好ましい末端に水酸基をもつメタク
リレートは、ヒドロキシエチルメタクリレートである。
アクリレートもしくはメタクリレートの末端のアルケン
基が、合成されるポリマーにフリーラジカル重合性を与
える。
基が、合成されるポリマーにフリーラジカル重合性を与
える。
末端に水酸基をもつ水素ドナーとして利用可能ナモのは
、テトラヒドロフルフリルアルコール、メトキシエタノ
ール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシェタノー
ル、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレン
グリコールエチルエーテル、およびジエチレングリコー
ルブチルエーテルなどである。好ましい末端に水酸基を
もつ水素ドナーは、テトラヒドロフルフリルアルコール
、メトキシエタノールおよびジエチレングリコールメチ
ルエーテルなどである。
、テトラヒドロフルフリルアルコール、メトキシエタノ
ール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシェタノー
ル、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレン
グリコールエチルエーテル、およびジエチレングリコー
ルブチルエーテルなどである。好ましい末端に水酸基を
もつ水素ドナーは、テトラヒドロフルフリルアルコール
、メトキシエタノールおよびジエチレングリコールメチ
ルエーテルなどである。
合成された４リマーが液体であるか固体であるかは主と
してぼりオール単位の鎖長と分子量によって決まる。反
応性稀釈剤（−リマーが硬化する時に架橋する稀釈剤）
を合成されたポリマーに加えてその粘度を低下させるこ
ともできる。添加しうる反応性稀釈の例としては、ネオ
インチルグリコールソアクリレートのプロＩキシル化さ
れたもの、トリメタノールプロパントリアクリレート、
トリメタノールプロノぐンドリアクリレートのプロポキ
シル化されたもの、トリプロピレングリコールジブクリ
レート、２−エトキシエチルアクリレート、および７タ
ル酸無水物とヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭ
Ａ）との付加物などをあげることができる。
してぼりオール単位の鎖長と分子量によって決まる。反
応性稀釈剤（−リマーが硬化する時に架橋する稀釈剤）
を合成されたポリマーに加えてその粘度を低下させるこ
ともできる。添加しうる反応性稀釈の例としては、ネオ
インチルグリコールソアクリレートのプロＩキシル化さ
れたもの、トリメタノールプロパントリアクリレート、
トリメタノールプロノぐンドリアクリレートのプロポキ
シル化されたもの、トリプロピレングリコールジブクリ
レート、２−エトキシエチルアクリレート、および７タ
ル酸無水物とヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭ
Ａ）との付加物などをあげることができる。
前述のポリマーのもう一つの合成方法は、末端に水酸基
をもつ１官能性または多官能性のアクリレートもしくは
メタクリレート、あるいは末端に水酸基をもちｓ 、ｏ
ｔたはＮのようなヘテロ原子を少くとも１個以上含む水
素ドナーを少くとも２倍以上の当量数のジアンハイドラ
イド、すなわち末端の水酸基あたり少くとも２個以上の
酸無水物基、を反応させ、アクリレート、メタクリレー
トあるいは水素ドナの末端水酸基を消費させる。この反
応混合物を１３０〜１６０℃に加熱し、その温度で約４
時間保つのが好ましい。反応させようとする混合物はき
わめて粘稠であるので、稀釈剤、好ましくはジアンハイ
ドライドを可溶化するグリコール系極性稀釈剤、をこの
反応混合物に加える。
をもつ１官能性または多官能性のアクリレートもしくは
メタクリレート、あるいは末端に水酸基をもちｓ 、ｏ
ｔたはＮのようなヘテロ原子を少くとも１個以上含む水
素ドナーを少くとも２倍以上の当量数のジアンハイドラ
イド、すなわち末端の水酸基あたり少くとも２個以上の
酸無水物基、を反応させ、アクリレート、メタクリレー
トあるいは水素ドナの末端水酸基を消費させる。この反
応混合物を１３０〜１６０℃に加熱し、その温度で約４
時間保つのが好ましい。反応させようとする混合物はき
わめて粘稠であるので、稀釈剤、好ましくはジアンハイ
ドライドを可溶化するグリコール系極性稀釈剤、をこの
反応混合物に加える。
この反応は、オクトエ酸錫、リン酸あるいはβ−カルボ
キシルエチルアクリレート、マレイン酸の付加物のよう
な有機のカルボン酸などの適当な触媒によって促進され
る。またｒル化を防ぐためにこの反応混合物に２＋６−
ｄｃ−ｔ−ブチルフェノールやハイドロキノンモノメチ
ルエーテルなどの禁止剤を加えるのが好ましい。未反応
のま＼残っているアンハイドライド基は次の反応に使わ
れる。つぎに反応器の温度を好ましくは１１０〜１３０
℃に下げ、この反応混合物に残っている未反応の酸無水
物基とはソ同じ当量数の反応性の水酸基の量となるよう
に、末端に水酸基をもつポリマー（ポリオール）を混合
し、反応混合物中に含まれるアンハイドライド基が消費
し尽されるまで反応させる。この反応の終点は赤外分析
法によって決定することができる。その反応混合物を好
ましくは１１０〜１５０℃に４時間係つのが好ましい。
キシルエチルアクリレート、マレイン酸の付加物のよう
な有機のカルボン酸などの適当な触媒によって促進され
る。またｒル化を防ぐためにこの反応混合物に２＋６−
ｄｃ−ｔ−ブチルフェノールやハイドロキノンモノメチ
ルエーテルなどの禁止剤を加えるのが好ましい。未反応
のま＼残っているアンハイドライド基は次の反応に使わ
れる。つぎに反応器の温度を好ましくは１１０〜１３０
℃に下げ、この反応混合物に残っている未反応の酸無水
物基とはソ同じ当量数の反応性の水酸基の量となるよう
に、末端に水酸基をもつポリマー（ポリオール）を混合
し、反応混合物中に含まれるアンハイドライド基が消費
し尽されるまで反応させる。この反応の終点は赤外分析
法によって決定することができる。その反応混合物を好
ましくは１１０〜１５０℃に４時間係つのが好ましい。
またはＲ５５Ｌ４−Ｒ□ａ＞１０を示し、Ｒ１は水素、
