JPS6124400B2 - - Google Patents
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-
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Description
本発明はオキソ化合物、特に式
〔この式でRa 1は水素原子またはアミノ保護基
RA 1でありそしてRb 1は水素原子またはアシル基
AcであるかまたはRa 1とRb 1とはいつしよになつ
て2価のアミノ保護基を表わし、そしてこれらの
アミノ保護基およびアシル基は過酸酸化を受けな
い基であり、そしてRA 2は保護されたカルボキシ
ル基を式中のカルボニル基−C(=O)−といつ
しよに形成している基である〕 で表わされる7β−アミノ−セフアム−3−オン
−4−カルボン酸化合物、または式()の化合
物の1−オキシド、または相当する3−エノール
互変異性体または塩形成基をもつこのような化合
物の塩の製法に関するものである。 本発明のセフアム−3−オン化合物およびその
相当する1−オキシドは式 で表わされる2,3−位置または3,4−位置に
2重結合をもつているセフエム−3−オール化合
物のエノール形およびケト形の両方であることが
でき、または両方の形の混合物として存在する。 2,3−位置に2重結合をもつている式()
の化合物において、その保護されたカルボキシル
基はα構造をもつているのが好ましい。 アミノ保護基RA 1は水素原子で置換できる基、
主にアシル基Ac、さらにトリアリールメチル基
殊にトリチル基、ならびに有機シリル基または有
機スタニル基である。基Rb 1のアシル基を含めて
基Acは主に炭素原子を好ましくは18個までもつ
ている有機カルボン酸のアシル基、殊に置換され
ている場合のある脂肪族、脂環式、脂環−脂肪
族、芳香族、芳香脂肪族、複素環式または複素環
−脂肪族のカルボン酸(ぎ酸を含める)のアシル
基ならびに炭酸半誘導体のアシル基である。 基Ra 1とRb 1とが連結して形成している2価のア
ミノ保護基は殊に炭素原子は好ましくは18個まで
もつている有機ジカルボン酸の2価アシル基、主
に脂肪族または芳香族ジカルボン酸のジアシル
基、さらにα−位置に置換基例えば芳香族または
複素環式基を好ましくはもつているα−アミノ酢
酸(このアミノ酢酸のアミノ基は、置換基例えば
メチル基のような低級アルキル基2個をもつのが
好ましいメチレン基を介して前記の窒素原子と結
合している)のアシル基である。また、基Ra 1と
Rb 1とはその両方で炭素原子を好ましくは18個ま
でもつている有機イリデン基例えば脂肪族、脂環
式、脂環−脂肪族または芳香脂肪族イリデン基で
あることもできる。 式−C(=O)−RA 2で示される保護されたカル
ボキシル基は主にエステル化されたカルボキシル
基であるが、普通の混合無水物基または置換され
ている場合のあるカルバモイル基またはヒドラジ
ノカルボニル基であることもできる。 故に、基RA 2は基−C(=O)−といつしよにエ
ステル化されたカルボキシル基を形成している炭
素原子の数が好ましくは18個までの有機基でエー
テル化された水酸基であることができる。このよ
うな有機基は例えば脂肪族、脂環式、脂環−脂肪
族、芳香族または芳香脂肪族の基、殊にこの種類
の置換されている場合のある炭化水素基ならびに
複素環式または複素環−脂肪族基である。 また、基RA 2は有機シリルオキシ基または有機
金属性基でエーテル化された水酸基例えば相当す
る有機スタニルオキシ基、殊に炭素原子を好まし
くは18個までもつている置換されている場合のあ
る炭化水素基例えば脂肪族炭化水素基1〜3個に
よつてそして場合によつては塩素原子のようなハ
ロゲン原子によつて置換されているシリルオキシ
基またはスタニルオキシ基であることもできる。 基−C(=O)−といつしよに無水物基主に混
合無水物基を形成している基RA 2は殊にアシルオ
キシ基であつて、この基は炭素原子を好ましくは
18個までもつている有機カルボン酸例えば脂肪
族、脂環式、脂環−脂肪族、芳香族または芳香脂
肪族カルボン酸または炭酸半エステルのような炭
酸半誘導体の相当する基である。 基−C(=O)−といつしよにカルバモイル基
を形成している基RA 2は置換されている場合のあ
るアミノ基である。この置換基は炭素原子を好ま
しくは18個までもつている置換されている場合の
ある1価または2価の炭化水素基、例えば炭素原
子18個までをもつている置換されている場合のあ
る1価または2価の脂肪族、脂環式、脂環−脂肪
族、芳香族または芳香脂肪族炭化水素基、さらに
炭素原子18個までをもつ相当する複素環式または
複素環−脂肪族基および(または)官能性基例え
ば官能的に変えられていることのできる水酸基殊
に遊離水酸基、さらにエーテル化またはエステル
化された水酸基(そのエーテル化またはエステル
している基は例えば前記の意味をもちそして好ま
しくは炭素原子18個までをもつている)またはア
シル基主に炭素原子を好ましくは18個までもつ有
機カルボン酸または炭酸半誘導体のアシル基であ
る。 式−C(=O)−RA 2で示される置換されたヒド
ラジノカルボニル基においては、その1方または
両方の窒素原子が置換されていることができる。
置換基としては主に炭素原子が好ましくは18個ま
でもつている置換されていることのできる1価ま
たは2価の炭化水素基、例えば炭素原子18個まで
をもつている置換されていることのできる1価ま
たは2価の脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族、芳香
族または芳香脂肪族炭化水素基、さらに炭素原子
18個までをもつている相当する複素環式または複
素環−脂肪族基および(または)官能性基例えば
アシル基主に炭素原子を好ましくは18個までもつ
ている有機カルボン酸または炭酸半誘導体のアシ
ル基が挙げられる。 本明細書に記載の一般用語は例えば次の意味を
もつている。脂肪族基(相当する有機カルボン酸
の脂肪族基を含む)ならびに相当するイリデン基
は置換されている場合のある1価または2価の脂
肪族炭化水素基、殊に炭素原子を例えば7個まで
そして好ましくは4個までもつていることのでき
る低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アル
キニル基または低級アルキルデン基である。この
ような基は場合によつては官能性基によつて、例
えば遊離のまたはエーテル化またはエステル化さ
れた水酸基またはメルカプト基、例えば低級アル
コキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキ
レンジオキシ基、置換されている場合のあるフエ
ニルオキシ基またはフエニル低級アルコキシ基、
低級アルキルチオ基、置換されている場合のある
フエニルチオ基またはフエニル低級アルキルチオ
基、複素環−チオ基または複素環−低級アルキル
チオ基、置換されている場合のある低級アルコキ
シカルボニルオキシ基または低級アルカノイルオ
キシ基、またはハロゲン原子、さらにオキソ基、
ニトロ基、置換されている場合のあるアミノ基例
えば低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミ
ノ基、低級アルキレンアミノ基、オキサ低級アル
キレンアミノ基またはアザ低級アルキレンアミノ
基ならびにアシルアミノ基例えば低級アルカノイ
ルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ
基、ハロゲノ低級アルコキシカルボニルアミノ
基、置換されている場合のあるフエニル低級アル
コキシカルボニルアミノ基、置換されている場合
のあるカルバモイルアミノ基、ウレイドカルボニ
ルアミノ基またはグアニジノカルボニルアミノ
基、さらにアルカリ金属塩のような塩の形で存在
する場合のあるスルホアミノ基、アチド基、低級
アルカノイル基やベンゾイル基のようなアシル
基、官能的に変えられている場合のあるカルボキ
シル基例えば塩の形にあるカルボキシル基、低級
アルコキシカルボニル基のようなエステル化され
たカルボキシル基、N−低級アルキル−または
N,N−ジ低級アルキル−カルバモイル基のよう
な置換されている場合のあるカルバモイル基、さ
らに、置換されている場合のあるウレイドカルボ
ニル基またはグアニジノカルボニル基、またはシ
アノ基、官能的に変えられている場合のあるスル
ホ基例えばスルフアモイル基または塩の形にある
スルホ基、またはO−モノ−またはO,O′−ジ
−置換されている場合のあるホスホノ基(その置
換基は例えば置換されている場合のある低級アル
キル基、フエニル基またはフエニル低級アルキル
基であつて、O−非置換またはO−モノ置換され
たホスホノ基はアルカリ金属塩のような塩の形で
あることもできる)によつてモノ置換、ジ置換ま
たはポリ置換されていることができる。 2価脂肪族カルボン酸の脂肪族基を含めて2価
の脂肪族基は例えば低級アルキレン基または低級
アルケニレン基であつて、これらは場合によつて
は前記脂肪族基のようにモノ置換、ジ置換または
ポリ置換されていることができそして(または)
その鎖中に酸素、窒素またはいおう原子のような
ヘテロ原子が介在していることができる。 脂環式基または脂環−脂肪族基(相当する有機
カルボン酸における脂環式基または脂環−脂肪族
基を含む)ならびに相当する脂環式または脂環−
脂肪族イリデン基は置換されている場合のある単
環式または2環式脂環式または脂環−脂肪族炭化
水素基、例えば単環式、2環式または多環式のシ
クロアルキル基またはシクロアルケニル基、さら
にシクロアルキリデン基、またはシクロアルキル
−またはシクロアルケニル−低級アルキル基また
は−低級アルケニル基、さらにシクロアルキル−
低級アルキリデン基またはシクロアルケニル−低
級アルキリデン基である。これらの基においてシ
クロアルキルおよびシクロアルキリデンは例えば
環炭素原子を12個まで、例えば3〜8個、好まし
くは3〜6個もつており、またシクロアルケニル
は例えば環炭素原子を12個まで、例えば3〜8
個、例えば5〜8個、好ましくは5個または6個
もちそして2重結合1個または2個をもつてお
り、そして脂環−脂肪族基の脂肪族部分は炭素原
子を例えば7個まで、好ましくは4個までもつて
いることができる。これら脂環式基または脂環−
脂肪族基は所望ならば例えば置換されている場合
のある脂肪族炭化水素基によつて、例えば前に挙
げた置換されている場合のある低級アルキル基に
よつてまたは例えば前記脂肪族炭化水素基のよう
に官能性基によつてモノ置換、ジ置換またはポリ
置換されていることができる。 芳香族基(相当するカルボン酸の芳香族基を含
む)は置換されている場合のある芳香族炭化水素
基、例えば単環式、2環式または多環式の芳香族
炭化水素基、殊にフエニル基ならびにビフエニリ
ル基またはナフチル基であつて、これらは例えば
前記の脂肪族および脂環式炭化水素基のように場
合によつてはモノ置換、ジ置換またはポリ置換さ
れていることができる。 芳香族カルボン酸の2価の芳香族基はとりわけ
1,2−アリ−レン基特に1,2−フエニレン基
であつて、これらは例えば前記の脂肪族および脂
環式炭化水素基のように場合によつてはモノ置
換、ジ置換またはポリ置換されていることができ
る。 前記の芳香脂肪族基(相当するカルボン酸にお
ける芳香脂肪族基を含む)およびまた芳香脂肪族
イリデン基は例えば置換されている場合のある芳
香脂肪族炭化水素基、例えば置換されている場合
のある単環式、2環式または多環式芳香族炭化水
素基を3個までもつている置換されている場合の
ある脂肪族炭化水素基であつて、とりわけフエニ
ル−低級アルキル基またはフエニル−低級アルケ
ニル基、ならびにフエニル−低級アルキニル基お
よびまたフエニル−低級アルキリデン基であり、
そしてこのような基は例えばフエニル基1〜3個
をもつておりそして場合によつては例えば前記の
脂肪族および脂環式基のようにその芳香族および
(または)脂肪族部分においてモノ置換、ジ置換
またはポリ置換されていることができる。 複素環式基(複素環−脂肪族基におけるもの、
および相当するカルボン酸における複素環式基ま
たは複素環−脂肪族基を含む)は芳香族性をもつ
特に単環式ならびに2環式または多環式のアザ環
式、チア環式、オキサ環式、チアザ環式、チアジ
アザ環式、オキサアザ環式、ジアザ環式、トリア
ザ環式またはテトラアザ環式基およびさらにこの
種類の相当する部分的にまたは全体的に飽和され
た複素環式基であつて、このような基は場合によ
つては例えば前記の脂環式基のようにモノ置換、
ジ置換またはポリ置換されていることができる。
複素環−脂肪族基における脂肪族部分は例えば相
当する脂環−脂肪族基または芳香脂肪族基に与え
た意味をもつ。 炭酸半誘導体のアシル基は相当する半エステル
のアシル基(このエステル基の有機基は置換され
ている場合のある脂肪族、脂環式、芳香族または
芳香脂肪族の炭化水素基または複素環−脂肪族基
である)、とりわけ炭酸の低級アルキル半エステ
ルのアシル基(これは例えばそのα−またはβ−
位置で置換されていることができる)およびその
有機基において置換されている場合のある炭酸の
低級アルケニル、シクロアルキル、フエニルまた
はフエニル−低級アルキル半エステルのアシル基
であるのが好ましい。炭酸半エステルのアシル基
は、さらに、その低級アルキル部分が複素環式基
例えば芳香族性の前記複素環式基の1つをもつて
いる炭酸の低級アルキル半エステルの相当する基
であつて、その低級アルキル基および複素環式基
はいずれも場合によつては置換されていることが
できる。さらに、炭酸半誘導体のアシル基はハロ
ゲン化されている場合のあるN−低級アルキルカ
ルバモイル基のようなN−置換されている場合の
あるカルバモイル基であることもできる。 エーテル化された水酸基は主として置換されて
いる場合のある低級アルコキシ基(その置換基は
主として遊離のまたは官能的に変性例えばエーテ
ル化またはエステル化された水酸基、殊に低級ア
ルコキシ基またはハロゲン原子である)、さらに
低級アルケニルオキシ基、シクロアルキルオキシ
基または置換されている場合のあるフエニルオキ
シ基、ならびに複素環−オキシ基または複素環−
低級アルコキシ基、殊に置換されている場合のあ
るフエニル低級アルコキシ基である。 置換されている場合のあるアミノ基は例えばア
ミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキル
アミノ基、低級アルキレンアミノ基、オキサ低級
アルキレンアミノ基、チア低級アルキレンアミノ
基、アザ低級アルキレンアミノ基、ヒドロキシア
ミノ基、低級アルコキシアミノ基、低級アルカノ
イルオキシアミノ基、低級アルコキシカルボニル
アミノ基または低級アルカノイルアミノ基であ
る。 置換されている場合のあるヒドラジノ基は例え
ばヒドラジノ基、2−低級アルキルヒドラジノ
基、2,2−ジ低級アルキルヒドラジノ基、2−
低級アルコキシカルボニルヒドラジノ基または2
−低級アルカノイルヒドラジノ基である。 低級アルキル基は例えばメチル基、エチル基、
n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル
基、イソブチル基、第2ブチル基、第3ブチル
基、ならびにn−ペンチル基、イソペンチル基、
n−ヘキシル基、イソヘキシル基またはn−ヘプ
チル基であり、また低級アルケニル基は例えばビ
ニル基、アリル基、イソプロペニル基、2−また
は3−メタリル基または3−ブテニル基であるこ
とができ、低級アルキニル基は例えばプロパルギ
ル基または2−ブチニル基であることができ、そ
して低級アルキリデン基は例えばイソプロピリデ
ン基またはイゾブチリデン基であることができ
る。 低級アルキレン基は例えば1,2−エチレン
基、1,2−または1,3−プロピレン基、1,
4−ブチレン基、1,5−ペンチレン基または
1,6−ヘキシレン基であり、また低級アルケニ
レン基は例えば1,2−エテニレン基または2−
ブテン−1,4−イレン基である。ヘテロ原子の
介在する低級アルキレン基は例えば3−オキサ−
1,5−ペンチレン基のようなオキサ低級アルキ
レン基、3−チア−1,5−ペンチレン基のよう
なチア低級アルキレン基、または3−低級アルキ
ル−3−アザ−1,5−ペンチレン基例えば3−
メチル−3−アザ−1,5−ペンチレン基のよう
なアザ低級アルキレン基である。 シクロアルキル基は例えばシクロプロピル基、
シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基またはシクロヘプチル基、ならびにアダマ
ンチル基であり、シクロアルケニル基は例えばシ
クロプロペニル基、1−,2−または3−シクロ
ペンテニル基、1−,2−または3−シクロヘキ
セニル基、3−シクロヘプテニル基または1,4
−シクロヘキサジエニル基であつて、シクロアル
キリデン基は例えばシクロペンチリデン基または
シクロヘキシリデン基である。シクロアルキル−
低級アルキル基またはシクロアルキル−低級アル
ケニル基は例えばシクロプロピル−、シクロペン
チル−、シクロヘキシル−またはシクロヘプチル
−メチル基、−1,1−エチレン基
RA 1でありそしてRb 1は水素原子またはアシル基
AcであるかまたはRa 1とRb 1とはいつしよになつ
て2価のアミノ保護基を表わし、そしてこれらの
アミノ保護基およびアシル基は過酸酸化を受けな
い基であり、そしてRA 2は保護されたカルボキシ
ル基を式中のカルボニル基−C(=O)−といつ
しよに形成している基である〕 で表わされる7β−アミノ−セフアム−3−オン
−4−カルボン酸化合物、または式()の化合
物の1−オキシド、または相当する3−エノール
互変異性体または塩形成基をもつこのような化合
物の塩の製法に関するものである。 本発明のセフアム−3−オン化合物およびその
相当する1−オキシドは式 で表わされる2,3−位置または3,4−位置に
2重結合をもつているセフエム−3−オール化合
物のエノール形およびケト形の両方であることが
でき、または両方の形の混合物として存在する。 2,3−位置に2重結合をもつている式()
の化合物において、その保護されたカルボキシル
基はα構造をもつているのが好ましい。 アミノ保護基RA 1は水素原子で置換できる基、
主にアシル基Ac、さらにトリアリールメチル基
殊にトリチル基、ならびに有機シリル基または有
機スタニル基である。基Rb 1のアシル基を含めて
基Acは主に炭素原子を好ましくは18個までもつ
ている有機カルボン酸のアシル基、殊に置換され
ている場合のある脂肪族、脂環式、脂環−脂肪
族、芳香族、芳香脂肪族、複素環式または複素環
−脂肪族のカルボン酸(ぎ酸を含める)のアシル
基ならびに炭酸半誘導体のアシル基である。 基Ra 1とRb 1とが連結して形成している2価のア
ミノ保護基は殊に炭素原子は好ましくは18個まで
もつている有機ジカルボン酸の2価アシル基、主
に脂肪族または芳香族ジカルボン酸のジアシル
基、さらにα−位置に置換基例えば芳香族または
複素環式基を好ましくはもつているα−アミノ酢
酸(このアミノ酢酸のアミノ基は、置換基例えば
メチル基のような低級アルキル基2個をもつのが
好ましいメチレン基を介して前記の窒素原子と結
合している)のアシル基である。また、基Ra 1と
Rb 1とはその両方で炭素原子を好ましくは18個ま
でもつている有機イリデン基例えば脂肪族、脂環
式、脂環−脂肪族または芳香脂肪族イリデン基で
あることもできる。 式−C(=O)−RA 2で示される保護されたカル
ボキシル基は主にエステル化されたカルボキシル
基であるが、普通の混合無水物基または置換され
ている場合のあるカルバモイル基またはヒドラジ
ノカルボニル基であることもできる。 故に、基RA 2は基−C(=O)−といつしよにエ
ステル化されたカルボキシル基を形成している炭
素原子の数が好ましくは18個までの有機基でエー
テル化された水酸基であることができる。このよ
うな有機基は例えば脂肪族、脂環式、脂環−脂肪
族、芳香族または芳香脂肪族の基、殊にこの種類
の置換されている場合のある炭化水素基ならびに
複素環式または複素環−脂肪族基である。 また、基RA 2は有機シリルオキシ基または有機
金属性基でエーテル化された水酸基例えば相当す
る有機スタニルオキシ基、殊に炭素原子を好まし
くは18個までもつている置換されている場合のあ
る炭化水素基例えば脂肪族炭化水素基1〜3個に
よつてそして場合によつては塩素原子のようなハ
ロゲン原子によつて置換されているシリルオキシ
基またはスタニルオキシ基であることもできる。 基−C(=O)−といつしよに無水物基主に混
合無水物基を形成している基RA 2は殊にアシルオ
キシ基であつて、この基は炭素原子を好ましくは
18個までもつている有機カルボン酸例えば脂肪
族、脂環式、脂環−脂肪族、芳香族または芳香脂
肪族カルボン酸または炭酸半エステルのような炭
酸半誘導体の相当する基である。 基−C(=O)−といつしよにカルバモイル基
を形成している基RA 2は置換されている場合のあ
るアミノ基である。この置換基は炭素原子を好ま
しくは18個までもつている置換されている場合の
ある1価または2価の炭化水素基、例えば炭素原
子18個までをもつている置換されている場合のあ
る1価または2価の脂肪族、脂環式、脂環−脂肪
族、芳香族または芳香脂肪族炭化水素基、さらに
炭素原子18個までをもつ相当する複素環式または
複素環−脂肪族基および(または)官能性基例え
ば官能的に変えられていることのできる水酸基殊
に遊離水酸基、さらにエーテル化またはエステル
化された水酸基(そのエーテル化またはエステル
している基は例えば前記の意味をもちそして好ま
しくは炭素原子18個までをもつている)またはア
シル基主に炭素原子を好ましくは18個までもつ有
機カルボン酸または炭酸半誘導体のアシル基であ
る。 式−C(=O)−RA 2で示される置換されたヒド
ラジノカルボニル基においては、その1方または
両方の窒素原子が置換されていることができる。
置換基としては主に炭素原子が好ましくは18個ま
でもつている置換されていることのできる1価ま
たは2価の炭化水素基、例えば炭素原子18個まで
をもつている置換されていることのできる1価ま
たは2価の脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族、芳香
族または芳香脂肪族炭化水素基、さらに炭素原子
18個までをもつている相当する複素環式または複
素環−脂肪族基および(または)官能性基例えば
アシル基主に炭素原子を好ましくは18個までもつ
ている有機カルボン酸または炭酸半誘導体のアシ
ル基が挙げられる。 本明細書に記載の一般用語は例えば次の意味を
もつている。脂肪族基(相当する有機カルボン酸
の脂肪族基を含む)ならびに相当するイリデン基
は置換されている場合のある1価または2価の脂
肪族炭化水素基、殊に炭素原子を例えば7個まで
そして好ましくは4個までもつていることのでき
る低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アル
キニル基または低級アルキルデン基である。この
ような基は場合によつては官能性基によつて、例
えば遊離のまたはエーテル化またはエステル化さ
れた水酸基またはメルカプト基、例えば低級アル
コキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキ
レンジオキシ基、置換されている場合のあるフエ
ニルオキシ基またはフエニル低級アルコキシ基、
低級アルキルチオ基、置換されている場合のある
フエニルチオ基またはフエニル低級アルキルチオ
基、複素環−チオ基または複素環−低級アルキル
チオ基、置換されている場合のある低級アルコキ
シカルボニルオキシ基または低級アルカノイルオ
キシ基、またはハロゲン原子、さらにオキソ基、
ニトロ基、置換されている場合のあるアミノ基例
えば低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミ
ノ基、低級アルキレンアミノ基、オキサ低級アル
キレンアミノ基またはアザ低級アルキレンアミノ
基ならびにアシルアミノ基例えば低級アルカノイ
ルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミノ
基、ハロゲノ低級アルコキシカルボニルアミノ
基、置換されている場合のあるフエニル低級アル
コキシカルボニルアミノ基、置換されている場合
のあるカルバモイルアミノ基、ウレイドカルボニ
ルアミノ基またはグアニジノカルボニルアミノ
基、さらにアルカリ金属塩のような塩の形で存在
する場合のあるスルホアミノ基、アチド基、低級
アルカノイル基やベンゾイル基のようなアシル
基、官能的に変えられている場合のあるカルボキ
シル基例えば塩の形にあるカルボキシル基、低級
アルコキシカルボニル基のようなエステル化され
たカルボキシル基、N−低級アルキル−または
N,N−ジ低級アルキル−カルバモイル基のよう
な置換されている場合のあるカルバモイル基、さ
らに、置換されている場合のあるウレイドカルボ
ニル基またはグアニジノカルボニル基、またはシ
アノ基、官能的に変えられている場合のあるスル
ホ基例えばスルフアモイル基または塩の形にある
スルホ基、またはO−モノ−またはO,O′−ジ
−置換されている場合のあるホスホノ基(その置
換基は例えば置換されている場合のある低級アル
キル基、フエニル基またはフエニル低級アルキル
基であつて、O−非置換またはO−モノ置換され
たホスホノ基はアルカリ金属塩のような塩の形で
あることもできる)によつてモノ置換、ジ置換ま
たはポリ置換されていることができる。 2価脂肪族カルボン酸の脂肪族基を含めて2価
の脂肪族基は例えば低級アルキレン基または低級
アルケニレン基であつて、これらは場合によつて
は前記脂肪族基のようにモノ置換、ジ置換または
ポリ置換されていることができそして(または)
その鎖中に酸素、窒素またはいおう原子のような
ヘテロ原子が介在していることができる。 脂環式基または脂環−脂肪族基(相当する有機
カルボン酸における脂環式基または脂環−脂肪族
基を含む)ならびに相当する脂環式または脂環−
脂肪族イリデン基は置換されている場合のある単
環式または2環式脂環式または脂環−脂肪族炭化
水素基、例えば単環式、2環式または多環式のシ
クロアルキル基またはシクロアルケニル基、さら
にシクロアルキリデン基、またはシクロアルキル
−またはシクロアルケニル−低級アルキル基また
は−低級アルケニル基、さらにシクロアルキル−
低級アルキリデン基またはシクロアルケニル−低
級アルキリデン基である。これらの基においてシ
クロアルキルおよびシクロアルキリデンは例えば
環炭素原子を12個まで、例えば3〜8個、好まし
くは3〜6個もつており、またシクロアルケニル
は例えば環炭素原子を12個まで、例えば3〜8
個、例えば5〜8個、好ましくは5個または6個
もちそして2重結合1個または2個をもつてお
り、そして脂環−脂肪族基の脂肪族部分は炭素原
子を例えば7個まで、好ましくは4個までもつて
いることができる。これら脂環式基または脂環−
脂肪族基は所望ならば例えば置換されている場合
のある脂肪族炭化水素基によつて、例えば前に挙
げた置換されている場合のある低級アルキル基に
よつてまたは例えば前記脂肪族炭化水素基のよう
に官能性基によつてモノ置換、ジ置換またはポリ
置換されていることができる。 芳香族基(相当するカルボン酸の芳香族基を含
む)は置換されている場合のある芳香族炭化水素
基、例えば単環式、2環式または多環式の芳香族
炭化水素基、殊にフエニル基ならびにビフエニリ
ル基またはナフチル基であつて、これらは例えば
前記の脂肪族および脂環式炭化水素基のように場
合によつてはモノ置換、ジ置換またはポリ置換さ
れていることができる。 芳香族カルボン酸の2価の芳香族基はとりわけ
1,2−アリ−レン基特に1,2−フエニレン基
であつて、これらは例えば前記の脂肪族および脂
環式炭化水素基のように場合によつてはモノ置
換、ジ置換またはポリ置換されていることができ
る。 前記の芳香脂肪族基(相当するカルボン酸にお
ける芳香脂肪族基を含む)およびまた芳香脂肪族
イリデン基は例えば置換されている場合のある芳
香脂肪族炭化水素基、例えば置換されている場合
のある単環式、2環式または多環式芳香族炭化水
素基を3個までもつている置換されている場合の
ある脂肪族炭化水素基であつて、とりわけフエニ
ル−低級アルキル基またはフエニル−低級アルケ
ニル基、ならびにフエニル−低級アルキニル基お
よびまたフエニル−低級アルキリデン基であり、
そしてこのような基は例えばフエニル基1〜3個
をもつておりそして場合によつては例えば前記の
脂肪族および脂環式基のようにその芳香族および
(または)脂肪族部分においてモノ置換、ジ置換
またはポリ置換されていることができる。 複素環式基(複素環−脂肪族基におけるもの、
および相当するカルボン酸における複素環式基ま
たは複素環−脂肪族基を含む)は芳香族性をもつ
特に単環式ならびに2環式または多環式のアザ環
式、チア環式、オキサ環式、チアザ環式、チアジ
アザ環式、オキサアザ環式、ジアザ環式、トリア
ザ環式またはテトラアザ環式基およびさらにこの
種類の相当する部分的にまたは全体的に飽和され
た複素環式基であつて、このような基は場合によ
つては例えば前記の脂環式基のようにモノ置換、
ジ置換またはポリ置換されていることができる。
複素環−脂肪族基における脂肪族部分は例えば相
当する脂環−脂肪族基または芳香脂肪族基に与え
た意味をもつ。 炭酸半誘導体のアシル基は相当する半エステル
のアシル基(このエステル基の有機基は置換され
ている場合のある脂肪族、脂環式、芳香族または
芳香脂肪族の炭化水素基または複素環−脂肪族基
である)、とりわけ炭酸の低級アルキル半エステ
ルのアシル基(これは例えばそのα−またはβ−
位置で置換されていることができる)およびその
有機基において置換されている場合のある炭酸の
低級アルケニル、シクロアルキル、フエニルまた
はフエニル−低級アルキル半エステルのアシル基
であるのが好ましい。炭酸半エステルのアシル基
は、さらに、その低級アルキル部分が複素環式基
例えば芳香族性の前記複素環式基の1つをもつて
いる炭酸の低級アルキル半エステルの相当する基
であつて、その低級アルキル基および複素環式基
はいずれも場合によつては置換されていることが
できる。さらに、炭酸半誘導体のアシル基はハロ
ゲン化されている場合のあるN−低級アルキルカ
ルバモイル基のようなN−置換されている場合の
あるカルバモイル基であることもできる。 エーテル化された水酸基は主として置換されて
いる場合のある低級アルコキシ基(その置換基は
主として遊離のまたは官能的に変性例えばエーテ
ル化またはエステル化された水酸基、殊に低級ア
ルコキシ基またはハロゲン原子である)、さらに
低級アルケニルオキシ基、シクロアルキルオキシ
基または置換されている場合のあるフエニルオキ
シ基、ならびに複素環−オキシ基または複素環−
低級アルコキシ基、殊に置換されている場合のあ
るフエニル低級アルコキシ基である。 置換されている場合のあるアミノ基は例えばア
ミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキル
アミノ基、低級アルキレンアミノ基、オキサ低級
アルキレンアミノ基、チア低級アルキレンアミノ
基、アザ低級アルキレンアミノ基、ヒドロキシア
ミノ基、低級アルコキシアミノ基、低級アルカノ
イルオキシアミノ基、低級アルコキシカルボニル
アミノ基または低級アルカノイルアミノ基であ
る。 置換されている場合のあるヒドラジノ基は例え
ばヒドラジノ基、2−低級アルキルヒドラジノ
基、2,2−ジ低級アルキルヒドラジノ基、2−
低級アルコキシカルボニルヒドラジノ基または2
−低級アルカノイルヒドラジノ基である。 低級アルキル基は例えばメチル基、エチル基、
n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル
基、イソブチル基、第2ブチル基、第3ブチル
基、ならびにn−ペンチル基、イソペンチル基、
n−ヘキシル基、イソヘキシル基またはn−ヘプ
チル基であり、また低級アルケニル基は例えばビ
ニル基、アリル基、イソプロペニル基、2−また
は3−メタリル基または3−ブテニル基であるこ
とができ、低級アルキニル基は例えばプロパルギ
