JPS6126787A - 銅材のフオトエツチング方法 - Google Patents
銅材のフオトエツチング方法Info
- Publication number
- JPS6126787A JPS6126787A JP14835584A JP14835584A JPS6126787A JP S6126787 A JPS6126787 A JP S6126787A JP 14835584 A JP14835584 A JP 14835584A JP 14835584 A JP14835584 A JP 14835584A JP S6126787 A JPS6126787 A JP S6126787A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- etching
- copper
- soln
- resistant film
- copper material
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
この発明は、@又は銅を含む合金からなる基材に対して
フォトエツチング法を適用する技術に関し、レジストパ
ターンを形成した場合に、本来露出すべき銅表面に極め
て薄く形成される耐食性皮膜を除去する。いわゆるプリ
エツチング処理方法に関する。
フォトエツチング法を適用する技術に関し、レジストパ
ターンを形成した場合に、本来露出すべき銅表面に極め
て薄く形成される耐食性皮膜を除去する。いわゆるプリ
エツチング処理方法に関する。
1o) 従来技術
銅又は銅を含む合金からなる基材に、ポリビニルアルコ
ールc以下rPVAJ という)。
ールc以下rPVAJ という)。
カゼイン等の水溶性高分子化合物と重クロム酸アンモニ
ウム(以下rAr)Clという)とからなる水溶性フォ
トレジストを用いて、フォトエツチングする場合にはコ
ーティング置きもしくは焼き置き時に暗反応もしくは残
反応(光に当てなくても硬化する性質)が進行し、比較
的短時間のうちKかふり(不要な硬化境象)が起こり、
エツチングすべき部分にも耐蝕性被膜が形成され、その
結果エツチングが全く困難となる。このかぶり現象は、
銅又は銅合金にPVAを単独に、或いはADC’を単呻
に塗布した場合はまったく問題がない、のであるが、水
溶性フォトレジストとするためにPVAとAT)Cとを
混合し、この感光液を銅又は銅合金基材に塗布すると直
ちに暗反応を起こし、1liFl蝕性硬化皮膜が形成さ
れる。
ウム(以下rAr)Clという)とからなる水溶性フォ
トレジストを用いて、フォトエツチングする場合にはコ
ーティング置きもしくは焼き置き時に暗反応もしくは残
反応(光に当てなくても硬化する性質)が進行し、比較
的短時間のうちKかふり(不要な硬化境象)が起こり、
エツチングすべき部分にも耐蝕性被膜が形成され、その
結果エツチングが全く困難となる。このかぶり現象は、
銅又は銅合金にPVAを単独に、或いはADC’を単呻
に塗布した場合はまったく問題がない、のであるが、水
溶性フォトレジストとするためにPVAとAT)Cとを
混合し、この感光液を銅又は銅合金基材に塗布すると直
ちに暗反応を起こし、1liFl蝕性硬化皮膜が形成さ
れる。
この耐蝕性硬化皮膜は、塗布直後は比較的弱いのである
が、コーティング置き、焼付置き時間が長くなるほど圧
一般に言われている暗反応が進行し強固な皮膜となり、
精密なエツチング加工を行うことは不可能となるもので
ある。
が、コーティング置き、焼付置き時間が長くなるほど圧
一般に言われている暗反応が進行し強固な皮膜となり、
精密なエツチング加工を行うことは不可能となるもので
ある。
従って、銅又は銅合金にフォトエツチング法を応用しよ
うとする場合には、コーティング置きや焼き置きを行わ
ないという条件の下でPVA−ADC系感光液を使用す
ることが銅合金からなる基材表面への耐蝕性皮膜の形成
方法」として出願の如<、PVA−ADC系の水溶性感
光液に脂肪族アミンを添加し、そ、のPH値を7.0近
辺に調整したものを感光性レジストとして使用すれば上
記した暗反応が起こりにくくかぶり現象を軽微にするこ
とができ、コーティング置きや焼き置きに伴うかぶりを
最小限に抑え←れることかできることがわかっている。
うとする場合には、コーティング置きや焼き置きを行わ
ないという条件の下でPVA−ADC系感光液を使用す
ることが銅合金からなる基材表面への耐蝕性皮膜の形成
方法」として出願の如<、PVA−ADC系の水溶性感
光液に脂肪族アミンを添加し、そ、のPH値を7.0近
辺に調整したものを感光性レジストとして使用すれば上