メチルまたはエチルを示し、Ｒ１は１〜６個の炭素原子
を含む直鎖状または分校状のアルキル基を示し、 ｄは１〜１０の自然数であシ、 Ｒ１，はアルキル基であるか、もしくは複素環成分Ａを
含む複素環の残基であシ、 Ａは０．Ｎ、またはＳであシ、 ｆは１〜乙の自然数であり、 Ｒ１，は脂環族、脂肪原寸たは芳香族の残基を示し、 Ｐｌは有機の残基を示し、 Ｒ１は有機の残基を示し、 Ｒ２は有機の残基を示し、 Ｒ１，は脂環族、脂肪族または芳香族の残基を示し ０ （Ｒ１１Ｅ＞、−Ｒｔａを示し、Ｒｏは１〜６個
の炭素原子を含む直鎖状または分校状のアルキルを示し
、 ｅは１〜１０の自然数であシ、 Ｒ８゜は水素、メチルまたはエチルを示し、Ｒ４はアル
キルまたはアリールを示し、Ｂは０． Ｎ、またはＳで
あり、 Ｒ１，はアルキル基であるか、もしくは複素環成分Ｂを
含む複素環の残基であシ、 ｇは１〜６の自然数である、 によってあられされる、より少量のカルボキシル基をも
つ、本発明のポリマーを合成するための一つの方法は、
まず初めにソアンハイドライドを利用することによって
なされる。ソアンハイドライドを、少くとも２倍量以上
過剰の当量数の末端に水酸基をもつポリマー（ポリオー
ル）と混合する−すなわちアンハイドライド基あたシ少
くとも２個の水酸基を加え、反応混合物中のアンハイド
ライド基が反応して消費し尽されるまで反応を進める。
メチルまたはエチルを示し、Ｒ１は１〜６個の炭素原子
を含む直鎖状または分校状のアルキル基を示し、 ｄは１〜１０の自然数であシ、 Ｒ１，はアルキル基であるか、もしくは複素環成分Ａを
含む複素環の残基であシ、 Ａは０．Ｎ、またはＳであシ、 ｆは１〜乙の自然数であり、 Ｒ１，は脂環族、脂肪原寸たは芳香族の残基を示し、 Ｐｌは有機の残基を示し、 Ｒ１は有機の残基を示し、 Ｒ２は有機の残基を示し、 Ｒ１，は脂環族、脂肪族または芳香族の残基を示し ０ （Ｒ１１Ｅ＞、−Ｒｔａを示し、Ｒｏは１〜６個
の炭素原子を含む直鎖状または分校状のアルキルを示し
、 ｅは１〜１０の自然数であシ、 Ｒ８゜は水素、メチルまたはエチルを示し、Ｒ４はアル
キルまたはアリールを示し、Ｂは０． Ｎ、またはＳで
あり、 Ｒ１，はアルキル基であるか、もしくは複素環成分Ｂを
含む複素環の残基であシ、 ｇは１〜６の自然数である、 によってあられされる、より少量のカルボキシル基をも
つ、本発明のポリマーを合成するための一つの方法は、
まず初めにソアンハイドライドを利用することによって
なされる。ソアンハイドライドを、少くとも２倍量以上
過剰の当量数の末端に水酸基をもつポリマー（ポリオー
ル）と混合する−すなわちアンハイドライド基あたシ少
くとも２個の水酸基を加え、反応混合物中のアンハイド
ライド基が反応して消費し尽されるまで反応を進める。
この反応の終点は赤外分析法によって決定することがで
きる。未反応のま＼残っている水酸基は次の反応に使わ
れる。
きる。未反応のま＼残っている水酸基は次の反応に使わ
れる。
次にこの反応混合物に２倍量過剰の当量数の有機ジイソ
シアネート化合物を加える−すなわち未反応の水酸基あ
たり少くとも２個以上のインシアネート基を加え、反応
混合物中に残っている水酸基が反応して消費し尽される
まで反応を進める。
シアネート化合物を加える−すなわち未反応の水酸基あ
たり少くとも２個以上のインシアネート基を加え、反応
混合物中に残っている水酸基が反応して消費し尽される
まで反応を進める。
未反応のま＼残っているインシアネート基は次の反応に
使われる。上の一般式をもつ４リマーを生成しうるすべ
てのジイソシアネートが利用可能である。このジイソシ
アネートはＲ（ＮＣＯ）ｔなる一般式であられされ、こ
の場合Ｒは反応性に富むＣ＝Ｃ二重結合をもたない多価
の有機原子団である。好ましいジイソシアネートは、ヘ
キサメチレンソイソシアネート、ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、フェニレンツインシアネート、トルエン
ジインシアネート、キシリレンジイソシアネートいナフ
タレンツインシアネート、およびイソフオレンソイソシ
アネートなどである。
使われる。上の一般式をもつ４リマーを生成しうるすべ
てのジイソシアネートが利用可能である。このジイソシ
アネートはＲ（ＮＣＯ）ｔなる一般式であられされ、こ
の場合Ｒは反応性に富むＣ＝Ｃ二重結合をもたない多価
の有機原子団である。好ましいジイソシアネートは、ヘ
キサメチレンソイソシアネート、ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、フェニレンツインシアネート、トルエン
ジインシアネート、キシリレンジイソシアネートいナフ
タレンツインシアネート、およびイソフオレンソイソシ
アネートなどである。
最後に、この反応生成物（ウレタン付加物）に未反応の
ま＼残っているイソシアネート基の数とはソ同数の反応
性水酸基となるような量の、末端に水酸基をもつ１官能
性または多官能性のアクリレートもしくはメタクリレー
ト、あるいは末端に水酸基をもち５，０またはＮのよう
なヘテロ原子を少くとも１個以上含む水素ドナーを、前
述のように混合し、そして該ウレタン付加物中のインシ
アネート基が消費し尽されるまで反応させる。この反応
に触媒を用い、Ｖインシアネートと混合するのが好まし
い。利用できる触媒は、ジブチルスズソラウレートやオ
クトエ酸スズなどのウレタン用触媒である。有機の７オ
スフアイトのような助触媒も利用することもできる。
ま＼残っているイソシアネート基の数とはソ同数の反応
性水酸基となるような量の、末端に水酸基をもつ１官能
性または多官能性のアクリレートもしくはメタクリレー
ト、あるいは末端に水酸基をもち５，０またはＮのよう
なヘテロ原子を少くとも１個以上含む水素ドナーを、前
述のように混合し、そして該ウレタン付加物中のインシ
アネート基が消費し尽されるまで反応させる。この反応
に触媒を用い、Ｖインシアネートと混合するのが好まし
い。利用できる触媒は、ジブチルスズソラウレートやオ
クトエ酸スズなどのウレタン用触媒である。有機の７オ
スフアイトのような助触媒も利用することもできる。
前述のよシ少量のカルボキシル基をもクイリマーのもう
一つの合成法は、末端に水酸基をもつ１官能性または多
官能性のアクリレートもしくはメタクリレート、あるい