ル基または2−ブチニル基であることができ、そ
して低級アルキリデン基は例えばイソプロピリデ
ン基またはイゾブチリデン基であることができ
る。 低級アルキレン基は例えば1,2−エチレン
基、1,2−または1,3−プロピレン基、1,
4−ブチレン基、1,5−ペンチレン基または
1,6−ヘキシレン基であり、また低級アルケニ
レン基は例えば1,2−エテニレン基または2−
ブテン−1,4−イレン基である。ヘテロ原子の
介在する低級アルキレン基は例えば3−オキサ−
1,5−ペンチレン基のようなオキサ低級アルキ
レン基、3−チア−1,5−ペンチレン基のよう
なチア低級アルキレン基、または3−低級アルキ
ル−3−アザ−1,5−ペンチレン基例えば3−
メチル−3−アザ−1,5−ペンチレン基のよう
なアザ低級アルキレン基である。 シクロアルキル基は例えばシクロプロピル基、
シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基またはシクロヘプチル基、ならびにアダマ
ンチル基であり、シクロアルケニル基は例えばシ
クロプロペニル基、1−,2−または3−シクロ
ペンテニル基、1−,2−または3−シクロヘキ
セニル基、3−シクロヘプテニル基または1,4
−シクロヘキサジエニル基であつて、シクロアル
キリデン基は例えばシクロペンチリデン基または
シクロヘキシリデン基である。シクロアルキル−
低級アルキル基またはシクロアルキル−低級アル
ケニル基は例えばシクロプロピル−、シクロペン
チル−、シクロヘキシル−またはシクロヘプチル
−メチル基、−1,1−エチレン基
【式】−1,2−エチレン基(−
CH2−CH2−)、−1,1−プロピレン基
【式】−1,2−プロピレン
基
【式】または−1,3−プ
ロピレン基(−CH2−CH2−CH2−)−ビニル基
または−アリル基であつて、シクロアルケニル−
低級アルキル基またはシクロアルケニル−低級ア
ルケニル基は例えば1−、2−または3−シクロ
ペンテニル−、1−、2−または3−シクロヘキ
セニル−または1−、2−または3−シクロヘプ
テニル−メチル基、−1,1−エチレン基
または−アリル基であつて、シクロアルケニル−
低級アルキル基またはシクロアルケニル−低級ア
ルケニル基は例えば1−、2−または3−シクロ
ペンテニル−、1−、2−または3−シクロヘキ
セニル−または1−、2−または3−シクロヘプ
テニル−メチル基、−1,1−エチレン基
【式】−1,2−エチレン基(−
CH2−CE2−),−1,1−プロピレン基
【式】−1,2−プロピレン
基
【式】または−1,3−プ
ロピレン基(−CH2−CH2−CH2−)−ビニル基
または−アリル基である。シクロアルキル−低級
アルキリデン基は例えばシクロヘキシルメチレン
基でありそしてシクロアルケニル−低級アルキリ
デン基は例えば3−シクロヘキセニルメチレン基
である。 ナフチル基は1−または2−ナフチル基であつ
て、ビフエニリル基は例えば4−ビフエニリル基
である。 フエニル−低級アルキル基またはフエニル−低
級アルケニル基は例えばベンジル基、1−または
2−フエニルエチル基、1−、2−または3−フ
エニルプロピル基、ジフエニルメチル基、トリチ
ル基、1−または2−ナフチルメチル基のような
ナフチル−低級アルキル基、スチリル基またはシ
ンナミル基であつて、アルケニル−低級アルキリ
デン基は例えばベンジリデン基である。 複素環式基はとりわけ芳香族性をもつ置換され
ている場合のある複素環式基、例えば相当する単
環式のモノアザ環式、モノチア環式またはモノオ
キサ環式基例えば2−ピリル基や3−ピリル基の
ようなピリル基、2−、3−または4−ピリジル
基のようなピリジル基およびピリジニウム基、2
−または3−チエニル基のようなチエニル基また
は2−フリル基のようなフリル基、2環式のモノ
アザ環式、モノオキサ環式またはモノチア環式基
例えば2−または3−インドリル基のようなイン
ドリル基、2−または4−キノリニル基のような
キノニリル基、1−イソキノリニル基のようなイ
ソキノリニル基、2−または3−ベンゾフラニル
基のようなベンゾフラニル基または2−または3
−ベンゾチエニル基のようなベンゾチエニル基、
単環式のジアザ環式、トリアザ環式、テトラアザ
環式、オキサアザ環式、チアザ環式またはチアジ
アザ環式基、例えば2−イミダゾリル基のような
イミダゾリル基、2−または4−ピリミジニル基
のようなピリミジニル基、1,2,4−トリアゾ
ール−3−イル基のようなトリアゾリル基、1−
または5−テトラゾリル基のようなテトラゾリル
基、2−オキサゾリル基のようなオキサゾリル
基、3−または4−イソオキサゾリル基のような
イソオキサゾリル基、2−チアゾリル基のような
チアゾリル基、3−または4−イソチアゾリル基
のようなイソチアゾリル基、または1,2,4−
チアジアゾール−3−イル基や1,3,4−チア
ジアゾール−2−イル基のような1,2,4−ま
たは1,3,4−チアジアゾリル基、あるいは2
環式のジアザ環式、オキサアザ環式またはチアザ
環式基例えば2−ベンズイミダゾリル基のような
ベンズイミダゾリル基、2−ベンズオキサゾリル
基のようなベンズオキサゾリル基または2−ベン
ズチアゾリル基のようなベンズチアゾリル基であ
る。相当する部分的にまたは全体に飽和された基
は例えば2−テトラヒドロチエニル基のようなテ
トラヒドロチエニル基、2−テトラヒドロフリル
基のようなテトラヒドロフリル基または2−また
は4−ピペリジル基のようなピペリジル基であ
る。複素環−脂肪族基は複素環式基特に上記の基
をもつ低級アルキル基または低級アルケニル基で
ある。前記の複素環式基は、例えば置換されてい
る場合のある脂肪族または芳香族炭化水素基特に
メチル基のような低級アルキル基によつてまたは
場合によつては塩素原子のようなハロゲン原子に
より置換されたフエニル基例えばフエニル基また
は4−クロルフエニル基によつてまたは前記脂肪
族炭化水素基のように官能性基によつて置換され
ていることができる。 低級アルコキシ基は例えばメトキシ基、エトキ
シ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n
−ブトキシ基、イソブトキシ基、第2ブトキシ
基、第3ブトキシ基、n−ペントキシ基または第
3ペントキシ基である。これらの基は例えばハロ
ゲノ−低級アルコキシ基特に2−ハロゲノ−低級
アルコキシ基例えば2,2,2−トリクロルエト
キシ、2−クロル−、2−ブロム−または2−ヨ
ード−エトキシ基におけるように置換されている
ことができる。低級アルケニルオキシ基は例えば
ビニルオキシ基またはアリルオキシ基であり、低
級アルキレンジオキシ基は例えばメチレンンジオ
キシ基、エチレンジオキシ基またはイソプロピリ
デンジオキシ基であり、シクロアルコキシ基は例
えばシクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオ
キシ基またはアダマンチルオキシ基であり、フエ
ニル−低級アルコキシ基は例えばベンジルオキシ
基または1−または2−フエニルエトキシ基、ジ
フエニルメトキシ基または4,4′−ジメトキシ−
ジフエニルメトキシ基であり、また複素環−オキ
シ基または複素環−低級アルコキシ基は例えば2
−ピリジルメトキシ基のようなピリジル−低級ア
ルコキシ基、フルフリルオキシ基のようなフリル
−低級アルコキシ基または2−テニルオキシ基の
ようなチエニル−低級アルコキシ基である。 低級アルキルチオ基は例えばメチルチオ基、エ
チルチオ基またはn−ブチルチオ基であり、低級
アルケニルチオ基は例えばアリルチオ基であつ
て、フエニル−低級アルキルチオ基は例えばベン
ジルチオ基であり、また複素環式基または複素環
−脂肪族基でエーテル化されたメルカプト基は特
に4−ピリジルチオ基のようなピリジルチオ基、
2−イミダゾリルチル基のようなイミダゾリルチ
オ基、2−チアゾリルチオ基のようなチアゾリル
チオ基、1,2,4−チアジアゾール−3−イル
チオ基や1,3,4−チアジアゾール−2−イル
チオ基のような1,2,4−または1,3,4−
チアジアゾリルチオ基または1−メチル−5−テ
トラゾリルチオ基のようなテトラゾリルチオ基で
ある。 エステル化された水酸基はとりわけハロゲン原
子例えばふつ素、塩素、臭素またはよう素原子、
ならびに低級アルカノイルオキシ基例えばアセト
キシ基またはプロピオニルオキシ基、低級アルコ
キシカルボニルオキシ基例えばメトキシカルボニ
ルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基または
t−ブチルオキシカルボニルオキシ基、2−ハロ
ゲノ低級アルコキシカルボニルオキシ基例えば
2,2,2−トリクロルエトキシカルボニルオキ
シ基、2−ブロムエトキシカルボニルオキシ基ま
たは2−ヨードエトキシカルボニルオキシ基、ま
たはアリールカルボニルメトキシカルボニルオキ
シ基例えばフエナシルオキシカルボニルオキシ基
である。 低級アルコキシ−カルボニル基は例えばメトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、2−プ
ロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニ
ル基、t−ブトキシカルボニル基またはt−ペン
トキシカルボニル基である。 N−低級アルキル−カルバモイル基またはN,
N−ジ低級アルキル−カルバモイル基は例えばN
−メチルカルバモイル基、N−エチルカルバモイ
ル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N,N
−ジエチルカルバモイル基であるが、N−低級ア
ルキルスルフアモイル基は例えばN−メチルスル
フアモイル基またはN,N−ジメチルスルフアモ
イル基である。 アルカリ金属塩の形にあるカルボキシル基また
はスルホ基は例えばナトリウム塩またはカリウム
塩の形にあるカルボキシル基またはスルホ基であ
る。 低級アルキルアミノ基またはジ−低級アルキル
アミノ基は例えばメチルアミノ基、エチルアミノ
基、ジメチルアミノ基またはジエチルアミノ基で
あり、低級アルキレンアミノ基は例えばピロリジ
ノ基またはピペリジノ基であり、オキサ−低級ア
ルキレンアミノ基は例えばモルホリノ基、チア低
級アルキレンアミノ基は例えばチオモルホリノ基
そしてアザ−低級アルキレンアミノ基は例えばピ
ペラジノ基または4−メチルピペリジノ基であ
る。アシルアミノ基は特にカルバモイルアミノ
基、メチルカルバモイルアミノ基のような低級ア
ルキルカルバモイルアミノ基、ウレイドカルボニ
ルアミノ基、グアニジノノカルボニルアミノ基、
低級アルコキシカルボニルアミノ基例えばメトキ
シカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミ
ノ基またはt−ブトキシカルボニルアミノ基、
2,2,2−トリクロルエトキシカルボニルアミ
ノ基のようなハロゲノ低級アルコキシカルボニル
アミノ基、4−メトキシベンジルオキシカルボニ
ルアミノ基のようなフエニル低級アルコキシカル
ボニルアミノ基、アセチルアミノ基がプロピオニ
ルアミノ基のような低級アルカノイルアミノ基、
さらにフタルイミド基または塩例えばナトリウム
塩のようなアルカリ金属塩またはアンモニウム塩
の形にあることのできるスルホアミノ基である。 低級アルカノイル基は例えばホルミル基、アセ
チル基、プロピオニル基またはピバロイル基であ
る。 O−低級アルキル−ホスホノ基は例えばO−メ
チル−またはO−エチル−ホスホノ基、O,
O′−ジ低級アルキル−ホスホノ基は例えばO,
O′−ジメチル−ホスホノ基またはO,O′−ジエ
チル−ホスホノ基、O−フエニル低級アルキル−
ホスホノ基は例えばO−ベンジル−ホスホノ基そ
してO−低級アルキル−O′−フエニル低級アル
キル−ホスホノ基は例えばO−ベンジル−O′−
メチル−ホスホノ基である。 低級アルケニルオキシカルボニル基は例えばビ
ニルオキシカルボニル基であつて、シクロアルコ
キシカルボニル基およびフエニル−低級アルコキ
シカルボニル基は例えばアダマンチルオキシカル
ボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、4−メ
トキシベンジルオキシカルボニル基、ジフエニル
メトキシカルボニル基またはα−4−ビフエニリ
ル−α−メチルエトキシカルボニル基である。そ
の低級アルキル基が例えば単環式のモノアザ環
式、モノオキサ環式またはモノチア環式基をもつ
ているような低級アルコキシカルボニル基は例え
ばフルフリルオキシカルボニル基のようなフリル
−低級アルコキシカルボニル基または2−テニル
オキシカルボニル基のようなチエニル−低級アル
コキシカルボニル基である。 2−低級アルキルヒドラジノ基および2,2−
ジ低級アルキルヒドラジノ基は例えば2−メチル
ヒドラジノ基または2,2−ジメチルヒドラジノ
基であり、2−低級アルコキシカルボニルヒドラ
ジノ基は例えば2−メトキシカルボニルヒドラジ
ノ基、2−エトキシカルボニルヒドラジノ基また
はt−ブトキシカルボニルヒドラジノ基であつ
て、低級アルカノイルヒドラジノ基は例えば2−
アセチルヒドラジノ基である。 アシル基Acは殊に6−アミノ−ペナム−3−
カルボン酸化合物または7−アミノ−3−セフエ
ム−4−カルボン酸化合物の天然に生成されるか
または生合成、半合成または全合成により製造で
きる好ましくは薬理活性なN−アシル誘導体に含
まれる炭素原子の数が好ましくは18個までの有機
カルボン酸のアシル基、または容易に分裂できる
アシル基殊に炭酸半誘導体のアシル基である。 6−アミノ−ペナム−3−カルボン酸化合物ま
たは7−アミノ−3−セフエム−4−カルボン酸
化合物の薬理活性なN−アシル誘導体に含まれる
アシル基Acというのは、主として式 〔この式でnは0でありそしてR〓は水素原子
または置換されている場合のある脂環式または芳
香族炭化水素基、置換されている場合のあるそし
て好ましくは芳香族性をもつ複素環式基、官能的
に変形例えばエステル化またはエーテル化されて
いる水酸基またはメルカプト基あるいは置換され
ている場合のあるアミノ基であるか、またはnは
1であり、R〓は水素原子または置換されている
場合のある脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族、芳香
族または芳香脂肪族の炭化水素基、その複素環式
基が好ましくは芳香族性をもちそして(または)
第4級窒素原子をもつている置換されている場合
のある複素環式基または複素環−脂肪族基、官能
的に変形(好ましくはエーテル化またはエステル
化)されている場合のある水酸基またはメルカプ
ト基、官能的に変性されている場合のあるカルボ
キシル基、アシル基、置換されている場合のある
アミノ基またはアチド基でありそして基R〓とR
〓とがいずれも水素原子であるか、または2は1
であり、R〓は置換されている場合のある脂肪
族、脂環式、脂環−脂肪族、芳香族または芳香脂
肪族の炭化水素基またはその複素環式基が好まし
くは芳香族性を有する置換されている場合のある
複素環式または複素環−脂肪族基であり、R〓は
官能的に変性例えばエステル化またはエーテル化
されている場合のある水酸基またはメルカプト
基、例えばハロゲン原子、置換されている場合の
あるアミノ基、官能的に変性されている場合のあ
るカルボキシル基またはスルホ基、O−モノ置換
またはO,O′−ジ置換されている場合のあるホ
スホノ基またはアチド基でありそしてR〓は水素
原子であるか、またはnは1であり、基R〓とR
〓とがそれぞれ官能的に変性(好ましくはエーテ
ル化またはエステル化)された水酸基または官能
的に変性されている場合のあるカルボキシル基で
あり、そしてR〓は水素原子であるか、またはn
は1であり、R〓は水素原子または置換されてい
る場合のある脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族、芳
香族または芳香脂肪族の炭化水素基でありそして
R〓とR〓とはその両方で置換されている場合の
あるそして2重結合によつて式中の炭素原子と結
合している脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族または
芳香脂肪族の炭化水素基であるか、またはnは1
であり、R〓は置換されている場合のある脂肪
族、脂環式、脂環−脂肪族、芳香族または芳香脂
肪族の炭化水素基またはその複素環式基が好まし
くは芳香族性を有する置換されている場合のある
複素環式または複素環−脂肪族基であり、R〓は
置換されている場合のある脂肪族、脂環式、脂環
−脂肪族、芳香族または芳香脂肪族の炭化水素基
でありそしてR〓は水素原子または置換されてい
る場合のある脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族、芳
香族または芳香脂肪族の炭化水素基である〕 で表わされる基である。 前記の式(A)のアシル基においては、例えばnは
0でありそしてR〓は水素原子または環炭素原子
5〜7個をもつシクロアルキル基〔これは場合に
よつてはアミノ基、アシルアミノ基(そのアシル
基は主に低級アルコキシカルボニル基、2−ハロ
ゲノ低級アルコキシカルボニル基またはフエニル
低級アルコキシカルボニル基のような炭酸半エス
テルのアシル基とする)またはスルホアミノ基
(これはアルカリ金属塩のような塩の形であるこ
ともできる)のような保護されている場合のある
アミノ基によつて好ましくは1−位置で置換され
ていることができる〕、置換されている場合のあ
るフエニル基、ナフチル基またはテトラヒドロナ
フチル基〔これらは場合によつては好ましくは水
酸基、メトキシ基のような低級アルコキシ基、ア
シルオキシ基(そのアシル基は主として低級アル
コキシカルボニル基、2−ハロゲノ低級アルコキ
シカルボニル基またはフエニル低級アルコキシカ
ルボニル基のような炭酸半エステルのアシル基と
する)および(または)塩素原子のようなハロゲ
ン原子によつて置換されていることができる〕、
置換されている場合のある複素環式基〔これは例
えばメチル基のような低級アルキル基によつてそ
して(または)置換基例えば塩素原子のようなハ
ロゲン原子をそれ自体もつていることのできるフ
エニル基によつて置換されていることができる〕
例えば4−イソオキザゾリル基またはアミノ基
(このアミノ基は例えば置換基例えば塩素原子の
ようなハロゲン原子をもつていることのできる低
級アルキル基によつてN−置換されているのが好
ましい)であるか、またはnは1であり、R〓は
低級アルキル基〔これは場合によつては好ましく
は塩素原子のようなハロゲン原子によつて、また
は置換基例えば水酸基、アシルオキシ基(そのア
シル基は前記の意味をもつ)および(または)塩
素原子のようなハロゲン原子をもつていることの
できるフエニルオキシ基によつて、または保護さ
れていることのできるアミノ基および(または)
カルボキシル基によつて置換されていることがで
きる〕、例えば保護されている場合のあるアミノ
基および(または)カルボキシル基〔例えば、シ
リル化例えばトリメチルシリル化のようなトリ低
級アルキルシリル化されたアミノ基またはアシル
アミノ基例えば低級アルカノイルアミノ基、ハロ
ゲノ低級アルカノイルアミノ基またはフタロイル
アミノ基および(または)シリル化例えばトリメ
チルシリル化のようなトリ低級アルキルシリル化
されているかまたはエステル化例えば低級アルキ
ル基、2−ハロゲノ低級アルキル基またはジフエ
ニルメチル基のようなフエニル低級アルキル基で
エステル化されたカルボキシル基〕をもつ4−ア
ミノ−4−カルボキシ−ブチル基、低級アルケニ
ル基、フエニル基〔これは場合によつては置換基
例えば上記のようにアシル化されていることので
きる水酸基および(または)塩素原子のようなハ
ロゲン原子によつて、さらに保護例えば上記のよ
うにアシル化されていることのできるアミノメチ
ル基のようなアミノ低級アルキル基によつて、ま
たは例えば上記のようにアシル化されていること
のできる水酸基および(または)塩素原子のよう
なハロゲン原子をもつていることのできるフエニ
ルオキシ基によつて置換されていることができ
る〕、置換基例えばメチル基のような低級アルキ
ル基によつてまた保護(例えば、上記のようにア
シル化)されていることのできるアミノ基または
アミノメチル基によつて置換されていることので
きるピリジル基例えば4−ピリジル基、ピリジニ
ウム基例えば4−ピリジニウム基、チエニル基例
えば2−チエニル基、フリル基例えば2−フリル
基、イミダゾリル基例えば1−イミダゾリル基ま
たはテトラゾリル基例えば1−テトラゾリル基、
置換されている場合のある低級アルコキシ基例え
ばメトキシ基、フエニルオキシ基〔これは置換
基、例えば保護例えば上記のようにアシル化され
ていることのできる水酸基および(または)塩素
原子のようなハロゲン原子によつて置換されてい
ることができる〕、低級アルキルチオ基例えばn
−ブチルチオ基または低級アルケニルチオ基例え
ばアリルチオ基、置換基例えばメチル基のような
低級アルキル基で置換されていることのできるフ
エニルチオ基、4−ピリジルチオ基のようなピリ
ジルチオ基、2−イミダゾリルチオ基、1,2,
4−トリアゾール−3−イルチオ基例えば1,
3,4−トリアゾール−2−イルチオ基、1,
2,4−チアジアゾール−3−イルチオ基例えば
5−メチル−1,2,4−チアジアゾール−3−
イルチオ基、1,3,4−チアジアゾール−2−
イルチオ基例えば5−メチル−1,3,4−チア
ジアゾール−2−イルチオ基または5−テトラゾ
リルチオ基例えば1−メチル−5−テトラゾリル
チオ基、ハロゲン原子特に塩素または臭素原子、
官能的に変性されている場合のあるカルボキシル
基例えばメトキシカルボニル基やエトキシカルボ
ニル基のような低級アルコキシカルボニル基、シ
アノ基またはN−置換例えばメチル基のような低
級アルキル基またはフエニル基でN−置換されて
いる場合のあるカルバモイル基、置換されている
場合のある低級アルカノイル基例えばアセチル基
またはプロピオニル基、ベンゾイル基またはアチ
ド基でありそしてR〓とR〓とは水素原子である
か、あるいはnは1であり、R〓は低級アルキル
基、または場合によつては例えば上記のようにア
シル化されていることのできる水酸基および(ま
たは)塩素原子のようなハロゲン原子で置換され
ていることのできるフエニル基、2−フリル基の
ようなフリル基、2−または3−チエニル基のよ
うなチエニル基または4−イソチアゾリル基のよ
うなイソチアゾリル基、さらにまた1,4−シク
ロヘキサジエニル基であり、R〓は保護または置
換されている場合のあるアミノ基例えばアミノ
基、アシルアミノ基例えば低級アルコキシカルボ
ニルアミノ基、2−ハロゲノ低級アルコキシカル
ボニルアミノ基または置換基例えばメトキシ基の
ような低級アルコキシ基またはニトロ基をもつて
いることのできるフエニル低級アルコキシカルボ
ニルアミノ基、例えばt−ブトキシカルボニルア
ミノ基、2,2,2−トリクロルエトキシカルボ
ニルアミノ基、4−メトキシベンジルオキシカル
ボニルアミノ基またはジフエニルメチルオキシカ
ルボニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基
例えば4−メチルフエニルスルホニルアミノ基、
トリチルアミノ基、アリールチオアミノ基例えば
2−ニトロフエニルチオアミノ基のようなニトロ
フエニルチオアミノ基またはトリチルチオアミノ
基、または置換基例えばエトキシカルボニル基の
ような低級アルコキシカルボニル基やアセチル基
のような低級アルカノイル基をもつていることの
できる2−プロピリデンアミノ基例えば2−エト
キシカルボニル−2−プロピリデンアミノ基、ま
たはグアニジノカルボニルアミノ基のような置換
されている場合のあるカルバモイルアミノ基、ま
たはアルカリ金属塩のような塩の形であることの
できるスルホアミノ基、アチド基、アルカリ金属
塩のような塩の形またはエステル化された形のよ
うな保護された形にあることのできるカルボキシ
ル基(例えば、メトキシカルボニル基やエトキシ
カルボニル基のような低級アルコキシカルボニル
基としてまたはジフエニルメトキシカルボニル基
のようなフエニルオキシカルボニル基としてある
ことができる)、シアノ基、スルホ基、官能的に
変性されていることのできる水酸基〔官能的に変
性された水酸基は殊にホルミルオキシ基のような
アシルオキシ基ならびに低級アルコキシカルボニ
ルオキシ基、2−ハロゲノ低級アルコキシカルボ
ニルオキシ基または置換基(例えば、メトキシ基
のような低級アルコキシ基またはニトロ基)をも
つている場合のあるフエニル低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、例えばt−ブトキシカルボニル
オキシ基、2,2,2−トリクロルエトキシカル
ボニルオキシ基、4−メトキシベンジルオキシカ
ルボニルオキシ基またはジフエニルメトキシカル
ボニルオキシ基、または置換されている場合のあ
る低級アルコキシ基例えばメトキシ基またはフエ
ニルオキシ基である〕、0−低級アルキル−また
は0,0′−ジ低級アルキル−ホスホノ基例えば0
−メチルホスホノ基または0,0′−ジメチルホス
ホノ基、またはハロゲン原子例えば塩素または臭
素原子でありそしてR〓は水素原子であるか、ま
たはnは1であり、R〓とR〓とはそれぞれハロ
ゲン原子例えば臭素原子または低級アルコキシカ
ルボニル基例えばメトキシカルボニル基でありそ
してR〓は水素原子であるか、またはnは1であ
り、R〓は場合によつては例えば上記のようにア
シル化されていることのできる水酸基および(ま
たは)塩素原子のようなハロゲン原子によつて置
換されていることのできるフエニル基、2−フリ
ル基のようなフリル基、2−または3−チエニル
基のようなチエニル基または4−イソチアゾリル
基のようなイソチアゾリル基、さらにまた1,4
−シクロヘキサジエニル基であり、R〓は場合に
よつては例えば上記のように保護されたアミノメ
チル基でありそしてR〓は水素原子であるか、ま
たnは1でありそしてR〓とR〓とR〓とがいず
れも低級アルキル基例えばメチル基である。 このようなアシル基Acは例えばホルミル基、
シクロペンチルカルボニル基、α−アミノシクロ
ペンチルカルボニル基またはα−アミノシクロヘ
キシルカルボニル基〔これは置換されている場合
のあるアミノ基、例えば塩の形であることのでき
るスルホアミノ基、または例えばトリフルオル酢
酸のような酸性剤でまたは例えば含水酢酸の存在
下での亜鉛のような化学的還元剤または接触され
た水素で還元的に処理するかまたは加水分解によ
つて好ましくは容易に分裂することのできるアシ
ル基またはこのようなアシル基に変えることので
きるアシル基で置換されたアミノ基(好ましくは
炭酸半エステルの適当なアシル基例えばt−ブト
キシカルボニル基のような低級アルコキシカルボ
ニル基、2,2,2−トリクロルエトキシカルボ
ニル基、2−ブロムエトキシカルボニル基または
2−ヨードエトキシカルボニル基のような2−ハ
ロゲノ低級アルコキシカルボニル基、フエナシル
オキシカルボニル基のようなアリールカルボニル
メトキシカルボニル基、置換基例えばメトキシ基
のような低級アルコキシ基またはニトロ基をもつ
ていることのできるフエニル低級アルコキシカル
ボニル基例えば4−メトキシベンジルオキシカル
ボニル基またはジフエニルメトキシカルボニル
基、または炭酸半アミドの適当なアシル基例えば
カルバモイル基またはN−置換されたカルバモイ
ル基例えばN−メチルカルバモイル基のようなN
−低級アルキルカルバモイル基によつて、さらに
また2−ニトロフエニルチオ基のようなアリール
チオ基、4−メチルフエニルスルホニル基のよう
なアリールスルホニル基または1−エトキシカル
ボニル−2−プロピリデン基のような1−低級ア
ルコキシカルボニル−2−プロピリデン基によつ
て置換されたアミノ基)をもつている〕、2,6
−ジメトキシベンゾイル基、5,6,7,8−テ
トラヒドロナフトイル基、2−メトキシ−1−ナ
フトイル基、2−エトキシ−1−ナフトイル基、
ベンジルオキシカルボニル基、ヘキサヒドロベン
ジルオキシカルボニル基、5−メチル−3−フエ
ニル−4−イソオキサゾリル−カルボニル基、3
−(2−クロルフエニル)−5−メチル−4−イソ
オキサゾリルカルボニル基、3−(2,6−ジク
ロロフエニル)−5−メチル−4−イソオキサゾ
リルカルボニル基、2−クロルエチルアミノカル
ボニル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリ
ル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、オクタノ
イル基、アクリリル基、クロトノイル基、3−ブ
テノイル基、2−ペンテノイル基、メトキシアセ
チル基、メチルチオアセチル基、ブチルチオアセ
チル基、アリルチオアセチル基、クロルアセチル
基、ブロムアセチル基、ジブロムアセチル基、3
−クロルプロピオニル基、3−ブロムプロピオニ
ル基、アミノアセチル基または5−アミノ−5−
カルボキシ−バレリル基〔これらは例えば上記の
ように例えば1〜2個のアシル基例えばアセチル
基やジクロアセチル基のようなハロゲン化されて
いる場合のある低級アルカノイル基またはフタロ
イル基によつて置換されていることのできるアミ
ノ基および(または)官能的に例えばナトリウム
塩のような塩の形またはエステル例えばメチルエ
ステルやエチルエステルのような低級アルキルエ
ステルまたはジフエニルメチルエステルのような
アリール低級アルキルエステルの形に変えられて
いることのできるカルボキシル基をもつてい
る〕、アジドアセチル基、カルボキシアセチル
基、メトキシカルボニルアセチル基、エトキシカ
ルボニルアセチル基、ビス−メトキシカルボニル
アセチル基、N−フエニルカルバモイルアセチル
基、シアノアセチル基、α−シアノプロピオニル
基、2−シアノ−3,3−ジメチルアクリリル
基、フエニルアセチル基、α−ブロムフエニルア
セチル基、α−アチドフエニルアセチル基、3−
クロルフエニルアセチル基、2−または4−アミ
ノメチルフエニルアセチル基(これは例えば前記
のように置換されている場合のあるアミノ基をも
つ)、フエナシルカルボニル基、フエニルオキシ
アセチル基、4−トリフルオルメチルフエニルオ
キシアセチル基、ベンジルオキシアセチル基、フ
エニルチオアセチル基、ブロムフエニルチオアセ
チル基、2−フエニルオキシプロピオニル基、α
−フエニルオキシフエニルアセチル基、α−メト
キシフエニルアセチル基、α−エトキシフエニル
アセチル基、α−メトキシ−3,4−ジクロルフ
エニルアセチル基、α−シアノフエニルアセチル
基、殊にフエニルグリシル基、4−ヒドロキシフ
エニルグリシル基、3−クロル−4−ヒドロキシ
フエニルグリシル基、3,5−ジクロル−4−ヒ
ドロキシフエニルグリシル基、α−アミノ−α
(1,4−シクロヘキサジエニル)−アセチル基、
α−アミノメチル−α−フエニルアセチル基また
はα−ヒドロキシフエニルアセチル基〔これらの
基において、存在するアミノ基は例えば上記のよ
うに置換されていることもできるものとしそして
(または)存在する脂肪族水酸基および(また
は)フエノール性水酸基はアミノ基と同様に例え
ば適当なアシル基殊にホルミル基または炭酸半エ
ステルのアシル基で保護されていることもでき
る)、またはα−0−メチル−ホスホノ−フエニ
ルアセチル基またはα−0,0′−ジメチル−ホス
ホノ−フエニルアセチル基、さらにベンジルチオ
アセチル基、ベンジルチオプロピオニル基、α−
カルボキシフエニルアセチル基(これは場合によ
つては例えば上記のように官能的に変性されたカ
ルボキシル基をもつことができる)、3−フエニ
ルプロピオニル基、3−(3−シアノフエニル)−
プロピオニル基、4−(3−メトキシフエニル)−
ブチリル基、2−ピリジルアセチル基、4−アミ
ノピリジニウムアセチル基(これは場合によつて
は例えば前記のように置換されたアミノ基をもつ
ことができる)、2−チエニルアセチル基、3−
チエニルアセチル基、2−テトラヒドロチエニル
アセチル基、2−フリルアセチル基、1−イミダ
ゾリルアセチル基、1−テトラゾリルアセチル
基、α−カルボキシ−2−チエニルアセチル基ま
たはα−カルボキシ−3−チエニルアセチル基
(これらは場合によつては例えば上記のように官