記した暗反応が起こりにくくかぶり現象を軽微にするこ
とができ、コーティング置きや焼き置きに伴うかぶりを
最小限に抑え←れることかできることがわかっている。
また、銅又は銅合金との接触反応が緩やかで暗反応をほ
とんど起こさない有機溶剤系のフォトレジストを使用す
ることも行われている。
とんど起こさない有機溶剤系のフォトレジストを使用す
ることも行われている。
fW 発明が解決しようとする問題点しかしながら、
これらの方法による場合でも、銅又は銅合金に対して、
大量かつ安定に微細なパターンのエツチングを行うには
9問題がある。すなわち、前者のPVA−ADC系感光
液に脂肪族アミンを添加し、PH調整してフォトレジス
トとして使用する手段は、コーティング置き、焼付は置
き時に生ずるかぶり現象を数日間程度抑制する効果を有
するもので、単にPVA−AD(’系感光液をそのまま
フォ]・レジストとして使用した場合に比して暗反応抑
制効果は認められる。しかし、この手段でも、現像後に
露出されるべき銅又は銅合金の地肌に、ごく薄いもので
はあるがレジスト膜が残存するため、比較的粗いパター
ン(条件によシ差があるが、たとえば線幅50μm0以
上)の場合は問題がないとしても、より精細なパターン
については、必ずしも最適とは言えず1歩留りが低下す
るおそれがある。
これらの方法による場合でも、銅又は銅合金に対して、
大量かつ安定に微細なパターンのエツチングを行うには
9問題がある。すなわち、前者のPVA−ADC系感光
液に脂肪族アミンを添加し、PH調整してフォトレジス
トとして使用する手段は、コーティング置き、焼付は置
き時に生ずるかぶり現象を数日間程度抑制する効果を有
するもので、単にPVA−AD(’系感光液をそのまま
フォ]・レジストとして使用した場合に比して暗反応抑
制効果は認められる。しかし、この手段でも、現像後に
露出されるべき銅又は銅合金の地肌に、ごく薄いもので
はあるがレジスト膜が残存するため、比較的粗いパター
ン(条件によシ差があるが、たとえば線幅50μm0以
上)の場合は問題がないとしても、より精細なパターン
については、必ずしも最適とは言えず1歩留りが低下す
るおそれがある。
また、有機溶剤系のフォトレジストを使用する方法では
、フォトレジスト自体が高価であり、しかも現象液が水
ないし弱アルカリ等と異なり高価な有機溶剤であるため
に製造コストが亮くつき、また有機溶剤は、引火等の心
配があって安全上の問題があり、さらに臭気が強く労働
衛生上の充分な対策が必要で。
、フォトレジスト自体が高価であり、しかも現象液が水
ないし弱アルカリ等と異なり高価な有機溶剤であるため
に製造コストが亮くつき、また有機溶剤は、引火等の心
配があって安全上の問題があり、さらに臭気が強く労働
衛生上の充分な対策が必要で。
装j:<f自体も防爆型圧する等コストが高くつく。
しかも、かかる有機溶剤系のフォトレジストを使用して
も、非常に微細なパターンにエツチングしようとすると
、金属酸化皮膜その他稗々の要因から、前記同様、現像
後には銅又は銅合金表面の本来露出していなくてはなら
ない部分にも、きわめて薄い耐蝕性皮膜が形成され、微
細なエツチングを安定して行うには問題がある。
も、非常に微細なパターンにエツチングしようとすると
、金属酸化皮膜その他稗々の要因から、前記同様、現像
後には銅又は銅合金表面の本来露出していなくてはなら
ない部分にも、きわめて薄い耐蝕性皮膜が形成され、微
細なエツチングを安定して行うには問題がある。
この発明は、上記したように銅又は銅合金をきわめて微
細にフォトエツチングするにって薄い耐蝕性皮膜が形成
されて均一にエツチングされない点を解決し、精密なエ
ツチング処理ができる銅材のフォトエツチング方法を提
供することを目的とする。
細にフォトエツチングするにって薄い耐蝕性皮膜が形成
されて均一にエツチングされない点を解決し、精密なエ
ツチング処理ができる銅材のフォトエツチング方法を提
供することを目的とする。
に)問題点を解決する手段
この発明は、銅材料に水溶性あるいは有機溶剤系のフォ
トレジストを使用し、フォトエツチングする場合、現像
後に1本来現像処理によって除去されるはずであるにも
かかわらず金属表面上に付着している耐蝕性硬化皮膜に
対し、これを除去するため、エツチング工程の前処即と
しての面出し又は肌出しく以下「ブリゴブチ」という)
処理を酸化剤溶液に浸漬して行うようにすることを特徴
とする。
トレジストを使用し、フォトエツチングする場合、現像
後に1本来現像処理によって除去されるはずであるにも
かかわらず金属表面上に付着している耐蝕性硬化皮膜に