は末端に水酸基をもつ水素ドナーを約２倍量過剰の当量
数のジイソシアネートと反応させるーすなわち、末端の
水酸基あたシ少くとも２個のインシアネート基を加え、
アクリレート、メタクリレートまたは水素ドナーの末端
の水酸基が反応して消費し尽されるまで反応を進める。
一つの合成法は、末端に水酸基をもつ１官能性または多
官能性のアクリレートもしくはメタクリレート、あるい
は末端に水酸基をもつ水素ドナーを約２倍量過剰の当量
数のジイソシアネートと反応させるーすなわち、末端の
水酸基あたシ少くとも２個のインシアネート基を加え、
アクリレート、メタクリレートまたは水素ドナーの末端
の水酸基が反応して消費し尽されるまで反応を進める。
未反応のｔ＼残っているインシアネート基は次の反応に
使われる。つぎにその反応生成物に末端に水酸基をもつ
ポリマーを２倍量過剰の尚量数加えるーすなわち未反応
のインシアネート基あたり少くとも２個の末端の水酸基
を加え、反応生成物中に含まれるインシアネート基がす
べて反応して消費し尽される。まで反応を進める。未反
応のま＼残っている末端の水酸基は次の反応に利用され
る。最後にその反応生成物に未反応のま＼残っている末
端の水酸基とはソ同量の十分な量のアンハイドライド基
を加え、反応混合物中に含まれているアンハイドライド
基が消費し尽されるまで反応を進める。
使われる。つぎにその反応生成物に末端に水酸基をもつ
ポリマーを２倍量過剰の尚量数加えるーすなわち未反応
のインシアネート基あたり少くとも２個の末端の水酸基
を加え、反応生成物中に含まれるインシアネート基がす
べて反応して消費し尽される。まで反応を進める。未反
応のま＼残っている末端の水酸基は次の反応に利用され
る。最後にその反応生成物に未反応のま＼残っている末
端の水酸基とはソ同量の十分な量のアンハイドライド基
を加え、反応混合物中に含まれているアンハイドライド
基が消費し尽されるまで反応を進める。
Ｒ，−Ｒ，−Ｒ６
■
ＯＯＨ
またはＲ１１ｌ （Ａ−Ｒ，４）ｆＯを示し、Ｒ１は
水素、メチルまたはエチルを示し、Ｒ８は１〜６個の炭
素原子を含む直鎖状またけ分校状のアルキル基を示し、 ｄは１〜１０の自然数であシ、 Ｒｌｍはアルキル基であるか、もしくは複素環成分Ａを
含む複素環の残基であり、 ＡはＯＳＮ、またはＳであシ、 Ｒ１４はアルキルまたはアリールを示し、ｆは１〜６の
自然数であり、 Ｒ２は有機の残基を示し、 ０ （Ｒｌｓ Ｅ）ｇ −Ｒｓ６を示し、Ｒ９は１
〜６個の炭素原子を含む直鎖状または分枝状のアルキル
基を示し、 Ｃは１〜１０の自然数であシ、 ＲｌＧは水素、メチルまたはエチルを示し、Ｒｔｓはア
ルキルまたはアリールを示し、Ｂは０．Ｎ、またはＳで
あり、 ｇは１〜６の自然数であシ、 Ｒ１６はアルキル基であるか、もしくは複素環成分Ｂを
含む複素環の残基である、 によってあられされる、水酸基を含まない、本発明のポ
リマーを合成するための一つの方法は、まず初めにジア
ンハイドライドを利用することによってなされる。ジア
ンハイドライドにその反応性アンハイドライド基とはソ
同量の十分な量の反応性の水酸基となるように、末端に
水酸基をもつアクリレートもしくはメタクリレート、あ
るいは末端に水酸基をもちＳＳＯまたはＮなどのへテロ
原子を少くとも１個以上含む水素ドナーを加え、反応混
合物中に含まれるアンハイドライド基が消費し尽される
まで反応を進める。
水素、メチルまたはエチルを示し、Ｒ８は１〜６個の炭
素原子を含む直鎖状またけ分校状のアルキル基を示し、 ｄは１〜１０の自然数であシ、 Ｒｌｍはアルキル基であるか、もしくは複素環成分Ａを
含む複素環の残基であり、 ＡはＯＳＮ、またはＳであシ、 Ｒ１４はアルキルまたはアリールを示し、ｆは１〜６の
自然数であり、 Ｒ２は有機の残基を示し、 ０ （Ｒｌｓ Ｅ）ｇ −Ｒｓ６を示し、Ｒ９は１
〜６個の炭素原子を含む直鎖状または分枝状のアルキル
基を示し、 Ｃは１〜１０の自然数であシ、 ＲｌＧは水素、メチルまたはエチルを示し、Ｒｔｓはア
ルキルまたはアリールを示し、Ｂは０．Ｎ、またはＳで
あり、 ｇは１〜６の自然数であシ、 Ｒ１６はアルキル基であるか、もしくは複素環成分Ｂを
含む複素環の残基である、 によってあられされる、水酸基を含まない、本発明のポ
リマーを合成するための一つの方法は、まず初めにジア
ンハイドライドを利用することによってなされる。ジア
ンハイドライドにその反応性アンハイドライド基とはソ
同量の十分な量の反応性の水酸基となるように、末端に
水酸基をもつアクリレートもしくはメタクリレート、あ
るいは末端に水酸基をもちＳＳＯまたはＮなどのへテロ
原子を少くとも１個以上含む水素ドナーを加え、反応混
合物中に含まれるアンハイドライド基が消費し尽される
まで反応を進める。
本発明のポリマーは、それ自身で７オトレソストとして
利用されるか、あるいは、たとえばその内容が文献中に
引用されているように米国特許第４．４２２，９１４号
に公表されているような公知の方法によって光重合性組
成物として配合することもできる。これらの光重合性組
成物は液状、固形状あるいは溶融状態で基板に塗布され
る。
利用されるか、あるいは、たとえばその内容が文献中に
引用されているように米国特許第４．４２２，９１４号
に公表されているような公知の方法によって光重合性組
成物として配合することもできる。これらの光重合性組
成物は液状、固形状あるいは溶融状態で基板に塗布され
る。
光重合性組成物として本発明のポリマーを利用する場合
、重合させるための活性な光とともに光重合開始剤を用
いる。利用可能な光重合開始剤にハ、ベンゾフェノン、
アセトフェノン、アセナフテンキノン、１−フェニル−
１，１−ソメトキシアセトフエノン、Ｏ−メトキシ−ベ
ンゾフェノン、ジベンゾスペロン、アントラキノン、ヘ
キサノフェノン、および２，２−ジメトキシ−２−フェ
ニルアセトフェノンなどがある。ベンゾフェノンシアン
ハイドライドのような増感剤が本発明のポリマーを合成
する時に用いである場合には、増感剤がポリマーの主鎖
の中にとシこまれているので、光重合性組成物中に光重
合開始剤を含ませる必要はない。もしベンゾフェノンジ
アンハイドライドのような増感剤が本発明のポリマーを
合成する時に用いであるが、末端に水酸基をもちＳ１０
またはＮなどのへテロ原子を少くとも１個以上含む前述