能的に変性されたカルボキシル基をもつことがで
きる)、α−シアノ−2−チエニルアセチル基、
α−アミノ−α−(2−チエニル)−アセチル基、
α−アミノ−α−(2−フリル)−アセチル基また
はα−アミノ−α−(4−イソチアゾリル)−アセ
チル基(これらは場合によつては例えば上記のよ
うに置換されたアミノ基をもつことができる)、
α−スルホフエニルアセチル基(そのスルホ基は
場合によつては例えば前記カルボキシル基のよう
に官能的に変性されたスルホ基であることができ
る)、5−メチル−1,2,4−チアジアゾール
−3−イルチオアセチル基、5−メチル−1,
3,4−チアジアゾール−2−イルチオアセチル
基または1−メチル−5−テトラゾリルチオアセ
チル基である。 容易に分裂できる特に炭酸半エステルのアシル
基Acはとりわけ還元例えば化学的還元剤で処理
することによりまたは酸処理例えばトリフルオル
酢酸で処理することにより分裂することのできる
炭酸半エステルのアシル基、例えばその酸素原子
に対するα−位置の炭素原子において高度に分枝
しているそして(または)芳香族的に置換されて
いる低級アルコキシカルボニル基、またはアリー
ルカルボニル基殊にベンゾイル基で置換されたメ
トキシカルボニル基、またはβ−位置でハロゲン
置換された低級アルコキシカルボニル基、例えば
t−ブトキシカルボニル基、t−ペントキシカル
ボニル基、フエナシルオキシカルボニル基、2,
2,2−トリクロルエトキシカルボニル基または
2−ヨードエトキシカルボニル基あるいは2−ヨ
ードエトキシカルボニル基に変えることのできる
2−クロルエトキシカルボニル基または2−ブロ
ムエトキシカルボニル基のような基および好まし
くは多環式のシクロアルコキシカルボニル基例え
ばアダマンチルオキシカルボニル基、置換されて
いる場合のあるフエニル−低級アルコキシカルボ
ニル基、とりわけα−フエニル−低級アルコキシ
カルボニル基(そのα−位置は数個の置換基をも
つているのが好ましい)、例えばジフエニルメト
キシカルボニル基またはα−4−ビフエニリル−
α−メチルエトキシカルボニル基、またはフリル
−低級アルコキシカルボニル基とりわけα−フリ
ル−低級アルコキシカルボニル基例えばフルフリ
ルオキシカルボニル基である。 基RA 1とRb 1とで形成されている2価のアシル基
は例えば低級アルカンジカルボン酸または低級ア
ルケンジカルボン酸のアシル基、例えばサクシニ
ル基、またはフタロイル基のような0−アリーレ
ンジカルボン酸のアシル基である。 また、基RA 1とRb 1とで形成されている他の2価
の基は例えば、特に2−位置に置換基例えば置換
されている場合のあるフエニル基またはチエニル
基をもちそして場合によつては4−位置でメチル
基のような低級アルキル基でモノ置換またはジ置
換されていることのできる1−オキソ−3−アザ
−1,4−ブチレン基、例えば4,4−ジメチル
−2−フエニル−1−オキソ−3−アザ−1,4
−ブチレン基である。 エーテル化された水酸基RA 2は、式中のカルボ
ニル基といつしよに、好ましくは容易に分裂でき
るかまたは他の官能的に変性されたカルボキシル
基(例えば、カルバモイル基またはヒドラジノカ
ルボニル基)に容易に変えることのできるエステ
ル化されたカルボキシル基を形成している。この
ような基RA 2は例えばメトキシ基、エトキシ基、
n−プロボキシ基またはイソプロポキシ基のよう
な低級アルコキシ基であつて、これらはカルボニ
ル基といつしよにエステル化されたカルボキシル
基を形成しており、これらを殊に2−セフエム化
合物においては容易に遊離カルボキシル基にまた
は他の官能的に変性されたカルボキシル基に変え
ることができる。 基−C(=0)−といつしよに特に容易に分裂
することのできるエステル化されたカルボキシル
基を形成しているエーテル化された水酸基RA 2
は、例えば、ハロゲン原子として原子量が19以上
のものをもつている2−ハロゲノ−低級アルコキ
シ基である。このような基は基−C(=0)−と
いつしよに、中性または弱酸性条件下で化学的還
元剤例えば含水酢酸の存在下で亜鉛で処理するこ
とにより容易に分裂することのできるエステル化
されたカルボキシル基またはこのような基に容易
に変えることのできるエステル化されたカルボキ
シル基を形成している。このような基は例えば
2,2,2−トリクロルエトキシ基または2−ヨ
ードエトキシ基、あるいは2−ヨードエトキシ基
に容易に変えることのできる2−クロルエトキシ
基または2−ブロムエトキシ基である。 さらに、同様に中性または弱酸性条件下で化学
的還元剤例えば含水酢酸の存在下で亜鉛で処理す
ることによつてまたはナトリウムチオフエノラー
トのような適当な親核反応剤で処理することによ
つて容易に分裂することのできるエステル化され
たカルボキシル基を基−C(=0)−といつしよ
に形成しているエーテル化された水酸基RA 2とし
ては、アリールカルボニルメトキシ基(アリール
は殊に置換されている場合のあるフエニル基であ
る)そして好ましくはフエナシルオキシ基であ
る。 さらに、基RA 2は、そのアリール基が殊に単環
式の好ましくは置換されている芳香族炭化水素基
であるアリールメトキシ基であることもできる。
このような基は、中性または酸性条件下で照射好
ましくは紫外線照射によつて容易に分裂すること
のできるエステル化されたカルボキシル基を基−
C(=0)−といつしよに形成している。このよ
うなアリールメトキシ基におけるアリール基は殊
に低級アルコキシフエニル基例えばメトキシフエ
ニル基〔そのメトキシ基は主として3−、4−お
よび(または)5−位置にあるものとする〕およ
び(または)とりわけニトロフエニル基(そのニ
トロ基は好ましくは2−位置にあるものとする)
である。このような基は特に低級アルコキシ−、
例えばメトキシ−および(または)ニトロ−ベン
ジルオキシ基、主として3−または4−メトキシ
ベンジルオキシ基、3,5−ジメトキシベンジル
オキシ基、2−ニトロベンジルオキシ基または
4,5−ジメトキシ−2−ニトロベンジルオキシ
基である。 さらに、エーテル化された水酸基RA 2は、酸性
条件下で例えばトリフルオル酢酸またはぎ酸で処
理することにより容易に分裂できるエステル化さ
れたカルボキシル基を基−C−(=0)−といつし
よに形成している基であることもできる。このよ
うな基は主として、そのメチル基が置換されてい
る場合のある炭化水素基殊に脂肪族または芳香族
炭化水素基例えばメチル基のような低級アルキル
基および(または)フエニル基によつてポリ置換
されているかまたは電子供与性置換基をもつ炭素
環式アリール基によつてまたは環構成員として酸
素またはいおう原子をもつ芳香族性の複素環式基
によつてモノ置換されているメトキシ基であるか
またはそのメチル基が多環式脂肪族炭化水素基に
おける環構成員またはオキサ脂環式またはチア脂
環式基における酸素またはいおう原子に対するα
−位置を占める環構成員を成しているようなメト
キシ基である。 この種類のポリ置換されたメトキシ基のうちで
好ましいものはt−低級アルコキシ基例えばt−
ブチルオキシ基またはt−ペンチルオキシ基、置
換されている場合のあるジフエニルメトキシ基、
例えばジフエニルメトキシ基または4,4′−ジメ
トキシ−ジフエニルメトキシ基、さらに2−(4
−ビフエニリル)−2−プロピルオキシ基であ
り、上記の置換されたアリール基または複素環式
基をもつメトキシ基は例えば4−メトキシベンジ
ルオキシ基や3,4−ジメトキシベンジルオキシ
基のようなα−低級アルコキシフエニル−低級ア
ルコキシ基または2−フルフリルオキシ基のよう
なフルフリルオキシ基である。メトキシ基のメチ
ル基を好ましくは3重に分枝した環構成員として
もつている多環式脂肪炭化水素基は例えば1−ア
ダマンチル基のようなアダマンチル基であり、そ
してメトキシ基のメチル基を酸素またはいおう原
子に対するα−位置の環構成員としてもつている
上記のオキサ−またはチア−脂環式基は例えば環
原子5〜7個をもつ2−オキサ−または2−チア
−低級アルキレン基または−低級アルケニレン
基、例えば2−テトラヒドロフリル基、2−テト
ラヒドロピラニル基または2,3−ジヒドロ−2
−ピラニル基または相当するいおう化合物の基で
ある。 さらに、基RA 2は加水分解によつて例えば弱酸
基性または弱酸性条件下で分裂することのできる
エステル化されたカルボキシル基を基−C−(=
0)−といつしよに形成しているエーテル化され
た水酸基であることもできる。このような基は好
ましくは活性化されたエステル基を基−C(=
0)−といつしよに形成しているエーテル化され
た水酸基例えば4−ニトロフエニルオキシ基や
2,4−ジニトロフエニルオキシ基のようなニト
ロフエニルオキシ基、4−ニトロベンジルオキシ
基のようなニトロフエニル低級アルコキシ基、4
−ヒドロキシ−3,5−t−ブチル−ベンジルオ
キシ基のようなヒドロキシ−低級アルキル−ベン
ジルオキシ基、2,4,6−トリクロルフエニル
オキシ基や2,3,4,5,6−ペンタクロルフ
エニルオキシ基のようなポリハロゲノフエニルオ
キシ基、さらにシアノメトキシ基ならびにアシル
アミノメトキシ基例えばフタルイミノメトキシ基
またはサクシニルイミノメトキシ基である。 また、基RA 2は水素添加分解条件の下で分裂で
きるエステル化されたカルボキシル基をカルボニ
ル基−C(=0)−といつしよに形成しているエ
ーテル化された水酸基であることもでき、これは
例えばベンジルオキシ基、4−メトキシベンジル
オキシ基または4−ニトロベンジルオキシ基のよ
うな例えば低級アルコキシ基やニトロ基で置換さ
れていることのできるα−フエニル低級アルコキ
シ基である。 また、基RA 2は生理的条件の下で分裂すること
のできるエステル化されたカルボキシル基をカル
ボニル基−C(=0)−といつしよに形成してい
るエーテル化された水酸基、主としてアシルオキ
シメトキシ基(そのアシル基は例えば有機カルボ
ン酸、主に置換されている場合のある低級アルカ
ンカルボン酸の基であるかまたはそのアシルオキ
シメチル部分はラクトン基を形成しているものと
する)であることもできる。このようなエーテル
化された水酸基は低級アルカノイルオキシメトキ
シ基例えばアセチルオキシメトキシ基またはピバ
ロイルオキシメトキシ基、アミノ−低級アルカノ
イルオキシメトキシ基殊にα−アミノ−低級アル
カノイルオキシメトキシ基例えばグリシルオキシ
メトキシ基、、L−バリルオキシメトキシ基、L
−ロイシルオキシメトキシ基、さらにフタリジル
オキシ基である。 シリルオキシ基またはスタニルオキシ基として
のRA 2は置換基として好ましくは置換されている
場合のある脂肪族、脂環式、芳香族または芳香脂
肪族炭化水素基例えば低級アルキル基、ハロゲノ
低級アルキル基、シクロアルキル基、フエニル基
またはフエニル低級アルキル基、または変えられ
ている場合のある官能性基例えば低級アルコキシ
基のようなエーテル化された水酸基または塩素原
子のようなハロゲン原子をもつており、主として
トリメチルシリルオキシ基のようなトリ低級アル
キルシリルオキシ基、クロル−メトキシ−メチル
−シリル基のようなハロゲノ−低級アルコキシ−
低級アルキル−シリル基またはトリ−n−ブチル
スタニルオキシ基のようなトリ低級アルキルスタ
ニルオキシ基である。 基−C(=0)−といつしよに好ましくは加水
分解によつて分裂することのできる混合無水物基
を形成しているアシルオキシ基としてのRA 2は例
えば前記有機カルボン酸または炭酸半融導体のア
シル基をもつており、例えば場合によつてはふつ
素や塩素原子のようなハロゲン原子によつて好ま
しくはα−位置で置換されていることのできる低
級アルカノイルオキシ基例えばアセチルオキシ
基、ピバリルオキシ基またはトリクロルアセチル
オキシ基あるいは低級アルコキシカルボニルオキ
シ基例えばメトキシカルボニルオキシ基またはエ
トキシカルボニルオキシ基である。 さらに、置換されている場合のあるカルバモイ
ル基またはヒドラジノカルボニル基を基−C(=
0)−といつしよに形成している基としてのRA 2は
例えばアミノ基、メチルアミノ基やエチルアミノ
基のような低級アルキルアミノ基、ジメチルアミ
ノ基やジエチルアミノ基のようなジ低級アルキル
アミノ基、ピロリジノ基やピペリジノ基のような
低級アルキレンアミノ基、モルホルノ基のような
オキサ低級アルキレンアミノ基、ヒドロキシアミ
ノ基、ヒドラジノ基、2−メチルヒドラジノ基の
ような2−低級アルキルヒドラジノ基または2,
2−ジメチルヒドラジノ基のような2,2−ジ低
級アルキルヒドラジノ基である。 塩は、殊に酸性基例えばカルボキシル基、スル
ホ基またはホスホノ基をもつ式()の化合物の
塩であつて、主として金属塩またはアンモニウム
塩、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウム
またはカルシウムの塩のようなアルカリ金属また
はアルカリ土類金属の塩、ならびにアンモニアま
たは適当な有機アミンとのアンモニウム塩であ
る。塩の形成に使用できる有機アミンはとりわけ
脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族および芳香脂肪族
の第1、第2または第3モノアミン、ジアミンま
たはポリアミンならびに複素環式塩基であつて、
このようなアミンはトリエチルアミンのような低
級アルキルアミン、2−ヒドロキシエチルアミ
ン、ビス−(2−ヒドロキシエチル)−アミンまた
はトリ−(2−ヒドロキシエチル)−アミンのよう
なヒドロキシ−低級アルキルアミン、4−アミノ
安息香酸−2−ジエチルアミノ−エチルエステル
のようなカルボン酸の塩基性脂肪族エステル、1
−エチルピペリジンのような低級アルキレンアミ
ン、ビシクロヘキシルアミンのようなシクロアル
キルアミンまたはN,N′−ジベンジルエチレン
ジアミンのようなベンジルアミンおよびまたピリ
ジン、コリジンまたはキノリンのようなピリジン
型の塩である。また、塩基性基をもつ式()の
化合物は酸付加塩例えば塩酸、硫酸またはりん酸
のような無機酸または適当な有機カルボン酸また
はスルホン酸例えばトリフルオル酢酸または4−
メチルフエニルスルホン酸との酸付加塩を形成す
ることができる。酸性基と塩基性基とを有する式
()の化合物は分子内塩の形すなわち双極イオ
ンの形であることもできる。塩形成基をもつてい
る式()の化合物の1−オキシドもまた上記の
ように塩を形成することができる。 本発明の新規化合物は薬理的性質をもつ化合物
の製法に使うことができる価値のある中間生成物
である。これらの新規化合物は例えば下記に記載
されているようなものに変えることができる。 本発明は特に式()におけるRa 1が6β−ア
ミノ−ペナム−3−カルボン酸化合物または7β
−アミノ−3−セフエム−4−カルボン酸化合物
の醗酵的に(すなわち、天然産の)または生合
成、半合成または全合成により製造できる殊に薬
理活性(例えば高度に活性)なN−アシル誘導体
中に存在するアシル基例えば前記式(A)のアシル基
の1つ(この式でR〓とR〓とR〓とnとは主と
して前に好ましいとして挙げた意味をもつ)であ
りそしてRb 1が水素原子であるかまたはRa 1とRb
1
とが両方で2−位置において好ましくは例えばフ
エニル基のような芳香族または複素環式基によつ
てそして4−位置において好ましくは例えばメチ
ル基のような低級アルキル基2個によつて置換さ
れている1−オキソ−3−アザ−1,4−ブチレ
ン基であり、そしてRA 2は水酸基、低級アルコキ
シ基〔これは場合によつては好ましくはα−位置
において、例えば置換されている場合のあるアリ
ールオキシ基例えば4−メトキシフエニルオキシ
基のような低級アルコキシフエニルオキシ基、ア
セチルオキシ基やピバロイルオキシ基のような低
級アルカノイルオキシ基、グリシルオキシ基、L
−バリルオキシ基またはL−ロイシルオキシ基の
ようなα−アミノ低級アルカノイルオキシ基、ア
リールカルボニル基例えばベンゾイル基、または
置換されている場合のあるアリール基例えばフエ
ニル基、4−メトキシフエニル基のような低級ア
ルコキシフエニル基、4−ニトロフエニル基のよ
うなニトロフエニル基または4−ビフエニリル基
のようなビフエニリル基によつてまたはβ−位置
においてハロゲン原子例えば塩素、臭素またはよ
う素原子によつてモノ置換またはポリ置換されて
いることができる。例えばメトキシ基、エトキシ
基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ
基、n−ブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基ま
たはt−ペンチルオキシ基のような低級アルコキ
シ基、低級アルコキシ置換されていることのでき
るビス−フエニルオキシ−メトキシ基例えばビス
−4−メトキシフエニルオキシ−メトキシ基、低
級アルカノイルオキシ−メトキシ基例えばアセチ
ルオキシメトキシ基またはピバロイルオキシメト
キシ基、α−アミノ低級アルカノイルオキシ−メ
トキシ基例えばグリシルオキシメトキシ基、フエ
ナシルオキシ基、置換されていることのできるフ
エニル低級アルコキシ基殊にフエニルメトキシ基
のような1−フエニル低級アルコキシ基(このよ
うな基は例えば置換基例えばメトキシ基のような
低級アルコキシ基、ニトロ基またはフエニル基に
よつて置換されている場合のあるフエニル基1〜
3個をもつことができる)、例えばベンジルオキ
シ基、4−メトキシベンジルオキシ基、2−ビフ
エニリル−2−プロピルオキシ基、4−ニトロベ
ンジルオキシ基、ジフエニルメトキシ基、4,
4′−ジメトキシ−ジフエニルメトキシ基またはト
リチルオキシ基、または2−ハロゲノ低級アルコ
キシ基例えば2,2,2−トリクロルエトキシ
基、2−クロルエトキシ基、2−ブロムエトキシ
基または2−ヨードエトキシ基である〕、さらに
2−フタリジルオキシ基ならびにアシルオキシ基
(例えば、メトキシカルボニルオキシ基やエトキ
シカルボニルオキシ基のような低級アルコキシカ
ルボニルオキシ基またはアセチルオキシ基やピバ
ロイルオキシ基のような低級アルカノイルオキシ
基)、トリメチルシリルオキシ基のようなトリ低
級アルキルシリルオキシ基、またはアミノ基また
はヒドラジノ基(これらは場合によつては例えば
メチル基のような低級アルキル基または水酸基に
よつて置換されていることができる。例えば、ア
ミノ基、メチルアミノ基のような低級アルキルア
ミノ基、ジメチルアミノ基のようなジ低級アルキ
ルアミノ基、ヒドラジノ基、2−メチルヒドラジ
ノ基のような2−低級アルキルヒドラジノ基、
2,2−ジメチルヒドラジノ基のような2,2−
ジ低級アルキルヒドラジノ基またはヒドロキシア
ミノ基である)であるセフアム−3−オン化合
物、その1−オキシドまたは塩形成基をもつこの
ような化合物の塩に関するものである。 式()のセフアム−3−オン−化合物、さら
に式()のセフアム−3−オン−化合物の1−
オキシドまたは塩形成基をもつこれらの化合物の
塩においては、主として、Ra 1は6β−アミノ−
ペナム−3−カルボン酸化合物または7β−アミ
ノ−3−セフエム−4−カルボン酸化合物の醗酵
(すなわち、天然産)によるまたは生合成的に製
造できるN−アシル誘導体中に存在するアシル基
殊に式(A)の基(この式でR〓,R〓,R〓および
nは主としてて先に好ましいと挙げた意味をも
つ)、例えば水酸基で置換されている場合のある
フエニルアセチル基またはフエニルオキシアセチ
ル基、さらに場合によつては例えば低級アルキル
チオ基または低級アルケニルチオ基、置換例えば
アシル化されている場合のあるアミノ基および
(または)官能的に変性されたカルボキシル基
(例えば、エステル化されていることのできるカ
ルボキシル基)によつて置換されていることので
きる低級アルカノイル基または低級アルケノイル
基、例えば4−ヒドロキシ−フエニルアセチル
基、ヘキサノイル基、オクタノイル基またはn−
ブチルチオアセチル基および殊に5−アミノ−5
−カルボキシ−バレリル基〔そのアミノ基および
(または)カルボキシル基は場合によつては保護
されており、例えばアシルアミノ基またはエステ
ル化されたカルボキシル基として存在することが
できる〕、フエニルアセチル基またはフエニルオ
キシアセチル基であるか、または6β−アミノ−
ペナム−3−カルボン酸化合物または7β−アミ
ノ−3−セフエム−4−カルボン酸化合物の高活
性N−アシル誘導体中に存在するアシル基殊に式
(A)の基(この式でR〓,R〓,R〓およびnは主
に先に好ましいと挙げた意味をもつ)、例えばホ
ルミル基、2−クロルエチルカルバモイル基のよ
うな2−ハロゲノエチルカルバモイル基、シアノ
アセチル基、フエニルアセチル基、2−チエニル
アセチル基のようなチエニルアセチル基または1
−テトラゾリルアセチル基のようなテトラゾリル
基、しかし特にα−位置において脂環式、芳香族
または複素環式基のような環式基主に単環式基に
よつておよび官能性基主にアミノ基、カルボキシ
ル基、スルホ基または水酸基によつて置換された
アセチル基、殊にフエニルグリシル基〔この基に
おけるフエニル基は場合によつては例えば保護さ
れている場合のある水酸基例えばアシルオキシ基
例えばハロゲン置換されていることのできる低級
アルコキシカルボニルオキシ基または低級アルカ
ノイルオキシ基によつておよび(または)ハロゲ
ン原子例えば塩素原子によつて置換されているこ
とのできるフエニル基、例えばフエニル基、3−
または4−ヒドロキシ−、3−クロル−4−ヒド
ロキシ−または3,5−ジクロル−4−ヒドロキ
シフエニル基(その水酸基は保護例えばアシル化
された水酸基であることもできる)であり、そし
てアミノ基は場合によつては置換されていること
もできそして例えば塩の形であることもできるス
ルホアミノ基または置換されたアミノ基(例え
ば、置換基として、加水分解により分裂できるト
リチル基または主としてアシル基例えば置換され
ている場合のあるカルバモイル基例えばウレイド
カルボニル基やN3−トリクロルメチルウレイド
カルボニル基のような置換されている場合のある
ウレイドカルボニル基、またはグアニジノカルボ
ニル基のような置換されている場合のあるグアニ
ジノカルボニル基、または例えばトリフルオル酢
酸のような酸でまたは含水酢酸の存在下での亜鉛
のような化学的還元剤または接触された水素で還
元的に処理した場合にまたは加水分解によつて分
裂することのできるアシル基またはこのようなア
シル基に変えることのできるアシル基、好ましく
は炭酸半エステルの適当なアシル基例えばハロゲ
ン置換またはベンゾイル置換されている場合のあ
るアルキルオキシカルボニル基例えばt−ブチル
オキシカルボニル基、2,2,2−トリクロルエ
チルオキシカルボニル基、2−クロルエトキシカ
ルボニル基、2−ブロムエトキシカルボニル基、
2−ヨードエトキシカルボニル基、またはフエナ
シルオキシカルボニル基、低級アルコキシ置換ま
たはニトロ置換されている場合のあるフエニル低
級アルコキシカルボニル基例えば4−メトキシベ
ンジルオキシカルボニル基またはジフエニルメト
キシカルボニル基、またはカルバモイル基やN−
メチルカルバモイル基のような炭酸半アミドのア
シル基、さらにまたシアン化水素酸、亜硫酸また
はチオ酢酸アミドのような親核性剤によつて分裂
されるアリールチオ基またはアリール低級アルキ
ルチオ基例えば2−ニトロフエニルチオ基または
トリチルチオ基、電解還元で分裂できるアリール
スルホニル基例えば4−メチルフエニルスルホニ
ル基、またはぎ酸または無機酸水溶液例えば塩酸
またはりん酸のような酸性剤で分裂できる1−低
級アルコキシカルボニル−2−プロピルデン基ま
たは1−低級アルカノイル−2−プロピリデン基
例えば1−エトキシカルボニル−2−プロピリデ
ン基をもつている)である〕、さらにα−1,4
−シクロヘキサジエニル−グリシル基、α−2−
またはα−3−チエニルグリシル基のようなα−
チエニルグリシル基、α−2−フリルグリシル基
のようなα−フリルグリシル基、またはα−4−
イソチアゾリル−グリシル基のようなα−イソチ
アゾリルグリシル基(これらの基のアミノ基は例
えば先にフエニルグリシル基に述べたように置換
または保護されていることができる)、さらにα
−カルボキシ−フエニルアセチル基またはα−カ
ルボキシ−チエニルアセチル基例えばα−カルボ
キシ−2−チエニルアセチル基(これらは場合に
よつては官能的に変性されたカルボキシル基例え
ばナトリウム塩のような塩の形またはエステル例
えばメチルエステルまたはエチルエステルのよう
な低級アルキルエステルやジフエニルメチルエス
テルのようなフエニル−低級アルキルエステルの
形にあるカルボキシル基をもつていてもよい)ま
たはα−スルホ−フエニルアセチル基(これは場
合によつては例えば上記のカルボキシル基のよう
に官能的に変性されたスルホ基をもつていてもよ
い)、α−ホスホノ−、α−0−メチルホスホノ
−またはα−0,0′−ジメチルホスホノ−フエニ
ルアセチル基、またはα−ヒドロキシ−フエニル
アセチル基〔これは官能的に変性された水酸基、
殊にアシルオキシ基(このアシル基は例えばトリ
フルオル酢酸のような酸性剤で処理するかまたは
含水酢酸の存在下での亜鉛のような化学的還元剤
で処理する場合に好ましくは容易に分裂すること
のできるアシル基またはこのようなアシル基に変
えることのできるアシル基、好ましくは炭酸半エ
ステルのアシル基例えば前記の例えばハロゲン置
換またはベンゾイル置換されていることのできる
低級アルコキシカルボニル基、例えば2,2,2
−トリクロルエトキシカルボニル基、2−クロル
エトキシカルボニル基、2−ブロムエトキシカル
ボニル基、2−ヨードエトキシカルボニル基、t
−ブチルオキシカルボニル基またはフエナシルオ
キシカルボニル基、さらにホルミル基である)を
もつていることができる〕、ならびに1−アミノ
−シクロヘキシルカルボニル基、2−または4−
アミノメチル−フエニルアセチル基のようなアミ
ノメチルフエニルアセチル基または4−アミノピ
リジニウムアセチル基のようなアミノ−ピリジニ
ウムアセチル基(これらも例えば上記のように置
換されたアミノ基をもつていることもできる)、
または4−ピリジルチオアセチル基のようなピリ
ジルチオアセチル基であり、そしてRb 1は水素原
子であるか、またはRa 1とRb 1とはその両方で4−
位置にメチル基のような低級アルキル基2個をも
つ場合のある1−オキソ−3−アザ−1,4−ブ
チレン基〔これは2−位置において好ましくは、
場合によつては保護された水酸基例えばアシルオ
キシ基例えばハロゲン置換されていることのでき
る低級アルコキシカルボニルオキシ基または低級
アルカノイルオキシ基によつておよび(または)
ハロゲン原子例えば塩素原子によつて置換されて
いることのできるフエニル基、例えばフエニル
基、または3−または4−ヒドロキシ−、3−ク
ロル−4−ヒドロキシ−または3,5−ジクロル
−4−ヒドロキシ−フエニル基(その水酸基は保
護例えば上記のようにアシル化されていることも
できる)をもつていることができる〕であり、そ
してRA 2は低級アルコキシ基殊にα−位置で高度
に分枝した低級アルコキシ基例えばt−ブトキシ
基、さらにメトキシ基またはエトキシ基、2−ハ
ロゲノ低級アルコキシ基または2,2,2−トリ
クロルエトキシ基、2−ヨードエトキシ基または
この基に容易に変えることのできる2−クロルエ
トキシ基または2−ブロムエトキシ基、フエナシ
ルオキシ基、低級アルコキシ基またはニトロ基で
置換されていることのできるフエニル基1〜3個
をもつ1−フエニル低級アルコキシ基例えば4−
メトキシベンジルオキシ基、4−ニトロベンジル
オキシ基、ジフエニルメトキシ基、4,4′−ジメ
トキシ−ジフエニルメトキシ基またはトリチルオ
キシ基、低級アルカノイルオキシメトキシ基例え
ばアセチルオキシメトキシ基またはピバロイルオ
キシメトキシ基、α−アミノ低級アルカノイルオ
キシメトキシ基例えばグリシルオキシメトキシ
基、2−フタリジルオキシメトキシ基、低級アル
コキシカルボニルオキシ基例えばエトキシカルボ
ニルオキシ基または低級アルカノイルオキシ基例
えばアセチルオキシ基、さらにトリ低級アルキル
シリルオキシ基例えばトリメチルシリルオキシ基
である。 本発明は主として式()においてRa 1が式 〔この式でRaはフエニル基またはヒドロキシ
フエニル基例えば3−または4−ヒドロキシフエ
ニル基、さらにヒドロキシ−クロルフエニル基例
えば3−クロル−4−ヒドロキシフエニル基また
は3,5−ジクロル−4−ヒドロキシフエニル基
(これらの基において水酸基はハロゲン化されて
いることのできる低級アルコキシカルボニル基例
えばt−ブトキシカルボニル基または2,2,2
−トリクロルエトキシカルボニル基のようなアシ
ル基によつて保護されていることができる)、2
−または3−チエニル基のようなチエニル基、さ
らに4−ピリジル基のようなピリジル基、4−ア
ミノピリジニウム基のようなアミノピリジニウム
基、2−フリル基のようなフリル基、4−イソチ
アゾリル基のようなイソチアゾリル基、1−テト
ラゾリル基のようなテトラゾリル基または1,4
−シクロヘキサジエニル基であり、xは酸素また
はいおう原子であり、mは0または1であり、そ
してRbは水素原子またはmが0である場合には
アミノ基、保護されたアミノ基例えばアシルアミ
ノ基例えばt−ブトキシカルボニルアミノ基のよ
うなα−位置で高度に分枝した低級アルコキシカ
ルボニルアミノ基、2,2,2−トリクロルエト
キシカルボニルアミノ基、2−ヨードエトキシカ
ルボニルアミノ基または2−ブロムエトキシカル
ボニルアミノ基のような2−ハロゲノ低級アルコ
キシカルボニルアミノ基、または低級アルコキシ
置換またはニトロ置換されている場合のあるフエ
ニル低級アルコキシカルボニルアミノ基例えば4
−メトキシベンジルオキシカルボニルアミノ基ま
たはジフエニルメトキシカルボニルアミノ基、ま
たは3−グアニルウレイド基、さらにスルホアミ
ノ基、トリチルアミノ基、アリールチオアミノ基
例えば2−ニトロフエニルチオアミノ基、アリー
ルスルホニルアミノ基例えば4−メチルフエニル
スルホニルアミノ基または1−低級アルコキシカ
ルボニル−2−プロピリデンアミノ基例えば1−
エトキシカルボニル−2−プロピリデンアミノ
基、カルボキシ基または塩例えばナトリウム塩の
ようなアルカリ金属塩の形にあるカルボキシル
基、保護されたカルボキシル基例えばエステル化
されたカルボキシル基例えばジフエニルメトキシ
カルボニル基のようなフエニル低級アルコキシカ
ルボニル基、スルホ基または塩例えばナトリウム
塩のようなアルカリ金属塩の形にあるスルホ基、
保護されたスルホ基、水酸基または保護された水
酸基例えばアシルオキシ基例えばt−ブトキシカ
ルボニルオキシ基のようなα−位置で高度に分枝
した低級アルコキシカルボニルオキシ基、2,
2,2−トリクロルエトキシカルボニルオキシ
基、2−ヨードエトキシカルボニルオキシ基また
は2−ブロムエトキシカルボニルオキシ基のよう
な2−ハロゲノ低級アルコキシカルボニルオキシ
基、さらにホルミルオキシ基、または0−低級ア
ルキルホスホノ基または0,0′−ジ低級アルキル
ホスホノ基例えば0−メチルホスホノ基または
0,0′−ジメチルホスホノ基である〕で示される
アシル基または5−アミノ−5−カルボキシバレ
リル基(そのアミノ基およびカルボキシル基は保
護されていることもでき、例えばアシルアミノ基
例えばアセチルアミノ基のような低級アルカノイ
ルアミノ基、ジクロルアセチルアミノ基のような
ハロゲノ低級アルカノイルアミノ基、ベンゾイル
アミノ基またはフタロイルアミノ基としてまたは
エステル化されたカルボキシル基例えばジフエニ
ルメトキシカルボニル基のようなフエニル低級ア
ルコキシカルボニル基としてあることができる)
であり(なお、Raがフエニル基、ヒドロキシフ
エニル基、ヒドロキシ−クロルフエニル基または
ピリジル基である場合にmは好ましくは1であ
り、そしてRaがフエニル基、ヒドロキシフエニ
ル基、ヒドロキシ−クロルフエニル基、チエニル
基、フリル基、イソチアゾリル基または1,4−
シクロヘキサジエニル基である場合にmは0であ
つてRbは水素原子でないのが好ましい)、Rb 1が
水素原子であり、RA 2が主として低級アルコキシ
基殊にα−位置で高度に分枝した低級アルコキシ
基例えばt−ブトキシ基、2−ハロゲノ−低級ア
ルコキシ基例えば2,2,2−トリクロルエトキ
シ基、2−ヨードエトキシ基または2−ブロムエ
