JPS61259536A - Inspecting device for semiconductor wafer - Google Patents
Inspecting device for semiconductor waferInfo
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- JPS61259536A JPS61259536A JP10191385A JP10191385A JPS61259536A JP S61259536 A JPS61259536 A JP S61259536A JP 10191385 A JP10191385 A JP 10191385A JP 10191385 A JP10191385 A JP 10191385A JP S61259536 A JPS61259536 A JP S61259536A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体ウェハの検査装置に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to a semiconductor wafer inspection apparatus.
、、半導体ウェハにはスクライブ線により区画された多
数の半導体装置(以下半導体チップという)が形成され
る。これら半導体チップは個々に分離される前に、複数
個のチップ単位ごとに電気的特性が測定され、不良と判
定されたチップ表面には不良識別マークとして、例えば
針により傷が付けられる。そして、これらの不良チップ
はダイシング工程で分離されたのち選別除去される。,, A large number of semiconductor devices (hereinafter referred to as semiconductor chips) separated by scribe lines are formed on a semiconductor wafer. Before these semiconductor chips are separated into individual chips, the electrical characteristics of each chip are measured, and the surface of the chip determined to be defective is scratched, for example, with a needle, as a defect identification mark. These defective chips are then separated in a dicing process and then selectively removed.
この不良識別のための傷は、電気的特性測定後直ちにス
クラッチマーカーにより付けられる。複数個の半導体チ
ップ、例えば第3図に示したように、横に並んだ4個の
チップ入、B、C,Dが、プローブカードの探針により
同時に測定される場合、スクラッチマーカーには、これ
ら4個のチップに対応した4本の針が備えられている。This scratch for identifying defects is made with a scratch marker immediately after measuring the electrical characteristics. When a plurality of semiconductor chips, for example, four chips B, C, and D arranged side by side as shown in FIG. 3, are measured simultaneously by the probe of the probe card, the scratch marker has Four needles corresponding to these four chips are provided.
そしてA=D□の4側めチップが不良と判定された場合
、これら4本の針が同時に4個のチップ表面に不良識別
マークとしての傷が付けられるようになっている。When the fourth chip of A=D□ is determined to be defective, these four needles simultaneously scratch the surfaces of the four chips as defect identification marks.
半導体装置が形成された半導体ウニへの検査工程におい
ては、スクラッチマーカーの故障、測定装置の故障等に
より、半導体チップが不良でないのに不良とされたり、
或いは全て良品と判定されたりする場合がある。In the inspection process for semiconductor chips on which semiconductor devices have been formed, the semiconductor chip may be judged as defective even though it is not defective due to failure of the scratch marker or failure of the measuring device.
Alternatively, all the products may be determined to be good.
例えば、第3図に示したように4個単位でチップを検査
した結果が、第4図に示すように、半導体ウェハ1のチ
ップ2のうちA、1及びN2列のチップ全てが不良と判
定されて不良識別マーク3が付けられたり、又C1及び
C2列のチップ全てが良品と判定された場合は、直ちに
その原因を調査する必要がある。For example, as shown in FIG. 3, the results of inspecting chips in units of four indicate that among chips 2 on semiconductor wafer 1, all of the chips in rows A, 1, and N2 are found to be defective, as shown in FIG. If a defective identification mark 3 is attached to the chips, or if all the chips in the C1 and C2 rows are determined to be good, it is necessary to immediately investigate the cause.
連続して良品又は不良品と判定した針が、複数本(この
場合は4本)の針のうちどれであるかが分れば直ちにそ
の針の状態、スクラッチマーカー、測定系、製造工程等
へと原因の研明を行うことができる。As soon as it is determined which of the multiple needles (four in this case) the needle that has been continuously judged to be good or defective is identified, the condition of the needle, the scratch marker, the measurement system, the manufacturing process, etc. can be immediately investigated. The cause can be investigated.
しかしながら、スクラッチマーカの針の針先の形状及び
材質は全て同一であるため、その付ける傷の形状も同一
となり半導体チップを連続して良品又は不良品と判定し
た針がどれであるかすぐに分らないため、その原因の調
査に多くの工数を必要とする欠点がある。However, since the shape and material of the tips of the scratch marker needles are all the same, the shapes of the scratches made are also the same, and it is therefore difficult to immediately determine which needle has successively judged semiconductor chips as good or defective. This has the disadvantage that investigating the cause requires a lot of man-hours.
本発明の目的は、上記欠点を除去し、スクラッチマーカ
ーの複数本の針の針先の形状及び又は材質を変えること
により、半導体チップ上に付けられた瘍から、その傷を
付けた針を直ちに検出できる半導体ウェハの検査装置を
提供することにある。The purpose of the present invention is to eliminate the above-mentioned drawbacks and to immediately remove the needles that caused the scratches from the ulcers made on the semiconductor chip by changing the shape and/or material of the needle tips of the plurality of needles of the scratch marker. An object of the present invention is to provide a semiconductor wafer inspection device that can detect semiconductor wafers.