の水素ドナーを用いていない場合には、その光重合性組
成物が光重合開始機能をもつように少くとも１個以上の
へテロ原子を含む水素ドナーを補助開始剤として含ませ
ることが望ましい。利用可能な補助開始剤は、テトラヒ
ドロフルフリルアクリレート、２−エトキシエチルアク
リレート、およびアミノアクリレートなどのほか、前述
の末端に水酸基をもつ水素トチ−が含まれる。もし末端
に水酸基をもちＳ、０またはＮなどのへテロ原子を少く
とも１個以上含む水素ドナーとベンゾフェノンジアンハ
イドライドの両方が本発明のポリマーを合成する時に用
いである場合には、そのポリマーの主鎖中にすべての光
重合開始成分、っｔ、ｂ増感剤と補助開始剤、が含まれ
ているので、光重合性組成物中に光重合開始剤や補助開
始剤を含ませる必要はない。
、重合させるための活性な光とともに光重合開始剤を用
いる。利用可能な光重合開始剤にハ、ベンゾフェノン、
アセトフェノン、アセナフテンキノン、１−フェニル−
１，１−ソメトキシアセトフエノン、Ｏ−メトキシ−ベ
ンゾフェノン、ジベンゾスペロン、アントラキノン、ヘ
キサノフェノン、および２，２−ジメトキシ−２−フェ
ニルアセトフェノンなどがある。ベンゾフェノンシアン
ハイドライドのような増感剤が本発明のポリマーを合成
する時に用いである場合には、増感剤がポリマーの主鎖
の中にとシこまれているので、光重合性組成物中に光重
合開始剤を含ませる必要はない。もしベンゾフェノンジ
アンハイドライドのような増感剤が本発明のポリマーを
合成する時に用いであるが、末端に水酸基をもちＳ１０
またはＮなどのへテロ原子を少くとも１個以上含む前述
の水素ドナーを用いていない場合には、その光重合性組
成物が光重合開始機能をもつように少くとも１個以上の
へテロ原子を含む水素ドナーを補助開始剤として含ませ
ることが望ましい。利用可能な補助開始剤は、テトラヒ
ドロフルフリルアクリレート、２−エトキシエチルアク
リレート、およびアミノアクリレートなどのほか、前述
の末端に水酸基をもつ水素トチ−が含まれる。もし末端
に水酸基をもちＳ、０またはＮなどのへテロ原子を少く
とも１個以上含む水素ドナーとベンゾフェノンジアンハ
イドライドの両方が本発明のポリマーを合成する時に用
いである場合には、そのポリマーの主鎖中にすべての光
重合開始成分、っｔ、ｂ増感剤と補助開始剤、が含まれ
ているので、光重合性組成物中に光重合開始剤や補助開
始剤を含ませる必要はない。
増感剤と補助開始剤がポリマーの主鎖中に含まれている
時には（両者は固定されているので）、均一に光重合が
開始されるので感度と画質が改善される。光硬化した最
終組成物中には結合しないま＼の状態で残っている光重
合開始剤は存在しないので、活性光によって露光した時
に結合していない状態の光重合開始剤による副反応がお
こシ得ない。増感剤だけをポリマーの主鎖中に含ませた
時には、その増感剤が固定されているお蔭で画質が改善
される。しかしその効果は増感剤と補助開始剤の両者が
ポリマーの主鎖中に含まれる時はどは大きくない。
時には（両者は固定されているので）、均一に光重合が
開始されるので感度と画質が改善される。光硬化した最
終組成物中には結合しないま＼の状態で残っている光重
合開始剤は存在しないので、活性光によって露光した時
に結合していない状態の光重合開始剤による副反応がお
こシ得ない。増感剤だけをポリマーの主鎖中に含ませた
時には、その増感剤が固定されているお蔭で画質が改善
される。しかしその効果は増感剤と補助開始剤の両者が
ポリマーの主鎖中に含まれる時はどは大きくない。
この−リマーを特殊な用途に用いる場合には、それに応
じて今まで述べた物質以外のものを光重合性組成物中に
加えることができる。たとえばスクリン印刷用インキを
調製するためにそのポリマーをのシ状にしようとする時
には、無機のフィラーを添加する。光重合性組成物が１
種もしくは２種以上の流動性促進剤を含んでいる場合も
あシ、そのような流動性促進剤の例としては、モンナン
ト社製アクリル樹脂系物質であるモダフロー（Ｍａｄα
ｆｌｏｗ）とＳＢＳケミカル社製アクリル樹脂系物質で
あるレソフロ−（Ｒｅｓｉｆｌｏｗ ） Ｌ カする。
じて今まで述べた物質以外のものを光重合性組成物中に
加えることができる。たとえばスクリン印刷用インキを
調製するためにそのポリマーをのシ状にしようとする時
には、無機のフィラーを添加する。光重合性組成物が１
種もしくは２種以上の流動性促進剤を含んでいる場合も
あシ、そのような流動性促進剤の例としては、モンナン
ト社製アクリル樹脂系物質であるモダフロー（Ｍａｄα
ｆｌｏｗ）とＳＢＳケミカル社製アクリル樹脂系物質で
あるレソフロ−（Ｒｅｓｉｆｌｏｗ ） Ｌ カする。
すでに述べたように、粘度を下げるために光重合性組成
物中に反応性稀釈剤を加えることもできる。
物中に反応性稀釈剤を加えることもできる。
エツチング用レゾストあるいはメッキ用レソストとして
用いることのできる光重合性組成物の好ましい配合は、
次の通シである： ポリマー １５−７０２−
エトキシエチルアクリレート ０−３０レジフロー
Ｌ １−２染料
０−１ β−カルボキシエチルアクリレ−） ０−１０トリ
メタノールプロパントリアクリレートやトリメタノール
化プロパントリアクリレートのグロポキシル化物の代シ
に、ネオペンチルグリコールソアクリレートのグロポキ
シル化物やトリプロピレングリコールソアクリレートな
どのような他の反応性稀釈剤を用いることもできる。
用いることのできる光重合性組成物の好ましい配合は、
次の通シである： ポリマー １５−７０２−
エトキシエチルアクリレート ０−３０レジフロー
Ｌ １−２染料
０−１ β−カルボキシエチルアクリレ−） ０−１０トリ
メタノールプロパントリアクリレートやトリメタノール
化プロパントリアクリレートのグロポキシル化物の代シ
に、ネオペンチルグリコールソアクリレートのグロポキ
シル化物やトリプロピレングリコールソアクリレートな
どのような他の反応性稀釈剤を用いることもできる。
光重合性組成物として可能な３つの特殊な配合例は、次
の通りである： ＾ム ５Ｊ一 本発明のポリマーをフォトレジストの成分として用いる
時には、その光重合性組成物は常法によって金属やその
他の物質で被覆された回路基板に塗布される。すなわち