トキシ基、または例えばメトキシ基のような低級
アルコキシ基で置換されている場合のあるジフエ
ニルメトキシ基例えばジフエニルメトキシ基また
は4,4′−ジメトキシ−ジフエニルメトキシ基、
さらにトリメチルシリルオキシ基のようなトリ低
級アルキルシリルオキシ基であるセフアム−3−
オン−化合物、このような式()のセフアム−
3−オン化合物の1−オキシドまたは塩形成基を
もつこのような化合物の塩例えばRa 1とRb 1とが水
素原子である式()の化合物の酸付加塩例えば
鉱酸または好ましくはハロゲン置換された低級ア
ルカンカルボン酸またはアリールスルホン酸のよ
うな強度のカルボン酸またはスルホン酸特にトリ
フルオル酢酸または4−メチルフエニルスルホン
酸との塩に関するものである。 主として式()のセフアム−3−オン−化合
物または塩形成基をもつこのような化合物の塩殊
に前項で挙げたような塩においてはRa 1は式(B)の
水素原子またはアシル基(この式でRaはフエニ
ル基、4−ヒドロキシフエニル基のようなヒドロ
キシフエニル基、2−または3−チエニル基のよ
うなチエニル基、4−イソチアゾリル基または
1,4−シクロヘキサジエニル基であり、Xは酸
素原子であり、mは0または1であり、そして
Rbは水素原子またはmが0である場合にはアミ
ノ基、保護されたアミノ基例えばアシルアミノ基
例えばt−ブトキシカルボニルアミノ基のような
α−位置で高度に分枝した低級アルコキシカルボ
ニルアミノ基、2,2,2−トリクロルエトキシ
カルボニルアミノ基2−ヨードエトキシカルボニ
ルアミノ基または2−ブロムエトキシカルボニル
アミノ基のような2−ハロゲノ低級アルコキシカ
ルボニルアミノ基、または低級アルコキシ置換ま
たはニトロ置換されている場合のあるフエニル低
級アルコキシカルボニルアミノ基例えば4−メト
キシベンジルオキシカルボニルアミノ基、または
水酸基または保護された水酸基例えばアシルオキ
シ基例えばt−ブトキシカルボニルオキシ基のよ
うなα−位置で高度に分枝した低級アルコキシカ
ルボニルオキシ基、2,2,2−トリクロルエト
キシカルボニルオキシ基、2−ヨードエトキシカ
ルボニルオキシ基または2−ブロムエトキシカル
ボニルオキシ基のような2−ハロゲノ低級アルコ
キシカルボニルオキシ基、さらにホルミルオキシ
基である)または5−アミノ−5−カルボキシル
バレリル基(そのアミノ基およびカルボキシル基
は保護されていることもでき、例えばアシルアミ
ノ基例えばアセチルアミノ基のような低級アルカ
ノイルアミノ基、ジクロルアセチルアミノ基のよ
うなハロゲノ低級アルカノイルアミノ基、ベンゾ
イルアミノ基またはフタロイルアミノ基としてま
たはエステル化されたカルボキシル基例えばジフ
エニルメトキシカルボニル基のようなフエニル低
級アルコキシカルボニル基としてあることができ
る)であり(なお、Raがフエニル基またはヒド
ロキシフエニル基である場合にmは1である)、
Rb 1は水素原子であり、RA 2は2−位置でハロゲン
原子例えば塩素、臭素またはよう素原子で置換さ
れている場合のある低級アルコキシ基殊にα−位
置で高度に分枝した低級アルコキシ基例えばt−
ブトキシ基、2−ハロゲノ−低級アルコキシ基例
えば2,2,2−トリクロルエトキシ基、2−ヨ
ードエトキシ基または2−ブロムエトキシ基、ま
たは例えばメトキシ基のような低級アルコキシ基
で置換されている場合のあるジフエニルメトキシ
基例えばジフエニルメトキシ基または4,4′−ジ
メトキシ−ジフエニルメトキシ基、さらにトリメ
チルシリルオキシ基のようなトリ低級アルキルシ
リルオキシ基である。 本発明は主として7β−(D−α−アミノ−α
−Ra−アセチルアミノ)−セフアム−3−オン−
4ξ−カルボン酸−ジフエニルメチルエステル
(Raはフエニル基、4−ヒドロキシフエニル基、
2−チエニル基または1,4−シクロヘキサジエ
ニル基であり、そしてアミノ基は保護された形
で、例えばアシルアミノ基例えばt−ブチルオキ
シカルボニルアミノ基のようなα−位置で高度に
分枝した低級アルコキシカルボニルアミノ基また
は2−ハロゲノ低級アルコキシカルボニルアミノ
基例えば2,2,2−トリクロルエトキシカルボ
ニルアミノ基、2−ヨードエトキシカルボニルア
ミノ基または2−ブロムエトキシカルボニルアミ
ノ基、または低級アルコキシ置換またはニトロ置
換されている場合のあるフエニル低級アルコキシ
カルボニルアミノ基例えば4−メトキシベンジル
オキシカルボニルアミノ基として存在するのが好
ましい)ならびに7β−アミノ−セフアム−3−
オン−4ξ−カルボン酸−ジフエニルメチルエス
テルおよびそれらの塩そしてとりわけ7β−(D
−α−t−ブチルオキシカルボニルアミノ−α−
フエニル−アセチルアミノ)−セフアム−3−オ
ン−4ξ−カルボン酸−ジフエニルメチルエステ
ルに関するものである。 式 〔この式でRa 1は水素原子またはアミノ保護基
RA 1でありそしてRb 1は水素原子またはアシル基
AcであるかまたはRa 1とRb 1とはいつしよになつ
て2価のアミノ保護基を表わし、そしてこれらの
アミノ保護基およびアシル基は過酸酸化を受けな
い基であり、そしてRA 2は保護されたカルボキシ
ル基を式中のカルボニル基−C(=O)−といつ
しよになつて形成している基である〕 で表わされる2,3−位置または3,4−位置に
2重結合をもつているセフエム化合物を過酸で処
理し、そして得られた3−ホルミルオキシ−4−
RA 2−カルボニル−7β−N−Ra 1−N−Rb 1−
ア
ミノ−セフエム化合物においてホルミルオキシ基
を分裂し、 そして所望により、得られた塩形成基をもつ化
合物を塩に変えまたは得られた塩を遊離化合物ま
たは他の塩に変え、所望により、得られた異性体
混合物を個々の異性体に分離することにより、式 (この式でRa 1とRb 1とRA 2とは前記と同じ意
味
である) で表わされる7β−アミノ−セフアム−3−オン
−4−カルボン酸化合物、および/または相当す
る3−エノール互変異性体または塩形成基をもつ
このような化合物の塩が得られる。 また、上記式()で表わされる2,3−位置
または3,4−位置に2重結合をもつているセフ
エム化合物を過剰量の過酸で処理し、そして得ら
れた3−ホルミルオキシ−4−RA 2−カルボニル
−7β−N−Ra 1−N−Rb 1−アミノ−セフエム−
1−オキシド化合物においてホルミルオキシ基を
分裂し、所望により、得られた塩形成基をもつ化
合物を塩に変えまたは得られた塩を遊離化合物ま
たは他の塩に変え、所望により、得られた異性体
混合物を個々の異性体に分離することにより式 (この式でRa 1とRb 1とRA 2とは前記と同じ意
味
である) で表わされる7β−アミノ−セフアム−3−オン
−4−カルボン酸化合物の1−オキシドおよび/
または相当する3−エノール互変異性体または塩
形成基をもつこのような化合物の塩が得られる。 上記の反応をバイヤー・ビリガー酸化方法によ
つて行うことができる。この酸化反応では非金属
元素から成る無機過酸、有機過酸、または過酸化
水素と酸特に解離定数が少くとも10-5である有機
カルボン酸との混合物が挙げられる。適する無機
過酸は過よう素酸および過硫酸である。有機過酸
は相当する過カルボン酸および過スルホン酸であ
つて、これをそのまま加えることもできるしまた
は反応の場において少くとも当量の過酸化水素と
カルボン酸とを使つて生成させることもできる。
この場合に、例えば酢酸を溶媒として使うときは
カルボン酸を大過剰に使うのが適する。適する過
酸は例えば過ぎ酸、過酢酸、過トリフルオル酢
酸、過マレイン酸、過安息香酸、3−クロル過安
息香酸、モノ過フタル酸またはp−トルエン過ス
ルホン酸である。この反応を不活性溶媒例えば塩
化メチレンやクロロホルムのようなハロゲン化さ
れている場合のある炭化水素の存在下でそして好
ましくは冷却の下で例えば約−10〜+20℃で行う
のが好ましい。 得られた3−ホルミルオキシ−4−RA 2−カル
ボニル−7−N−Ra 1−N−Rb 1−アミノ−セフエ
ム化合物において、ホルミルオキシ基を加溶媒分
解殊に加水分解によつて、好ましくはアルカリ金
属の重炭酸塩例えば炭酸水素ナトリウムや炭酸水
素カリウムのような弱塩基の存在の下で分裂する
ことができる。 前記の酸化反応によつては、式()の化合物
または相当する1−オキシドまたはこれら両化合
物の混合物が得られる。このような混合物を式
()の化合物と相当する1−オキシドとに分け
ることができるし、またはそれを酸化して式
()の化合物の均質な1−オキシドとすること
ができる。 式()の化合物と相当する1−オキシドとの
混合物はこれを常法により、例えば分別結晶化ま
たはクロマトグラフイ(例えばカラムクロマトグ
ラフイ、薄層クロマトグラフイ)によつて各成分
に分けることができる。 さらに、本発明方法によつて得られた式()
の化合物とその1−オキシドとの混合物または得
られた式()の化合物を酸化して相当する1−
オキシドにすることができる。適する酸化剤とし
て、還元電位が少くとも+1.5ボルトでありそし
て非金属元素から成る無機過酸、有機過酸、また
は過酸化水素と酸特に解離定数が少くとも10-5で
ある有機カルボン酸との混合物が挙げられる。適
する無機過酸は過よう素酸および過硫酸である。
有機過酸は相当する過カルボン酸および過スルホ
ン酸であつて、これをそのまま加えることもでき
るしまたは反応の場において少くとも当量の過酸
化水素とカルボン酸とを使つて生成させることが
できる。この場合に、例えば酢酸を溶媒として使
うときはカルボン酸を大過剰に使うのが適する。
適する過酸は例えば過ぎ酸、過酢酸、過トリフル
オル酢酸、過マレイン酸、過安息香酸、3−クロ
ル過安息香酸、モノ過フタル酸またはp−トルエ
ン過スルホン酸である。 さらに、解離定数が少くとも10-5である酸を触
媒として十分な量で含む過酸化水素で酸化するこ
ともできる。この酸を低濃度例えば1〜2%また
はそれ以下、しかしより多量に使うこともでき
る。この混合物の効果は主としてその酸の強さに
依存する。適する混合物は例えば過酸水素と酢
酸、過塩素酸またはトリフルオル酢酸との混合物
である。 上記の酸化を適当な触媒の存在下で行うことが
できる。例えば、過カルボン酸による酸化を解離
定数が少くとも10-5の酸の存在によつて接触させ
ることができ、この酸の効果はその強さに依存す
る。触媒として適する酸は例えば酢酸、過塩素酸
およびトリフルオル酢酸である。一般に酸化剤を
少くとも等モル量、好ましくは約10〜20%の少過
剰量で使うが、酸化剤をもつと大過剰量すなわち
10倍までの量またはそれ以上を使うこともでき
る。この酸化を緩和な条件の下で、例えば約−50
〜+100℃、好ましくは約−10〜+40℃で行う。 さらに、セフアム−3−オン化合物を酸化して
相当する1−オキシドにするのにオゾン、さらに
有機次亜ハロゲン酸エステル化合物例えば次亜塩
素塩t−ブチルのような次亜塩素酸低級アルキル
エステル(これを不活性溶媒例えば塩化メチレン
のようなハロゲン化されている場合のある炭化水
素の中でそして約−10〜+30℃で行う)、過よう
素酸塩化合物例えば過よう素酸カリウムのような
アルカリ金属の過よう素酸塩(これを好ましくは
水性媒質中で約6のPHでそして約−10〜+30℃で
使う)、ヨードベンゼンジクロライド(これを水
性媒質中で、好ましくはピリジンのような有機塩
基の存在の下そして冷却して例えば約−20〜0℃
で使う)、またはチオ基をスルホキシド基に変え
るのに適する他の酸化剤を使つて行うことができ
る。 使用する酸化剤によつては1α−オキシドまた
は1β−オキシドまたはそれらの混合物が得られ
る。 式()の化合物のケタール誘導体はそれ自体
公知の方法によつて作られる。例えば、p−トル
エンスルホン酸、ルイス酸例えば塩化亜鉛()
(殊に、チオグリコールを使う場合、この際一般
に吸水剤例えば硫酸ナトリウムを使う)または酸
性イオン交換体のような酸性触媒の存在下で、一
般に不活性溶媒例えば塩素化のようなハロゲン化
されている場合のある好ましくは脂肪族の炭化水
素または場合によつては環状の適当なエーテル例
えばジオキサンの存在の下でグリコール、チオグ
リコールまたはジチオグリコールで処理すること
によつて、またはケタール交換によつて、例えば
p−トルエンスルホン酸のような強酸の存在下で
2,2−エチレンジオキシブタンのような低級ア
ルカノンのケタールで処理するかまたは酢酸のよ
うな酸の存在下でジ置換ホルミルアミン化合物の
ケタール例えば(1,3−ジオキソラン−2−イ
ル)−N,N−ジメチルアミンのようなN−ホル
ミル−N,N−ジ低級アルキル−アミンのケター
ルで処理することによつて行うのである。 式()の化合物のケタール化合物を後の段階
でそれ自体公知の方法によつて分裂することがで
きる。ケタールおよびチオケタールは、これを例
えば酸性加水分解により、例えば塩酸、ぎ酸また
はトリフルオル酢酸のような無機または有機酸の
水溶液で一般には不活性有機溶媒例えば塩素化の
ようなハロゲン化されていることのできる好まし
くは脂肪族の炭化水素または適当な場合によつて
は環状のエーテルの存在の下で処理することによ
り、またジチオケタールは、これを例えば塩化水
銀()(一般にアセトンやジオキサンのような
有機溶媒の含水物の存在下で)またはN−ブロム
こはく酸イミドのようなN−ハロゲノイミドまた
はN−ハロゲノアミドで処理するのである。 本発明方法によつて得られた式()の化合物
を式()の他の化合物に変えることができる
が、3−位置のオキソ基および式−C(=0)−
RA 2の保護されたカルボキシル基が作用されない
ように反応条件を選ぶよう心掛けねばならない。
この場合にそのオキソ基を保護例えばシリル化ま
たはスタニル化されたエノール基のような官能的
に変えられたエノール基の形でまたはケタール基
の形で保護しておくこともできる。さらに、必要
ならば、反応体中のその反応に関与しない遊離の
官能性基をそれ自体公知の方法によつて、例えば
遊離のアミノ基を例えばアシル化、トリチル化ま
たはシリル化によつて、遊離の水酸基またはメル
カプト基を例えばエーテル化またはエステル化に
よつて、そして遊離カルボキシル基はこれを例え
ばシリル化を含めたエステル化によつて一時的に
保護しそしてその反応の終了後に所望ならばこれ
らの基をそれ自体公知の方法によつて遊離させる
ことができる。 得られた化合物において、例えばアミノ保護基
RA 1またはRb 1、殊に容易に分裂できるアシル基を
それ自体公知の方法によつて分裂することができ
そして他のアミノ保護基で置換することができ
る。従つて、例えば、t−ブトキシカルボニル基
のようになα−位置で高度に分枝した低級アルコ
キシカルボニル基はこれをトリフルオル酢酸で処
理することによつて、また2,2,2−トリクロ
ルエトキシカルボニル基や2−ヨードエトキシカ
ルボニル基のような2−ハロゲノ低級アルコキシ
カルボニル基またはフエナシルオキシカルボニル
基はこれを適当な還元性金属または相当する金属
化合物例えば亜鉛または2価クロムの塩化物や酢
酸塩のような2価クロム化合物で、有利にはこの
金属または金属化合物といつしよに発生期の水素
を生成するような水素給体の存在の下で、好まし
くは含水酢酸の存在の下で処理することによつ
て、分裂することができる。 さらに、式()の得られた化合物において、
アシル基RA 1またはRb 1(の基中に存在することの
できる遊離の官能性基は場合によつては例えばア
シルアミノ基またはシリル化されたアミノ基の形
で、そして(または)例えばエステル化またはシ
リル化されたカルボキシル基の形のカルボキシル
基の形で保護されている)をイミドーハライド形
成剤で処理し、得られたイミドーハライドをアル
コールと反応させそしてこうして生成したイミノ
エーテルを分裂することにより分裂することがで
きる。 ハロゲン原子が親電子性中心原子に結合してい
るイミドーハライド形成剤はとりわけ酸ハロゲン
化物、例えば酸臭化物および特に酸塩化物であ
る。これらは主として無機酸とりわけりん含有酸
の酸ハロゲン化物例えばオキシハロゲン化りん、
3ハロゲン化りんおよび特に5ハロゲン化りん、
例えばオキシ塩化りん、3塩化りんおよび主に5
塩化りん、ならびにピロカテキル−3塩化りん、
ならびにいおう含有酸またはカルボン酸の酸ハロ
ゲン化物特に塩化物、例えば塩化チオニル、ホス
ゲンまたは塩化オキザリル基である。 上記イミド−ハライド形成剤の1つと反応させ
るには、一般に適当な塩基特に有機塩基とりわけ
第3アミン例えば第3脂肪族モノアミンまたはジ
アミン例えばトリ−低級アルキルアミン例えばト
リメチルアミン、トリエメルアミンまたはN,N
−ジイソプロピル−N−エチル−アミン、さらに
N,N,N′,N′−テトラ−低級アルキル−低級
アルキレンジアミン例えばN,N,N′,N′−テ
トラメチル−1,5−ペンチレンジアミンまたは
N,N,N′,N′−テトラメチル−1,6−ヘキ
シレンジアミン、単環式または2環式のモノアミ
ンまたはジアミン例えばN−置換(例えば、N−
低級アルキル化)されたアルキレンアミン、アザ
アルキレンアミンまたはオキサアルキレンアミン
例えばN−メチルピペリジンまたはN−メチルモ
ルホリン、または2,3,4,6,7,8−ヘキ
サヒドロ−ピロロ−〔1,−a〕ピリミジン(すな
わち、ジアザビシクロノネン、DBN)、または第
3芳香族アミン例えばジ−低級アルキルアニリン
例えばN,N−ジメチルアニリンまたはとりわけ
第3複素環式単環式または2環式塩基例えばキノ
リンやイソキノリン、特にピリジンの存在の下
で、好ましくはハロゲン化(例えば、塩素化)さ
れている場合のある脂肪族または芳香族炭化水素
例えば塩化メチレンのような溶媒の存在の下で反
応させる。この反応においては、イミド−ハライ
ド形成剤および塩基をほぼ当モル量で使うことが
できるが、塩基を過剰にまたは当量より少い量
で、例えば約0.2〜1倍量または約10倍の過剰量
までの量、特に約3〜5倍過剰量の量で使うこと
もできる。 このイミド−ハライド形成剤との反応を冷却し
たから、例えば約−50〜+10℃で行うのが好まし
いが、原料の安定性および生成物の安定性が一層
高い温度を許容するならば一層高い温度すなわち
例えば約75℃までの温度で反応させることもでき
る。 こうして生成したイミド−ハライド生成物一般
に単離しないで、好ましくは前記塩基の1つの存
在の下で、アルコールと反応させてイミノエーテ
ルを得る。アルコールとしては例えば脂肪族また
は芳香脂肪族アルコール、とりわけハロゲン化
(例えば塩素化)のような置換されている場合の
ある低級アルカノールまたは別に水酸基をさらに
もつ低級アルカノール、例えばエタノール、n−
プロパノール、シソプロパノール、n−ブタノー
ル、特にメタノール、ならびに2,2,2−トリ
クロルエタノールや2−ブロムエタノールのよう
な2−ハロゲノ低級アルカノール、およびまた置
換されている場合のあるフエニル−低級アルカノ
ール例えばベンジルアルコールが適する。このア
ルコールを一般に過剰量例えば約100倍までの過
剰量で使い、そしてその工程を冷却しながら例え
ば約−50〜+10℃で行うのが好ましい。 こうして生成したイミノエーテル生成物を有利
には単離せずに分裂することができる。このイミ
ノエーテルの分裂は適当なヒドロキシ化合物で処
理することによつて、好ましくは加水分解または
さらにアルコーリシスによつて達せられる(この
アルコーリシスを前記イミノエーテルの生成に引
続いて過剰量のアルコールを使つて行うことがで
きる)。この際に水、またはアルコール特にメタ
ノールのような低級アルカノール、またはアルコ
ールのような有機溶媒の水との混合物を使うのが
好ましい。この工程を一般に酸性媒質中で例えば
約1〜5のPH値で行い、そしてこのPH値は、必要
ならば、塩基性剤例えば水酸化ナトリウムや水酸
化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物の水溶
液または酸例えば塩酸、硫酸、りん酸、ふつ化ほ
う素酸、トリフルオル酢酸またはp−トルエンス
ルホン酸のような無機酸または有機酸を加えるこ
とによつて調整することができる。 上記のアシル基を分裂するための3段階工程
を、途中でイミド−ハライドおよびイミノエーテ
ル中間体を単離せずに、一般にはそれら反応体に
対し不活性な有機溶媒例えば塩化メチレンのよう
なハロゲン化されている場合のある炭化水素の存
在下でそして(または)窒素ガスのような不活性
ガスの中で行うのが有利である。 上記の方法によつて得られるイミド−ハライド
中間体をアルコールと反応させる代りにカルボン
酸特に立体障害のあるカルボン酸のアルカリ金属
塩のような塩と反応させれば、式()における
Ra 1とRb 1とが共にアシル基である化合物が得られ
る。 式()における基Ra 1とRb 1とがいずれもアシ
ル基である化合物においては、これらの基の1方
好ましくは立体障害の少い方の基を選択的に例え
ば加水分解またはアミノリシスによつて除くこと
ができる。 式()の化合物においてRA 1とRb 1とがそれら
の結合している窒素原子と共にフタルイミド基を
表わす場合には、これを例えばヒドラジノリシス
によつて(すなわち、このような化合物をヒドラ
ジンで処理することによつて)遊離アミノ基に変
えることができる。 本発明方法によつて得た化合物におけるアシル
アミノ基のアシル基RA 1の中では、例えば5−ア
ミノ−5−カルボキシ−バレリル基〔そのカルボ
キシル基は例えばエステル化によつて、特にジフ
エニルメチル基によつて、そして(または)アミ
ノ基は例えばアシル化によつて、特に有機カルボ
ン酸のアシル基例えばジクロルアセチル基のよう
なハロゲノ低級アルカノイル基またはフタロイル
基によつて保護されていることもできる〕は塩化
ニトロシルのようなニトロシル化剤、ベンゼンジ
アゾニウムクロライドのような炭素環式アレン−
ジアゾニウム塩またはN−ハロゲン−アミドまた
はN−ハロゲン−イミド例えばN−ブロムこはく
酸イミドのような陽性ハロゲン原子を供与する反
応剤で、好ましくは適当な溶媒または溶媒混合
物、例えばニトロ−低級アルカンまたはシアノ−
低級アルカンといつしよにぎ酸の中で処理し、そ
の反応生成物を水または低級アルカノール例えば
メタノールのような水酸基をもつ化合物と混合す
るか、またはRA 1としての5−アミノ−5−カル
ボキシ−バレリル基におけるアミノ基が非置換で
ありそしてカルボキシル基が例えばエステル化に
よつて保護されておりそしてRb 1がアシル基であ
るのが好ましいが水素原子であることもできる場
合には、ジオキサンまたはハロゲン化された脂肪
族炭化水素例えば塩化メチレンのような適当な溶
媒の中で放置し、そして必要ならばこうして生成
した遊離のまたはモノアシル化されたアミノ化合
物をそれ自体公知の方法によつて後処理すること
によつて、分裂させることができる。 ホルミル基RA 1は、酸性剤例えばp−トルエン
スルホン酸または塩酸、弱塩基性剤例えば希薄な
アンモニアまたは脱カルボニル化剤例えばトリス
−(トリフエニルホスフイン)−ロジウムクロライ
ドで処理することによつて除去することもでき
る。 トリチル基のようなトリアリ−ルメチル基RA 1
は、例えば無機酸のような酸性剤例えば塩酸で処
理することによつて除去できる。 式()(この式においてRa 1およびRb 1が水素
原子であり、式中の3−位置のオキソ基が保護さ
れている)の化合物においては、必要ならば例え
ば前記のようにその遊離アミノ基をそれ自体公知
の方法で、例えばカルボン酸のような酸またはそ
の反応性酸誘導体で処理してアシル化することに
より保護することができる。 遊離酸(存在している場合のある官能性基例え
ば存在している場合のあるアミノ基が保護されて
いるのが好ましい)を使つてアシル化する場合に
は一般に使われる適当な縮合剤例えばカルボジイ
ミド例えばN,N−ジエチル−、N,N′−ジプ
ロピル−、N,N−ジイソプロピル−、N−
N′−ジシクロヘキシル−またはN−エチル−
N′−3−ジメチルアミノプロピル−カルボジイ
ミド、適当なカルボニル化合物例えばカルボニル
ジイミダゾールまたはイソオキサゾリニウム塩、
例えばN−エチル−5−フエニル−イソオキサゾ
リニウム−3′−スルホネート、およびN−t−ブ
チル−5−メチル−イソオキサゾリニウムパーク
ロレート、または適当なアシルアミノ化合物例え
ば2−エトキシ−1−エトキシカルボニル−1,
2−ジヒドロキノリンを使う。 この縮合反応を後に述べる無水反応媒質例えば
塩化メチレン、ジメチルホルムアミドまたはアセ
トニトリルの中で行うのが好ましい。 また、アミドの形成に使う酸の官能性誘導体
(これはアミノ基のような官能性基をもつ場合に
はこの基を保護しておくのが好ましい)として
は、主にこのような酸の無水物、好ましくは混合
無水物である。混合無水物は例えば無機酸殊にハ
ロゲン化水素酸との無水物すなわち相当する酸ハ
ロゲン化物例えば酸塩化物または臭化物、さらに
アジ化水素酸との無水物すなわち相当する酸アチ
ド、りん含有酸例えばりん酸または亜りん酸、い
おう含有酸例えば硫酸またはシアン化水素酸との
無水物である。他の適する無水物は例えば有機酸
例えばふつ素または塩素原子のようなハロゲン原
子で置換されている場合のある低級アルカンカル
ボン酸のような有機カルボン酸例えばピバル酸ま
たはトリクロル酢酸との無水物または炭酸の半エ
ステル例えばエチル半エステルやイソブチル半エ
ステルのような特に低級アルキル半エステルとの
無水物あるいは有機殊に脂肪族または芳香族スル
ホン酸例えばp−トルエンスルホン酸との無水物
である。 さらに、アシル化剤として分子内無水物、例え
ばジケテンのようなケテン、イソシアネート(す
なわち、カルバミン酸化合物の分子内無水物)、
またはカルボキシ置換された水酸基またはアミノ
基をもつカルボン酸化合物の分子内無水物例えば
マンデル酸−0−カルボキシアンハイドライドま
たは1−N−カルボキシアミノ−シクロヘキサン
カルボン酸の無水物を使うことができる。 また、遊離アミノ基との反応に適する他の酸誘
導体は活性化されたエステル(これが官能性基を
もつ場合には一般にこれを保護しておくのが好ま
しい)、例えばビニル属低級アルカノールのよう
なビニル属アルコール(すなわち、エノール)と
のエステル、またはアリールエステル例えば好ま
しくは例えばニトロ基または塩素のようなハロゲ
ン原子で置換されたフエニルエステル例えばペン
タクロルフエニルエステル、4−ニトロフエニル
エステルまたは2,4−ジニトロフエニルエステ
ル、ヘテロ芳香族エステル例えばベンズトリアゾ
ールエステル、またはサクシニルイミノエステル
やフタリルイミノエステルのようなジアシルイミ
ノエステルである。 他のアシル化剤として、例えば酸の置換された
ホルムイミノ誘導体例えば置換されたN,N−ジ
メチルクロルホルムイミノ誘導体、またはN,N
−ジアシル化されたアニリンのようなN−置換
N,N−ジアシルアミンがある。 無水物または殊に酸ハロゲン化物のような酸誘
導体でアシル化するには、酸結合剤例えば有機ア
ミンのような有機塩基例えば第3アミン例えばト
リエチルアミンのようなトリ低級アルキルアミ
ン、N,N−ジメチルアニリンのようなN,N−
ジ低級アルキルアニリンまたはピリジン型の塩基
例えばピリジン、無機塩基例えばアルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩または
重炭酸塩例えばナトリウム、カリウムまたはカル
シウムの水酸化物、炭酸塩または重炭酸塩、また
はオキシラン例えばエチレンオキシドやプロピレ
ンオキシドのような低級1,2−アルキレンオキ
シドの存在の下で行うことができる。 上記のアシル化を水性または好ましくは非水性
溶媒または溶媒混合物、例えばN,N−ジ低級ア
ルキルアミド例えばジメチルホルムアミドのよう
なカルボン酸アミド、塩化メチレン、4塩化炭素
またはクロルベンゼンのようなハロゲン化された
炭化水素、アセトンのようなケトン、酢酸エチル
のようなエステルまたはアセトニトリルのような
ニトリルまたはそれらの混合物の中でそして必要
ならば低めた温度または高めた温度でそして(ま
たは)窒素のような不活性ガスの下で行うことが
できる。 アシル基は、式()〔この式でRa 1およびRb 1
は共にイリデン基(この基はRa 1およびRb 1が水素
原子である化合物を例えば脂肪族、芳香族または
芳香脂肪族アルデヒドのようなアルデヒドで後処
理することにより導入することもできる)〕の化
合物を例えば上記のような方法に従つてアシル化
し、そして得られたアシル化生成物を好ましくは
中性または弱酸性の媒質中で加水分解することに
より導入することもできる。 また、アシル基を段階を経て導入することもで
きる。すなわち、例えば遊離アミノ基をもつ式
()の化合物中にハロゲノ低級アルカノイル基
例えばブロムアセチル基を導入しまたは例えばホ
スゲンのような炭酸ジハライドで処理してクロル
カルボニル基のようなハロゲノカルボニル基を導
入しそしてこうして得られるN−(ハロゲノ−低
級アルカノイル)−アミノ化合物またはN−(ハロ
ゲノカルボニル)−アミノ化合物を適当な置換剤
例えばテトラゾールのような塩基性化合物、2−
メルカプト−1−メチル−イミダゾールのような
チオ化合物、アジ化ナトリウムのような金属塩ま
たはアルコール例えばt−ブタノールのような低
級アルカノールと反応させることによつて、置換
されたN−低級アルカノイルアミノまたはN−ヒ
ドロキシカルボニルアミノ化合物を得ることがで
きる。 さらに、例えば、式()におけるRa 1がα−
位置で好ましくは置換されているグリシル基例え
ばフエニルグリシル基でありそしてRb 1が水素原
子である化合物をホルムアルデヒドのようなアル
デヒドまたはケトン例えばアセトンのような低級
アルカノンと反応させることによつて、Ra 1とRb 1
とがその両方でこれらの結合している窒素原子と
共に5−オキソ−1,3−ジアザ−シクロペンチ
ル基(これは4−位置で好ましくは置換されてお
りそして2−位置で場合によつては置換されてい
ることができる)を表わす式()の化合物が得
られる。 さらに、既存のアシル基を他の好ましくは立体
障害のあるアシル基で例えば上記の方法によつて
交換することによつてアシル化することもでき
る。この場合に、そのイミドハライド化合物を製
造し、これを酸の塩で処理しそしてこうして得た
生成物中のアシル基の1つ(一般には立体障害の
少い方のアシル基)を加水分解によつて分裂させ
るのである。 式()のRa 1およびRb 1が水素原子である化合
物において、例えば塩化トリチルのようなトリア
リールメタノールの反応性エステルで好ましくは
ピリジンのような塩基性剤の存在下で処理してト
リアリールメチル基を導入することによつて、そ
の遊離アミノ基を保護することもできる。 また、シリル基またはスタニル基を導入するこ
とによつて、アミノ基を保護することもできる。
このような基を導入するには、これ自体公知の方
法によつて、例えば適当なシリル化剤例えばジク
ロロジメチルシランのようなジハロゲノージ低級
アルキルシラン、メトキシ−メチル−ジクロルシ
ランのような低級アルコキシ−低級アルキル−ジ
ハロゲノシランまたはトリメチルシリルクロライ
ドやジメチル−t−ブチルシリルクロライドのよ
うなトリ低級アルキルシリルハライド(これらを
ピリジンのような塩基の存在下で使うのが好まし
い)で処理するが、N−モノ低級アルキル化、
N,N−ジ低級アルキル化、N−トリ−低級アル
キルシリル化またはN−低級アルキル−N−トリ
−低級アルキルシリル化されている場合のあるN
−(トリ−低級アルキル−シリル)−アミン(例え
ばイギリス特許第1073530号明細書を参照された
い)またはシリル化されたカルボン酸アミド例え
ばビス−トリメチルシリル−アセトアミドのよう
なビス−トリ低級アルキルシリル−アセトアミド
またはトリフルオルシリルアセトアミドで処理す
るか、または適当なスタニル化剤例えばビス−
(トリ−n−ブチル−すず)−オキサイドのような
ビス−(トリ−低級アルキル−すず)−オキサイ
ド、トリエチル−すず−ハイドロオキサイドのよ
うなトリ−低級アルキルすずハイドロオキサイ
ド、トリ−低級アルキル−低級アルコキシ−すず
化合物、テトラ−低級アルコキシすず化合物また
はテトラ−低級アルキルすず化合物あるいはトリ
−n−ブチルすずクロライドのようなトリ−低級
アルキルすずハライド(例えばオランダ特許出願
第67/17107号明細書を参照されたい)で処理す