本発明の半導体ウェハの検査装置は、半導体ウェハ上に
形成された半導体チップの複数個の電気的特性を同時に
測定する機能と、この複数間の測定チップに対応した複
数本の針を有し電気的特性の不良チップの表面に傷を付
けるスクラッチマーカーとを有する検査装置であって、
スクラッチマーカーの有する針の針先はその形状及び又
は材質が異なっているものである。The semiconductor wafer inspection device of the present invention has a function of simultaneously measuring the electrical characteristics of a plurality of semiconductor chips formed on a semiconductor wafer, and has a plurality of needles corresponding to the measurement chips between the plurality of electrical characteristics. An inspection device having a scratch marker that scratches the surface of a defective chip with a characteristic characteristic,
The needle tips of the scratch markers have different shapes and/or materials.
本発明によれば、スクラッチマーカーの各針が付ける傷
の形状は全て異なるため、不良職別マークであるチップ
上の傷がどの針により付けられたかは直ちに知ることが
できる。According to the present invention, since the shapes of the scratches made by each needle of the scratch marker are all different, it is possible to immediately know which needle made the scratch on the chip which is the defective work mark.
次に本発明の実施例を図面を用いて説明する。 Next, embodiments of the present invention will be described using the drawings.
第1図(a)〜(d)は本発明の一実施例に用いられる
スクラッチマーカーの針の針先の形状を示す平面図であ
り、第2図(a)〜(d)はこれらの針先によりチップ
上に形成される傷の形状を示す図である。FIGS. 1(a) to (d) are plan views showing the shape of the tip of a scratch marker needle used in one embodiment of the present invention, and FIGS. FIG. 3 is a diagram showing the shape of a scratch formed on a chip by the tip.
例えば、第1図(a)及び(b)に示す針先を有するス
クラッチマーカーの針は、対応する2個のチップの電気
的特性が不良と判定された場合、チップ表面の斜め上方
から押し出され、その針先により第2図(a) 、 (
b)に示す様な傷をチップ表面に形成する。For example, the needle of a scratch marker with the needle tip shown in FIGS. 1(a) and (b) is pushed out diagonally above the surface of the chip when the electrical characteristics of two corresponding chips are determined to be poor. , due to the tip of the needle, Figure 2(a), (
A scratch as shown in b) is formed on the chip surface.
半導上ウェハ上のチップが第3図に示したように、4個
が1単位となって測定される場合は、例えば第1図(a
)〜(d)に示した針先を持つ4本の針をスクラッチマ
ーカーに取付けておけば、4種類の不良識別マークが付
けられることになり、それらのマークは第2図fa)〜
(d)に示したようにはっきり区別できるから、識別マ
ークがどの針により付けられたかは一目で分る。When four chips on a semiconductor wafer are measured as one unit as shown in Figure 3, for example, Figure 1 (a)
) ~ If four needles with the needle tips shown in (d) are attached to the scratch marker, four types of defect identification marks will be attached, and these marks are shown in Figure 2 fa) ~
Since they are clearly distinguishable as shown in (d), it can be seen at a glance by which needle the identification mark was applied.
不良識別マークである傷は、半導体ぺ1/ツトの表面状
態、例えば厚い保護膜が形成されているか、配線が多い
か等により適当に選ぶことによって常に見易いものとす
ることができる。また、同一形状の針先でもその材質を
変えることにより傷の状態を変えることが可能である。The flaw, which is a defect identification mark, can be made easily visible by appropriately selecting it depending on the surface condition of the semiconductor chip, for example, whether a thick protective film is formed or whether there are many wirings. Further, even if the needle tip has the same shape, it is possible to change the state of the wound by changing its material.
例えば、針先を鉄(はがね)で形成した場合と、ダイヤ
モンドで形成した場合、前者ではその傷は浅く後者では
深いものとなる。従って、傷が形成されたペレット表面
からの光の反射量は、傷の浅い場合は深い場合に比べて
多くなり、傷の色相が異なるため目視又はセンサーによ
ってもはっきりと区別することが可能である。For example, if the needle tip is made of iron or diamond, the scratches will be shallow in the former case and deep in the latter case. Therefore, the amount of light reflected from the surface of a pellet with scratches is greater when the scratches are shallow than when the scratches are deep, and because the scratches have different hues, they can be clearly distinguished visually or by a sensor. .
