JPS61272288A - 酸性ガスの除去法 - Google Patents
酸性ガスの除去法Info
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/14—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by absorption
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
酸化炭素を含有するガス混合物、特に天然ガス又は合成
ガスから、かかる酸性ガスを選択的に除去する方法に係
り、該方法は酸性ガスを極めて高い濃度で含有するガス
混合物の処理に特に好適である。
ガスから、かかる酸性ガスを選択的に除去する方法に係
り、該方法は酸性ガスを極めて高い濃度で含有するガス
混合物の処理に特に好適である。
酸性ガス高含量のガスによるガス田の製造を開始するた
め、又は燃料油又は石炭を原料として生成された合成ガ
スを精製するために、酸性ガス含量が高い又は極めて高
いガスを取扱うに適しかつ極めて厳格な組成をもつ生成
物を生成できる方法が求められている。
め、又は燃料油又は石炭を原料として生成された合成ガ
スを精製するために、酸性ガス含量が高い又は極めて高
いガスを取扱うに適しかつ極めて厳格な組成をもつ生成
物を生成できる方法が求められている。
このようなガスの処理では、低温技術及び溶媒使用技術
の組合せ(これにより、両技術の利点を併わせ、許容で
きるコストでガスの良好な精製を行ないうる)を採用す
ることが要求される。
の組合せ(これにより、両技術の利点を併わせ、許容で
きるコストでガスの良好な精製を行ないうる)を採用す
ることが要求される。
本件出願人は、米国特許第4,097,250号におい
て、すでにかかる種類の方法を開示している。その明細
書には、低温蒸留及び溶媒による吸収を併わせで行なう
ことによる酸性ガス70%以上を含有する粗製ガスの精
製法が記載されている。この方法で使用される溶媒はジ
メチルエーテル、ポリエチレングリコール及びプロピレ
ンカーボネートである。
て、すでにかかる種類の方法を開示している。その明細
書には、低温蒸留及び溶媒による吸収を併わせで行なう
ことによる酸性ガス70%以上を含有する粗製ガスの精
製法が記載されている。この方法で使用される溶媒はジ
メチルエーテル、ポリエチレングリコール及びプロピレ
ンカーボネートである。
発明者らは、低温サイクルによる精製法での使用に特に
好適な選択溶媒の混合物の使用に基づく、酸性ガス高含
量ガスの処理に特に適する新規な精・製法を見出し、本
発明に至った。
好適な選択溶媒の混合物の使用に基づく、酸性ガス高含
量ガスの処理に特に適する新規な精・製法を見出し、本
発明に至った。
本発明は、天然ガス又は合成ガスから酸性ガスを選択的
に除去する方法に係り、該方法は、天然ガス又は合成ガ
スについて吸収及び一次冷却を行ない、このガス中に含
まれる酸性ガスの一部を凝縮させるものであって、下記
のクラスに属する低分子量アルコール、エステル及びエ
ーテルから選ばれる1又はそれ以上の選択溶媒及び下記
の種類の中から選ばれる1又はそれ以上の有機化合物で
なる混合物を使用することを特徴とする。
に除去する方法に係り、該方法は、天然ガス又は合成ガ
スについて吸収及び一次冷却を行ない、このガス中に含
まれる酸性ガスの一部を凝縮させるものであって、下記
のクラスに属する低分子量アルコール、エステル及びエ
ーテルから選ばれる1又はそれ以上の選択溶媒及び下記
の種類の中から選ばれる1又はそれ以上の有機化合物で
なる混合物を使用することを特徴とする。
有機化合物
一般式
%式%
(式中、Rt及びR1は同一又は相異なる炭素数1ない
し4のアルキル基(その1又はそれ以上の水素原子がア
ルコール残基で置換されていてもよい)である)で表さ
れるアルコールのエステル。たとえばギ酸メチル、酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸モノエチレングリコール等。
し4のアルキル基(その1又はそれ以上の水素原子がア
ルコール残基で置換されていてもよい)である)で表さ
れるアルコールのエステル。たとえばギ酸メチル、酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸モノエチレングリコール等。
一般式
%式%
(式中、R,及びR2は同一又は相異なる炭素数1ない
し4のアルキル基であり、R,、R,、R5及びR6は
同一又は相異なる炭素数1ないし3のアルキル基又は水
素原子であり、m及びnはO又はlである)で表される
グリコールのエステル。たとえば1.3−プロパンジオ
ールジアセテート、2.2−ジメチル−1,3−プロパ
ンジオールジアセテート、1.2−プロパンジオールジ
アセテート、モノエチレングリコールジアセテート等。
し4のアルキル基であり、R,、R,、R5及びR6は
同一又は相異なる炭素数1ないし3のアルキル基又は水
素原子であり、m及びnはO又はlである)で表される
グリコールのエステル。たとえば1.3−プロパンジオ
ールジアセテート、2.2−ジメチル−1,3−プロパ