対し、これを除去するため、エツチング工程の前処即と
しての面出し又は肌出しく以下「ブリゴブチ」という)
処理を酸化剤溶液に浸漬して行うようにすることを特徴
とする。
酸化剤溶液としては、たとえば苛性ソータ及び過マンガ
ン酸カリウムの混合水溶液が使用される。
ン酸カリウムの混合水溶液が使用される。
(ホ)作用
銅材表面に住僧した耐食性硬化反映のみが続きエツチン
グ工程を均一に行うことができる。
グ工程を均一に行うことができる。
(へ)実施例
以下実施例によりこの発明を説明する。以下の冥施例で
はP V A−A l) (’系感光液にエチレンジア
ミンを代表とする脂肪族アミンを添加し、感光液のPH
値を7.0近辺に調整したものを用いている。これはこ
のように調整した感光液を用いることによりかぶり現象
を軽微に抑えることができ9本発明によれば一層均一な
エツチングが行えるからである。
はP V A−A l) (’系感光液にエチレンジア
ミンを代表とする脂肪族アミンを添加し、感光液のPH
値を7.0近辺に調整したものを用いている。これはこ
のように調整した感光液を用いることによりかぶり現象
を軽微に抑えることができ9本発明によれば一層均一な
エツチングが行えるからである。
+11 PVAl0%水溶液(富士薬品工業■製のD
3−14(商品名)又は上野化学工業■製のコンシスト
B(商品名)を使用)11!と、16%の重クロム酸ア
ンモニウムの水溶液5occトを混合し、゛エチレンジ
アミンを少量添加してPH値を7.0近辺に調整する。
3−14(商品名)又は上野化学工業■製のコンシスト
B(商品名)を使用)11!と、16%の重クロム酸ア
ンモニウムの水溶液5occトを混合し、゛エチレンジ
アミンを少量添加してPH値を7.0近辺に調整する。
(2) アルカリもしくけトリクレンによって脱脂し
た後硫酸水溶液により整面処理しておいた銅板上に、上
記感光液を回転塗布機(ホイラー)を用いて塗布し、乾
燥させる。
た後硫酸水溶液により整面処理しておいた銅板上に、上
記感光液を回転塗布機(ホイラー)を用いて塗布し、乾
燥させる。
(3)次いで、上記コーティング処理を終えた銅板に真
空密着焼付機を使用し、401のメタルハライド灯下、
距離57国で34秒間露光焼付けを行う。
空密着焼付機を使用し、401のメタルハライド灯下、
距離57国で34秒間露光焼付けを行う。
(4)露光後の銅板に対し、20’Cに加温された水道
水を使用してスプレー現像処理(圧力IK9層)を1分
間施す。
水を使用してスプレー現像処理(圧力IK9層)を1分
間施す。
(51続いて4 wtJvol、%無水クロム酸に40
秒間浸漬して硬膜処理を施す。
秒間浸漬して硬膜処理を施す。
(6)余分な無水クロム酸を洗い流すため、20℃に加
温された水道水を用いて1分間スプレー水洗処理(圧力
1即/(J)を行う。
温された水道水を用いて1分間スプレー水洗処理(圧力
1即/(J)を行う。
(7)水切り後、皮膜の耐蝕性を増強させる目的で、
120’Cのバーニング処理を3分間施す。
120’Cのバーニング処理を3分間施す。
(8)上記のように処理された銅板を苛性ソーダ及び過
マンガン酸カリウムの混合水溶液に常温で2分間浸漬し
た後水洗し、塩化鉄溶液に常温で1分間浸漬□処理して
銅表面のエツチングを行う。かかる場合の苛性ソーダ及
び過マンガン酸カリウムの混合溶液の濃度に対しそれぞ
れのエツチングの状況は次表に示す通りである。
マンガン酸カリウムの混合水溶液に常温で2分間浸漬し
た後水洗し、塩化鉄溶液に常温で1分間浸漬□処理して
銅表面のエツチングを行う。かかる場合の苛性ソーダ及
び過マンガン酸カリウムの混合溶液の濃度に対しそれぞ
れのエツチングの状況は次表に示す通りである。
(9) 次いでスプレーエツチング処理するとこつ表
において、X印のサンプルでは全く不均一なエツチング
状態となり、△印のサンプルでは耐蝕性皮膜の残ってい
る部分は寸法小となり。
において、X印のサンプルでは全く不均一なエツチング
状態となり、△印のサンプルでは耐蝕性皮膜の残ってい
る部分は寸法小となり。
○印のサンプルでは均一なエツチング状態に仕上がる。
X印:耐食性皮膜が残っており、虫くい状にエツチング
されている。
されている。
△印:耐食性皮膜が部分的に残る場合がある。
○印:耐食性皮膜が完全に除去され、均一にエツチング
されている。
されている。
上表から明らかなようにブリエッチを苛性ソーダ濃度が
4 wt./vol.、%び過マンガン酸カリウム濃度
1 wt/vo 1.%以上の濃度の混合水溶液に浸漬
して行えば、良好なエツチングが可能となる。