るのである。 式−C(=0)−RA 2のエステル化された基をも
つ生成化合物において、この基をこの式の他のエ
ステル化されたカルボキシル基に変えることがで
きる。例えば2−クロルエトキシカルボニル基ま
たは2−ブロムエトキシカルボニル基を、アセト
ンのような適当な溶剤の存在下で、よう化ナトリ
ウムのようなよう素で処理することにより2−ヨ
ードエトキシカルボニル基に変えることができ
る。 本発明方法ならびに所望によつては行うことの
できる追加工程においては、必要ならば、その原
料または本発明方法によつて得られる化合物中の
反応に関与しない遊離の官能性基を、例えば遊離
アミノ基はこれを例えばアシル化、トリチル化ま
たはシリル化によつて、遊離水酸基またはメルカ
プト基はこれを例えばエーテル化またはエステル
化によつてそして遊離カルボキシル基はこれを例
えばシリル化を含めたエステル化によつて、予じ
めそれ自体公知の方法によつて一時的に保護しそ
して反応終了後にそれ自体公知の方法によつてそ
れらの基を所望ならば個個にまたは同時に遊離さ
せることができる。従つて、好ましくは例えばア
シル基としてのRA 1またはRb 1におけるアミノ基、
水酸基、カルボキシル基またはホスホノ基を例え
ば前記のようなアシルアミノ基例えば2,2,2
−トリクロルエトキシカルボニルアミノ基、2−
ブロムエトキシカルボニルアミノ基、4−メトキ
シベンジルオキシカルボニルアミノ基、ジフエニ
ルメトキシカルボニルアミノ基またはt−ブトキ
シカルボニルアミノ基の形で、アリールチオアミ
ノ基またはアリール低級アルキルチオアミノ基例
えば2−ニトロフエニルチオアミノ基の形で、ア
リールスルホニルアミノ基例えば4−メチルフエ
ニルスルホニルアミノ基の形で、1−低級アルコ
キシカルボニル−2−プロピリデンアミノ基の形
で、前記のようなアシルオキシ基例えばt−ブト
キシカルボニルオキシ基、2,2,2−トリクロ
ルエトキシカルボニルオキシ基または2−ブロム
エトキシカルボニルオキシ基の形で、前記のよう
なエステル化されたカルボキシル基例えばジフエ
ニルメトキシカルボニル基の形であるいは前記の
ような0,0′−ジ置換されたホスホノ基例えば
0,0′−ジメチルホスホノ基のような0,0′−ジ
低級アルキルホスホノ基の形でそれぞれ保護しそ
して後に、場合によつてはその保護基を変換(例
えば2−ブロムエトキシカルボニル基を2−ヨー
ドエトキシカルボニル基に)してから、それ自体
公知の方法によつてそして保護基の種類によつ
て、例えば2,2,2−トリクロルエトキシカル
ボニルアミノ基または2−ヨードエトキシカルボ
ニルアミノ基はこれを含水酢酸の存在下での亜鉛
のような適当な還元剤で処理し、ジフエニルメト
キシカルボニルアミノ基やt−ブトキシカルボニ
ルアミノ基はこれをぎ酸またはトリフルオル酢酸
で処理し、アリールチオアミノ基やアリール低級
アルキルチオアミノ基はこれを亜鉛酸のような親
核性剤で処理し、アリールスルホニルアミノ基は
これを電解還元によつて1−低級アルコキシカル
ボニル2−プロピリデンアミノ基はこれを無機酸
水溶液で処理し、t−ブトキシカルボニルオキシ
基はこれをぎ酸またはトリフルオル酢酸で処理
し、2,2,2−トリクロルエトキシカルボニル
オキシ基にこれを含水酢酸の存在下での亜鉛のよ
うな化学的還元剤で処理し、ジフエニルメトキシ
カルボニル基はこれをぎ酸またはトリフルオル酢
酸で処理するかまたは加水分解し、または0,
0′−ジ置換されたホスホノ基はこれをアルカリ金
属のハロゲン化物で処理して所望ならば例えば部
分的に分裂することができる。 式()の化合物の塩はそれ自体公知の方法に
よつて製造される。すなわち、式()における
R2が水素原子である化合物を例えば適当なカル
ボン酸のアルカリ金属塩のような金属化合物例え
ばα−エチルカプロン酸のナトリウム塩またはア
ンモニアまたは適当な有機アミンで処理すること
によつて、その塩を生成することができる。この
目的には、その塩形成剤を化学量論的量または僅
かに過剰な量で使うのが好ましい。また、塩基性
基をもつ式()の化合物の酸付加塩は常法によ
つて、例えば酸または適当な陰イオン交換剤で処
理することによつて得られる。塩形成するアミノ
基と遊離カルボキシル基とをもつ式()の化合
物の分子内塩は、例えばその酸付加塩のような塩
を等電点まで例えば弱塩基で中和するかまたは液
状イオン交換剤で処理することによつて生成され
る。塩形成基をもつ式()の化合物の1−オキ
シドの塩は同様の方法により作ることができる。 塩はこれを常法により遊離化合物に変えること
ができる。例えば、金属塩およびアンモニウム塩
を適当な酸で処理することによつて、また酸付加
塩を例えば適当な塩基性剤で処理することによつ
て、遊離化合物に変えることができる。 得られた異性体混合物は、これをそれ自体公知
の方法によつて、例えばジアステレオマー異性体
の混合物を分別結晶化、吸着クロマトグラフイ
(カラムクロマトグラフイまたは薄層クロマトグ
ラフイ)または他の適当な分離方法によつて個個
の異性体に分けることができる。得られたラセミ
体は、これを常法によつて、適当ならば適当な塩
形成基を導入した後に、例えば光学活性の塩形成
剤とのジアステレオマー塩混合物を生成し、この
混合物を各ジアステレオマー塩に分けそしてこう
して分けたジアステレオマー塩を遊離化合物に変
えることによつて、または光学活性の溶媒から分
別結晶化することによつて、個個の対掌体に分け
ることができる。 本発明は、その工程で中間体として生成する化
合物を原料として使いそして残りの工程段階を行
うかまたはその工程を任意の段階で中断するよう
な具体例をも包含する。さらに、原料を誘導体の
形で使うことができるしまたはその反応中に生成
させることができる。 なお、原料および反応条件としては、先に殊に
好ましいものとして挙げた化合物が得られるよう
に選ぶのが好ましい。 本発明方法で使う式()の原料は例えば次の
ようにして作られる。 式 (この式でRA 1は好ましくはアミノ保護基RA 1で
あり、そしてR2は好ましくは水酸基であるが、
基RA 2でもある) で表わされるセフエム化合物において、アセチル
オキシメチル基を例えばPH9〜10の水酸化ナトリ
ウム水溶液のような弱塩基性媒質中で加水分解す
るかまたは適当なエステラーゼ例えばリゾビウ
ム・トリトリイ(Rhizobium tritolii)、リゾビウ
ム・ルピニイ(Rhizobium lupinii)、リゾビウ
ム・ジヤポニカム(Rhizobium japonicum)ま
たはバチルス・サブチリス(Bacillus subtilis)
からの相当する酵素で処理してヒドロキシメチル
基に変え、式−C(=0)−R2の遊離カルボキシ
ル基を適当な方法によつて官能的に変え(例え
ば、ジフエニルジアゾメタンのようなジアゾ化合
物で処理してエステル化し)、そして上記のヒド
ロキシメチル基を例えばハロゲン化剤例えば塩化
チオニルのような塩素化剤またはN−メチル−
N,N′−ジシクロヘキシル−カルボジイミジウ
ムアイオダイドのようなよう素化剤で処理してク
ロメチル基またはヨードメチル基のようなハロゲ
ノメチル基に変える。クロルメチル基はこれを例
えば適当な2価クロム化合物例えば2価クロムの
塩化物や酢酸塩のような無機または有機塩でジメ
チルスルホキシドのような適当な溶媒中で処理し
て直接にメチレン基に変えるか、または間接的に
そのヨードメチル基(これは例えばクロルメチル
化合物をアセトンのような適当な溶媒中によう化
ナトリウムのような金属よう化物で処理すること
によつて生成される)にしてから、このヨードメ
チル化合物を酢酸の存在下で亜鉛のような適当な
還元剤で処理して式()の原料のメチレン基に
変える。 式()の化合物〔これは式()の化合物か
ら、例えば電気化学的還元または2価クロム塩や
アルミニウムアマルガムで還元することによつて
も得られる〕において、7−位置の保護されたア
ミノ基を遊離し、または他の保護されたアミノ基
に変え、そして(または)7−位置の遊離アミノ
基を保護された基に変えることができる。これら
の反応は例えば上記のようにそれ自体公知の方法
によつて行なわれる。 式()の原料は次のようにして得られる。す
なわち式 (この式でR2は好ましくは水酸基である) で表わされる2,3位置または3,4位置に2重
結合をもつている上記の化合物において、そのヒ
ドロキシメチル基をホルミル基に酸化し、適当な
工程段階で3−セフエム化合物を所望の2−セフ
エム化合物に異性化し、そして、所望または必要
ならば、得られた化合物における水酸基R2を適
当なエーテル化された水酸基で、またはアミノ基
またはヒドラジノ基で置換するのである。この酸
化処理は例えば米国特許第3351596号明細書に記
載の方法に従つて行なうことができる。すなわ
ち、酸化金属化合物例えば3酸化クロムまたは2
酸化マンガンのような金属酸化物で処理すること
により、または2−セフエム化合物の場合には有
利には2,3−ジクロル−5,6−ジシアノ−
1,4−ベンゾキノンで、そして3−セフエム化
合物の場合には有利には脂肪族スルホキシド例え
ばジ−低級アルキルスルホキシド例えばジメチル
スルホキシド、またはアルキレンスルホキシド例
えばテトラメチレンスルホキシドを使つて、脂肪
族カルボン酸無水物例えば酢酸無水物の存在下
で、好ましくはスルホキシドの過剰量とこのスル
ホキシドと同モルの量の無水物を使つて、そして
約−50゜〜約+70℃の温度で、所望によりベンゼ
ンまたはトルエンのような不活性溶剤を添加して
処理することにより酸化するのである。3−セフ
エム化合物を相当する2−セフエム化合物に異性
化するには例えば、場合により元の位置に形成さ
れているエステルまたは無水物を塩基例えばトリ
エチルアミンのような第3アミンおよび(また
は)複素環式塩基例えばピリジンで処理すればよ
い。 式()の2−セフエム原料は全合成により例
えばオーストリア特許第263768号および264537号
明細書に記載の方法により得ることもできる。 上に述べたように、式()の新規化合物はセ
フアム構造をもつ化合物の製造において中間体と
して使うことができ、得られたセフアム化合物は
貴重な薬理学的性質をもつており、また再び中間
体として使うこともできる。 例えば式()の化合物を置換されている場合
のある脂肪族性のジアゾー炭化水素化合物例えば
ジアゾメタンのようなジアゾ−低級アルカン、ま
たはフエニル−ジアゾメタンのようなフエニル−
ジアゾ−低級アルカンで処理して相当するエノー
ル誘導体例えばエノールエーテルに変え、または
酸好ましくは適当な酸誘導体例えば塩化物のよう
なハライドまたは無水物で処理してエノールエス
テルに変え、そして所望ならば上記のようにして
得られたエノール誘導体において式−C(=0)
−RA 2の保護されているカルボキシル基をそれ自
体公知の方法で遊離カルボキシル基に変えること
によつて次式で表わされるセフエム化合物を得る
ことができる。 この式は2,3−位置または3,4−位置に2
重結合を含んでおり、またこの式においてRa 1お
よびRb 1は前に与えた意味をもつており、R2は水
酸基または保護されているカルボキシル基を前記
カルボニル基といつしよに形成するRA 2基であ
り、そしてRAは置換されている場合のある脂肪
族性炭化水素基またはアシル基である。 式()の化合物特にRa 1が6β−アミノ−ペ
ナム−3−カルボン酸化合物および7β−アミノ
−3−セフエム−4−カルボン酸化合物の薬理学
上活性なN−アシル誘導体におけるアシル基であ
り、Rb 1が水素原子であり、R2が水酸基である
か、または生理学的条件の下で容易に分裂するこ
とのできるエステル化されたカルボキシル基をカ
ルボニル基といつしよに形成しているエーテル化
された水酸基であり、そしてRAが前に与えた意
味をもちそしてアシル基としてのRa 1中に存在す
る場合のある官能性基例えばアミノ基、カルボキ
シル基、水酸基および(または)スルホ基が通常
遊離の形で存在するような化合物または塩形成基
をもつこのような化合物の塩は、非経腸的および
(または)経口的に投与する場合に、微生物例え
ばグラム陽性菌例えばスタフイロコカス・オーリ
ウス(Staphylococcus aureus)、ストレプトコ
カス・ピロゲネス(Streptococcus phrogenes)
およびデイプロコカス・プニユーモニエ
(Diplococcus pneumoniae)(例えばマウスでは
約0.001〜0.02g/Kgs.c.またはP.o.の投与量で)
およびグラム陰性菌例えばエシエリチア・コリ
(Escherichia coli)、サルモネラ・チフイムリウ
ム(Salmonella typhimurium)、シゲルラ・フレ
クスネリ(Shigella flexneri)、クレブシルラ・
プニユモニエ(Klebsiella pneumoniae)、エンテ
ロバクター・クロアカエ(Enterobacter
cloacae)、プロテウス・ブルガリス(proteus
vulgaris)、プロテウス・レツトゲリ(Proteus
rettgeri)、およびプロテウス・ミラビリス
(Proteus mirabilis)(例えばマウスにおいて約
0.001〜0.15g/Kgs.c.またはp.o.の投与量で)に
対し、殊にペニシリン抵抗性細菌にも、少い毒性
で有効である。故に、これらの新化合物を例えば
抗生活性な製剤の形で相当する感染の処置に使う
ことができる。 さらに、式()のセフアム化合物において、
3−位置のオキソ基を例えば水素化ほう素ナトリ
ウムのような適当な錯金属水素化物でアルコール
またはエーテルのような適当な溶剤の存在下で処
理することにより水酸基に変えることができ、ま
たその水酸基を所望によりエステル化された水酸
基特に有機カルボン酸でエステル化された水酸基
に変えることができ、そして(または)式−C
(=0)−RA 2の保護されているカルボキシル基を
遊離カルボキシル基に変えることができる。この
ようにして得られる式 (この式においてRBは水素原子またはアシル
基である) で表わされるセフアム化合物において、式RB−
OH()の化合物の諸要素すなわち酸の水の諸
要素を酸性または塩基性の条件下において分裂す
ることができ、こうして式 (この式においてRa 1,Rb 1およびR2は上で与え
た意味をもつており、これらの基はそれ自体公知
の方法により別の基に変えることができる) で表わされる(前記3−セフエム化合物を得るこ
とができる。式()の化合物またはそれらの塩
は特にRa 1が6β−アミノ−ペナム−3−カルボ
ン酸化合物および7β−アミノ−3−セフエム−
4−カルボン酸化合物の薬理学上活性なN−アシ
ル誘導体におけるアシル基であり、Rb 1が水素原
子であり、R2が水酸基であるかまたは生理学的
条件の下で容易に分裂することのできるエステル
化されたカルボキシル基をカルボニル基といつし
よに形成しているエーテル化された水酸基である
場合に貴重な薬理学的性質特に抗微生物活性をも
つており、または薬理学的性質をもつ前記化合物
の製造において中間体として使うことができる。 本発明方法では前記の式()の化合物の式
()の化合物または式()および式()の
化合物への変換において、式()の化合物を単
離する必要がない。すなわち式()の化合物か
ら式()の化合物の製造後直接に粗製反応混合
物の形で式()または式()および式()
の化合物に変えることができるのである。 なお、本明細書において、〓低級〓と示された
有機基は特に定義してない限り炭素原子を7個ま
で、好ましくは4個までもつものである。〓アシ
ル基〓は炭素原子を20個まで、好ましくは12個ま
でもつものである。 次に実施例によつて本発明をさらに具体的に説
明する。 例 1 3−ホルミル−7β−フエニルアセチルアミノ
−2−セフエム−4α−カルボン酸ジフエニルメ
チルエステル1.53gを塩化メチレン40mlに溶かし
て0℃に冷却しそして3−クロル過安息香酸
0.61gと混合する。加温の下で室温で1時間放置
してから、5%の炭酸水素ナトリウム水溶液、
0.5モル濃度りん酸水素ジカリウム水溶液および
水で順次洗つてから、それら水性洗液を塩化メチ
レンで2回洗いそして棄てる。その有機相を硫酸
マグネシウムで乾かしそして減圧下で蒸発する。 こうして得た黄色のゼリー状残分は2重結合を
3−位置に優先的にもつ3−ホルミルオキシ−7
−β−フエニルアセチルアミノ−セフエム−4−
カルボン酸ジフエニルメチルエステルを含む。こ
の残分を0℃でテトラヒドロフラン30mlおよび炭
酸水素ナトリウムの0.5モル水溶液30mlといつし
よに1時間かきまぜてから、減圧の下で約25mlに
なるまで濃縮する。これを水25mlで希釈しそして
酢酸エチルで2回抽出する。この有機相を水で洗
い、硫酸マグネシウムで乾かしそして減圧下で蒸
発する。残分をシリカゲル65g上でクロマトグラ
フ処理する。こうして生成した7β−フエニルア
セチルアミノ−セフアム−3−オン−4ξ−カル
ボン酸ジフエニルメチルエステルをアセトン2〜
3%を含む塩化メチレンで溶離しそしてジオキサ
ンから真空凍結乾燥する。こうして得た、薄層ク
ロマトグラフにおいて完全には純粋でない生成物
は、これを更に精製しないで原料として使用す
る。 無定形の7β−フエニルアセチルアミノ−セフ
アム−3−オン−4ξ−カルボン酸ジフエニルメ
チルエステルの性質は次のとおりである。薄層ク
ロマトグラフ(シリカゲル):Rf〜0.47(系:ト
リオール・アセトン・メタノール:酢酸80:10:
5:5)、紫外吸収スペクトル(塩化メチレン
中):2.95μ,5.61μ,5.77μ,5.85μ,5.95
μ,6.21μおよび6.87μに特性バンド。この化合
物は陽性の塩化第2鉄反応を示す。この反応は前
記エノール形の存在を示すものである。 3−クロル過安息香酸の過剰量を使い、アセト
ン10%を含む塩化メチレンで溶離すると7β−フ
エニルアセチルアミノ−セフアム−3−オン−4
ξ−カルボン酸ジフエニルメチルエステル−1−
オキシドと同定される極性化合物を溶離すること
ができる。薄層クロマトグラム(シリカゲル):
Rf=0.22(系:トルエン・アセトン・メタノー
ル・酢酸80:10:5:5)、赤外吸収スペクトル
(塩化メチレン中):2.96μ,5.58μ,5.76μ
(肩)、5.83μ,5.97μ,6.22μおよび6.61μに特
性バンド。この化合物は、エノール形の存在を示
す陽性の塩化第2鉄反応を示す。 前記化合物の原料は次のようにして作ることが
できる。 蒸留水70ml中に3−アセチルオキシメチル−7
β−フエニルアセチルアミノ−2−セフエム−4
α−カルボン酸3.40gを懸濁し、これはバイブロ
ミキサを使つてかきまぜながら1Nの水酸化ナト
リウム水溶液をPH7.3になるまで混合する。この
溶液を温度調節浴の中で35℃に加熱しそしてこれ
をバチルス・サブチリス(Bacillus subtilis)
ATCC6633からの細胞真空凍結乾燥物0.4gを水3
mlに懸濁して加える。1Nの水酸化ナトリウム水
溶液を加えてPH値を7.4に保持する。約2.5時間後
に理論的水酸化ナトリウム消費量の半分が消費さ
れる。こうして水酸化ナトリウムを最早消費しな
くなるまで反応させる(反応溶液のPH値は数時間
室温で放置した後でも最早変わらない)。これを
冷えた酢酸エチル300mlで覆いそしてりん酸の5
モル水溶液を十分にかきまぜながら加えてPH2.0
に酸性となす。水相を分取し、塩化ナトリウムで
飽和しそして冷えた酢酸エチル250mlずつで2回
抽出する。それら有機相を合わせ、塩化ナトリウ
ムの飽和水溶液50mlずつで5回洗い、硫酸ナトリ
ウムで乾かしそして蒸発する。この残分はクロマ
トグラフによれば純粋な3−ヒドロキシメチル−
7β−フエニルアセチルアミノ−2−セフエム−
4α−カルボン酸から成る。これは酢酸エチルと
シクロヘキサンとの混合物から数回結晶化した後
に白色針状結晶の形であつて156〜156.5℃で融解
する。 3−ヒドロキシメチル−7β−フエニルアセチ
ルアミノ−2−セフエム−4α−カルボン酸0.7g
をジオキサンとメタノールとの4:1の混合物30
mlに溶かし、ジフエニルジアゾメタン0.507gをジ
オキサン5.07mlに溶かして混合しそして室温で放
置する。その色が薄く消えなくなるまでジフエニ
ルジアゾメタンを90分間にわたつて少しずつさら
に加える。これを蒸発乾燥し、残分を酢酸エチル
とシクロヘキサンとの混合物から結晶として取り
出す。こうして得た微細な無色針状結晶の3−ヒ
ドロキシメチル−7β−フエニルアセチルアミノ
−2−セフエム−4α−カルボン酸ジフエニルメ
チルエステルは179〜179.5℃で融解する。〔α〕20 D
=+390゜±1゜(クロロホルム中でc=
1.174)、薄層クロマトグラム(シリカゲル):Rf
=0.35(系:ベンゼン・アセトン4:1)、紫外
吸収スペクトル(95%のエタノール水溶液):λ
ma=250mμ(ε=6500)およびλmin=245mμ
(ε=6400)、赤外吸収スペクトル:2.7μ,2.89
μ,5.58μ,5.71μ,5.90μ,6.61μおよび6.65
μ(塩化メチレン中)に特性バンドおよび3.00
μ,3.07μ,5.62μ,5.71μ,6.04μ,6.52μ,
6.68μ,7.10μ,7.42μ,8.20μおよび8.52μ
(鉱油中)に特性バンド。 3−ヒドロキシメチル−7β−フエニルアセチ
ルアミノ−2−セフエム−4α−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステル5.14gとアセトン150mlとの
混合物に−15℃でクロム酸溶液(酸化クロム
()の267gを濃塩酸230mlと水400mlとの混合物
に溶かしそして水で1000mlに希釈して作つたも
の)をその橙褐色が消えなくなるまで滴加する。
20分後にこの溶液4.5mlを消費する。これを−10
℃で20分間かきまぜてから、イソプロパノール
0.5mlを加えて、減圧下で濃縮する。この濃縮物
を水50mlで希釈して酢酸エチルで抽出する。この
有機抽出液を水で洗い、強酸マグネシウムで乾か
しそして蒸発する。残分を酢残エチルとシクロヘ
キサンとの混合物から再結晶すれば、3−ホルミ
ル−7β−フエニルアセチルアミノ−2−セフエ
ム−4α−カルボン酸ジフエニルメチルエステル
が得られる。融点175.5〜176℃(分解を伴う)、
薄層クロマトグラム(シリカゲル):Rf=0.35
(系:トルエン・アセトン4:1)およびRf=
0.58(系:トルエン・アセトン65:35)、紫外吸
収スペクトル(95%エタノール中):λmax=
289mμ(ε=20000)、赤外吸収スペクトル(鉱
油中):3.00μ,5.63μ,5.76μ,5.95μ,5.99
μおよび6.07μに特性バンド。 例 2 7β−アミノ−セフアム−3−オン−4ξ−カ
ルボン酸ジフエニルメチルエステルの4−メチル
フエニルスルホン酸塩(これは専らエノール型と
して、7β−アミノ−3−セフエム−3−オール
−4−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの4
−メチルフエニルスルホン酸塩として存在する)
の0.250gを塩化メチレン10mlに溶かし、これをト
リメチルクロルシラン0.063mlおよびピリジン
0.044mlと混合して、室温で30分間かきまぜてか
ら0℃に冷却する。これにピリジン0.088mlとフ
エニル酢酸クロライド0.092mlとを加えて、0℃
で1時間そして室温でさらに1時間反応させ、そ
してジオキサンと水との1:1の混合物5mlで希
釈して10分間かきまぜる。これを塩化メチレン50
mlで希釈し、相を分離して、有機相を炭酸水素ナ
トリウムの飽和水溶液および塩化ナトリウムの飽
和水溶液で洗い、硫酸ナトリウムで乾かしそして
減圧下で蒸発する。残分をシリカゲル上でクロマ
トグラフ処理する。こうして7β−フエニルアセ
チルアミノ−セフアム−3−オン−4ξ−カルボ
ン酸ジフエニルメチルエステルが塩化メチレンで
溶離される。薄層クロマトグラム(シリカゲ
ル):Rf〜0.55(系:酢酸エチル・ピリジン・水
85:10:5)、紫外吸収スペクトル(95%エタノ
ール水溶液中):λmax=283mμ(ε=4400)、
紫外吸収スペクトル(塩化メチレン中):2.94
μ,5.12μ,5.77μ,5.93μ,6.21μおよび6.63
μに特性バンド。 例 3 適当な原料を選んで同様の方法によつて次の化
合物が得られる。 7β−アミノ−セフアム−3−オン−4α−カ
ルボン酸ジフエニルメチルエステルの4−メチル
フエニルスルホン酸塩、これは主にエノール型に
おいて7β−アミノ−3−セフエム−3−オール
−4−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの4
−メチルフエニルスルホン酸塩として存在する:
融点143〜145℃(分解を伴う)、薄層クロマトグ
ラム(シリカゲル):Rf〜0.28(系:酢酸エチ
ル・ピリジン・水85:10:5)、紫外吸収スペク
トル(エタノール中):λmax=262mμ(ε=
3050)および282mμ(ε=3020)、赤外吸収スペ
クトル(塩化メチレン中):5.58μ,5.77μ
(肩)、6.02μおよび6.22μに特性バンド、 7β−(D−α−t−ブトキシカルボニルアミ
ノ−α−フエニル−アセチルアミノ)−セフアム
−3−オン−4ξ−カルボン酸ジフエニルメチル
エステル:Rf値〜0.5(シリカゲル、系:トルエ
ン・アセトン・メタノール・酢酸80:10:4:
5)、赤外吸収スペクトル(塩化メチレン中):
2.94μ,3.40μ,5.62μ,5.77μ,5.75〜5.95μ
(巾広いバンド)、6.21μおよび6.88μに特性バン
ド、 7β−(5−ベンゾイルアミノ−5−ジフエニ
ルメトキシカルボニル−バレリル−アミノ)−セ
フアム−3−オン−4ξ−カルボン酸ジフエニル
メチルエステル(対応する3−メトキシ−3−セ
フエム化合物のRf=0.45〔トルエン:酢酸エチル
1:1系〕)。 例 4 (a) アセトニトリル40ml中の3−ホルミル−7β
−フエニルアセチルアミノ−3−セフエム−1
−カルボン酸ジフエニルメチルエステル−1−
オキシド3.0gの溶液を0℃に冷やし、3−クロ
ル過安息香酸1.2gを加える。室温に暖ためて1
時間放置し、5%亜硫酸水素ナトリウム水溶
液、0.5モルりん酸水素=カリウム水溶液およ
水で順に洗い、水性洗液を塩化メチレンで2回
抽出してから捨てる。有機相を硫酸マグネシウ
ム上で乾かし、減圧下で留去する。 (b) 3−ホルミルオキシ−7β−フエニルアセチ
ルアミノ−3−セフエム−4−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステル−1−オキシドを含むゼ
リー状の黄色残さをテトラヒドロフラン30mlお
よび0.5モル炭酸水素ナトリウム溶液30mlと0
℃で1時間かきまぜ、減圧下で約25mlの容量に
濃縮する。水25mlで希釈し、酢酸エチルで2回
抽出する。有機相を水で洗い、硫酸マグネシウ
ム上で乾かし、減圧下で留去する。残さをシリ
カゲル65gでクロマトグラフ処理する。アセト
ン2〜3%を含む塩化メチレンで7β−フエニ
ルアセチルアミノ−3−ヒドロキシ−3−セフ
エム−4−カルボン酸ジフエニルメチルエステ
ル−1−オキシドを溶離し、アセトンから凍結
乾燥する。 出発材料は次のようにして製造することがで
きる。 (c) 蒸留水150ml中の7β−フエニルアセトアミ
ド−セフアロスポラン酸9.5gの懸濁液に2N水
酸化ナトリウムを加えてPHを7.4に調整する。
こうして得られる透明溶液を、バチルス・サブ
チリス(Bacillus subtilis)菌株ATCC6633由
来の製精エステラーゼによつて一定PHおよび35
℃で5時間転化させる。次に酢酸エステル400
mlによつて層状にし、氷冷下で5Mりん酸によ
つてPH2に酸性化する。分離した水性相を酢酸
エステル150mlずつで2回抽出する。一緒にし
た有機抽出物をすぐに水で洗い、冷却下で硫酸
ナトリウムで乾かし約400mlに濃縮する。過剰
量のジフエニルジアゾメタンと22℃で3時間反
応させてから、シクロヘキサン2倍量をかきま
ぜながら加えると3−ヒドロキシメチル−7β
−フエニルアセトアミド−セフ−3−エム−4
−カルボン酸ベンズヒドリルエステルが無定形
の固体として沈でんする。薄層クロマトグラ
フ:Rf=0.23(トルエン/アセトン2:1)、
紫外吸収スペクトル(C2H5OH):λ
max258nm(ε=8500)、赤外吸収スペクトル
(ヌジヨール):2.84(OH),3.02(NH)5.67
(ラクタム)、5.82(ベンズヒドリルエステ
ル)、5.98(アミド)、6.12(C=C)および
6.55μ(アミド)に特性吸収バンド。 (d) 3−ヒドロキシメチル−7β−フエニルアセ
トアミド−セフ−3−エム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル−1−オキシド10.0gを
無水ジメチルスルホキシド140ml中に溶かし、
無水酢酸140mlと反応させる。暗所で4時間半
放置してから、無水トルエンを加えた濃暗色の
溶液を高真空下で約100mlに濃縮し、氷冷塩化
メチレン400mlで希釈し、氷水で洗う。乾かし
た有機抽出物をシリカゲル400gでクロマトグ
ラフ処理する。塩化メチレン/酢酸メチルで3
−ホルミル−7β−フエニルアセトアミド−セ
フ−3−エム−4−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル−1−オキシドを溶離する。 薄層クロマトグラフ:Rf〜0.34(シリカゲ
ル、トルエン/アセトン2:1)、紫外吸収ス
ペクトル(C2H5OH):λmax=295nm(ε=
13000)、赤外吸収スペクトル(CH2C2):2.9,
5.54,5.77,5.90(肩)、5.95,6.21および6.67
μに特性吸収バンド。 (e) 他の合成法:コリンズ(Collins)によるク
ロムトリオキシド−ジピリジン錯塩による酸化 3−ヒドロキシメチル−7β−フエニルアセ
トアミド−セフ−3−エム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル−1−オキシド1.0gを暖
ためながら精製アセトン60ml中に溶かし、30℃
に冷やす。僅かに濁つた溶液を、無水塩化メチ
レン50ml中のクロムトリオキシド−ジピリジン
錯塩5.2g(0.2モル)のよくかきまぜた懸濁中
に加える。15分間30〜32℃で放置してから、塩
化ナトリウムで飽和した1Mクエン酸溶液40ml
ずつで2回抽出し、塩化ナトリウム飽和溶液40
mlずつで2回洗う。水溶液を酢酸エステル50ml
ずつで2回抽出する。一緒にした有機抽出物の
留去残さを予備薄層クロマトグラフ(シリカゲ
ル/トルエン/酢酸エチル1:1)で精製す
る。こうして3−ホルミル−7β−フエニルア
セトアミド−セフ−3−エム−4−カルボン酸
ベンズヒドリルエステル−1−オキシドが得ら
れ、これはAMSO/無酢による酸化によつて
得られるものと同じものである。
または−アリル基である。シクロアルキル−低級
アルキリデン基は例えばシクロヘキシルメチレン
基でありそしてシクロアルケニル−低級アルキリ
デン基は例えば3−シクロヘキセニルメチレン基
である。 ナフチル基は1−または2−ナフチル基であつ
て、ビフエニリル基は例えば4−ビフエニリル基
である。 フエニル−低級アルキル基またはフエニル−低
級アルケニル基は例えばベンジル基、1−または
2−フエニルエチル基、1−、2−または3−フ
エニルプロピル基、ジフエニルメチル基、トリチ
ル基、1−または2−ナフチルメチル基のような
ナフチル−低級アルキル基、スチリル基またはシ
ンナミル基であつて、アルケニル−低級アルキリ
デン基は例えばベンジリデン基である。 複素環式基はとりわけ芳香族性をもつ置換され
ている場合のある複素環式基、例えば相当する単
環式のモノアザ環式、モノチア環式またはモノオ
キサ環式基例えば2−ピリル基や3−ピリル基の
ようなピリル基、2−、3−または4−ピリジル
基のようなピリジル基およびピリジニウム基、2
−または3−チエニル基のようなチエニル基また
は2−フリル基のようなフリル基、2環式のモノ
アザ環式、モノオキサ環式またはモノチア環式基
例えば2−または3−インドリル基のようなイン
ドリル基、2−または4−キノリニル基のような