ンジオールジアセテート、1.2−プロパンジオールジ
アセテート、モノエチレングリコールジアセテート等。
一般式
(式中、Rt、 R3,R4及びR5は同一又は相異な
るアルキレン基(そのl又はそれ以上の水素原子がアル
キル基、アルコール残基又はエーテル基で置換されてい
てもよい)である)で表される環状エステル(ラクトン
)。たとえばブチロラクトン、カプロラクトン等。
るアルキレン基(そのl又はそれ以上の水素原子がアル
キル基、アルコール残基又はエーテル基で置換されてい
てもよい)である)で表される環状エステル(ラクトン
)。たとえばブチロラクトン、カプロラクトン等。
一般式
(式中、R,、R,、R3,R,、R,及びR11は同
一又は相異なる炭素数1ないし3のアルキル基、水酸基
又は水素原子であり、m及びnは0又はlである)で表
されるアルコール。たとえばモノエチレングリコール、
ジエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1
.3−プロパンジオール、1.4−ブタンジオール、メ
タノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ル、n−ブタノール、イソブタノール、第2ブタノール
、第3ブタノール等。
一又は相異なる炭素数1ないし3のアルキル基、水酸基
又は水素原子であり、m及びnは0又はlである)で表
されるアルコール。たとえばモノエチレングリコール、
ジエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1
.3−プロパンジオール、1.4−ブタンジオール、メ
タノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ル、n−ブタノール、イソブタノール、第2ブタノール
、第3ブタノール等。
一般式
(式中、Rt、 R5及びR6は同一又は相異なるアル
キレン基(水素がアルキル基又はメトキシ基で置換され
ていてもよい)であり、R3は酸素又はアルキレン基(
水素がアルキル基又はメトキシ基で置換されていてもよ
い)であり、R4は前記R3と同一の基であるか又は5
員環の場合には存在しない)で表される環状エーテル。
キレン基(水素がアルキル基又はメトキシ基で置換され
ていてもよい)であり、R3は酸素又はアルキレン基(
水素がアルキル基又はメトキシ基で置換されていてもよ
い)であり、R4は前記R3と同一の基であるか又は5
員環の場合には存在しない)で表される環状エーテル。
たとえば、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフ
ラン、テトラヒドロピラン、1.3−ジオキソラン、2
−メトキシ−1,3−ジオキソラン、1.4−ジオキサ
ン等。
ラン、テトラヒドロピラン、1.3−ジオキソラン、2
−メトキシ−1,3−ジオキソラン、1.4−ジオキサ
ン等。
一般式
R+−OCHt (Rs) CHt 0−Rt(
式中、R1は炭素数1ないし4のアルキル基であり、R
2は炭素数Iないし4のアルキル基又は水素原子であり
、R3はアルキレン基又は(Cl12−0−Cfb)で
あり、nは0又は1である)で表されるエーテル。
式中、R1は炭素数1ないし4のアルキル基であり、R
2は炭素数Iないし4のアルキル基又は水素原子であり
、R3はアルキレン基又は(Cl12−0−Cfb)で
あり、nは0又は1である)で表されるエーテル。
たとえば、1.2−ジメトキシエタン、1,2−メトキ
シエトキシエタン、ジメトキシジエチレングリコール、
モノメトキンジエチレングリコール等。
シエトキシエタン、ジメトキシジエチレングリコール、
モノメトキンジエチレングリコール等。
一般式
%式%
(式中、R1及びR2は同一又は相異なる炭素数1ない
し4のアルキル基(その1又はそれ以上の水素原子がア
ルコール残基により置換されていてもよい)である)で
表されるエーテル。たとえば、エチルエーテル、プロピ
ルエーテル。1−メトキシエタノール、1−メトキシ−
2−プロパノール、l−メトキシ−3−プロパノール、
エトキシエタノール等。
し4のアルキル基(その1又はそれ以上の水素原子がア
ルコール残基により置換されていてもよい)である)で
表されるエーテル。たとえば、エチルエーテル、プロピ
ルエーテル。1−メトキシエタノール、1−メトキシ−
2−プロパノール、l−メトキシ−3−プロパノール、
エトキシエタノール等。
一般式
%式%)
(式中、R3及びR4は同一又は相異なる炭素数1ない
し4のアルキル基であり、R2は炭素数1ないし4のア
ルキレン基又はアルキル基であり、R1は前記R2又は
前記R3と同一であり、m及びnは0又はIである)で
表されるエステル−エーテル化合物(両官能基を有する
)。たとえば、メチル−2−メトキシエチルアセテート
、メチルメトキシアセテート又はエチルメトキシアセテ
ート等。
し4のアルキル基であり、R2は炭素数1ないし4のア
ルキレン基又はアルキル基であり、R1は前記R2又は
前記R3と同一であり、m及びnは0又はIである)で
表されるエステル−エーテル化合物(両官能基を有する
)。たとえば、メチル−2−メトキシエチルアセテート
、メチルメトキシアセテート又はエチルメトキシアセテ