4 wt./vol.、%び過マンガン酸カリウム濃度
1 wt/vo 1.%以上の濃度の混合水溶液に浸漬
して行えば、良好なエツチングが可能となる。
上記実施例においては、酸化剤溶液として苛性ソーダ及
び過−ンガン酸カリウムの混合f4を用いたが、その他
赤血塩と苛性ソーダの混合液、キリンス液等を使用して
も同様のブリエツチを行うことができる。
び過−ンガン酸カリウムの混合f4を用いたが、その他
赤血塩と苛性ソーダの混合液、キリンス液等を使用して
も同様のブリエツチを行うことができる。
オドレジストを使用してレジストパターンを形成した場
合に銅板表面が本来露出されているべき部分に形成され
る極めて薄い耐食性硬化皮膜のみを、レジスト形成膜の
エツチング耐食性を失なわせることなく除去できるので
。
合に銅板表面が本来露出されているべき部分に形成され
る極めて薄い耐食性硬化皮膜のみを、レジスト形成膜の
エツチング耐食性を失なわせることなく除去できるので
。
均一に精密なエツチング加工を安定して行うことができ
る。
る。
な〉、水溶性高分子化合物および重クロム酸アンモニウ
ムからなる水溶性感光液をレジストに使用する場合には
、この水溶性感光液に脂肪族アミンを添加し、PH値を
7.0近辺に調整して卦けば9本発明の効果と相 まっ
て好都合である。
ムからなる水溶性感光液をレジストに使用する場合には
、この水溶性感光液に脂肪族アミンを添加し、PH値を
7.0近辺に調整して卦けば9本発明の効果と相 まっ
て好都合である。
また、上記したようにコーティング置きや焼きINき全
行って少しぐらいかぶシが生じても良好なエツチングが
可能となるので、かかる処011を行えることから水溶
性感光液を使用して銅基材表面へ耐食性皮膜を形成し、
エツチング処理する過程を連続処理する必要から解放さ
れ、連続処理装置としての構成を分割して設冒するとと
も可能となる。
行って少しぐらいかぶシが生じても良好なエツチングが
可能となるので、かかる処011を行えることから水溶
性感光液を使用して銅基材表面へ耐食性皮膜を形成し、
エツチング処理する過程を連続処理する必要から解放さ
れ、連続処理装置としての構成を分割して設冒するとと
も可能となる。
代理人 弁理士 間 宮 武 i′″1:18.。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、銅又は銅合金からなる基材の表面にフォトレジスト
を塗布した後乾燥させ、次いで露光し、現像して所要画
像の耐食性皮膜を形成した後、塩化鉄液に浸漬してエッ
チング処理する銅材のフォトエッチング方法において、
前記耐食性皮膜形成後塩化鉄液浸漬前に、酸化剤溶液に
適時間浸漬し、水洗することを特徴とする銅材のフォト
エッチング方法。 2、酸化剤溶液は苛性ソーダ及び過マンガン酸カリウム
の混合水溶液である特許請求の範囲第1項記載の銅材の
フォトエッチング方法。 3、苛性ソーダの濃度は4wt./vol.%以上で過
マンガン酸カリウムの濃度は1wt./vol.%以上
である特許請求の範囲第2項記載の銅材のフォトエッチ
ング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14835584A JPS6126787A (ja) | 1984-07-16 | 1984-07-16 | 銅材のフオトエツチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14835584A JPS6126787A (ja) | 1984-07-16 | 1984-07-16 | 銅材のフオトエツチング方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6126787A true JPS6126787A (ja) | 1986-02-06 |
Family
ID=15450900
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14835584A Pending JPS6126787A (ja) | 1984-07-16 | 1984-07-16 | 銅材のフオトエツチング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6126787A (ja) |
-
1984
- 1984-07-16 JP JP14835584A patent/JPS6126787A/ja active Pending
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