キノニリル基、1−イソキノリニル基のようなイ
ソキノリニル基、2−または3−ベンゾフラニル
基のようなベンゾフラニル基または2−または3
−ベンゾチエニル基のようなベンゾチエニル基、
単環式のジアザ環式、トリアザ環式、テトラアザ
環式、オキサアザ環式、チアザ環式またはチアジ
アザ環式基、例えば2−イミダゾリル基のような
イミダゾリル基、2−または4−ピリミジニル基
のようなピリミジニル基、1,2,4−トリアゾ
ール−3−イル基のようなトリアゾリル基、1−
または5−テトラゾリル基のようなテトラゾリル
基、2−オキサゾリル基のようなオキサゾリル
基、3−または4−イソオキサゾリル基のような
イソオキサゾリル基、2−チアゾリル基のような
チアゾリル基、3−または4−イソチアゾリル基
のようなイソチアゾリル基、または1,2,4−
チアジアゾール−3−イル基や1,3,4−チア
ジアゾール−2−イル基のような1,2,4−ま
たは1,3,4−チアジアゾリル基、あるいは2
環式のジアザ環式、オキサアザ環式またはチアザ
環式基例えば2−ベンズイミダゾリル基のような
ベンズイミダゾリル基、2−ベンズオキサゾリル
基のようなベンズオキサゾリル基または2−ベン
ズチアゾリル基のようなベンズチアゾリル基であ
る。相当する部分的にまたは全体に飽和された基
は例えば2−テトラヒドロチエニル基のようなテ
トラヒドロチエニル基、2−テトラヒドロフリル
基のようなテトラヒドロフリル基または2−また
は4−ピペリジル基のようなピペリジル基であ
る。複素環−脂肪族基は複素環式基特に上記の基
をもつ低級アルキル基または低級アルケニル基で
ある。前記の複素環式基は、例えば置換されてい
る場合のある脂肪族または芳香族炭化水素基特に
メチル基のような低級アルキル基によつてまたは
場合によつては塩素原子のようなハロゲン原子に
より置換されたフエニル基例えばフエニル基また
は4−クロルフエニル基によつてまたは前記脂肪
族炭化水素基のように官能性基によつて置換され
ていることができる。 低級アルコキシ基は例えばメトキシ基、エトキ
シ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n
−ブトキシ基、イソブトキシ基、第2ブトキシ
基、第3ブトキシ基、n−ペントキシ基または第
3ペントキシ基である。これらの基は例えばハロ
ゲノ−低級アルコキシ基特に2−ハロゲノ−低級
アルコキシ基例えば2,2,2−トリクロルエト
キシ、2−クロル−、2−ブロム−または2−ヨ
ード−エトキシ基におけるように置換されている
ことができる。低級アルケニルオキシ基は例えば
ビニルオキシ基またはアリルオキシ基であり、低
級アルキレンジオキシ基は例えばメチレンンジオ
キシ基、エチレンジオキシ基またはイソプロピリ
デンジオキシ基であり、シクロアルコキシ基は例
えばシクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオ
キシ基またはアダマンチルオキシ基であり、フエ
ニル−低級アルコキシ基は例えばベンジルオキシ
基または1−または2−フエニルエトキシ基、ジ
フエニルメトキシ基または4,4′−ジメトキシ−
ジフエニルメトキシ基であり、また複素環−オキ
シ基または複素環−低級アルコキシ基は例えば2
−ピリジルメトキシ基のようなピリジル−低級ア
ルコキシ基、フルフリルオキシ基のようなフリル
−低級アルコキシ基または2−テニルオキシ基の
ようなチエニル−低級アルコキシ基である。 低級アルキルチオ基は例えばメチルチオ基、エ
チルチオ基またはn−ブチルチオ基であり、低級
アルケニルチオ基は例えばアリルチオ基であつ
て、フエニル−低級アルキルチオ基は例えばベン
ジルチオ基であり、また複素環式基または複素環
−脂肪族基でエーテル化されたメルカプト基は特
に4−ピリジルチオ基のようなピリジルチオ基、
2−イミダゾリルチル基のようなイミダゾリルチ
オ基、2−チアゾリルチオ基のようなチアゾリル
チオ基、1,2,4−チアジアゾール−3−イル
チオ基や1,3,4−チアジアゾール−2−イル
チオ基のような1,2,4−または1,3,4−
チアジアゾリルチオ基または1−メチル−5−テ
トラゾリルチオ基のようなテトラゾリルチオ基で
ある。 エステル化された水酸基はとりわけハロゲン原
子例えばふつ素、塩素、臭素またはよう素原子、
ならびに低級アルカノイルオキシ基例えばアセト
キシ基またはプロピオニルオキシ基、低級アルコ
キシカルボニルオキシ基例えばメトキシカルボニ
ルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基または
t−ブチルオキシカルボニルオキシ基、2−ハロ
ゲノ低級アルコキシカルボニルオキシ基例えば
2,2,2−トリクロルエトキシカルボニルオキ
シ基、2−ブロムエトキシカルボニルオキシ基ま
たは2−ヨードエトキシカルボニルオキシ基、ま
たはアリールカルボニルメトキシカルボニルオキ
シ基例えばフエナシルオキシカルボニルオキシ基
である。 低級アルコキシ−カルボニル基は例えばメトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、2−プ
ロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニ
ル基、t−ブトキシカルボニル基またはt−ペン
トキシカルボニル基である。 N−低級アルキル−カルバモイル基またはN,
N−ジ低級アルキル−カルバモイル基は例えばN
−メチルカルバモイル基、N−エチルカルバモイ
ル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N,N
−ジエチルカルバモイル基であるが、N−低級ア
ルキルスルフアモイル基は例えばN−メチルスル
フアモイル基またはN,N−ジメチルスルフアモ
イル基である。 アルカリ金属塩の形にあるカルボキシル基また
はスルホ基は例えばナトリウム塩またはカリウム
塩の形にあるカルボキシル基またはスルホ基であ
る。 低級アルキルアミノ基またはジ−低級アルキル
アミノ基は例えばメチルアミノ基、エチルアミノ
基、ジメチルアミノ基またはジエチルアミノ基で
あり、低級アルキレンアミノ基は例えばピロリジ
ノ基またはピペリジノ基であり、オキサ−低級ア
ルキレンアミノ基は例えばモルホリノ基、チア低
級アルキレンアミノ基は例えばチオモルホリノ基
そしてアザ−低級アルキレンアミノ基は例えばピ
ペラジノ基または4−メチルピペリジノ基であ
る。アシルアミノ基は特にカルバモイルアミノ
基、メチルカルバモイルアミノ基のような低級ア
ルキルカルバモイルアミノ基、ウレイドカルボニ
ルアミノ基、グアニジノノカルボニルアミノ基、
低級アルコキシカルボニルアミノ基例えばメトキ
シカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミ
ノ基またはt−ブトキシカルボニルアミノ基、
2,2,2−トリクロルエトキシカルボニルアミ
ノ基のようなハロゲノ低級アルコキシカルボニル
アミノ基、4−メトキシベンジルオキシカルボニ
ルアミノ基のようなフエニル低級アルコキシカル
ボニルアミノ基、アセチルアミノ基がプロピオニ
ルアミノ基のような低級アルカノイルアミノ基、
さらにフタルイミド基または塩例えばナトリウム
塩のようなアルカリ金属塩またはアンモニウム塩
の形にあることのできるスルホアミノ基である。 低級アルカノイル基は例えばホルミル基、アセ
チル基、プロピオニル基またはピバロイル基であ
る。 O−低級アルキル−ホスホノ基は例えばO−メ
チル−またはO−エチル−ホスホノ基、O,
O′−ジ低級アルキル−ホスホノ基は例えばO,
O′−ジメチル−ホスホノ基またはO,O′−ジエ
チル−ホスホノ基、O−フエニル低級アルキル−
ホスホノ基は例えばO−ベンジル−ホスホノ基そ
してO−低級アルキル−O′−フエニル低級アル
キル−ホスホノ基は例えばO−ベンジル−O′−
メチル−ホスホノ基である。 低級アルケニルオキシカルボニル基は例えばビ
ニルオキシカルボニル基であつて、シクロアルコ
キシカルボニル基およびフエニル−低級アルコキ
シカルボニル基は例えばアダマンチルオキシカル
ボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、4−メ
トキシベンジルオキシカルボニル基、ジフエニル
メトキシカルボニル基またはα−4−ビフエニリ
ル−α−メチルエトキシカルボニル基である。そ
の低級アルキル基が例えば単環式のモノアザ環
式、モノオキサ環式またはモノチア環式基をもつ
ているような低級アルコキシカルボニル基は例え
ばフルフリルオキシカルボニル基のようなフリル
−低級アルコキシカルボニル基または2−テニル
オキシカルボニル基のようなチエニル−低級アル
コキシカルボニル基である。 2−低級アルキルヒドラジノ基および2,2−
ジ低級アルキルヒドラジノ基は例えば2−メチル
ヒドラジノ基または2,2−ジメチルヒドラジノ
基であり、2−低級アルコキシカルボニルヒドラ
ジノ基は例えば2−メトキシカルボニルヒドラジ
ノ基、2−エトキシカルボニルヒドラジノ基また
はt−ブトキシカルボニルヒドラジノ基であつ
て、低級アルカノイルヒドラジノ基は例えば2−
アセチルヒドラジノ基である。 アシル基Acは殊に6−アミノ−ペナム−3−
カルボン酸化合物または7−アミノ−3−セフエ
ム−4−カルボン酸化合物の天然に生成されるか
または生合成、半合成または全合成により製造で
きる好ましくは薬理活性なN−アシル誘導体に含
まれる炭素原子の数が好ましくは18個までの有機
カルボン酸のアシル基、または容易に分裂できる
アシル基殊に炭酸半誘導体のアシル基である。 6−アミノ−ペナム−3−カルボン酸化合物ま
たは7−アミノ−3−セフエム−4−カルボン酸
化合物の薬理活性なN−アシル誘導体に含まれる
アシル基Acというのは、主として式 〔この式でnは0でありそしてR〓は水素原子
または置換されている場合のある脂環式または芳
香族炭化水素基、置換されている場合のあるそし
て好ましくは芳香族性をもつ複素環式基、官能的
に変形例えばエステル化またはエーテル化されて
いる水酸基またはメルカプト基あるいは置換され
ている場合のあるアミノ基であるか、またはnは
1であり、R〓は水素原子または置換されている
場合のある脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族、芳香
族または芳香脂肪族の炭化水素基、その複素環式
基が好ましくは芳香族性をもちそして(または)
第4級窒素原子をもつている置換されている場合
のある複素環式基または複素環−脂肪族基、官能
的に変形(好ましくはエーテル化またはエステル
化)されている場合のある水酸基またはメルカプ
ト基、官能的に変性されている場合のあるカルボ
キシル基、アシル基、置換されている場合のある
アミノ基またはアチド基でありそして基R〓とR
〓とがいずれも水素原子であるか、または2は1
であり、R〓は置換されている場合のある脂肪
族、脂環式、脂環−脂肪族、芳香族または芳香脂
肪族の炭化水素基またはその複素環式基が好まし
くは芳香族性を有する置換されている場合のある
複素環式または複素環−脂肪族基であり、R〓は
官能的に変性例えばエステル化またはエーテル化
されている場合のある水酸基またはメルカプト
基、例えばハロゲン原子、置換されている場合の
あるアミノ基、官能的に変性されている場合のあ
るカルボキシル基またはスルホ基、O−モノ置換
またはO,O′−ジ置換されている場合のあるホ
スホノ基またはアチド基でありそしてR〓は水素
原子であるか、またはnは1であり、基R〓とR
〓とがそれぞれ官能的に変性(好ましくはエーテ
ル化またはエステル化)された水酸基または官能
的に変性されている場合のあるカルボキシル基で
あり、そしてR〓は水素原子であるか、またはn
は1であり、R〓は水素原子または置換されてい
る場合のある脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族、芳
香族または芳香脂肪族の炭化水素基でありそして
R〓とR〓とはその両方で置換されている場合の
あるそして2重結合によつて式中の炭素原子と結
合している脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族または
芳香脂肪族の炭化水素基であるか、またはnは1
であり、R〓は置換されている場合のある脂肪
族、脂環式、脂環−脂肪族、芳香族または芳香脂
肪族の炭化水素基またはその複素環式基が好まし
くは芳香族性を有する置換されている場合のある
複素環式または複素環−脂肪族基であり、R〓は
置換されている場合のある脂肪族、脂環式、脂環
−脂肪族、芳香族または芳香脂肪族の炭化水素基
でありそしてR〓は水素原子または置換されてい
る場合のある脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族、芳
香族または芳香脂肪族の炭化水素基である〕 で表わされる基である。 前記の式(A)のアシル基においては、例えばnは
0でありそしてR〓は水素原子または環炭素原子
5〜7個をもつシクロアルキル基〔これは場合に
よつてはアミノ基、アシルアミノ基(そのアシル
基は主に低級アルコキシカルボニル基、2−ハロ
ゲノ低級アルコキシカルボニル基またはフエニル
低級アルコキシカルボニル基のような炭酸半エス
テルのアシル基とする)またはスルホアミノ基
(これはアルカリ金属塩のような塩の形であるこ
ともできる)のような保護されている場合のある
アミノ基によつて好ましくは1−位置で置換され
ていることができる〕、置換されている場合のあ
るフエニル基、ナフチル基またはテトラヒドロナ
フチル基〔これらは場合によつては好ましくは水
酸基、メトキシ基のような低級アルコキシ基、ア
シルオキシ基(そのアシル基は主として低級アル
コキシカルボニル基、2−ハロゲノ低級アルコキ
シカルボニル基またはフエニル低級アルコキシカ
ルボニル基のような炭酸半エステルのアシル基と
する)および(または)塩素原子のようなハロゲ
ン原子によつて置換されていることができる〕、
置換されている場合のある複素環式基〔これは例
えばメチル基のような低級アルキル基によつてそ
して(または)置換基例えば塩素原子のようなハ
ロゲン原子をそれ自体もつていることのできるフ
エニル基によつて置換されていることができる〕
例えば4−イソオキザゾリル基またはアミノ基
(このアミノ基は例えば置換基例えば塩素原子の
ようなハロゲン原子をもつていることのできる低
級アルキル基によつてN−置換されているのが好
ましい)であるか、またはnは1であり、R〓は
低級アルキル基〔これは場合によつては好ましく
は塩素原子のようなハロゲン原子によつて、また
は置換基例えば水酸基、アシルオキシ基(そのア
シル基は前記の意味をもつ)および(または)塩
素原子のようなハロゲン原子をもつていることの
できるフエニルオキシ基によつて、または保護さ
れていることのできるアミノ基および(または)
カルボキシル基によつて置換されていることがで
きる〕、例えば保護されている場合のあるアミノ
基および(または)カルボキシル基〔例えば、シ
リル化例えばトリメチルシリル化のようなトリ低
級アルキルシリル化されたアミノ基またはアシル
アミノ基例えば低級アルカノイルアミノ基、ハロ
ゲノ低級アルカノイルアミノ基またはフタロイル
アミノ基および(または)シリル化例えばトリメ
チルシリル化のようなトリ低級アルキルシリル化
されているかまたはエステル化例えば低級アルキ
ル基、2−ハロゲノ低級アルキル基またはジフエ
ニルメチル基のようなフエニル低級アルキル基で
エステル化されたカルボキシル基〕をもつ4−ア
ミノ−4−カルボキシ−ブチル基、低級アルケニ
ル基、フエニル基〔これは場合によつては置換基
例えば上記のようにアシル化されていることので
きる水酸基および(または)塩素原子のようなハ
ロゲン原子によつて、さらに保護例えば上記のよ
うにアシル化されていることのできるアミノメチ
ル基のようなアミノ低級アルキル基によつて、ま
たは例えば上記のようにアシル化されていること
のできる水酸基および(または)塩素原子のよう
なハロゲン原子をもつていることのできるフエニ
ルオキシ基によつて置換されていることができ
る〕、置換基例えばメチル基のような低級アルキ
ル基によつてまた保護(例えば、上記のようにア
シル化)されていることのできるアミノ基または
アミノメチル基によつて置換されていることので
きるピリジル基例えば4−ピリジル基、ピリジニ
ウム基例えば4−ピリジニウム基、チエニル基例
えば2−チエニル基、フリル基例えば2−フリル
基、イミダゾリル基例えば1−イミダゾリル基ま
たはテトラゾリル基例えば1−テトラゾリル基、
置換されている場合のある低級アルコキシ基例え
ばメトキシ基、フエニルオキシ基〔これは置換
基、例えば保護例えば上記のようにアシル化され
ていることのできる水酸基および(または)塩素
原子のようなハロゲン原子によつて置換されてい
ることができる〕、低級アルキルチオ基例えばn
−ブチルチオ基または低級アルケニルチオ基例え
ばアリルチオ基、置換基例えばメチル基のような
低級アルキル基で置換されていることのできるフ
エニルチオ基、4−ピリジルチオ基のようなピリ
ジルチオ基、2−イミダゾリルチオ基、1,2,
4−トリアゾール−3−イルチオ基例えば1,
3,4−トリアゾール−2−イルチオ基、1,
2,4−チアジアゾール−3−イルチオ基例えば
5−メチル−1,2,4−チアジアゾール−3−
イルチオ基、1,3,4−チアジアゾール−2−
イルチオ基例えば5−メチル−1,3,4−チア
ジアゾール−2−イルチオ基または5−テトラゾ
リルチオ基例えば1−メチル−5−テトラゾリル
チオ基、ハロゲン原子特に塩素または臭素原子、
官能的に変性されている場合のあるカルボキシル
基例えばメトキシカルボニル基やエトキシカルボ
ニル基のような低級アルコキシカルボニル基、シ
アノ基またはN−置換例えばメチル基のような低
級アルキル基またはフエニル基でN−置換されて
いる場合のあるカルバモイル基、置換されている
場合のある低級アルカノイル基例えばアセチル基
またはプロピオニル基、ベンゾイル基またはアチ
ド基でありそしてR〓とR〓とは水素原子である
か、あるいはnは1であり、R〓は低級アルキル
基、または場合によつては例えば上記のようにア
シル化されていることのできる水酸基および(ま
たは)塩素原子のようなハロゲン原子で置換され
ていることのできるフエニル基、2−フリル基の
ようなフリル基、2−または3−チエニル基のよ
うなチエニル基または4−イソチアゾリル基のよ
うなイソチアゾリル基、さらにまた1,4−シク
ロヘキサジエニル基であり、R〓は保護または置
換されている場合のあるアミノ基例えばアミノ
基、アシルアミノ基例えば低級アルコキシカルボ
ニルアミノ基、2−ハロゲノ低級アルコキシカル
ボニルアミノ基または置換基例えばメトキシ基の
ような低級アルコキシ基またはニトロ基をもつて
いることのできるフエニル低級アルコキシカルボ
ニルアミノ基、例えばt−ブトキシカルボニルア
ミノ基、2,2,2−トリクロルエトキシカルボ
ニルアミノ基、4−メトキシベンジルオキシカル
ボニルアミノ基またはジフエニルメチルオキシカ
ルボニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基
例えば4−メチルフエニルスルホニルアミノ基、
トリチルアミノ基、アリールチオアミノ基例えば
2−ニトロフエニルチオアミノ基のようなニトロ
フエニルチオアミノ基またはトリチルチオアミノ
基、または置換基例えばエトキシカルボニル基の
ような低級アルコキシカルボニル基やアセチル基
のような低級アルカノイル基をもつていることの
できる2−プロピリデンアミノ基例えば2−エト
キシカルボニル−2−プロピリデンアミノ基、ま
たはグアニジノカルボニルアミノ基のような置換
されている場合のあるカルバモイルアミノ基、ま
たはアルカリ金属塩のような塩の形であることの
できるスルホアミノ基、アチド基、アルカリ金属
塩のような塩の形またはエステル化された形のよ
うな保護された形にあることのできるカルボキシ
ル基(例えば、メトキシカルボニル基やエトキシ
カルボニル基のような低級アルコキシカルボニル
基としてまたはジフエニルメトキシカルボニル基
のようなフエニルオキシカルボニル基としてある
ことができる)、シアノ基、スルホ基、官能的に
変性されていることのできる水酸基〔官能的に変
性された水酸基は殊にホルミルオキシ基のような
アシルオキシ基ならびに低級アルコキシカルボニ
ルオキシ基、2−ハロゲノ低級アルコキシカルボ
ニルオキシ基または置換基(例えば、メトキシ基
のような低級アルコキシ基またはニトロ基)をも
つている場合のあるフエニル低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、例えばt−ブトキシカルボニル
オキシ基、2,2,2−トリクロルエトキシカル
ボニルオキシ基、4−メトキシベンジルオキシカ
ルボニルオキシ基またはジフエニルメトキシカル
ボニルオキシ基、または置換されている場合のあ
る低級アルコキシ基例えばメトキシ基またはフエ
ニルオキシ基である〕、0−低級アルキル−また
は0,0′−ジ低級アルキル−ホスホノ基例えば0
−メチルホスホノ基または0,0′−ジメチルホス
ホノ基、またはハロゲン原子例えば塩素または臭
素原子でありそしてR〓は水素原子であるか、ま
たはnは1であり、R〓とR〓とはそれぞれハロ
ゲン原子例えば臭素原子または低級アルコキシカ
ルボニル基例えばメトキシカルボニル基でありそ
してR〓は水素原子であるか、またはnは1であ
り、R〓は場合によつては例えば上記のようにア
シル化されていることのできる水酸基および(ま
たは)塩素原子のようなハロゲン原子によつて置
換されていることのできるフエニル基、2−フリ
ル基のようなフリル基、2−または3−チエニル
基のようなチエニル基または4−イソチアゾリル
基のようなイソチアゾリル基、さらにまた1,4
−シクロヘキサジエニル基であり、R〓は場合に
よつては例えば上記のように保護されたアミノメ
チル基でありそしてR〓は水素原子であるか、ま
たnは1でありそしてR〓とR〓とR〓とがいず
れも低級アルキル基例えばメチル基である。 このようなアシル基Acは例えばホルミル基、
シクロペンチルカルボニル基、α−アミノシクロ
ペンチルカルボニル基またはα−アミノシクロヘ
キシルカルボニル基〔これは置換されている場合
のあるアミノ基、例えば塩の形であることのでき
るスルホアミノ基、または例えばトリフルオル酢
酸のような酸性剤でまたは例えば含水酢酸の存在
下での亜鉛のような化学的還元剤または接触され
た水素で還元的に処理するかまたは加水分解によ
つて好ましくは容易に分裂することのできるアシ
ル基またはこのようなアシル基に変えることので
きるアシル基で置換されたアミノ基(好ましくは
炭酸半エステルの適当なアシル基例えばt−ブト
キシカルボニル基のような低級アルコキシカルボ
ニル基、2,2,2−トリクロルエトキシカルボ
ニル基、2−ブロムエトキシカルボニル基または
2−ヨードエトキシカルボニル基のような2−ハ
ロゲノ低級アルコキシカルボニル基、フエナシル
オキシカルボニル基のようなアリールカルボニル
メトキシカルボニル基、置換基例えばメトキシ基
のような低級アルコキシ基またはニトロ基をもつ
ていることのできるフエニル低級アルコキシカル
ボニル基例えば4−メトキシベンジルオキシカル
ボニル基またはジフエニルメトキシカルボニル
基、または炭酸半アミドの適当なアシル基例えば
カルバモイル基またはN−置換されたカルバモイ
ル基例えばN−メチルカルバモイル基のようなN
−低級アルキルカルバモイル基によつて、さらに
また2−ニトロフエニルチオ基のようなアリール
チオ基、4−メチルフエニルスルホニル基のよう
なアリールスルホニル基または1−エトキシカル
ボニル−2−プロピリデン基のような1−低級ア
ルコキシカルボニル−2−プロピリデン基によつ
て置換されたアミノ基)をもつている〕、2,6
−ジメトキシベンゾイル基、5,6,7,8−テ
トラヒドロナフトイル基、2−メトキシ−1−ナ
フトイル基、2−エトキシ−1−ナフトイル基、
ベンジルオキシカルボニル基、ヘキサヒドロベン
ジルオキシカルボニル基、5−メチル−3−フエ
ニル−4−イソオキサゾリル−カルボニル基、3
−(2−クロルフエニル)−5−メチル−4−イソ
オキサゾリルカルボニル基、3−(2,6−ジク
ロロフエニル)−5−メチル−4−イソオキサゾ
リルカルボニル基、2−クロルエチルアミノカル
ボニル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリ
ル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、オクタノ
イル基、アクリリル基、クロトノイル基、3−ブ
テノイル基、2−ペンテノイル基、メトキシアセ
チル基、メチルチオアセチル基、ブチルチオアセ
チル基、アリルチオアセチル基、クロルアセチル
基、ブロムアセチル基、ジブロムアセチル基、3
−クロルプロピオニル基、3−ブロムプロピオニ
ル基、アミノアセチル基または5−アミノ−5−
カルボキシ−バレリル基〔これらは例えば上記の
ように例えば1〜2個のアシル基例えばアセチル
基やジクロアセチル基のようなハロゲン化されて
いる場合のある低級アルカノイル基またはフタロ
イル基によつて置換されていることのできるアミ
ノ基および(または)官能的に例えばナトリウム
塩のような塩の形またはエステル例えばメチルエ
ステルやエチルエステルのような低級アルキルエ
ステルまたはジフエニルメチルエステルのような
アリール低級アルキルエステルの形に変えられて
いることのできるカルボキシル基をもつてい
る〕、アジドアセチル基、カルボキシアセチル
基、メトキシカルボニルアセチル基、エトキシカ
ルボニルアセチル基、ビス−メトキシカルボニル
アセチル基、N−フエニルカルバモイルアセチル
基、シアノアセチル基、α−シアノプロピオニル
基、2−シアノ−3,3−ジメチルアクリリル
基、フエニルアセチル基、α−ブロムフエニルア
セチル基、α−アチドフエニルアセチル基、3−
クロルフエニルアセチル基、2−または4−アミ
ノメチルフエニルアセチル基(これは例えば前記
のように置換されている場合のあるアミノ基をも
つ)、フエナシルカルボニル基、フエニルオキシ
アセチル基、4−トリフルオルメチルフエニルオ
キシアセチル基、ベンジルオキシアセチル基、フ
エニルチオアセチル基、ブロムフエニルチオアセ
チル基、2−フエニルオキシプロピオニル基、α
−フエニルオキシフエニルアセチル基、α−メト
キシフエニルアセチル基、α−エトキシフエニル
アセチル基、α−メトキシ−3,4−ジクロルフ
エニルアセチル基、α−シアノフエニルアセチル
基、殊にフエニルグリシル基、4−ヒドロキシフ
エニルグリシル基、3−クロル−4−ヒドロキシ
フエニルグリシル基、3,5−ジクロル−4−ヒ
ドロキシフエニルグリシル基、α−アミノ−α
(1,4−シクロヘキサジエニル)−アセチル基、
α−アミノメチル−α−フエニルアセチル基また
はα−ヒドロキシフエニルアセチル基〔これらの
基において、存在するアミノ基は例えば上記のよ
うに置換されていることもできるものとしそして
(または)存在する脂肪族水酸基および(また
は)フエノール性水酸基はアミノ基と同様に例え
ば適当なアシル基殊にホルミル基または炭酸半エ
ステルのアシル基で保護されていることもでき
る)、またはα−0−メチル−ホスホノ−フエニ
ルアセチル基またはα−0,0′−ジメチル−ホス
ホノ−フエニルアセチル基、さらにベンジルチオ
アセチル基、ベンジルチオプロピオニル基、α−
カルボキシフエニルアセチル基(これは場合によ
つては例えば上記のように官能的に変性されたカ
ルボキシル基をもつことができる)、3−フエニ
ルプロピオニル基、3−(3−シアノフエニル)−
プロピオニル基、4−(3−メトキシフエニル)−
ブチリル基、2−ピリジルアセチル基、4−アミ
ノピリジニウムアセチル基(これは場合によつて
は例えば前記のように置換されたアミノ基をもつ
ことができる)、2−チエニルアセチル基、3−
チエニルアセチル基、2−テトラヒドロチエニル
アセチル基、2−フリルアセチル基、1−イミダ
ゾリルアセチル基、1−テトラゾリルアセチル
基、α−カルボキシ−2−チエニルアセチル基ま
たはα−カルボキシ−3−チエニルアセチル基
(これらは場合によつては例えば上記のように官
能的に変性されたカルボキシル基をもつことがで
きる)、α−シアノ−2−チエニルアセチル基、
α−アミノ−α−(2−チエニル)−アセチル基、
α−アミノ−α−(2−フリル)−アセチル基また
はα−アミノ−α−(4−イソチアゾリル)−アセ
チル基(これらは場合によつては例えば上記のよ
うに置換されたアミノ基をもつことができる)、
α−スルホフエニルアセチル基(そのスルホ基は
場合によつては例えば前記カルボキシル基のよう
に官能的に変性されたスルホ基であることができ
る)、5−メチル−1,2,4−チアジアゾール
−3−イルチオアセチル基、5−メチル−1,
3,4−チアジアゾール−2−イルチオアセチル
基または1−メチル−5−テトラゾリルチオアセ
チル基である。 容易に分裂できる特に炭酸半エステルのアシル
基Acはとりわけ還元例えば化学的還元剤で処理
することによりまたは酸処理例えばトリフルオル
酢酸で処理することにより分裂することのできる
炭酸半エステルのアシル基、例えばその酸素原子
に対するα−位置の炭素原子において高度に分枝
しているそして(または)芳香族的に置換されて
いる低級アルコキシカルボニル基、またはアリー
ルカルボニル基殊にベンゾイル基で置換されたメ
トキシカルボニル基、またはβ−位置でハロゲン
置換された低級アルコキシカルボニル基、例えば
t−ブトキシカルボニル基、t−ペントキシカル
ボニル基、フエナシルオキシカルボニル基、2,
2,2−トリクロルエトキシカルボニル基または
2−ヨードエトキシカルボニル基あるいは2−ヨ
ードエトキシカルボニル基に変えることのできる
2−クロルエトキシカルボニル基または2−ブロ
ムエトキシカルボニル基のような基および好まし
くは多環式のシクロアルコキシカルボニル基例え
ばアダマンチルオキシカルボニル基、置換されて
いる場合のあるフエニル−低級アルコキシカルボ
ニル基、とりわけα−フエニル−低級アルコキシ
カルボニル基(そのα−位置は数個の置換基をも
つているのが好ましい)、例えばジフエニルメト
キシカルボニル基またはα−4−ビフエニリル−
α−メチルエトキシカルボニル基、またはフリル
−低級アルコキシカルボニル基とりわけα−フリ
ル−低級アルコキシカルボニル基例えばフルフリ
ルオキシカルボニル基である。 基RA 1とRb 1とで形成されている2価のアシル基
は例えば低級アルカンジカルボン酸または低級ア
ルケンジカルボン酸のアシル基、例えばサクシニ
ル基、またはフタロイル基のような0−アリーレ
ンジカルボン酸のアシル基である。 また、基RA 1とRb 1とで形成されている他の2価
の基は例えば、特に2−位置に置換基例えば置換
されている場合のあるフエニル基またはチエニル
基をもちそして場合によつては4−位置でメチル
基のような低級アルキル基でモノ置換またはジ置
換されていることのできる1−オキソ−3−アザ
−1,4−ブチレン基、例えば4,4−ジメチル
−2−フエニル−1−オキソ−3−アザ−1,4
−ブチレン基である。 エーテル化された水酸基RA 2は、式中のカルボ
ニル基といつしよに、好ましくは容易に分裂でき
るかまたは他の官能的に変性されたカルボキシル
基(例えば、カルバモイル基またはヒドラジノカ
ルボニル基)に容易に変えることのできるエステ
ル化されたカルボキシル基を形成している。この
ような基RA 2は例えばメトキシ基、エトキシ基、
n−プロボキシ基またはイソプロポキシ基のよう
な低級アルコキシ基であつて、これらはカルボニ
ル基といつしよにエステル化されたカルボキシル
基を形成しており、これらを殊に2−セフエム化
合物においては容易に遊離カルボキシル基にまた
は他の官能的に変性されたカルボキシル基に変え
ることができる。 基−C(=0)−といつしよに特に容易に分裂
することのできるエステル化されたカルボキシル
基を形成しているエーテル化された水酸基RA 2
は、例えば、ハロゲン原子として原子量が19以上
のものをもつている2−ハロゲノ−低級アルコキ
シ基である。このような基は基−C(=0)−と