ート等。
有機化合物
ヘプタン。
炭素数5ないし8の炭化水素を含有する天然ガソリン留
分。
分。
パラフィン系炭素総数2ないし4の基が別個に又は1又
はそれ以上の直鎖状又は分枝状側鎖としてベンゼン環に
給金するモノ芳香族化合物。
はそれ以上の直鎖状又は分枝状側鎖としてベンゼン環に
給金するモノ芳香族化合物。
グリコール繰返し単位−CHt CH2Q 1ない
し5個を有するポリグリコールのジメチルエーテル。
し5個を有するポリグリコールのジメチルエーテル。
アルコール残基が炭素数1ないし4の直鎖状又は分枝状
基であるメトキシ−及び/又はエトキシアルコール。
基であるメトキシ−及び/又はエトキシアルコール。
上記溶媒は、選択溶媒としての使用に特に好ましいいく
つかの特性を組合わせて有している。
つかの特性を組合わせて有している。
これらの溶媒は、実際、使用条件下で高度に安定性であ
り、酸性ガスに対する溶媒力が大きく、炭化水素に比べ
てH,S及びCO2に対する選択性か高く、低分子量及
び低融点を有する。低沸点であることは、低温法での使
用では必須の特性である。
り、酸性ガスに対する溶媒力が大きく、炭化水素に比べ
てH,S及びCO2に対する選択性か高く、低分子量及
び低融点を有する。低沸点であることは、低温法での使
用では必須の特性である。
天然ガスの処理の場合には、低温度での凝縮後で、溶媒
による最後の吸収の前に、低温度(0℃よりもかなり低
い温度)でガスが使用される。
による最後の吸収の前に、低温度(0℃よりもかなり低
い温度)でガスが使用される。
最後の吸収の間に、ガス温度よりもかなり低い温度に達
するようにすることは、このような条件下では、溶媒の
吸収力及び選択性が上昇するため、有効である(極めて
好適である)。本発明による方法で使用される溶媒は低
沸点を示すものであり、従って、特に低温度での使用に
適している。
するようにすることは、このような条件下では、溶媒の
吸収力及び選択性が上昇するため、有効である(極めて
好適である)。本発明による方法で使用される溶媒は低
沸点を示すものであり、従って、特に低温度での使用に
適している。
生成する混合物の重量に対して、0.3ないし40重M
%の割合で有機化合物を添加することもできる。
%の割合で有機化合物を添加することもできる。
このような混合物は、下記の2段階でなるシステムで使
用される。
用される。
a)予じめ冷却しかつ部分的に凝縮させたガスを吸収塔
において吸収して、酸性ガスの含量を所望の値まで低下
させる段階、及び b)酸性ガスの吸収に使用された混合物を可成する段階
。
において吸収して、酸性ガスの含量を所望の値まで低下
させる段階、及び b)酸性ガスの吸収に使用された混合物を可成する段階
。
天然ガス又は合成ガスの冷却は、熱交換器において、再
生の好適な部位でCO6富有混合物中に含有される酸性
ガスの一部を気化させることにより行なわれる。
生の好適な部位でCO6富有混合物中に含有される酸性
ガスの一部を気化させることにより行なわれる。
冷却後に、凝縮されない酸性ガスがガス相中に30モル
%以下の濃度で存在することが好ましく、15ないし3
0モル%で存在することがさらに好ましい。
%以下の濃度で存在することが好ましく、15ないし3
0モル%で存在することがさらに好ましい。
ガスの冷却は、吸収塔内においても行なわれる。
かかる冷却により(酸性ガスの一部が凝縮する)、従来
法では使用されていた蒸留塔が省略できる。
法では使用されていた蒸留塔が省略できる。
吸収塔での酸性ガスの吸収に使用された混合物は、まず
l又はそれ以上の膨張工程(最大3工程)において前記
段階a)で同時に吸収された有用成分のすべてを回収し
、ついでl又はそれ以上の他の膨張工程(最大4工程)
において主として酸性ガスを放出させることによって再
生される。このようにして再生された混合物は吸収塔に
再循環される。
l又はそれ以上の膨張工程(最大3工程)において前記
段階a)で同時に吸収された有用成分のすべてを回収し
、ついでl又はそれ以上の他の膨張工程(最大4工程)
において主として酸性ガスを放出させることによって再
生される。このようにして再生された混合物は吸収塔に
再循環される。
混合物の再生は、酸性ガス中にH,Sが含有さ、れる場
合には、処理されたガス中における残留H,Sに関する
制限がCO3に関するものよりもかなり厳しいため、蒸
留塔を使用して行なわれなければならない。一方、酸性
ガス中にCOlのみ含有される場合には、蒸留塔を使用
するか否かは、精製ガス中のCO2含量の最大許容量に
左右される。
合には、処理されたガス中における残留H,Sに関する
制限がCO3に関するものよりもかなり厳しいため、蒸
留塔を使用して行なわれなければならない。一方、酸性
ガス中にCOlのみ含有される場合には、蒸留塔を使用
するか否かは、精製ガス中のCO2含量の最大許容量に
左右される。
再生塔が存在する場合には、常に、膨張工程からの混合
物の一部はこの再生塔に供給されるが、他は(完全には
再生されない)吸収塔に再循環される。
物の一部はこの再生塔に供給されるが、他は(完全には
再生されない)吸収塔に再循環される。
酸性ガス富有溶媒の膨張で放出された有用成分は圧縮さ