、光重合性組成物はのシ状にされ、スクリン印刷によっ
て回路基板の一部に塗布されるか、あるいは回路基板全
体に塗布された後選択的にツクターン化される。その光
重合性組成物が回路基板上にスクリン印刷された時には
、それを光硬化させるために活性光によって露光するだ
けでよい。この時光硬化した組成物は、その後で行なわ
れるメッキやエツチング工程の間、下にある基板を保護
する。その光重合性組成物が回路基板全体に塗布された
後選択的にパターン化する時には、通常は不透明な部分
と透明な部分からなる回路ノターンのネガを、その光重
合性組成物が液状の場合にはその塗布面の上方に、ある
いはその光重合性組成物が固体状の場合にはその塗布面
に密着させておき、写真的に選択的な光硬化を行なう。
の通りである： ＾ム ５Ｊ一 本発明のポリマーをフォトレジストの成分として用いる
時には、その光重合性組成物は常法によって金属やその
他の物質で被覆された回路基板に塗布される。すなわち
、光重合性組成物はのシ状にされ、スクリン印刷によっ
て回路基板の一部に塗布されるか、あるいは回路基板全
体に塗布された後選択的にツクターン化される。その光
重合性組成物が回路基板上にスクリン印刷された時には
、それを光硬化させるために活性光によって露光するだ
けでよい。この時光硬化した組成物は、その後で行なわ
れるメッキやエツチング工程の間、下にある基板を保護
する。その光重合性組成物が回路基板全体に塗布された
後選択的にパターン化する時には、通常は不透明な部分
と透明な部分からなる回路ノターンのネガを、その光重
合性組成物が液状の場合にはその塗布面の上方に、ある
いはその光重合性組成物が固体状の場合にはその塗布面
に密着させておき、写真的に選択的な光硬化を行なう。
それから活性光を光学装置によってネガの上に結像させ
、ネガの透明な部分を透過した光のみが、照射部の光重
合性組成物を光硬化させる。
、ネガの透明な部分を透過した光のみが、照射部の光重
合性組成物を光硬化させる。
液状の光重合性組成物を用いた場合には、光が照射され
ず液状のま＼で残っている組成物は、ふきとられるかア
ルカリによって洗い出されてとシ除かれる。光硬化した
組成物は金属やその他の物質からなる回路基板にしっか
りと付着し、その後行なわれるメッキやエツチング工程
の間その下にある基板を保護する。スクリン印刷による
場合もその他の湿式の技術による場合でも、光硬化して
いた組成物はそれが保護していた基板の表面から同様に
してはく離される。これは強い塩基のカチオンを含むア
ルカリ溶液に回路基板を接触させることによってなされ
る。
ず液状のま＼で残っている組成物は、ふきとられるかア
ルカリによって洗い出されてとシ除かれる。光硬化した
組成物は金属やその他の物質からなる回路基板にしっか
りと付着し、その後行なわれるメッキやエツチング工程
の間その下にある基板を保護する。スクリン印刷による
場合もその他の湿式の技術による場合でも、光硬化して
いた組成物はそれが保護していた基板の表面から同様に
してはく離される。これは強い塩基のカチオンを含むア
ルカリ溶液に回路基板を接触させることによってなされ
る。
本発明は次の例によってさらに詳しく説明されるが、そ
の例は本発明に制限を加えるものではない。
の例は本発明に制限を加えるものではない。
実施例１
この実施例は本発明による液状の、４１Ｊマ一成分の合
成方法を説明する。
成方法を説明する。
反応容器を９５〜１０５℃に予熱し、その中へポリ（ジ
エチレングリコールアゾベート４ＣＬ３６重量部とベン
ゾフェノンテトラカルボン酸アンハイドライド（ＢＴＤ
Ａ）２５．９７重量部とを加える。その混合物を攪拌し
温度を１６０〜１７０℃に昇温する。その混合物にオク
トエ酸錫０．０１５重量部を加え、１６０〜１７０℃に
４時間保って末端の水酸基が消費尽されるまで反応を進
める。
エチレングリコールアゾベート４ＣＬ３６重量部とベン
ゾフェノンテトラカルボン酸アンハイドライド（ＢＴＤ
Ａ）２５．９７重量部とを加える。その混合物を攪拌し
温度を１６０〜１７０℃に昇温する。その混合物にオク
トエ酸錫０．０１５重量部を加え、１６０〜１７０℃に
４時間保って末端の水酸基が消費尽されるまで反応を進
める。
反応容器の温度を１１５〜１２５℃に下降させ、β−カ
ルボキシルエチルアクリレート（β−ＣＥＡ）２．０重
量部と２，６−ノーｔ−−ブチルフェノール１．５重量
部とをその反応生成物に加え、１．５時間攪拌する。つ
ぎにヒドロキシルエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ ）
１１．５０重量部とハイドロキノンモノメチルエーテ
ル（ＭＥＨＱ）［Ｌｏ ５重量部とをその反応生成物に
加えて３時間攪拌し、この反応混合物中に含まれるアン
ハイドライド基が消費し尽されるまで反応させる。
ルボキシルエチルアクリレート（β−ＣＥＡ）２．０重
量部と２，６−ノーｔ−−ブチルフェノール１．５重量
部とをその反応生成物に加え、１．５時間攪拌する。つ
ぎにヒドロキシルエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ ）
１１．５０重量部とハイドロキノンモノメチルエーテ
ル（ＭＥＨＱ）［Ｌｏ ５重量部とをその反応生成物に
加えて３時間攪拌し、この反応混合物中に含まれるアン
ハイドライド基が消費し尽されるまで反応させる。
反応性稀釈剤として、この場合はトリプロピレングリ；
−シソアクリレート２０．０重量部をさきに合成された
本発明のポリマーに加え、１時間攪拌する。
−シソアクリレート２０．０重量部をさきに合成された
本発明のポリマーに加え、１時間攪拌する。
実施例２
この実施例は本発明にょるポリマー成分のもう一つの合
成方法を説明する。
成方法を説明する。
反応容器を７５〜８５℃に予熱し、その中ヘヒドロキシ
ルエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）３３．２５７重量
部とベンゾフェノンテトラカルボン酸ソアンハイドライ
ド（ＢＴＤＡ）３７．４２１重量部とを加える。その反
応混合物を攪拌し、その混合物中へβ−ＣＥＡ２．１６
重量部、２，６−ジーｔ−ブチルフェノール１．４４３
重量部およびオクトエ酸す”ｊｏ、０１４重量部とを加