いつしよに、中性または弱酸性条件下で化学的還
元剤例えば含水酢酸の存在下で亜鉛で処理するこ
とにより容易に分裂することのできるエステル化
されたカルボキシル基またはこのような基に容易
に変えることのできるエステル化されたカルボキ
シル基を形成している。このような基は例えば
2,2,2−トリクロルエトキシ基または2−ヨ
ードエトキシ基、あるいは2−ヨードエトキシ基
に容易に変えることのできる2−クロルエトキシ
基または2−ブロムエトキシ基である。 さらに、同様に中性または弱酸性条件下で化学
的還元剤例えば含水酢酸の存在下で亜鉛で処理す
ることによつてまたはナトリウムチオフエノラー
トのような適当な親核反応剤で処理することによ
つて容易に分裂することのできるエステル化され
たカルボキシル基を基−C(=0)−といつしよ
に形成しているエーテル化された水酸基RA 2とし
ては、アリールカルボニルメトキシ基(アリール
は殊に置換されている場合のあるフエニル基であ
る)そして好ましくはフエナシルオキシ基であ
る。 さらに、基RA 2は、そのアリール基が殊に単環
式の好ましくは置換されている芳香族炭化水素基
であるアリールメトキシ基であることもできる。
このような基は、中性または酸性条件下で照射好
ましくは紫外線照射によつて容易に分裂すること
のできるエステル化されたカルボキシル基を基−
C(=0)−といつしよに形成している。このよ
うなアリールメトキシ基におけるアリール基は殊
に低級アルコキシフエニル基例えばメトキシフエ
ニル基〔そのメトキシ基は主として3−、4−お
よび(または)5−位置にあるものとする〕およ
び(または)とりわけニトロフエニル基(そのニ
トロ基は好ましくは2−位置にあるものとする)
である。このような基は特に低級アルコキシ−、
例えばメトキシ−および(または)ニトロ−ベン
ジルオキシ基、主として3−または4−メトキシ
ベンジルオキシ基、3,5−ジメトキシベンジル
オキシ基、2−ニトロベンジルオキシ基または
4,5−ジメトキシ−2−ニトロベンジルオキシ
基である。 さらに、エーテル化された水酸基RA 2は、酸性
条件下で例えばトリフルオル酢酸またはぎ酸で処
理することにより容易に分裂できるエステル化さ
れたカルボキシル基を基−C−(=0)−といつし
よに形成している基であることもできる。このよ
うな基は主として、そのメチル基が置換されてい
る場合のある炭化水素基殊に脂肪族または芳香族
炭化水素基例えばメチル基のような低級アルキル
基および(または)フエニル基によつてポリ置換
されているかまたは電子供与性置換基をもつ炭素
環式アリール基によつてまたは環構成員として酸
素またはいおう原子をもつ芳香族性の複素環式基
によつてモノ置換されているメトキシ基であるか
またはそのメチル基が多環式脂肪族炭化水素基に
おける環構成員またはオキサ脂環式またはチア脂
環式基における酸素またはいおう原子に対するα
−位置を占める環構成員を成しているようなメト
キシ基である。 この種類のポリ置換されたメトキシ基のうちで
好ましいものはt−低級アルコキシ基例えばt−
ブチルオキシ基またはt−ペンチルオキシ基、置
換されている場合のあるジフエニルメトキシ基、
例えばジフエニルメトキシ基または4,4′−ジメ
トキシ−ジフエニルメトキシ基、さらに2−(4
−ビフエニリル)−2−プロピルオキシ基であ
り、上記の置換されたアリール基または複素環式
基をもつメトキシ基は例えば4−メトキシベンジ
ルオキシ基や3,4−ジメトキシベンジルオキシ
基のようなα−低級アルコキシフエニル−低級ア
ルコキシ基または2−フルフリルオキシ基のよう
なフルフリルオキシ基である。メトキシ基のメチ
ル基を好ましくは3重に分枝した環構成員として
もつている多環式脂肪炭化水素基は例えば1−ア
ダマンチル基のようなアダマンチル基であり、そ
してメトキシ基のメチル基を酸素またはいおう原
子に対するα−位置の環構成員としてもつている
上記のオキサ−またはチア−脂環式基は例えば環
原子5〜7個をもつ2−オキサ−または2−チア
−低級アルキレン基または−低級アルケニレン
基、例えば2−テトラヒドロフリル基、2−テト
ラヒドロピラニル基または2,3−ジヒドロ−2
−ピラニル基または相当するいおう化合物の基で
ある。 さらに、基RA 2は加水分解によつて例えば弱酸
基性または弱酸性条件下で分裂することのできる
エステル化されたカルボキシル基を基−C−(=
0)−といつしよに形成しているエーテル化され
た水酸基であることもできる。このような基は好
ましくは活性化されたエステル基を基−C(=
0)−といつしよに形成しているエーテル化され
た水酸基例えば4−ニトロフエニルオキシ基や
2,4−ジニトロフエニルオキシ基のようなニト
ロフエニルオキシ基、4−ニトロベンジルオキシ
基のようなニトロフエニル低級アルコキシ基、4
−ヒドロキシ−3,5−t−ブチル−ベンジルオ
キシ基のようなヒドロキシ−低級アルキル−ベン
ジルオキシ基、2,4,6−トリクロルフエニル
オキシ基や2,3,4,5,6−ペンタクロルフ
エニルオキシ基のようなポリハロゲノフエニルオ
キシ基、さらにシアノメトキシ基ならびにアシル
アミノメトキシ基例えばフタルイミノメトキシ基
またはサクシニルイミノメトキシ基である。 また、基RA 2は水素添加分解条件の下で分裂で
きるエステル化されたカルボキシル基をカルボニ
ル基−C(=0)−といつしよに形成しているエ
ーテル化された水酸基であることもでき、これは
例えばベンジルオキシ基、4−メトキシベンジル
オキシ基または4−ニトロベンジルオキシ基のよ
うな例えば低級アルコキシ基やニトロ基で置換さ
れていることのできるα−フエニル低級アルコキ
シ基である。 また、基RA 2は生理的条件の下で分裂すること
のできるエステル化されたカルボキシル基をカル
ボニル基−C(=0)−といつしよに形成してい
るエーテル化された水酸基、主としてアシルオキ
シメトキシ基(そのアシル基は例えば有機カルボ
ン酸、主に置換されている場合のある低級アルカ
ンカルボン酸の基であるかまたはそのアシルオキ
シメチル部分はラクトン基を形成しているものと
する)であることもできる。このようなエーテル
化された水酸基は低級アルカノイルオキシメトキ
シ基例えばアセチルオキシメトキシ基またはピバ
ロイルオキシメトキシ基、アミノ−低級アルカノ
イルオキシメトキシ基殊にα−アミノ−低級アル
カノイルオキシメトキシ基例えばグリシルオキシ
メトキシ基、、L−バリルオキシメトキシ基、L
−ロイシルオキシメトキシ基、さらにフタリジル
オキシ基である。 シリルオキシ基またはスタニルオキシ基として
のRA 2は置換基として好ましくは置換されている
場合のある脂肪族、脂環式、芳香族または芳香脂
肪族炭化水素基例えば低級アルキル基、ハロゲノ
低級アルキル基、シクロアルキル基、フエニル基
またはフエニル低級アルキル基、または変えられ
ている場合のある官能性基例えば低級アルコキシ
基のようなエーテル化された水酸基または塩素原
子のようなハロゲン原子をもつており、主として
トリメチルシリルオキシ基のようなトリ低級アル
キルシリルオキシ基、クロル−メトキシ−メチル
−シリル基のようなハロゲノ−低級アルコキシ−
低級アルキル−シリル基またはトリ−n−ブチル
スタニルオキシ基のようなトリ低級アルキルスタ
ニルオキシ基である。 基−C(=0)−といつしよに好ましくは加水
分解によつて分裂することのできる混合無水物基
を形成しているアシルオキシ基としてのRA 2は例
えば前記有機カルボン酸または炭酸半融導体のア
シル基をもつており、例えば場合によつてはふつ
素や塩素原子のようなハロゲン原子によつて好ま
しくはα−位置で置換されていることのできる低
級アルカノイルオキシ基例えばアセチルオキシ
基、ピバリルオキシ基またはトリクロルアセチル
オキシ基あるいは低級アルコキシカルボニルオキ
シ基例えばメトキシカルボニルオキシ基またはエ
トキシカルボニルオキシ基である。 さらに、置換されている場合のあるカルバモイ
ル基またはヒドラジノカルボニル基を基−C(=
0)−といつしよに形成している基としてのRA 2は
例えばアミノ基、メチルアミノ基やエチルアミノ
基のような低級アルキルアミノ基、ジメチルアミ
ノ基やジエチルアミノ基のようなジ低級アルキル
アミノ基、ピロリジノ基やピペリジノ基のような
低級アルキレンアミノ基、モルホルノ基のような
オキサ低級アルキレンアミノ基、ヒドロキシアミ
ノ基、ヒドラジノ基、2−メチルヒドラジノ基の
ような2−低級アルキルヒドラジノ基または2,
2−ジメチルヒドラジノ基のような2,2−ジ低
級アルキルヒドラジノ基である。 塩は、殊に酸性基例えばカルボキシル基、スル
ホ基またはホスホノ基をもつ式()の化合物の
塩であつて、主として金属塩またはアンモニウム
塩、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウム
またはカルシウムの塩のようなアルカリ金属また
はアルカリ土類金属の塩、ならびにアンモニアま
たは適当な有機アミンとのアンモニウム塩であ
る。塩の形成に使用できる有機アミンはとりわけ
脂肪族、脂環式、脂環−脂肪族および芳香脂肪族
の第1、第2または第3モノアミン、ジアミンま
たはポリアミンならびに複素環式塩基であつて、
このようなアミンはトリエチルアミンのような低
級アルキルアミン、2−ヒドロキシエチルアミ
ン、ビス−(2−ヒドロキシエチル)−アミンまた
はトリ−(2−ヒドロキシエチル)−アミンのよう
なヒドロキシ−低級アルキルアミン、4−アミノ
安息香酸−2−ジエチルアミノ−エチルエステル
のようなカルボン酸の塩基性脂肪族エステル、1
−エチルピペリジンのような低級アルキレンアミ
ン、ビシクロヘキシルアミンのようなシクロアル
キルアミンまたはN,N′−ジベンジルエチレン
ジアミンのようなベンジルアミンおよびまたピリ
ジン、コリジンまたはキノリンのようなピリジン
型の塩である。また、塩基性基をもつ式()の
化合物は酸付加塩例えば塩酸、硫酸またはりん酸
のような無機酸または適当な有機カルボン酸また
はスルホン酸例えばトリフルオル酢酸または4−
メチルフエニルスルホン酸との酸付加塩を形成す
ることができる。酸性基と塩基性基とを有する式
()の化合物は分子内塩の形すなわち双極イオ
ンの形であることもできる。塩形成基をもつてい
る式()の化合物の1−オキシドもまた上記の
ように塩を形成することができる。 本発明の新規化合物は薬理的性質をもつ化合物
の製法に使うことができる価値のある中間生成物
である。これらの新規化合物は例えば下記に記載
されているようなものに変えることができる。 本発明は特に式()におけるRa 1が6β−ア
ミノ−ペナム−3−カルボン酸化合物または7β
−アミノ−3−セフエム−4−カルボン酸化合物
の醗酵的に(すなわち、天然産の)または生合
成、半合成または全合成により製造できる殊に薬
理活性(例えば高度に活性)なN−アシル誘導体
中に存在するアシル基例えば前記式(A)のアシル基
の1つ(この式でR〓とR〓とR〓とnとは主と
して前に好ましいとして挙げた意味をもつ)であ
りそしてRb 1が水素原子であるかまたはRa 1とRb
1
とが両方で2−位置において好ましくは例えばフ
エニル基のような芳香族または複素環式基によつ
てそして4−位置において好ましくは例えばメチ
ル基のような低級アルキル基2個によつて置換さ
れている1−オキソ−3−アザ−1,4−ブチレ
ン基であり、そしてRA 2は水酸基、低級アルコキ
シ基〔これは場合によつては好ましくはα−位置
において、例えば置換されている場合のあるアリ
ールオキシ基例えば4−メトキシフエニルオキシ
基のような低級アルコキシフエニルオキシ基、ア
セチルオキシ基やピバロイルオキシ基のような低
級アルカノイルオキシ基、グリシルオキシ基、L
−バリルオキシ基またはL−ロイシルオキシ基の
ようなα−アミノ低級アルカノイルオキシ基、ア
リールカルボニル基例えばベンゾイル基、または
置換されている場合のあるアリール基例えばフエ
ニル基、4−メトキシフエニル基のような低級ア
ルコキシフエニル基、4−ニトロフエニル基のよ
うなニトロフエニル基または4−ビフエニリル基
のようなビフエニリル基によつてまたはβ−位置
においてハロゲン原子例えば塩素、臭素またはよ
う素原子によつてモノ置換またはポリ置換されて
いることができる。例えばメトキシ基、エトキシ
基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ
基、n−ブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基ま
たはt−ペンチルオキシ基のような低級アルコキ
シ基、低級アルコキシ置換されていることのでき
るビス−フエニルオキシ−メトキシ基例えばビス
−4−メトキシフエニルオキシ−メトキシ基、低
級アルカノイルオキシ−メトキシ基例えばアセチ
ルオキシメトキシ基またはピバロイルオキシメト
キシ基、α−アミノ低級アルカノイルオキシ−メ
トキシ基例えばグリシルオキシメトキシ基、フエ
ナシルオキシ基、置換されていることのできるフ
エニル低級アルコキシ基殊にフエニルメトキシ基
のような1−フエニル低級アルコキシ基(このよ
うな基は例えば置換基例えばメトキシ基のような
低級アルコキシ基、ニトロ基またはフエニル基に
よつて置換されている場合のあるフエニル基1〜
3個をもつことができる)、例えばベンジルオキ
シ基、4−メトキシベンジルオキシ基、2−ビフ
エニリル−2−プロピルオキシ基、4−ニトロベ
ンジルオキシ基、ジフエニルメトキシ基、4,
4′−ジメトキシ−ジフエニルメトキシ基またはト
リチルオキシ基、または2−ハロゲノ低級アルコ
キシ基例えば2,2,2−トリクロルエトキシ
基、2−クロルエトキシ基、2−ブロムエトキシ
基または2−ヨードエトキシ基である〕、さらに
2−フタリジルオキシ基ならびにアシルオキシ基
(例えば、メトキシカルボニルオキシ基やエトキ
シカルボニルオキシ基のような低級アルコキシカ
ルボニルオキシ基またはアセチルオキシ基やピバ
ロイルオキシ基のような低級アルカノイルオキシ
基)、トリメチルシリルオキシ基のようなトリ低
級アルキルシリルオキシ基、またはアミノ基また
はヒドラジノ基(これらは場合によつては例えば
メチル基のような低級アルキル基または水酸基に
よつて置換されていることができる。例えば、ア
ミノ基、メチルアミノ基のような低級アルキルア
ミノ基、ジメチルアミノ基のようなジ低級アルキ
ルアミノ基、ヒドラジノ基、2−メチルヒドラジ
ノ基のような2−低級アルキルヒドラジノ基、
2,2−ジメチルヒドラジノ基のような2,2−
ジ低級アルキルヒドラジノ基またはヒドロキシア
ミノ基である)であるセフアム−3−オン化合
物、その1−オキシドまたは塩形成基をもつこの
ような化合物の塩に関するものである。 式()のセフアム−3−オン−化合物、さら
に式()のセフアム−3−オン−化合物の1−
オキシドまたは塩形成基をもつこれらの化合物の
塩においては、主として、Ra 1は6β−アミノ−
ペナム−3−カルボン酸化合物または7β−アミ
ノ−3−セフエム−4−カルボン酸化合物の醗酵
(すなわち、天然産)によるまたは生合成的に製
造できるN−アシル誘導体中に存在するアシル基
殊に式(A)の基(この式でR〓,R〓,R〓および
nは主としてて先に好ましいと挙げた意味をも
つ)、例えば水酸基で置換されている場合のある
フエニルアセチル基またはフエニルオキシアセチ
ル基、さらに場合によつては例えば低級アルキル
チオ基または低級アルケニルチオ基、置換例えば
アシル化されている場合のあるアミノ基および
(または)官能的に変性されたカルボキシル基
(例えば、エステル化されていることのできるカ
ルボキシル基)によつて置換されていることので
きる低級アルカノイル基または低級アルケノイル
基、例えば4−ヒドロキシ−フエニルアセチル
基、ヘキサノイル基、オクタノイル基またはn−
ブチルチオアセチル基および殊に5−アミノ−5
−カルボキシ−バレリル基〔そのアミノ基および
(または)カルボキシル基は場合によつては保護
されており、例えばアシルアミノ基またはエステ
ル化されたカルボキシル基として存在することが
できる〕、フエニルアセチル基またはフエニルオ
キシアセチル基であるか、または6β−アミノ−
ペナム−3−カルボン酸化合物または7β−アミ
ノ−3−セフエム−4−カルボン酸化合物の高活
性N−アシル誘導体中に存在するアシル基殊に式
(A)の基(この式でR〓,R〓,R〓およびnは主
に先に好ましいと挙げた意味をもつ)、例えばホ
ルミル基、2−クロルエチルカルバモイル基のよ
うな2−ハロゲノエチルカルバモイル基、シアノ
アセチル基、フエニルアセチル基、2−チエニル
アセチル基のようなチエニルアセチル基または1
−テトラゾリルアセチル基のようなテトラゾリル
基、しかし特にα−位置において脂環式、芳香族
または複素環式基のような環式基主に単環式基に
よつておよび官能性基主にアミノ基、カルボキシ
ル基、スルホ基または水酸基によつて置換された
アセチル基、殊にフエニルグリシル基〔この基に
おけるフエニル基は場合によつては例えば保護さ
れている場合のある水酸基例えばアシルオキシ基
例えばハロゲン置換されていることのできる低級
アルコキシカルボニルオキシ基または低級アルカ
ノイルオキシ基によつておよび(または)ハロゲ
ン原子例えば塩素原子によつて置換されているこ
とのできるフエニル基、例えばフエニル基、3−
または4−ヒドロキシ−、3−クロル−4−ヒド
ロキシ−または3,5−ジクロル−4−ヒドロキ
シフエニル基(その水酸基は保護例えばアシル化
された水酸基であることもできる)であり、そし
てアミノ基は場合によつては置換されていること
もできそして例えば塩の形であることもできるス
ルホアミノ基または置換されたアミノ基(例え
ば、置換基として、加水分解により分裂できるト
リチル基または主としてアシル基例えば置換され
ている場合のあるカルバモイル基例えばウレイド
カルボニル基やN3−トリクロルメチルウレイド
カルボニル基のような置換されている場合のある
ウレイドカルボニル基、またはグアニジノカルボ
ニル基のような置換されている場合のあるグアニ
ジノカルボニル基、または例えばトリフルオル酢
酸のような酸でまたは含水酢酸の存在下での亜鉛
のような化学的還元剤または接触された水素で還
元的に処理した場合にまたは加水分解によつて分
裂することのできるアシル基またはこのようなア
シル基に変えることのできるアシル基、好ましく
は炭酸半エステルの適当なアシル基例えばハロゲ
ン置換またはベンゾイル置換されている場合のあ
るアルキルオキシカルボニル基例えばt−ブチル
オキシカルボニル基、2,2,2−トリクロルエ
チルオキシカルボニル基、2−クロルエトキシカ
ルボニル基、2−ブロムエトキシカルボニル基、
2−ヨードエトキシカルボニル基、またはフエナ
シルオキシカルボニル基、低級アルコキシ置換ま
たはニトロ置換されている場合のあるフエニル低
級アルコキシカルボニル基例えば4−メトキシベ
ンジルオキシカルボニル基またはジフエニルメト
キシカルボニル基、またはカルバモイル基やN−
メチルカルバモイル基のような炭酸半アミドのア
シル基、さらにまたシアン化水素酸、亜硫酸また
はチオ酢酸アミドのような親核性剤によつて分裂
されるアリールチオ基またはアリール低級アルキ
ルチオ基例えば2−ニトロフエニルチオ基または
トリチルチオ基、電解還元で分裂できるアリール
スルホニル基例えば4−メチルフエニルスルホニ
ル基、またはぎ酸または無機酸水溶液例えば塩酸
またはりん酸のような酸性剤で分裂できる1−低
級アルコキシカルボニル−2−プロピルデン基ま
たは1−低級アルカノイル−2−プロピリデン基
例えば1−エトキシカルボニル−2−プロピリデ
ン基をもつている)である〕、さらにα−1,4
−シクロヘキサジエニル−グリシル基、α−2−
またはα−3−チエニルグリシル基のようなα−
チエニルグリシル基、α−2−フリルグリシル基
のようなα−フリルグリシル基、またはα−4−
イソチアゾリル−グリシル基のようなα−イソチ
アゾリルグリシル基(これらの基のアミノ基は例
えば先にフエニルグリシル基に述べたように置換
または保護されていることができる)、さらにα
−カルボキシ−フエニルアセチル基またはα−カ
ルボキシ−チエニルアセチル基例えばα−カルボ
キシ−2−チエニルアセチル基(これらは場合に
よつては官能的に変性されたカルボキシル基例え
ばナトリウム塩のような塩の形またはエステル例
えばメチルエステルまたはエチルエステルのよう
な低級アルキルエステルやジフエニルメチルエス
テルのようなフエニル−低級アルキルエステルの
形にあるカルボキシル基をもつていてもよい)ま
たはα−スルホ−フエニルアセチル基(これは場
合によつては例えば上記のカルボキシル基のよう
に官能的に変性されたスルホ基をもつていてもよ
い)、α−ホスホノ−、α−0−メチルホスホノ
−またはα−0,0′−ジメチルホスホノ−フエニ
ルアセチル基、またはα−ヒドロキシ−フエニル
アセチル基〔これは官能的に変性された水酸基、
殊にアシルオキシ基(このアシル基は例えばトリ
フルオル酢酸のような酸性剤で処理するかまたは
含水酢酸の存在下での亜鉛のような化学的還元剤
で処理する場合に好ましくは容易に分裂すること
のできるアシル基またはこのようなアシル基に変
えることのできるアシル基、好ましくは炭酸半エ
ステルのアシル基例えば前記の例えばハロゲン置
換またはベンゾイル置換されていることのできる
低級アルコキシカルボニル基、例えば2,2,2
−トリクロルエトキシカルボニル基、2−クロル
エトキシカルボニル基、2−ブロムエトキシカル
ボニル基、2−ヨードエトキシカルボニル基、t
−ブチルオキシカルボニル基またはフエナシルオ
キシカルボニル基、さらにホルミル基である)を
もつていることができる〕、ならびに1−アミノ
−シクロヘキシルカルボニル基、2−または4−
アミノメチル−フエニルアセチル基のようなアミ
ノメチルフエニルアセチル基または4−アミノピ
リジニウムアセチル基のようなアミノ−ピリジニ
ウムアセチル基(これらも例えば上記のように置
換されたアミノ基をもつていることもできる)、
または4−ピリジルチオアセチル基のようなピリ
ジルチオアセチル基であり、そしてRb 1は水素原
子であるか、またはRa 1とRb 1とはその両方で4−
位置にメチル基のような低級アルキル基2個をも
つ場合のある1−オキソ−3−アザ−1,4−ブ
チレン基〔これは2−位置において好ましくは、
場合によつては保護された水酸基例えばアシルオ
キシ基例えばハロゲン置換されていることのでき
る低級アルコキシカルボニルオキシ基または低級
アルカノイルオキシ基によつておよび(または)
ハロゲン原子例えば塩素原子によつて置換されて
いることのできるフエニル基、例えばフエニル
基、または3−または4−ヒドロキシ−、3−ク
ロル−4−ヒドロキシ−または3,5−ジクロル
−4−ヒドロキシ−フエニル基(その水酸基は保
護例えば上記のようにアシル化されていることも
できる)をもつていることができる〕であり、そ
してRA 2は低級アルコキシ基殊にα−位置で高度
に分枝した低級アルコキシ基例えばt−ブトキシ
基、さらにメトキシ基またはエトキシ基、2−ハ
ロゲノ低級アルコキシ基または2,2,2−トリ
クロルエトキシ基、2−ヨードエトキシ基または
この基に容易に変えることのできる2−クロルエ
トキシ基または2−ブロムエトキシ基、フエナシ
ルオキシ基、低級アルコキシ基またはニトロ基で
置換されていることのできるフエニル基1〜3個
をもつ1−フエニル低級アルコキシ基例えば4−
メトキシベンジルオキシ基、4−ニトロベンジル
オキシ基、ジフエニルメトキシ基、4,4′−ジメ
トキシ−ジフエニルメトキシ基またはトリチルオ
キシ基、低級アルカノイルオキシメトキシ基例え
ばアセチルオキシメトキシ基またはピバロイルオ
キシメトキシ基、α−アミノ低級アルカノイルオ
キシメトキシ基例えばグリシルオキシメトキシ
基、2−フタリジルオキシメトキシ基、低級アル
コキシカルボニルオキシ基例えばエトキシカルボ
ニルオキシ基または低級アルカノイルオキシ基例
えばアセチルオキシ基、さらにトリ低級アルキル
シリルオキシ基例えばトリメチルシリルオキシ基
である。 本発明は主として式()においてRa 1が式 〔この式でRaはフエニル基またはヒドロキシ
フエニル基例えば3−または4−ヒドロキシフエ
ニル基、さらにヒドロキシ−クロルフエニル基例
えば3−クロル−4−ヒドロキシフエニル基また
は3,5−ジクロル−4−ヒドロキシフエニル基
(これらの基において水酸基はハロゲン化されて
いることのできる低級アルコキシカルボニル基例
えばt−ブトキシカルボニル基または2,2,2
−トリクロルエトキシカルボニル基のようなアシ
ル基によつて保護されていることができる)、2
−または3−チエニル基のようなチエニル基、さ
らに4−ピリジル基のようなピリジル基、4−ア
ミノピリジニウム基のようなアミノピリジニウム
基、2−フリル基のようなフリル基、4−イソチ
アゾリル基のようなイソチアゾリル基、1−テト
ラゾリル基のようなテトラゾリル基または1,4
−シクロヘキサジエニル基であり、xは酸素また
はいおう原子であり、mは0または1であり、そ
してRbは水素原子またはmが0である場合には
アミノ基、保護されたアミノ基例えばアシルアミ
ノ基例えばt−ブトキシカルボニルアミノ基のよ
うなα−位置で高度に分枝した低級アルコキシカ
ルボニルアミノ基、2,2,2−トリクロルエト
キシカルボニルアミノ基、2−ヨードエトキシカ
ルボニルアミノ基または2−ブロムエトキシカル
ボニルアミノ基のような2−ハロゲノ低級アルコ
キシカルボニルアミノ基、または低級アルコキシ
置換またはニトロ置換されている場合のあるフエ
ニル低級アルコキシカルボニルアミノ基例えば4
−メトキシベンジルオキシカルボニルアミノ基ま
たはジフエニルメトキシカルボニルアミノ基、ま
たは3−グアニルウレイド基、さらにスルホアミ
ノ基、トリチルアミノ基、アリールチオアミノ基
例えば2−ニトロフエニルチオアミノ基、アリー
ルスルホニルアミノ基例えば4−メチルフエニル
スルホニルアミノ基または1−低級アルコキシカ
ルボニル−2−プロピリデンアミノ基例えば1−
エトキシカルボニル−2−プロピリデンアミノ
基、カルボキシ基または塩例えばナトリウム塩の
ようなアルカリ金属塩の形にあるカルボキシル
基、保護されたカルボキシル基例えばエステル化
されたカルボキシル基例えばジフエニルメトキシ
カルボニル基のようなフエニル低級アルコキシカ
ルボニル基、スルホ基または塩例えばナトリウム
塩のようなアルカリ金属塩の形にあるスルホ基、
保護されたスルホ基、水酸基または保護された水
酸基例えばアシルオキシ基例えばt−ブトキシカ
ルボニルオキシ基のようなα−位置で高度に分枝
した低級アルコキシカルボニルオキシ基、2,
2,2−トリクロルエトキシカルボニルオキシ
基、2−ヨードエトキシカルボニルオキシ基また
は2−ブロムエトキシカルボニルオキシ基のよう
な2−ハロゲノ低級アルコキシカルボニルオキシ
基、さらにホルミルオキシ基、または0−低級ア
ルキルホスホノ基または0,0′−ジ低級アルキル
ホスホノ基例えば0−メチルホスホノ基または
0,0′−ジメチルホスホノ基である〕で示される
アシル基または5−アミノ−5−カルボキシバレ
リル基(そのアミノ基およびカルボキシル基は保
護されていることもでき、例えばアシルアミノ基
例えばアセチルアミノ基のような低級アルカノイ
ルアミノ基、ジクロルアセチルアミノ基のような
ハロゲノ低級アルカノイルアミノ基、ベンゾイル
アミノ基またはフタロイルアミノ基としてまたは
エステル化されたカルボキシル基例えばジフエニ
ルメトキシカルボニル基のようなフエニル低級ア
ルコキシカルボニル基としてあることができる)
であり(なお、Raがフエニル基、ヒドロキシフ
エニル基、ヒドロキシ−クロルフエニル基または
ピリジル基である場合にmは好ましくは1であ
り、そしてRaがフエニル基、ヒドロキシフエニ
ル基、ヒドロキシ−クロルフエニル基、チエニル
基、フリル基、イソチアゾリル基または1,4−
シクロヘキサジエニル基である場合にmは0であ
つてRbは水素原子でないのが好ましい)、Rb 1が
水素原子であり、RA 2が主として低級アルコキシ
基殊にα−位置で高度に分枝した低級アルコキシ
基例えばt−ブトキシ基、2−ハロゲノ−低級ア
ルコキシ基例えば2,2,2−トリクロルエトキ
シ基、2−ヨードエトキシ基または2−ブロムエ
トキシ基、または例えばメトキシ基のような低級
アルコキシ基で置換されている場合のあるジフエ
ニルメトキシ基例えばジフエニルメトキシ基また
は4,4′−ジメトキシ−ジフエニルメトキシ基、
さらにトリメチルシリルオキシ基のようなトリ低
級アルキルシリルオキシ基であるセフアム−3−
オン−化合物、このような式()のセフアム−
3−オン化合物の1−オキシドまたは塩形成基を
もつこのような化合物の塩例えばRa 1とRb 1とが水
素原子である式()の化合物の酸付加塩例えば
鉱酸または好ましくはハロゲン置換された低級ア
ルカンカルボン酸またはアリールスルホン酸のよ
うな強度のカルボン酸またはスルホン酸特にトリ
フルオル酢酸または4−メチルフエニルスルホン
酸との塩に関するものである。 主として式()のセフアム−3−オン−化合
物または塩形成基をもつこのような化合物の塩殊
に前項で挙げたような塩においてはRa 1は式(B)の
水素原子またはアシル基(この式でRaはフエニ
ル基、4−ヒドロキシフエニル基のようなヒドロ
キシフエニル基、2−または3−チエニル基のよ
うなチエニル基、4−イソチアゾリル基または
1,4−シクロヘキサジエニル基であり、Xは酸
素原子であり、mは0または1であり、そして
Rbは水素原子またはmが0である場合にはアミ
ノ基、保護されたアミノ基例えばアシルアミノ基
例えばt−ブトキシカルボニルアミノ基のような
α−位置で高度に分枝した低級アルコキシカルボ
ニルアミノ基、2,2,2−トリクロルエトキシ
カルボニルアミノ基2−ヨードエトキシカルボニ
ルアミノ基または2−ブロムエトキシカルボニル
アミノ基のような2−ハロゲノ低級アルコキシカ
ルボニルアミノ基、または低級アルコキシ置換ま
たはニトロ置換されている場合のあるフエニル低
級アルコキシカルボニルアミノ基例えば4−メト
キシベンジルオキシカルボニルアミノ基、または
水酸基または保護された水酸基例えばアシルオキ
シ基例えばt−ブトキシカルボニルオキシ基のよ
うなα−位置で高度に分枝した低級アルコキシカ
ルボニルオキシ基、2,2,2−トリクロルエト
キシカルボニルオキシ基、2−ヨードエトキシカ
ルボニルオキシ基または2−ブロムエトキシカル
ボニルオキシ基のような2−ハロゲノ低級アルコ
キシカルボニルオキシ基、さらにホルミルオキシ
基である)または5−アミノ−5−カルボキシル
バレリル基(そのアミノ基およびカルボキシル基
は保護されていることもでき、例えばアシルアミ
ノ基例えばアセチルアミノ基のような低級アルカ
ノイルアミノ基、ジクロルアセチルアミノ基のよ
うなハロゲノ低級アルカノイルアミノ基、ベンゾ
イルアミノ基またはフタロイルアミノ基としてま
たはエステル化されたカルボキシル基例えばジフ
エニルメトキシカルボニル基のようなフエニル低
級アルコキシカルボニル基としてあることができ
る)であり(なお、Raがフエニル基またはヒド
ロキシフエニル基である場合にmは1である)、
Rb 1は水素原子であり、RA 2は2−位置でハロゲン
原子例えば塩素、臭素またはよう素原子で置換さ
れている場合のある低級アルコキシ基殊にα−位
置で高度に分枝した低級アルコキシ基例えばt−
ブトキシ基、2−ハロゲノ−低級アルコキシ基例
えば2,2,2−トリクロルエトキシ基、2−ヨ
ードエトキシ基または2−ブロムエトキシ基、ま
たは例えばメトキシ基のような低級アルコキシ基
で置換されている場合のあるジフエニルメトキシ
基例えばジフエニルメトキシ基または4,4′−ジ
メトキシ−ジフエニルメトキシ基、さらにトリメ
チルシリルオキシ基のようなトリ低級アルキルシ
リルオキシ基である。 本発明は主として7β−(D−α−アミノ−α
−Ra−アセチルアミノ)−セフアム−3−オン−
4ξ−カルボン酸−ジフエニルメチルエステル
(Raはフエニル基、4−ヒドロキシフエニル基、
2−チエニル基または1,4−シクロヘキサジエ
ニル基であり、そしてアミノ基は保護された形
で、例えばアシルアミノ基例えばt−ブチルオキ
シカルボニルアミノ基のようなα−位置で高度に
分枝した低級アルコキシカルボニルアミノ基また