れ、冷却され、吸収塔に再循環される。
れ、冷却され、吸収塔に再循環される。
酸性ガス富有混合物の膨張は、膨張弁において、又は少
なくとも部分的にはタービンにおいて行なわれる。
なくとも部分的にはタービンにおいて行なわれる。
酸性ガス富有混合物の膨張による再生は、蒸発による酸
性ガスの除去を促進し、処理に使、用される冷却能力を
回収するため、この混合物の加熱と一体化される。
性ガスの除去を促進し、処理に使、用される冷却能力を
回収するため、この混合物の加熱と一体化される。
主として酸性ガスが放出される膨張工程の数は1ないし
4であり、徐々に低くなる圧力条件下で酸性ガス流が生
成される。これらのうちl又は2工程は減圧下に維持さ
れる。この場合、放出された酸性ガスは再び圧縮されな
ければならない。これに対し、ある場合には、最終圧力
が到達する温度及び所望の精製レベルに左右されるため
、減圧下での操作は必ずしも必要ではない。
4であり、徐々に低くなる圧力条件下で酸性ガス流が生
成される。これらのうちl又は2工程は減圧下に維持さ
れる。この場合、放出された酸性ガスは再び圧縮されな
ければならない。これに対し、ある場合には、最終圧力
が到達する温度及び所望の精製レベルに左右されるため
、減圧下での操作は必ずしも必要ではない。
高圧下で生成される主として酸性ガスを含有する流れは
、膨張弁又はタービンによって、仕事量及び冷凍効果を
生ずるように、放出圧力に膨張される。
、膨張弁又はタービンによって、仕事量及び冷凍効果を
生ずるように、放出圧力に膨張される。
吸収塔は圧力20ないし110Kg/am”及び温度−
100℃ないし10℃で作動される。溶媒を再生するた
めの蒸留塔が存在する場合、のこ蒸留塔は圧力0.1な
いし5Kg/cm2、ヘッド温度−60℃ないし10℃
及び低部温度10℃ないし200°Cで作動される。
100℃ないし10℃で作動される。溶媒を再生するた
めの蒸留塔が存在する場合、のこ蒸留塔は圧力0.1な
いし5Kg/cm2、ヘッド温度−60℃ないし10℃
及び低部温度10℃ないし200°Cで作動される。
さらに、生成される天然ガス又は合成ガスに対し、これ
らガスが熱交換器により又は弁又はタービンでの膨張に
より冷却される前に混合物を添加して、CO7の結晶化
の発生を防止することも好適である。
らガスが熱交換器により又は弁又はタービンでの膨張に
より冷却される前に混合物を添加して、CO7の結晶化
の発生を防止することも好適である。
吸収塔の吸収剤混合物は、この吸収塔の中間部から取出
され、処理されたガスの残留冷却能力の少なくとも一部
を使用することにより及び/又は酸性ガスの残留冷却能
力の少なくとも一部を使用することにより冷却され、取
出し部位の直下で塔に供給される。
され、処理されたガスの残留冷却能力の少なくとも一部
を使用することにより及び/又は酸性ガスの残留冷却能
力の少なくとも一部を使用することにより冷却され、取
出し部位の直下で塔に供給される。
吸収塔を出る排出混合物は天然ガス又は合成ガスに混合
され、一次吸収を行なうと共に、吸収塔からの排出のた
め冷却される。
され、一次吸収を行なうと共に、吸収塔からの排出のた
め冷却される。
あるいは、再生混合物を、吸収塔からのガスと少なくと
も1回混合することが好ましい。この上うにして得られ
た混合物を冷却して、再生混合物をこのガスから分離す
る。
も1回混合することが好ましい。この上うにして得られ
た混合物を冷却して、再生混合物をこのガスから分離す
る。
吸収塔からのガスと吸収剤混合物との間の混合は、好ま
しくはミキサにおいて、かかる流れを向流方向で供給す
ることにより行なわれる。このような混合は好ましくは
2回行なわれる。吸収塔からのガスが2回混合される場
合には、混合は次のようにして行なわれる。すなイっち
、まず処理されたガスと再生混合物との間で混合を行な
い、ついで得られた混合物の冷却及び分離を行なって、
ガスから再生混合物を分離し、この混合物を、第2回混
合として吸収塔からのガスと混合させる。この第2回混
合に続いて、得られた混合物を冷却し、ガスと再生混合
物とに分離し、前者を第1回混合に供給し、後者を吸収
塔に供給する。
しくはミキサにおいて、かかる流れを向流方向で供給す
ることにより行なわれる。このような混合は好ましくは
2回行なわれる。吸収塔からのガスが2回混合される場
合には、混合は次のようにして行なわれる。すなイっち
、まず処理されたガスと再生混合物との間で混合を行な
い、ついで得られた混合物の冷却及び分離を行なって、
ガスから再生混合物を分離し、この混合物を、第2回混
合として吸収塔からのガスと混合させる。この第2回混
合に続いて、得られた混合物を冷却し、ガスと再生混合
物とに分離し、前者を第1回混合に供給し、後者を吸収
塔に供給する。
2回の混合に引続く2回の冷却は、同じ温度又は異なる
温度で、好ましくは一50℃ないし一100℃の温度で
行なわれる。
温度で、好ましくは一50℃ないし一100℃の温度で
行なわれる。
添付の第1図及び第2図を参照して、本発明をさらに詳
述するが、本発明はこれらに限定されない。
述するが、本発明はこれらに限定されない。
第1図において、粗製ガスは配管Iによりプラントに供