える。温度を１１５〜１２５℃に昇温し、その温度に５
時間保って、赤外スペクトルにおいて１７９０ｍ−”と
１８６０ｃＩＬ″″１の吸収ピークがなくなって、反応
混合物中に含まれるアンハイドライド基がなくなるまで
反応させる。
ルエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）３３．２５７重量
部とベンゾフェノンテトラカルボン酸ソアンハイドライ
ド（ＢＴＤＡ）３７．４２１重量部とを加える。その反
応混合物を攪拌し、その混合物中へβ−ＣＥＡ２．１６
重量部、２，６−ジーｔ−ブチルフェノール１．４４３
重量部およびオクトエ酸す”ｊｏ、０１４重量部とを加
える。温度を１１５〜１２５℃に昇温し、その温度に５
時間保って、赤外スペクトルにおいて１７９０ｍ−”と
１８６０ｃＩＬ″″１の吸収ピークがなくなって、反応
混合物中に含まれるアンハイドライド基がなくなるまで
反応させる。
温度を７５〜８５℃まで下降させ、こうして合成された
本発明のポリマーの反応生成物中に、２−エトキシエテ
ルアクリレート（反応性稀釈剤）１４．３９９重量部と
トリメタノールグロ・９ントリアクリレート（反応性稀
釈剤）１１．３０６重量部とを加え、さらに１時間攪拌
する。
本発明のポリマーの反応生成物中に、２−エトキシエテ
ルアクリレート（反応性稀釈剤）１４．３９９重量部と
トリメタノールグロ・９ントリアクリレート（反応性稀
釈剤）１１．３０６重量部とを加え、さらに１時間攪拌
する。
本明ｌａ書では好ましい具体例について記載したが、そ
の他の場合においても同様の結果を得ることができる。
の他の場合においても同様の結果を得ることができる。
この分野の技術者にとって本発明の変法や改良法は明白
であり、本発明の概念の範囲内に該尚するそのような変
法や改良法のすべては、本発明の特許請求の範囲内に入
るものと考える。
であり、本発明の概念の範囲内に該尚するそのような変
法や改良法のすべては、本発明の特許請求の範囲内に入
るものと考える。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ または ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＿１はＲ＿５（Ｚ）＿ｐを示し、 Ｒ＿５は−Ｏ−末端反応性基を示し、 Ｚは−Ｏ−イソシアネートを示し、 ｐはゼロか１であるが、ｍがゼロの時はｐ もゼロであり、 Ｐ＿１は有機の残基を示し、 ｍはゼロか１であるが、πが１の時はｍが ゼロであり、 Ｒ＿２は有機の残基を示し、 Ｐ＿２は有機の残基を示し、 ｒはゼロか１であるが、ｍとｎの両者がゼ ロの時のみｒがゼロであり、 Ｒ＿３は有機の残基を示し、 ｎはゼロか１であり、 Ｒ＿４は−（Ｖ）＿ｗ−Ｒ＿６を示し、 Ｖは−Ｏ−イソシアネートを示し、 ｗはゼロか１であるが、ｍがゼロの時はｗ もゼロであり、 Ｒ＿６は−Ｏ−末端反応性基を示す、 によってあらわされるポリマー。 ２、Ｐ＿１が１〜５０個のくり返えし単位からなるアル
キレン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリカーボネー
トおよびそれらの混合物の群から選ばれた基であること
を特徴とする、特許請求の範囲第１項記載のポリマー。 ３、Ｐ＿２が１〜５０個のくり返えし単位からなるアル
キレン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリカーボネー
トおよびそれらの混合物の群から選ばれた基であること
を特徴とする、特許請求の範囲第１項記載のポリマー。 ４、▲数式、化学式、表等があります▼ Ｒ＿５が▲数式、化学式、表等があります▼；であ り、 Ｒ＿６が▲数式、化学式、表等があります▼であり、 Ｒ＿７は水素、メチルまたはエチルを示し、Ｒ＿８は１
〜６個の炭素原子を含む直鎖状または分枝状のアルキル
基を示し、 ｄは１〜１０の自然数であり、 Ｒ＿９は１〜６個の炭素原子を含む直鎖状または分枝状
のアルキル基を示し、 ｅは１〜１０の自然数であり Ｒ＿１＿０は水素、メチルまたはエチルを示すことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載のポリマー。 ５、Ｐがゼロ、ｗがゼロ、ｍがゼロ、ｒが１、そしてｎ
が１であることを特徴とする特許請求の範囲第４項記載
のポリマー。 ６、Ｚが▲数式、化学式、表等があります▼であり、 Ｒ＿１＿１は脂環族、脂肪族、または芳香族の基を示し
、 ｐが１、ｍが１、ｎがゼロ、ｗが１で、 Ｖが▲数式、化学式、表等があります▼であり、 Ｒ＿１＿２は脂環族、脂肪族、または芳香族の基を示す
、 ことを特徴とする特許請求の範囲第４項記載のポリマー
。 ７、Ｒ＿５がＲ＿１＿３−（Ａ−Ｒ＿１＿４）＿ｆ−Ｏ
−なる式で表わされ、 Ｒ＿６が−Ｏ−（Ｒ＿１＿５−Ｂ）＿ｇ−Ｒ＿１＿６な
る式で表わされ、 こゝでＲ＿１＿３はアルキル基であるか、もしくは複素
環成分Ａを含む複素環の残基であり、ＡはＯ、Ｎ、また
はＳであり、 Ｒ＿１＿４はアルキルまたはアリールであり、ｆは１〜
６の自然数であり、 Ｒ＿１＿５はアルキルまたはアリールであり、ＢはＯ、
Ｎ、またはＳであり、 ｇは１〜６の自然数であり、 Ｒ＿１＿６はアルキル基であるか、もしくは複素環成分
Ｂを含む複素環の残基である、 ことを特徴とする特許請求の範囲第４項記載のポリマー
。 ８、Ｒ＿５がＣＨ＿３−Ｏ−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−Ｏ−
、ＣＨ＿３−Ｏ−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−Ｏ−ＣＨ＿２−
ＣＨ＿２−Ｏ−、および▲数式、化学式、表等がありま
す▼よりなる群から選ばれた基であ ることを特徴とする、特許請求の範囲第７項記載のポリ
マー。 ９、Ｒ＿６が−Ｏ−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−Ｏ−ＣＨ＿３
、−Ｏ−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−Ｏ−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２
