JPS61267762A - フォトマスクブランクとフォトマスクの製造方法 - Google Patents
フォトマスクブランクとフォトマスクの製造方法Info
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- JPS61267762A JPS61267762A JP60109782A JP10978285A JPS61267762A JP S61267762 A JPS61267762 A JP S61267762A JP 60109782 A JP60109782 A JP 60109782A JP 10978285 A JP10978285 A JP 10978285A JP S61267762 A JPS61267762 A JP S61267762A
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
- G03F1/58—Absorbers, e.g. of opaque materials having two or more different absorber layers, e.g. stacked multilayer absorbers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60109782A JPS61267762A (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | フォトマスクブランクとフォトマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60109782A JPS61267762A (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | フォトマスクブランクとフォトマスクの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61267762A true JPS61267762A (ja) | 1986-11-27 |
JPS6365933B2 JPS6365933B2 (fr) | 1988-12-19 |
Family
ID=14519082
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60109782A Granted JPS61267762A (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | フォトマスクブランクとフォトマスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61267762A (fr) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007271661A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Hoya Corp | マスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク |
CN104914663A (zh) * | 2014-03-11 | 2015-09-16 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种光掩模制作方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012125756A (ja) * | 2010-11-22 | 2012-07-05 | Pearl Lighting Co Ltd | 光触媒脱臭装置 |
-
1985
- 1985-05-22 JP JP60109782A patent/JPS61267762A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007271661A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Hoya Corp | マスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク |
CN104914663A (zh) * | 2014-03-11 | 2015-09-16 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种光掩模制作方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6365933B2 (fr) | 1988-12-19 |
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