給され、熱交換器2において冷却され、弁3により膨張
され、吸収塔4において吸収剤混合物によって向流洗浄
され、酸性ガスが除去される。吸収塔4を出るガスは完
全に精製された混合物と混合され、熱交換器5で冷却さ
れ、分離器6において混合物から分離され、その後、冷
凍能力回収のため熱交換器7及び8に供給され、さらに
配管9によってネットワークに供給される。分離器6に
おいて分離された冷却混合物は、ポンプ10により、吸
収塔4に送られる。さらに吸収剤混合物(完全には精製
されていない)は、中間レベルで吸収塔に供給される。
給され、熱交換器2において冷却され、弁3により膨張
され、吸収塔4において吸収剤混合物によって向流洗浄
され、酸性ガスが除去される。吸収塔4を出るガスは完
全に精製された混合物と混合され、熱交換器5で冷却さ
れ、分離器6において混合物から分離され、その後、冷
凍能力回収のため熱交換器7及び8に供給され、さらに
配管9によってネットワークに供給される。分離器6に
おいて分離された冷却混合物は、ポンプ10により、吸
収塔4に送られる。さらに吸収剤混合物(完全には精製
されていない)は、中間レベルで吸収塔に供給される。
平均吸収温度を低下させるため、吸収剤混合物は吸収塔
の中間トレーから抽出され、ポンプ11により圧送され
、熱交換器7において処理されたガスにより冷却される
。
の中間トレーから抽出され、ポンプ11により圧送され
、熱交換器7において処理されたガスにより冷却される
。
吸収塔4を出る酸性ガス富有混合物は膨張により再生さ
れる。この混合物は弁13を介して分離器12に供給さ
れ、ここでメタン富有ガスが放出され、このガスは、熱
交換器8において処理ガスにより冷却された後、コンプ
レッサ14によって吸収塔4に再循環される。
れる。この混合物は弁13を介して分離器12に供給さ
れ、ここでメタン富有ガスが放出され、このガスは、熱
交換器8において処理ガスにより冷却された後、コンプ
レッサ14によって吸収塔4に再循環される。
分離器12からの混合物を弁15で膨張させ、熱交換器
16で加熱し、分離器17に供給する。ここから酸性ガ
スが放出される。これらの酸性ガスは熱交換器18及び
19において加熱され、プラントから排出される。分離
器17からの混合物は弁20により減圧下で膨張され、
熱交換器21で加熱され、ついで分離器22に供給され
、ここで酸性ガスが放出され、このガスはコンプレッサ
23でほぼ大気圧に圧縮され、プラントから排出される
。
16で加熱し、分離器17に供給する。ここから酸性ガ
スが放出される。これらの酸性ガスは熱交換器18及び
19において加熱され、プラントから排出される。分離
器17からの混合物は弁20により減圧下で膨張され、
熱交換器21で加熱され、ついで分離器22に供給され
、ここで酸性ガスが放出され、このガスはコンプレッサ
23でほぼ大気圧に圧縮され、プラントから排出される
。
分離器22からの混合物(未だ完全には精製されていな
い)の一部は、ポンプ24により弁25を通って、中間
レベル(26)で吸収塔4に供給される。
い)の一部は、ポンプ24により弁25を通って、中間
レベル(26)で吸収塔4に供給される。
混合物の残部は、ポンプ27により、熱交換器30で加
熱された後、弁28を通って再生塔29に供給される。
熱された後、弁28を通って再生塔29に供給される。
冷却器31、還流アキュミュレータ32、還流ポンプ3
3及びリボイラ34を具備する再生塔29において、混
合物は酸性ガスから再生される。このリボイラは各種の
熱源によって加熱される。
3及びリボイラ34を具備する再生塔29において、混
合物は酸性ガスから再生される。このリボイラは各種の
熱源によって加熱される。
還流アキュミュレータ32からの酸性ガスは、熱交換器
18及び19からのもの及びコンプレッサ23からのも
のと併わされ、配管35を介して除去される。
18及び19からのもの及びコンプレッサ23からのも
のと併わされ、配管35を介して除去される。
再生された混合物は、熱交換器36において外部冷却手
段(空気又は水、及び/又は適当な冷凍サイクル)によ
り、及び熱交換器30において、被再生混合物により冷
却され、熱交換器38で冷却された後、ポンプ37によ
って熱交換器5に供給される。
段(空気又は水、及び/又は適当な冷凍サイクル)によ
り、及び熱交換器30において、被再生混合物により冷
却され、熱交換器38で冷却された後、ポンプ37によ
って熱交換器5に供給される。
第2図は、再生された混合物と吸収塔からのガスとの間
で混合が2回行なわれる場合のフローチャートである。
で混合が2回行なわれる場合のフローチャートである。
粗製ガスは配管lによってプラントに供給され、熱交換
器2で冷却され、部分的に凝縮され、ついで分離器39
に供給される。ここで非凝縮ガス(42)から分離され
た液状物(40)は弁41を通って吸収塔4に供給され
る。一方、非凝縮ガス(42)は熱交換器43で冷却さ
れ、部分的に凝縮され、分離器44に供給される。ここ
で、熱交換器43で凝縮されなかつたガス(45)が放
出され、このガスは、熱交換器46で冷却された後、弁
47を通って吸収塔4に供給される。一方、液状物(4
8)は弁49を通って吸収塔4に供給される。