−Ｏ−ＣＨ＿３、および▲数式、化学式、表等がありま
す▼よりなる群から選ばれた基である ことを特徴とする、特許請求の範囲第７項記載のポリマ
ー。 １０、Ｚが▲数式、化学式、表等があります▼であり、 Ｒ＿１＿１が脂環族、脂肪族、または芳香族の基であり
、 ｐが１、ｍが１、ｒが１、ｎがゼロであり、Ｖが▲数式
、化学式、表等があります▼であり、 Ｒ＿１＿２が脂環族、脂肪族、または芳香族の基であり
、 ｗが１である、 ことを特徴とする特許請求の範囲第７項記載のポリマー
。 １１、ｐがゼロ、ｗがゼロ、ｍがゼロ、ｒが１、そして
ｎが１であることを特徴とする特許請求の範囲第７項記
載のポリマー。 １２、Ｒ＿２とＲ＿３が▲数式、化学式、表等がありま
す▼を示す、 ことを特徴とする特許請求の範囲第４項記載のポリマー
。 １３、Ｒ＿２とＲ＿３が▲数式、化学式、表等がありま
す▼を示 す、 ことを特徴とする特許請求の範囲第７項記載のポリマー
。 １４、ｍがゼロ、ｒがゼロ、そしてｎがゼロであること
を特徴とする特許請求の範囲第４項記載のポリマー。 １５、ｍがゼロ、ｒがゼロ、そしてｎがゼロであること
を特徴とする特許請求の範囲第７項記載のポリマー。 １６、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＿７は水素、メチルまたはエチルを示し、 Ｒ＿８は１〜６個の炭素原子を含む直鎖状または分枝状
のアルキル基を示し、 ｄは１〜１０の自然数であり、 Ｒ＿２は有機の残基を示し、 Ｐ＿３は末端に水酸基を有する有機化合物の残基を示し
、 Ｒ＿３は有機の残基を示し、 Ｒ＿９は１〜６個の炭素原子を含む直鎖状または分枝状
のアルキル基を示し、 ｅは１〜１０の自然数であり、 Ｒ＿１＿０は水素、メチルまたはエチルを示す、によっ
てあらわされるポリマー。 １７、Ｐ＿３が１〜５０個のくり返えし単位からなるポ
リエステル、ポリエーテル、ポリカーボネート、および
それらの混合物の群から選ばれた基であることを特徴と
する、特許請求の範囲第１６項記載のポリマー。 １８、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＿１＿３はアルキル基であるか、もしくは複素
環成分Ａを含む複素環の残基であり、ＡはＯ、Ｎ、また
はＳであり、 Ｒ＿１＿４はアルキルまたはアリールであり、ｆは１〜
６の自然数であり、 Ｐ＿３は末端に水酸基をもつ有機化合物の残基を示し、 Ｒ＿１＿５はアルキルまたはアリールであり、ＢはＯ、
ＮまたはＳであり、 ｇは１〜６の自然数であり、 Ｒ＿１＿６はアルキル基であるか、もしくは複素環成分
Ｂを含む複素環の残基である、 によってあらわされるポリマー。 １９、Ｐ＿３が１〜５０個のくり返えし単位からなるポ
リエーテル、ポリエステル、ポリカーボネート、および
それらの混合物の群から選ばれた基であることを特徴と
する、特許請求の範囲第１８項記載のポリマー。 ２０、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＿５は−Ｏ−末端反応基を示し、 Ｒ＿２は有機の残基を示し、 ｉは２〜６の自然数であり、そして Ｐ＿４はポリハイドロキシ化合物の残基である、 によってあらわされるポリマー。 ２１、Ｐ＿４が１〜５０個のくりかえし単位からなるポ
リエーテル、ポリエステル、ポリカーボネート、および
それらの混合物の群から選ばれた基であることを特徴と
する、特許請求の範囲第２０項記載のポリマー。 ２２、Ｐ＿４が ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、 ▲数式、化学式、表等があります▼、および▲数式、化
学式、表等があります▼ なる群から選ばれた多官能性の基であることを特徴とす
る、特許請求の範囲第２１項記載のポリマー。 ２３、 Ｒ＿５が▲数式、化学式、表等があります▼であり、 Ｒ＿７が水素、メチルまたはエチルを示し、Ｒ＿８は１
〜６個の炭素原子を含む直鎖状または分枝状のアルキル
基を示し、 ｄは１〜１０の自然数である、 ことを特徴とする特許請求の範囲第２１項記載のポリマ
ー。 ２４、Ｒ＿５がＲ＿１＿３−（Ａ−Ｒ＿１＿４−）＿ｆ
−Ｏであり、Ｒ＿１＿３はアルキル基であるか、もしく
は複素環成分Ａを含む複素環の残基であり、 ＡはＯ、Ｎ、またはＳであり、 Ｒ＿１＿４はアルキルまたはアリールであり、ｆは１〜
６の自然数である、 ことを特徴とする特許請求の範囲第２１項記載のポリマ
ー。 ２５、Ｒ＿２が ▲数式、化学式、表等があります▼である ことを特徴とする特許請求の範囲第２１項記載のポリマ
ー。 ２６、特許請求の範囲第１項記載のポリマーを含む光重
合性組成物。 ２７、それが液状であることを特徴とする、特許請求の
範囲第２６項記載の光重合性組成物。 ２８、さらに光重合開始剤を含むことを特徴とする、特
許請求の範囲第２６項記載の光重合性組成物。 ２９、さらに反応性稀釈剤を含むことを特徴とする、特
許請求の範囲第２６項記載の光重合性組成物。 ３０、ポリマー１５〜７０重量パーセント、 ２−エトキシエチルアクリレート０〜３０〃、 無水フタル酸とヒドロキシルエチルメタクリレートとの
付加物０〜５０〃、 トリメタノールプロパントリアクリレート０〜３０重量
パーセント、 流動性促進剤１〜２〃、 染料０〜１〃、 β−カルボキシエチルアクリレート０〜１０〃、 および １−フェニル−１，１−ジメトキシアセトフェノン０〜
５〃、 を含む特許請求の範囲第２６項記載の光重合性組成物。 ３１、次の各ステップ： （ａ）末端に水酸基をもつポリマーを秤量する；（ｂ）
この末端に水酸基をもつポリマーにこの水酸基と反応す
るのに十分な量のジアンハイドライドを混合し、ポリマ
ーの水酸基がすべて消費し尽されるまで反応し、未反応
のまゝ残っているアンハイドライド基を次 の反応に用いるようにする； （ｃ）末端に水酸基をもつアクリレートもしくはメタク
リレート、あるいは末端に水酸基をもち少くとも１個以
上のヘテロ原子を含む水素ドナーを、ステップｂの反応
生成物に対してその未反応のアンハイドライド基と反応
するのに十分な量となるように混合し、その反応混合物
中に含まれているアンハイドライド基が消費し尽される
まで反応させる； を含むポリマーの合成方法。 ３２、末端に水酸基をもつアクリレートもしくはメタク