このように、針先の形状とその材質とを適当に組み合せ
ることにより、異った傷を付けることの可能な数多くの
針先を得ることができる。このためスクラッチマーカー
の備える複数本の針の針先の形状及び又は材質を全て異
なるものとすることができるため、針と傷との対応をみ
つけることは容易となる。In this way, by appropriately combining the shape of the needle tip and its material, it is possible to obtain a large number of needle tips that are capable of creating different scratches. For this reason, the shapes and/or materials of the needle tips of the plurality of needles included in the scratch marker can all be made different, so it becomes easy to find the correspondence between the needles and the scratches.
従って、半導体ウェハの検査工程において、第4図に示
したように、特定の列が全て良品又は不良品と判定され
た場合、対応するスクラッチマーカーの針が直ちに分る
ため、まず該当する針の状態を調べ、異状がなければス
クラッチマーカーの状態、更に測定装置、製造工程へと
順に調査を迅速に進めることができる。Therefore, in the semiconductor wafer inspection process, if all of a particular row is determined to be good or defective as shown in Figure 4, the needles of the corresponding scratch markers can be immediately identified. The condition can be checked, and if there are no abnormalities, the investigation can proceed quickly to the condition of the scratch marker, then to the measuring device and manufacturing process.
上記実施例においては形状の異なる4本の針先を有する
スクラッチマーカーについて説明したが、本発明はこれ
に限定されるものではなく、他の種種の形状の針先を有
する針を用いてよいことは勿論である。In the above embodiment, a scratch marker having four needle tips of different shapes has been described, but the present invention is not limited thereto, and needles having needle tips of various other shapes may be used. Of course.
以上詳細に説明したように、本発明によれば、半導体ウ
ェハの検査工程において、不良識別マークであるチップ
上の傷を付けたスクラッチマーカーの針を直ちに知るこ
とのできる半導体ウェハの検査装置が得られるので、半
導体ウェハの検査工程に於けるトラブル調査に大きな効
果がある。As described above in detail, the present invention provides a semiconductor wafer inspection apparatus that can immediately identify the scratch marker needle that has caused a scratch on a chip, which is a defect identification mark, in the semiconductor wafer inspection process. Therefore, it is highly effective in investigating troubles in the semiconductor wafer inspection process.
第1図は本発明の一実施例に用いられるスクラッチマー
カーの針の針先を示す平面図、第2図は第1図に示した
針先により付けられる傷の形状を示す図、第3図は半導
体チップの電気的測定を説明するための図、第4図は半
導体ウェハの検査結果を示す図である。
1・・・・・・半導体ウェハ、2・・・・・・チップ、
3・・・・・・不良識別マーク(纒)。
第 1 回
(CI) (b) (C) (d)茅 2
図
I V e IN
((21lb) (C) (d)茅
3 回
茅 4y!JFIG. 1 is a plan view showing the needle tip of a scratch marker needle used in an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing the shape of the scratch made by the needle tip shown in FIG. 1, and FIG. 4 is a diagram for explaining electrical measurement of a semiconductor chip, and FIG. 4 is a diagram showing inspection results of a semiconductor wafer. 1... Semiconductor wafer, 2... Chip,
3... Defective identification mark (paper). 1st (CI) (b) (C) (d) Kaya 2
Figure I V e IN ((21lb) (C) (d) Kaya
3 times 4y! J
Claims (1)
気的特性を同時に測定する機能と、前記複数個の測定チ
ップに対応した複数本の針を有し電気的特性の不良チッ
プの表面に傷をつけるスクラッチマーカーとを有する半
導体ウェハの検査装置において、前記複数本の針の斜先
は形状及び又は材質が異なっていることを特徴とする半
導体ウェハの検査装置。It has the function of simultaneously measuring the electrical characteristics of multiple semiconductor chips formed on a semiconductor wafer, and has multiple needles corresponding to the multiple measurement chips, and is capable of scratching the surface of chips with defective electrical characteristics. What is claimed is: 1. A semiconductor wafer inspection device having a scratch marker for marking a semiconductor wafer, wherein the diagonal tips of the plurality of needles have different shapes and/or materials.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10191385A JPS61259536A (en) | 1985-05-14 | 1985-05-14 | Inspecting device for semiconductor wafer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10191385A JPS61259536A (en) | 1985-05-14 | 1985-05-14 | Inspecting device for semiconductor wafer |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61259536A true JPS61259536A (en) | 1986-11-17 |
Family
ID=14313147
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10191385A Pending JPS61259536A (en) | 1985-05-14 | 1985-05-14 | Inspecting device for semiconductor wafer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61259536A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001210682A (en) * | 2000-01-25 | 2001-08-03 | Seiko Instruments Inc | Semiconductor-sorting apparatus |
-
1985
- 1985-05-14 JP JP10191385A patent/JPS61259536A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001210682A (en) * | 2000-01-25 | 2001-08-03 | Seiko Instruments Inc | Semiconductor-sorting apparatus |
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