器2で冷却され、部分的に凝縮され、ついで分離器39
に供給される。ここで非凝縮ガス(42)から分離され
た液状物(40)は弁41を通って吸収塔4に供給され
る。一方、非凝縮ガス(42)は熱交換器43で冷却さ
れ、部分的に凝縮され、分離器44に供給される。ここ
で、熱交換器43で凝縮されなかつたガス(45)が放
出され、このガスは、熱交換器46で冷却された後、弁
47を通って吸収塔4に供給される。一方、液状物(4
8)は弁49を通って吸収塔4に供給される。
熱交換器2,43及び46では、処理に関与する流れが
有する冷凍能力を使用して熱交換が行なわれる。
有する冷凍能力を使用して熱交換が行なわれる。
吸収塔の底部から、酸性ガスを富有する液状物50が得
られ、その後、膨張により再生される。
られ、その後、膨張により再生される。
膨張は弁13及び15により2段階で行なわれ、それぞ
れ膨張後、分離器12及び17に供給され、ここで必須
的にメタン及び二酸化炭素でなる蒸気(51及び52)
が収集され、圧縮機53及び54で圧縮された後、吸収
塔4に再循環される。
れ膨張後、分離器12及び17に供給され、ここで必須
的にメタン及び二酸化炭素でなる蒸気(51及び52)
が収集され、圧縮機53及び54で圧縮された後、吸収
塔4に再循環される。
分離器17の底部からは、必須的に混合物及び分離され
たCO2でなる液状物(55)が得られる。CO7につ
いては、弁56及び57での膨張及び熱交換器58での
加熱により気化させる。この熱交換器に関して、図面で
は簡略化のため、1つの熱交換器として図示しているが
、実際には、処理に必要な冷却能力を供給できるもので
なければならない(たとえば熱交換器2.43.46に
おいても同じ)。
たCO2でなる液状物(55)が得られる。CO7につ
いては、弁56及び57での膨張及び熱交換器58での
加熱により気化させる。この熱交換器に関して、図面で
は簡略化のため、1つの熱交換器として図示しているが
、実際には、処理に必要な冷却能力を供給できるもので
なければならない(たとえば熱交換器2.43.46に
おいても同じ)。
気化されたCO3は、分離器59及び60で混合物から
分離される。なお、これば分離器のうち、第1のものは
わずかに過圧状態で作動され、第2のものでは、真空ポ
ンプ61により減圧下に維持される。
分離される。なお、これば分離器のうち、第1のものは
わずかに過圧状態で作動され、第2のものでは、真空ポ
ンプ61により減圧下に維持される。
分離されたCO7は配管62を介してプラントから排出
される。
される。
再生された混合物(63)は分離器60の底部から取出
され、ポンプ64によって送られ、部位65で吸収塔か
らのガスと混合される。得られた混合物は熱交換器66
で冷却され、分離器67で分離され、処理されたガス(
68)が吸収剤混合物から分離される。
され、ポンプ64によって送られ、部位65で吸収塔か
らのガスと混合される。得られた混合物は熱交換器66
で冷却され、分離器67で分離され、処理されたガス(
68)が吸収剤混合物から分離される。
吸収剤混合物(69)はポンプ70で圧送され、部位7
1で吸収塔4からのガスと、混合される。得られた混合
物は熱交換器72で冷却され、分離器73で分離される
。ここで、処理されたガス(74)と溶媒(75)とに
分離され、前者はつづいて部位65で再生混合物(69
)と混合され、後者はポンプ76により吸収塔により圧
送される。
1で吸収塔4からのガスと、混合される。得られた混合
物は熱交換器72で冷却され、分離器73で分離される
。ここで、処理されたガス(74)と溶媒(75)とに
分離され、前者はつづいて部位65で再生混合物(69
)と混合され、後者はポンプ76により吸収塔により圧
送される。
第1図及び第2図は本発明の方法の実施に好適な具体例
のフローチャートである。 4・・吸収塔、1.2.17.22.32.39.44
.59゜60、67、73・・分離器、29・・蒸留塔
。 (ほか1名)
のフローチャートである。 4・・吸収塔、1.2.17.22.32.39.44
.59゜60、67、73・・分離器、29・・蒸留塔
。 (ほか1名)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 天然ガス又は合成ガスについて吸収及び一次冷却を
行ない、該ガス中に含有される酸性ガスの一部を凝縮さ
せてなる天然ガス又は合成ガスから酸性ガスを除去する
ための低温法において、下記のクラスに属する低分子量
エステル、アルコール及びエーテルの中から選ばれる1
又はそれ以上の選択溶媒及び下記の種類の中から選ばれ
る1又はそれ以上の有機化合物でなる混合物を使用する
ことを特徴とする、酸性ガスの除去法。 ¥選択溶媒¥ 一般式 R_1COOR_2 (式中、R_1及びR_2は同一又は相異なる炭素数1
ないし4のアルキル基(その1又はそれ以上の水素原子
がアルコール残基で置換されていてもよい)である)で
表されるアルコールのエステル、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 又は ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1及びR_2は同一又は相異なる炭素数1