リレートとして、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒド
ロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシブチルアクリ
レート、ヒドロキシイソブチルアクリレート、ヒドロキ
シイソペンチルアクリレート、ヒドロキシヘキシルアク
リレート、ポリプロピレングリコールモノアクリレート
、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ヒドロキ
シエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、ヒドロキシブチルメタクリレート、ヒドロキシ
イソブチルメタクリレート、ヒドロキシペンチルメタク
リレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリレー
ト、およびポリエチレングリコールモノメタクリレート
よりなる群から選ばれた化合物を用いるか、あるいは末
端に水酸基をもつ水素ドナーとして、テトラヒドロフリ
ルアルコール、メトキシエタノール、２−エトキシエタ
ノール、２−ブトキシエタノール、ジエチレングリコー
ルメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテ
ル、およびジエチレングリコールブチルエーテルよりな
る群から選ばれた化合物を用いる、ことを特徴とする特
許請求の範囲第３１項記載のポリマー合成法。 ３３、そのポリマーが次の構造 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＿７は水素、メチルまたはエチルを示し、 Ｒ＿８は１〜６個の炭素原子をもつ直鎖状または分枝状
のアルキル基を示し、 ｄは１〜１０の自然数であり、 Ｒ＿２は有機の残基を示し、 Ｐ＿３は末端に水酸基をもつ有機化合物の残基を示し、 Ｒ＿３は有機の残基を示し、 Ｒ＿９は１〜６個の炭素原子をもつ直鎖状または分枝状
のアルキル基を示し、 ｅは１〜１０の自然数であり、そして Ｒ＿１＿０は水素、メチル、またはエチルを示す、を有
することを特徴とする特許請求の範囲第３１項記載のポ
リマー合成法。 ３４、そのポリマーが次の構造 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＿１＿３はアルキル基であるか、もしくは複素
環成分Ａを含む複素環の残基であり、ＡはＯ、Ｎまたは
Ｓであり、 Ｒ＿１＿４はアルキルまたはアリールであり、ｆは１〜
６の自然数であり、 Ｒ＿２は有機の残基であり、 Ｐ＿３は末端に水酸基を有する有機化合物の残基を示し
、 Ｒ＿３は有機の残基であり、 Ｒ＿１＿５はアルキルまたはアリールであり、ＢはＯ、
Ｎ、またはＳであり、 ｇは１〜６の自然数であり、 Ｒ＿１＿０はアルキル基であるか、もしくは複素環成分
Ｂを含む複素環の残基である、 を有することを特徴とする特許請求の範囲第３１項記載
のポリマー合成法。 ３５、次の各ステップ： （ａ）（１）次の構造 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＿１はＲ＿５−（Ｚ）＿ｐを示し、Ｒ＿５は−
Ｏ−末端反応性基を示し、 Ｚは−Ｏ−イソシアネートを示し、 ｐはゼロか１であるが、ｍがゼロの時はｐもゼロであり
、 Ｐ＿１は有機の残基を示し、 ｍはゼロか１であるが、ｎが１の時はｍがゼロであり、 Ｒ＿２は有機の残基を示し、 Ｐ＿２は有機の残基を示し、 ｒはゼロか１であるが、ｍとｎの両者がゼロの時のみｒ
がゼロであり、 Ｒ＿３は有機の残基を示し、 ｎはゼロか１であり、 Ｒ＿４は−（Ｖ）＿ｗ−Ｒ＿６を示し、 Ｖは−Ｏ−イソシアネートを示し、 ｗはゼロか１であるが、ｍがゼロの時はｗもゼロであり
、 Ｒ＿６は−Ｏ−末端反応性基を示す、 を有するポリマー、および （２）光重合開始剤、 を含む組成物を配合する； （ｂ）前記の組成物をプリント回路基板の少くとも一部
に塗布する；そして （ｃ）前記のプリント回路基板の少くとも一部に活性な
光を照射する； を含むフォトレジストの生成方法。 ３６、そのポリマーの構造式中、ｐがゼロ、ｗがゼロ、
ｍがゼロ、ｒが１、そしてｎが１であることを特徴とす
る、特許請求の範囲第３５項記載の方法。 ３７、次の各ステップ； （ａ）（１）次の構造 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＿５は−Ｏ−末端反応性基を示し、Ｒ＿２は有
機の残基を示し、 ｉは２〜６の自然数であり、 Ｐ＿４はポリハイドロキシ化合物の残基である、 を有するポリマー、および （２）光重合開始剤、 を含む組成物を配合する； （ｂ）前記の組成物をプリント回路基板の少くとも一部
に塗布する；そして （ｃ）前記のプリント回路基板の少くとも一部に活性な
光を照射する； を含むフォトレジストの生成方法。 ３８、次の各ステップ： （ａ）次の構造 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Ｒ＿１はＲ＿５−（Ｚ）＿ｐを示し、Ｒ＿５は−
Ｏ−末端反応性基を示し、 Ｚは−Ｏ−イソシアネートを示し、 ｐはゼロか１であるが、ｍがゼロの時はｐもゼロであり
、 Ｐ＿１は有機の残基を示し、 ｍはゼロか１であるが、ｎが１の時はｍがゼロであり、 Ｐ＿２は有機の残基を示し、 ｒはゼロか１であるが、ｍとｎの両者がゼロの時のみｒ
がゼロであり、 ｎはゼロか１であり、 Ｒ＿４は−（Ｖ）＿ｗ−Ｒ＿６を示し、 Ｖは−Ｏ−イソシアネートを示し、 ｗはゼロか１であるが、ｍがゼロの時はｗもゼロであり
、 Ｒ＿６は−Ｏ−末端反応性基を示す、 を有するポリマーを含む組成物を配合する；（ｂ）前記
の組成物をプリント回路基板の少くとも一部に塗布する
；そして （ｃ）前記のプリント回路基板の少くとも一部に活性な
光を照射する； を含むフォトレジストの生成方法。 ３９、そのポリマーの構造式中、ｐがゼロ、ｗがゼロ、
ｍがゼロ、ｒが１、そしてｎが１であることを特徴とす
る、特許請求の範囲第３８項記載の方法。
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