ないし3のアルキル基であり、R_3、R_4、R_5
及びR_6は同一又は相異なる炭素数1ないし3のアル
キル基又は水素原子であり、m及びnは0又は1である
)で表わされるグリコールのエステル、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
、表等があります▼ (式中、R_2、R_3、R_4及びR_5は同一又は
相異なるアルキレン基(その1又はそれ以上の水素原子
がアルキル基、アルコール残基又はエーテル基で置換さ
れていてもよい)である)で表される環状エステル(ラ
クトン)、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5及び
R_6は同一又は相異なる炭素数1ないし3のアルキル
基、水酸基又は水素原子であり、m及びnは0又は1で
ある)で表されるアルコール、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_2、R_5及びR_6は同一又は相異なる
アルキレン基(水素がアルキル基又はメトキシ基で置換
されていてもよい)であり、R_3は酸素又はアルキレ
ン基(水素がアルキル基又はメトキシ基で置換されてい
てもよい)であり、R_4は前記R_3と同一の基であ
るか又は5員環の場合には存在しない)で表される環状
エーテル、 一般式 R_1−O−CH_2−(R_3)_n−CH_2−O
−R_2(式中、R_1は炭素数1ないし4のアルキル
基であり、R_2は炭素数1ないし4のアルキル基又は
水素原子であり、R_3はアルキレン基又は(CH_2
−O−CH_2)であり、nは0又は1である)で表さ
れるエーテル、 一般式 R_1−O−R_2 (式中、R_1及びR_2は同一又は相異なる炭素数1
ないし4のアルキル基(その1又はそれ以上の水素原子
がアルコール残基により置換されていてもよい)である
)で表されるエーテル、及び一般式 (R_4−O)_n−R_1−COOR_2(OR_3
)_m(式中、R_3及びR_4は同一又は相異なる炭
素数1ないし4のアルキル基であり、R_2は炭素数1
ないし4のアルキレン基又はアルキル基であり、R_1
は前記R_2又は前記R_3と同一であり、m及びnは
0又は1である)で表されるエステル−エーテル化合物
(両官能基を有する)。 ¥有機化合物¥ ヘプタン、 炭素数5ないし8の炭化水素を含有する天然ガソリン留
分、 パラフィン系炭素総数2ないし4の基が別個に又は1又
はそれ以上の直鎖状又は分枝状側鎖としてベンゼン環に
結合してなるモノ芳香族化合物、 グリコール繰返し単位−CH_2−CH_2−O− 1
ないし5個を有するポリグリコールのジメチルエーテル
、及び アルコール残基が炭素数1ないし4の直鎖状又は分枝状
基であるメトキシ−及び/又はエトキシアルコール。 2 特許請求の範囲第1項記載の方法において、1又は
それ以上の選択溶媒及び1又はそれ以上の有機化合物で
なる混合物を、下記の2段階でなるシステムで使用する
、酸性ガスの除去法。 a)予じめ冷却しかつ部分的に凝縮させたガスを吸収塔
において吸収して、酸性ガスの含量を所望の値まで低下
させる段階、及び b)酸性ガスの吸収に使用された混合物を再生する段階
。 3 特許請求の範囲第2項記載の方法において、前記吸
収塔での酸性ガスの吸収に使用された混合物を、1又は
それ以上の膨張工程により、前記段階a)で同時に吸収
された有用成分のすべてを回収し、ついで1又はそれ以
上の他の膨張工程により、すべての酸性ガスを放出させ
ることによって再生し、再生された混合物を吸収塔に再
循環する、酸性ガスの除去法。 4 特許請求の範囲第3項記載の方法において、前記混
合物の再生を蒸留塔によって完了せしめる、酸性ガスの
除去法。 5 特許請求の範囲第3項又は第4項記載の方法におい
て、前記膨張工程からの混合物の一部を前記蒸留塔に供
給し、残部を前記吸収塔に再循環する、酸性ガスの除去
法。 6 特許請求の範囲第3項記載の方法において、有用成
分のすべてを回収するための膨張工程の数が1ないし3
である、酸性ガスの除去法。 7 特許請求の範囲第4項記載の方法において、主とし
て酸性ガスが放出される膨張工程の数が1ないし4であ
り、これら工程において徐々に低くなる圧力条件下で操
作して、酸性ガス流を生成する、酸性ガスの除去法。 8 特許請求の範囲第7項記載の方法において、1又は
2の膨張工程が減圧下に維持される、酸性ガスの除去法
。 9 特許請求の範囲第3項又は第7項記載の方法におい
て、高圧下で生成された主として酸性ガスを含有する流
れをタービンで放出圧力に膨張させて、仕事量及び冷凍
能力を生じさせる、酸性ガスの除去法。 10 特許請求の範囲第3項記載の方法において、酸性
ガス富有混合物の膨張による再生を、該混合物の加熱と
一体化させ、気化による酸性ガスの除去と共に、処理に
おいて使用される冷凍能力の回収を行なう、酸性ガスの
除去法。 11 特許請求の範囲第3項又は第4項記載の方法にお
いて、酸性ガス富有混合物の膨張を膨張弁において、又
は少なくともタービンにおいて行なう、酸性ガスの除去
法。 12 特許請求の範囲第2項記載の方法において、前記
吸収塔を圧力20ないし110Kg/cm^2及び温度
−100℃ないし10℃で作動させる、酸性ガスの除去
法。 13 特許請求の範囲第4項記載の方法において、混合
物再生蒸留塔を、圧力0.1ないし5kg/cm^2、
ヘッド温度−60℃ないし10℃及び低部温度10℃な
いし200℃で作動させる、酸性ガスの除去法。 14 特許請求の範囲第3項記載の方法において、酸性
ガス富有混合物の膨張から放出される有用成分を圧縮し
、冷却し、前記吸収塔に再循環させる、酸性ガスの除去
法。 15 特許請求の範囲第2項記載の方法において、冷却
され、前記吸収塔に供給される前に、天然ガス又は合成
ガスに溶媒を添加して、CO_2の結晶化を防止する、
酸性ガスの除去法。 16 特許請求の範囲第2項記載の方法において、前記
段階a)の吸収塔の混合物を、この吸収塔の中間部位か
ら取出し、冷却し、取出し部位の直下で該吸収塔に再循
環する、酸性ガスの除去法。 17 特許請求の範囲第2項又は第16項記載の方法に
おいて、混合物の中間冷却の少なくとも一部を、処理さ
れたガスの残留冷凍能力の少なくとも一部を使用して行
なう、酸性ガスの除去法。 18 特許請求の範囲第2項又は第16項記載の方法に
おいて、混合物の中間冷却の少なくとも一部を、CO_
2の残留冷凍能力の少なくとも一部を使用して行なう、
酸性ガスの除去法。 19 特許請求の範囲第2項記載の方法において、前記
吸収塔から排出された混合物を、天然ガス又は合成ガス
と混合し、ついて冷却する、酸性ガスの除去法。 20 特許請求の範囲第2項記載の方法において、再生
された混合物を、吸収塔からのガスと少なくとも1回混
合させ、このようにして得られた混合物を冷却し、つづ
いて再生された混合物を前記ガスから分離する、酸性ガ
スの除去法。 21 特許請求の範囲第20項記載の方法において、前
記吸収塔からのガスと再生された混合物との間の混合を
、これらを向流方向でミキサに供給することにより行な
う、酸性ガスの除去法。 22 特許請求の範囲第20項記載の方法において、吸
収塔からのガスと再生された混合物との間の混合を少な
くとも2回行なう、酸性ガスの除去法。 23 特許請求の範囲第22項記載の方法において、第
1回の混合を処理されたガスと再生された混合物とを混
合させることにより行ない、得られた混合物について冷
却及び分離を行ない、このようにして再生された混合物
をガスから分離し、再生された混合物を、第2回の混合
として、吸収塔からのガスと混合し、得られた混合物に
ついて冷却し、ついでガスと再生された混合物とに分離
し、前者を前記第1回の混合に供給すると共に、後者を
吸収塔に供給する、酸性ガスの除去法。 24 特許請求の範囲第23項記載の方法において、2
回の混合につづいて、2回の冷却を同一又は異なる−5
0℃ないし−100℃の温度で行なう、酸性ガスの除去
法。 25 特許請求の範囲第1項記載の方法において、生成
される混合物の0.3ないし40重量%の割合で有機化
合物を添加する、酸性ガスの除去法。 26 特許請求の範囲第1項記載の方法において、選択
溶媒がギ酸メチル、酢酸メチル又は酢酸エチルである、
酸性ガスの除去法。 27 特許請求の範囲第1項記載の方法において、選択
溶媒が、テトラヒドロピラン、1,3−ジオキソラン、
1,4−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテ
トラヒドロフラン、又は2−メトキシ−1,3−ジオキ
ソランである、酸性ガスの除去法。 28 特許請求の範囲第1項記載の方法において、選択
溶媒が、1,3−プロパンジオールジアセテート、2,
2−ジメチル−1,3−プロパンジオールジアセテート
、1,2−プロパンジオールジアセテート、又はモノエ
チレングリコールジアセテートである、酸性ガスの除去
法。 29 特許請求の範囲第1項記載の方法において、選択
溶媒が、1,2−ジメトキシエタン、1,2−メトキシ
エトキシエタン、ジメトキシジエチレングリコール、又
はモノメトキシジエチレングリコールである、酸性ガス
の除去法。 30 特許請求の範囲第1項記載の方法において、選択
溶媒が、メチル−2−メトキシエチルアセテート、メチ
ルメトキシアセテート又はエチルメトキシアセテートで
ある、酸性ガスの除去法。 31 特許請求の範囲第1項記載の方法において、選択
溶媒が、メトキシエタノール、1−メトキシ−2−プロ
パノール、1−メトキシ−3−プロパノール、モノエト
キシジエチレングリコール、エトキシエタノール、エチ
ルエーテル又はプロピルエーテルである、酸性ガスの除
去法。 32 特許請求の範囲第1項記載の方法において、選択
溶媒が、モノエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオ
ール、1,4−ブタンジオール、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール
、イソブタノール、第2ブタノール又は第3ブタノール
である、酸性ガスの除去法。
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