は2−ハロゲノ低級アルコキシカルボニルアミノ
基例えば2,2,2−トリクロルエトキシカルボ
ニルアミノ基、2−ヨードエトキシカルボニルア
ミノ基または2−ブロムエトキシカルボニルアミ
ノ基、または低級アルコキシ置換またはニトロ置
換されている場合のあるフエニル低級アルコキシ
カルボニルアミノ基例えば4−メトキシベンジル
オキシカルボニルアミノ基として存在するのが好
ましい)ならびに7β−アミノ−セフアム−3−
オン−4ξ−カルボン酸−ジフエニルメチルエス
テルおよびそれらの塩そしてとりわけ7β−(D
−α−t−ブチルオキシカルボニルアミノ−α−
フエニル−アセチルアミノ)−セフアム−3−オ
ン−4ξ−カルボン酸−ジフエニルメチルエステ
ルに関するものである。 式 〔この式でRa 1は水素原子またはアミノ保護基
RA 1でありそしてRb 1は水素原子またはアシル基
AcであるかまたはRa 1とRb 1とはいつしよになつ
て2価のアミノ保護基を表わし、そしてこれらの
アミノ保護基およびアシル基は過酸酸化を受けな
い基であり、そしてRA 2は保護されたカルボキシ
ル基を式中のカルボニル基−C(=O)−といつ
しよになつて形成している基である〕 で表わされる2,3−位置または3,4−位置に
2重結合をもつているセフエム化合物を過酸で処
理し、そして得られた3−ホルミルオキシ−4−
RA 2−カルボニル−7β−N−Ra 1−N−Rb 1−
ア
ミノ−セフエム化合物においてホルミルオキシ基
を分裂し、 そして所望により、得られた塩形成基をもつ化
合物を塩に変えまたは得られた塩を遊離化合物ま
たは他の塩に変え、所望により、得られた異性体
混合物を個々の異性体に分離することにより、式 (この式でRa 1とRb 1とRA 2とは前記と同じ意
味
である) で表わされる7β−アミノ−セフアム−3−オン
−4−カルボン酸化合物、および/または相当す
る3−エノール互変異性体または塩形成基をもつ
このような化合物の塩が得られる。 また、上記式()で表わされる2,3−位置
または3,4−位置に2重結合をもつているセフ
エム化合物を過剰量の過酸で処理し、そして得ら
れた3−ホルミルオキシ−4−RA 2−カルボニル
−7β−N−Ra 1−N−Rb 1−アミノ−セフエム−
1−オキシド化合物においてホルミルオキシ基を
分裂し、所望により、得られた塩形成基をもつ化
合物を塩に変えまたは得られた塩を遊離化合物ま
たは他の塩に変え、所望により、得られた異性体
混合物を個々の異性体に分離することにより式 (この式でRa 1とRb 1とRA 2とは前記と同じ意
味
である) で表わされる7β−アミノ−セフアム−3−オン
−4−カルボン酸化合物の1−オキシドおよび/
または相当する3−エノール互変異性体または塩
形成基をもつこのような化合物の塩が得られる。 上記の反応をバイヤー・ビリガー酸化方法によ
つて行うことができる。この酸化反応では非金属
元素から成る無機過酸、有機過酸、または過酸化
水素と酸特に解離定数が少くとも10-5である有機
カルボン酸との混合物が挙げられる。適する無機
過酸は過よう素酸および過硫酸である。有機過酸
は相当する過カルボン酸および過スルホン酸であ
つて、これをそのまま加えることもできるしまた
は反応の場において少くとも当量の過酸化水素と
カルボン酸とを使つて生成させることもできる。
この場合に、例えば酢酸を溶媒として使うときは
カルボン酸を大過剰に使うのが適する。適する過
酸は例えば過ぎ酸、過酢酸、過トリフルオル酢
酸、過マレイン酸、過安息香酸、3−クロル過安
息香酸、モノ過フタル酸またはp−トルエン過ス
ルホン酸である。この反応を不活性溶媒例えば塩
化メチレンやクロロホルムのようなハロゲン化さ
れている場合のある炭化水素の存在下でそして好
ましくは冷却の下で例えば約−10〜+20℃で行う
のが好ましい。 得られた3−ホルミルオキシ−4−RA 2−カル
ボニル−7−N−Ra 1−N−Rb 1−アミノ−セフエ
ム化合物において、ホルミルオキシ基を加溶媒分
解殊に加水分解によつて、好ましくはアルカリ金
属の重炭酸塩例えば炭酸水素ナトリウムや炭酸水
素カリウムのような弱塩基の存在の下で分裂する
ことができる。 前記の酸化反応によつては、式()の化合物
または相当する1−オキシドまたはこれら両化合
物の混合物が得られる。このような混合物を式
()の化合物と相当する1−オキシドとに分け
ることができるし、またはそれを酸化して式
()の化合物の均質な1−オキシドとすること
ができる。 式()の化合物と相当する1−オキシドとの
混合物はこれを常法により、例えば分別結晶化ま
たはクロマトグラフイ(例えばカラムクロマトグ
ラフイ、薄層クロマトグラフイ)によつて各成分
に分けることができる。 さらに、本発明方法によつて得られた式()
の化合物とその1−オキシドとの混合物または得
られた式()の化合物を酸化して相当する1−
オキシドにすることができる。適する酸化剤とし
て、還元電位が少くとも+1.5ボルトでありそし
て非金属元素から成る無機過酸、有機過酸、また
は過酸化水素と酸特に解離定数が少くとも10-5で
ある有機カルボン酸との混合物が挙げられる。適
する無機過酸は過よう素酸および過硫酸である。
有機過酸は相当する過カルボン酸および過スルホ
ン酸であつて、これをそのまま加えることもでき
るしまたは反応の場において少くとも当量の過酸
化水素とカルボン酸とを使つて生成させることが
できる。この場合に、例えば酢酸を溶媒として使
うときはカルボン酸を大過剰に使うのが適する。
適する過酸は例えば過ぎ酸、過酢酸、過トリフル
オル酢酸、過マレイン酸、過安息香酸、3−クロ
ル過安息香酸、モノ過フタル酸またはp−トルエ
ン過スルホン酸である。 さらに、解離定数が少くとも10-5である酸を触
媒として十分な量で含む過酸化水素で酸化するこ
ともできる。この酸を低濃度例えば1〜2%また
はそれ以下、しかしより多量に使うこともでき
る。この混合物の効果は主としてその酸の強さに
依存する。適する混合物は例えば過酸水素と酢
酸、過塩素酸またはトリフルオル酢酸との混合物
である。 上記の酸化を適当な触媒の存在下で行うことが
できる。例えば、過カルボン酸による酸化を解離
定数が少くとも10-5の酸の存在によつて接触させ
ることができ、この酸の効果はその強さに依存す
る。触媒として適する酸は例えば酢酸、過塩素酸
およびトリフルオル酢酸である。一般に酸化剤を
少くとも等モル量、好ましくは約10〜20%の少過
剰量で使うが、酸化剤をもつと大過剰量すなわち
10倍までの量またはそれ以上を使うこともでき
る。この酸化を緩和な条件の下で、例えば約−50
〜+100℃、好ましくは約−10〜+40℃で行う。 さらに、セフアム−3−オン化合物を酸化して
相当する1−オキシドにするのにオゾン、さらに
有機次亜ハロゲン酸エステル化合物例えば次亜塩
素塩t−ブチルのような次亜塩素酸低級アルキル
エステル(これを不活性溶媒例えば塩化メチレン
のようなハロゲン化されている場合のある炭化水
素の中でそして約−10〜+30℃で行う)、過よう
素酸塩化合物例えば過よう素酸カリウムのような
アルカリ金属の過よう素酸塩(これを好ましくは
水性媒質中で約6のPHでそして約−10〜+30℃で
使う)、ヨードベンゼンジクロライド(これを水
性媒質中で、好ましくはピリジンのような有機塩
基の存在の下そして冷却して例えば約−20〜0℃
で使う)、またはチオ基をスルホキシド基に変え
るのに適する他の酸化剤を使つて行うことができ
る。 使用する酸化剤によつては1α−オキシドまた
は1β−オキシドまたはそれらの混合物が得られ
る。 式()の化合物のケタール誘導体はそれ自体
公知の方法によつて作られる。例えば、p−トル
エンスルホン酸、ルイス酸例えば塩化亜鉛()
(殊に、チオグリコールを使う場合、この際一般
に吸水剤例えば硫酸ナトリウムを使う)または酸
性イオン交換体のような酸性触媒の存在下で、一
般に不活性溶媒例えば塩素化のようなハロゲン化
されている場合のある好ましくは脂肪族の炭化水
素または場合によつては環状の適当なエーテル例
えばジオキサンの存在の下でグリコール、チオグ
リコールまたはジチオグリコールで処理すること
によつて、またはケタール交換によつて、例えば
p−トルエンスルホン酸のような強酸の存在下で
2,2−エチレンジオキシブタンのような低級ア
ルカノンのケタールで処理するかまたは酢酸のよ
うな酸の存在下でジ置換ホルミルアミン化合物の
ケタール例えば(1,3−ジオキソラン−2−イ
ル)−N,N−ジメチルアミンのようなN−ホル
ミル−N,N−ジ低級アルキル−アミンのケター
ルで処理することによつて行うのである。 式()の化合物のケタール化合物を後の段階
でそれ自体公知の方法によつて分裂することがで
きる。ケタールおよびチオケタールは、これを例
えば酸性加水分解により、例えば塩酸、ぎ酸また
はトリフルオル酢酸のような無機または有機酸の
水溶液で一般には不活性有機溶媒例えば塩素化の
ようなハロゲン化されていることのできる好まし
くは脂肪族の炭化水素または適当な場合によつて
は環状のエーテルの存在の下で処理することによ
り、またジチオケタールは、これを例えば塩化水
銀()(一般にアセトンやジオキサンのような
有機溶媒の含水物の存在下で)またはN−ブロム
こはく酸イミドのようなN−ハロゲノイミドまた
はN−ハロゲノアミドで処理するのである。 本発明方法によつて得られた式()の化合物
を式()の他の化合物に変えることができる
が、3−位置のオキソ基および式−C(=0)−
RA 2の保護されたカルボキシル基が作用されない
ように反応条件を選ぶよう心掛けねばならない。
この場合にそのオキソ基を保護例えばシリル化ま
たはスタニル化されたエノール基のような官能的
に変えられたエノール基の形でまたはケタール基
の形で保護しておくこともできる。さらに、必要
ならば、反応体中のその反応に関与しない遊離の
官能性基をそれ自体公知の方法によつて、例えば
遊離のアミノ基を例えばアシル化、トリチル化ま
たはシリル化によつて、遊離の水酸基またはメル
カプト基を例えばエーテル化またはエステル化に
よつて、そして遊離カルボキシル基はこれを例え
ばシリル化を含めたエステル化によつて一時的に
保護しそしてその反応の終了後に所望ならばこれ
らの基をそれ自体公知の方法によつて遊離させる
ことができる。 得られた化合物において、例えばアミノ保護基
RA 1またはRb 1、殊に容易に分裂できるアシル基を
それ自体公知の方法によつて分裂することができ
そして他のアミノ保護基で置換することができ
る。従つて、例えば、t−ブトキシカルボニル基
のようになα−位置で高度に分枝した低級アルコ
キシカルボニル基はこれをトリフルオル酢酸で処
理することによつて、また2,2,2−トリクロ
ルエトキシカルボニル基や2−ヨードエトキシカ
ルボニル基のような2−ハロゲノ低級アルコキシ
カルボニル基またはフエナシルオキシカルボニル
基はこれを適当な還元性金属または相当する金属
化合物例えば亜鉛または2価クロムの塩化物や酢
酸塩のような2価クロム化合物で、有利にはこの
金属または金属化合物といつしよに発生期の水素
を生成するような水素給体の存在の下で、好まし
くは含水酢酸の存在の下で処理することによつ
て、分裂することができる。 さらに、式()の得られた化合物において、
アシル基RA 1またはRb 1(の基中に存在することの
できる遊離の官能性基は場合によつては例えばア
シルアミノ基またはシリル化されたアミノ基の形
で、そして(または)例えばエステル化またはシ
リル化されたカルボキシル基の形のカルボキシル
基の形で保護されている)をイミドーハライド形
成剤で処理し、得られたイミドーハライドをアル
コールと反応させそしてこうして生成したイミノ
エーテルを分裂することにより分裂することがで
きる。 ハロゲン原子が親電子性中心原子に結合してい
るイミドーハライド形成剤はとりわけ酸ハロゲン
化物、例えば酸臭化物および特に酸塩化物であ
る。これらは主として無機酸とりわけりん含有酸
の酸ハロゲン化物例えばオキシハロゲン化りん、
3ハロゲン化りんおよび特に5ハロゲン化りん、
例えばオキシ塩化りん、3塩化りんおよび主に5
塩化りん、ならびにピロカテキル−3塩化りん、
ならびにいおう含有酸またはカルボン酸の酸ハロ
ゲン化物特に塩化物、例えば塩化チオニル、ホス
ゲンまたは塩化オキザリル基である。 上記イミド−ハライド形成剤の1つと反応させ
るには、一般に適当な塩基特に有機塩基とりわけ
第3アミン例えば第3脂肪族モノアミンまたはジ
アミン例えばトリ−低級アルキルアミン例えばト
リメチルアミン、トリエメルアミンまたはN,N
−ジイソプロピル−N−エチル−アミン、さらに
N,N,N′,N′−テトラ−低級アルキル−低級
アルキレンジアミン例えばN,N,N′,N′−テ
トラメチル−1,5−ペンチレンジアミンまたは
N,N,N′,N′−テトラメチル−1,6−ヘキ
シレンジアミン、単環式または2環式のモノアミ
ンまたはジアミン例えばN−置換(例えば、N−
低級アルキル化)されたアルキレンアミン、アザ
アルキレンアミンまたはオキサアルキレンアミン
例えばN−メチルピペリジンまたはN−メチルモ
ルホリン、または2,3,4,6,7,8−ヘキ
サヒドロ−ピロロ−〔1,−a〕ピリミジン(すな
わち、ジアザビシクロノネン、DBN)、または第
3芳香族アミン例えばジ−低級アルキルアニリン
例えばN,N−ジメチルアニリンまたはとりわけ
第3複素環式単環式または2環式塩基例えばキノ
リンやイソキノリン、特にピリジンの存在の下
で、好ましくはハロゲン化(例えば、塩素化)さ
れている場合のある脂肪族または芳香族炭化水素
例えば塩化メチレンのような溶媒の存在の下で反
応させる。この反応においては、イミド−ハライ
ド形成剤および塩基をほぼ当モル量で使うことが
できるが、塩基を過剰にまたは当量より少い量
で、例えば約0.2〜1倍量または約10倍の過剰量
までの量、特に約3〜5倍過剰量の量で使うこと
もできる。 このイミド−ハライド形成剤との反応を冷却し
たから、例えば約−50〜+10℃で行うのが好まし
いが、原料の安定性および生成物の安定性が一層
高い温度を許容するならば一層高い温度すなわち
例えば約75℃までの温度で反応させることもでき
る。 こうして生成したイミド−ハライド生成物一般
に単離しないで、好ましくは前記塩基の1つの存
在の下で、アルコールと反応させてイミノエーテ
ルを得る。アルコールとしては例えば脂肪族また
は芳香脂肪族アルコール、とりわけハロゲン化
(例えば塩素化)のような置換されている場合の
ある低級アルカノールまたは別に水酸基をさらに
もつ低級アルカノール、例えばエタノール、n−
プロパノール、シソプロパノール、n−ブタノー
ル、特にメタノール、ならびに2,2,2−トリ
クロルエタノールや2−ブロムエタノールのよう
な2−ハロゲノ低級アルカノール、およびまた置
換されている場合のあるフエニル−低級アルカノ
ール例えばベンジルアルコールが適する。このア
ルコールを一般に過剰量例えば約100倍までの過
剰量で使い、そしてその工程を冷却しながら例え
ば約−50〜+10℃で行うのが好ましい。 こうして生成したイミノエーテル生成物を有利
には単離せずに分裂することができる。このイミ
ノエーテルの分裂は適当なヒドロキシ化合物で処
理することによつて、好ましくは加水分解または
さらにアルコーリシスによつて達せられる(この
アルコーリシスを前記イミノエーテルの生成に引
続いて過剰量のアルコールを使つて行うことがで
きる)。この際に水、またはアルコール特にメタ
ノールのような低級アルカノール、またはアルコ
ールのような有機溶媒の水との混合物を使うのが
好ましい。この工程を一般に酸性媒質中で例えば
約1〜5のPH値で行い、そしてこのPH値は、必要
ならば、塩基性剤例えば水酸化ナトリウムや水酸
化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物の水溶
液または酸例えば塩酸、硫酸、りん酸、ふつ化ほ
う素酸、トリフルオル酢酸またはp−トルエンス
ルホン酸のような無機酸または有機酸を加えるこ
とによつて調整することができる。 上記のアシル基を分裂するための3段階工程
を、途中でイミド−ハライドおよびイミノエーテ
ル中間体を単離せずに、一般にはそれら反応体に
対し不活性な有機溶媒例えば塩化メチレンのよう
なハロゲン化されている場合のある炭化水素の存
在下でそして(または)窒素ガスのような不活性
ガスの中で行うのが有利である。 上記の方法によつて得られるイミド−ハライド
中間体をアルコールと反応させる代りにカルボン
酸特に立体障害のあるカルボン酸のアルカリ金属
塩のような塩と反応させれば、式()における
Ra 1とRb 1とが共にアシル基である化合物が得られ
る。 式()における基Ra 1とRb 1とがいずれもアシ
ル基である化合物においては、これらの基の1方
好ましくは立体障害の少い方の基を選択的に例え
ば加水分解またはアミノリシスによつて除くこと
ができる。 式()の化合物においてRA 1とRb 1とがそれら
の結合している窒素原子と共にフタルイミド基を
表わす場合には、これを例えばヒドラジノリシス
によつて(すなわち、このような化合物をヒドラ
ジンで処理することによつて)遊離アミノ基に変
えることができる。 本発明方法によつて得た化合物におけるアシル
アミノ基のアシル基RA 1の中では、例えば5−ア
ミノ−5−カルボキシ−バレリル基〔そのカルボ
キシル基は例えばエステル化によつて、特にジフ
エニルメチル基によつて、そして(または)アミ
ノ基は例えばアシル化によつて、特に有機カルボ
ン酸のアシル基例えばジクロルアセチル基のよう
なハロゲノ低級アルカノイル基またはフタロイル
基によつて保護されていることもできる〕は塩化
ニトロシルのようなニトロシル化剤、ベンゼンジ
アゾニウムクロライドのような炭素環式アレン−
ジアゾニウム塩またはN−ハロゲン−アミドまた
はN−ハロゲン−イミド例えばN−ブロムこはく
酸イミドのような陽性ハロゲン原子を供与する反
応剤で、好ましくは適当な溶媒または溶媒混合
物、例えばニトロ−低級アルカンまたはシアノ−
低級アルカンといつしよにぎ酸の中で処理し、そ
の反応生成物を水または低級アルカノール例えば
メタノールのような水酸基をもつ化合物と混合す
るか、またはRA 1としての5−アミノ−5−カル
ボキシ−バレリル基におけるアミノ基が非置換で
ありそしてカルボキシル基が例えばエステル化に
よつて保護されておりそしてRb 1がアシル基であ
るのが好ましいが水素原子であることもできる場
合には、ジオキサンまたはハロゲン化された脂肪
族炭化水素例えば塩化メチレンのような適当な溶
媒の中で放置し、そして必要ならばこうして生成
した遊離のまたはモノアシル化されたアミノ化合
物をそれ自体公知の方法によつて後処理すること
によつて、分裂させることができる。 ホルミル基RA 1は、酸性剤例えばp−トルエン
スルホン酸または塩酸、弱塩基性剤例えば希薄な
アンモニアまたは脱カルボニル化剤例えばトリス
−(トリフエニルホスフイン)−ロジウムクロライ
ドで処理することによつて除去することもでき
る。 トリチル基のようなトリアリ−ルメチル基RA 1
は、例えば無機酸のような酸性剤例えば塩酸で処
理することによつて除去できる。 式()(この式においてRa 1およびRb 1が水素
原子であり、式中の3−位置のオキソ基が保護さ
れている)の化合物においては、必要ならば例え
ば前記のようにその遊離アミノ基をそれ自体公知
の方法で、例えばカルボン酸のような酸またはそ
の反応性酸誘導体で処理してアシル化することに
より保護することができる。 遊離酸(存在している場合のある官能性基例え
ば存在している場合のあるアミノ基が保護されて
いるのが好ましい)を使つてアシル化する場合に
は一般に使われる適当な縮合剤例えばカルボジイ
ミド例えばN,N−ジエチル−、N,N′−ジプ
ロピル−、N,N−ジイソプロピル−、N−
N′−ジシクロヘキシル−またはN−エチル−
N′−3−ジメチルアミノプロピル−カルボジイ
ミド、適当なカルボニル化合物例えばカルボニル
ジイミダゾールまたはイソオキサゾリニウム塩、
例えばN−エチル−5−フエニル−イソオキサゾ
リニウム−3′−スルホネート、およびN−t−ブ
チル−5−メチル−イソオキサゾリニウムパーク
ロレート、または適当なアシルアミノ化合物例え
ば2−エトキシ−1−エトキシカルボニル−1,
2−ジヒドロキノリンを使う。 この縮合反応を後に述べる無水反応媒質例えば
塩化メチレン、ジメチルホルムアミドまたはアセ
トニトリルの中で行うのが好ましい。 また、アミドの形成に使う酸の官能性誘導体
(これはアミノ基のような官能性基をもつ場合に
はこの基を保護しておくのが好ましい)として
は、主にこのような酸の無水物、好ましくは混合
無水物である。混合無水物は例えば無機酸殊にハ
ロゲン化水素酸との無水物すなわち相当する酸ハ
ロゲン化物例えば酸塩化物または臭化物、さらに
アジ化水素酸との無水物すなわち相当する酸アチ
ド、りん含有酸例えばりん酸または亜りん酸、い
おう含有酸例えば硫酸またはシアン化水素酸との
無水物である。他の適する無水物は例えば有機酸
例えばふつ素または塩素原子のようなハロゲン原
子で置換されている場合のある低級アルカンカル
ボン酸のような有機カルボン酸例えばピバル酸ま
たはトリクロル酢酸との無水物または炭酸の半エ
ステル例えばエチル半エステルやイソブチル半エ
ステルのような特に低級アルキル半エステルとの
無水物あるいは有機殊に脂肪族または芳香族スル
ホン酸例えばp−トルエンスルホン酸との無水物
である。 さらに、アシル化剤として分子内無水物、例え
ばジケテンのようなケテン、イソシアネート(す
なわち、カルバミン酸化合物の分子内無水物)、
またはカルボキシ置換された水酸基またはアミノ
基をもつカルボン酸化合物の分子内無水物例えば
マンデル酸−0−カルボキシアンハイドライドま
たは1−N−カルボキシアミノ−シクロヘキサン
カルボン酸の無水物を使うことができる。 また、遊離アミノ基との反応に適する他の酸誘
導体は活性化されたエステル(これが官能性基を
もつ場合には一般にこれを保護しておくのが好ま
しい)、例えばビニル属低級アルカノールのよう
なビニル属アルコール(すなわち、エノール)と
のエステル、またはアリールエステル例えば好ま
しくは例えばニトロ基または塩素のようなハロゲ
ン原子で置換されたフエニルエステル例えばペン
タクロルフエニルエステル、4−ニトロフエニル
エステルまたは2,4−ジニトロフエニルエステ
ル、ヘテロ芳香族エステル例えばベンズトリアゾ
ールエステル、またはサクシニルイミノエステル
やフタリルイミノエステルのようなジアシルイミ
ノエステルである。 他のアシル化剤として、例えば酸の置換された
ホルムイミノ誘導体例えば置換されたN,N−ジ
メチルクロルホルムイミノ誘導体、またはN,N
−ジアシル化されたアニリンのようなN−置換
N,N−ジアシルアミンがある。 無水物または殊に酸ハロゲン化物のような酸誘
導体でアシル化するには、酸結合剤例えば有機ア
ミンのような有機塩基例えば第3アミン例えばト
リエチルアミンのようなトリ低級アルキルアミ
ン、N,N−ジメチルアニリンのようなN,N−
ジ低級アルキルアニリンまたはピリジン型の塩基
例えばピリジン、無機塩基例えばアルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩または
重炭酸塩例えばナトリウム、カリウムまたはカル
シウムの水酸化物、炭酸塩または重炭酸塩、また
はオキシラン例えばエチレンオキシドやプロピレ
ンオキシドのような低級1,2−アルキレンオキ
シドの存在の下で行うことができる。 上記のアシル化を水性または好ましくは非水性
溶媒または溶媒混合物、例えばN,N−ジ低級ア
ルキルアミド例えばジメチルホルムアミドのよう
なカルボン酸アミド、塩化メチレン、4塩化炭素
またはクロルベンゼンのようなハロゲン化された
炭化水素、アセトンのようなケトン、酢酸エチル
のようなエステルまたはアセトニトリルのような
ニトリルまたはそれらの混合物の中でそして必要
ならば低めた温度または高めた温度でそして(ま
たは)窒素のような不活性ガスの下で行うことが
できる。 アシル基は、式()〔この式でRa 1およびRb 1
は共にイリデン基(この基はRa 1およびRb 1が水素
原子である化合物を例えば脂肪族、芳香族または
芳香脂肪族アルデヒドのようなアルデヒドで後処
理することにより導入することもできる)〕の化
合物を例えば上記のような方法に従つてアシル化
し、そして得られたアシル化生成物を好ましくは
中性または弱酸性の媒質中で加水分解することに
より導入することもできる。 また、アシル基を段階を経て導入することもで
きる。すなわち、例えば遊離アミノ基をもつ式
()の化合物中にハロゲノ低級アルカノイル基
例えばブロムアセチル基を導入しまたは例えばホ
スゲンのような炭酸ジハライドで処理してクロル
カルボニル基のようなハロゲノカルボニル基を導
入しそしてこうして得られるN−(ハロゲノ−低
級アルカノイル)−アミノ化合物またはN−(ハロ
ゲノカルボニル)−アミノ化合物を適当な置換剤
例えばテトラゾールのような塩基性化合物、2−
メルカプト−1−メチル−イミダゾールのような
チオ化合物、アジ化ナトリウムのような金属塩ま
たはアルコール例えばt−ブタノールのような低
級アルカノールと反応させることによつて、置換
されたN−低級アルカノイルアミノまたはN−ヒ
ドロキシカルボニルアミノ化合物を得ることがで
きる。 さらに、例えば、式()におけるRa 1がα−
位置で好ましくは置換されているグリシル基例え
ばフエニルグリシル基でありそしてRb 1が水素原
子である化合物をホルムアルデヒドのようなアル
デヒドまたはケトン例えばアセトンのような低級
アルカノンと反応させることによつて、Ra 1とRb 1
とがその両方でこれらの結合している窒素原子と
共に5−オキソ−1,3−ジアザ−シクロペンチ
ル基(これは4−位置で好ましくは置換されてお
りそして2−位置で場合によつては置換されてい
ることができる)を表わす式()の化合物が得
られる。 さらに、既存のアシル基を他の好ましくは立体
障害のあるアシル基で例えば上記の方法によつて
交換することによつてアシル化することもでき
る。この場合に、そのイミドハライド化合物を製
造し、これを酸の塩で処理しそしてこうして得た
生成物中のアシル基の1つ(一般には立体障害の
少い方のアシル基)を加水分解によつて分裂させ
るのである。 式()のRa 1およびRb 1が水素原子である化合
物において、例えば塩化トリチルのようなトリア
リールメタノールの反応性エステルで好ましくは
ピリジンのような塩基性剤の存在下で処理してト
リアリールメチル基を導入することによつて、そ
の遊離アミノ基を保護することもできる。 また、シリル基またはスタニル基を導入するこ
とによつて、アミノ基を保護することもできる。
このような基を導入するには、これ自体公知の方
法によつて、例えば適当なシリル化剤例えばジク
ロロジメチルシランのようなジハロゲノージ低級
アルキルシラン、メトキシ−メチル−ジクロルシ
ランのような低級アルコキシ−低級アルキル−ジ
ハロゲノシランまたはトリメチルシリルクロライ
ドやジメチル−t−ブチルシリルクロライドのよ
うなトリ低級アルキルシリルハライド(これらを
ピリジンのような塩基の存在下で使うのが好まし
い)で処理するが、N−モノ低級アルキル化、
N,N−ジ低級アルキル化、N−トリ−低級アル
キルシリル化またはN−低級アルキル−N−トリ
−低級アルキルシリル化されている場合のあるN
−(トリ−低級アルキル−シリル)−アミン(例え
ばイギリス特許第1073530号明細書を参照された
い)またはシリル化されたカルボン酸アミド例え
ばビス−トリメチルシリル−アセトアミドのよう
なビス−トリ低級アルキルシリル−アセトアミド
またはトリフルオルシリルアセトアミドで処理す
るか、または適当なスタニル化剤例えばビス−
(トリ−n−ブチル−すず)−オキサイドのような
ビス−(トリ−低級アルキル−すず)−オキサイ
ド、トリエチル−すず−ハイドロオキサイドのよ
うなトリ−低級アルキルすずハイドロオキサイ
ド、トリ−低級アルキル−低級アルコキシ−すず
化合物、テトラ−低級アルコキシすず化合物また
はテトラ−低級アルキルすず化合物あるいはトリ
−n−ブチルすずクロライドのようなトリ−低級
アルキルすずハライド(例えばオランダ特許出願
第67/17107号明細書を参照されたい)で処理す
るのである。 式−C(=0)−RA 2のエステル化された基をも
つ生成化合物において、この基をこの式の他のエ
ステル化されたカルボキシル基に変えることがで
きる。例えば2−クロルエトキシカルボニル基ま
たは2−ブロムエトキシカルボニル基を、アセト
ンのような適当な溶剤の存在下で、よう化ナトリ
ウムのようなよう素で処理することにより2−ヨ
ードエトキシカルボニル基に変えることができ
る。 本発明方法ならびに所望によつては行うことの
できる追加工程においては、必要ならば、その原
料または本発明方法によつて得られる化合物中の
反応に関与しない遊離の官能性基を、例えば遊離
アミノ基はこれを例えばアシル化、トリチル化ま
たはシリル化によつて、遊離水酸基またはメルカ
プト基はこれを例えばエーテル化またはエステル
化によつてそして遊離カルボキシル基はこれを例
えばシリル化を含めたエステル化によつて、予じ
めそれ自体公知の方法によつて一時的に保護しそ
して反応終了後にそれ自体公知の方法によつてそ
れらの基を所望ならば個個にまたは同時に遊離さ
せることができる。従つて、好ましくは例えばア
シル基としてのRA 1またはRb 1におけるアミノ基、
水酸基、カルボキシル基またはホスホノ基を例え
ば前記のようなアシルアミノ基例えば2,2,2
−トリクロルエトキシカルボニルアミノ基、2−
ブロムエトキシカルボニルアミノ基、4−メトキ
シベンジルオキシカルボニルアミノ基、ジフエニ
ルメトキシカルボニルアミノ基またはt−ブトキ
シカルボニルアミノ基の形で、アリールチオアミ
ノ基またはアリール低級アルキルチオアミノ基例
えば2−ニトロフエニルチオアミノ基の形で、ア
リールスルホニルアミノ基例えば4−メチルフエ
ニルスルホニルアミノ基の形で、1−低級アルコ
キシカルボニル−2−プロピリデンアミノ基の形
で、前記のようなアシルオキシ基例えばt−ブト
キシカルボニルオキシ基、2,2,2−トリクロ
ルエトキシカルボニルオキシ基または2−ブロム
エトキシカルボニルオキシ基の形で、前記のよう
なエステル化されたカルボキシル基例えばジフエ
ニルメトキシカルボニル基の形であるいは前記の
ような0,0′−ジ置換されたホスホノ基例えば
0,0′−ジメチルホスホノ基のような0,0′−ジ
低級アルキルホスホノ基の形でそれぞれ保護しそ
して後に、場合によつてはその保護基を変換(例
えば2−ブロムエトキシカルボニル基を2−ヨー
ドエトキシカルボニル基に)してから、それ自体
公知の方法によつてそして保護基の種類によつ
て、例えば2,2,2−トリクロルエトキシカル
ボニルアミノ基または2−ヨードエトキシカルボ
ニルアミノ基はこれを含水酢酸の存在下での亜鉛
のような適当な還元剤で処理し、ジフエニルメト
キシカルボニルアミノ基やt−ブトキシカルボニ
ルアミノ基はこれをぎ酸またはトリフルオル酢酸
で処理し、アリールチオアミノ基やアリール低級
アルキルチオアミノ基はこれを亜鉛酸のような親
核性剤で処理し、アリールスルホニルアミノ基は
これを電解還元によつて1−低級アルコキシカル
ボニル2−プロピリデンアミノ基はこれを無機酸
水溶液で処理し、t−ブトキシカルボニルオキシ
基はこれをぎ酸またはトリフルオル酢酸で処理
し、2,2,2−トリクロルエトキシカルボニル
オキシ基にこれを含水酢酸の存在下での亜鉛のよ
うな化学的還元剤で処理し、ジフエニルメトキシ
カルボニル基はこれをぎ酸またはトリフルオル酢
酸で処理するかまたは加水分解し、または0,
0′−ジ置換されたホスホノ基はこれをアルカリ金
属のハロゲン化物で処理して所望ならば例えば部
分的に分裂することができる。 式()の化合物の塩はそれ自体公知の方法に
よつて製造される。すなわち、式()における
R2が水素原子である化合物を例えば適当なカル
ボン酸のアルカリ金属塩のような金属化合物例え
ばα−エチルカプロン酸のナトリウム塩またはア
ンモニアまたは適当な有機アミンで処理すること
によつて、その塩を生成することができる。この
目的には、その塩形成剤を化学量論的量または僅
かに過剰な量で使うのが好ましい。また、塩基性
基をもつ式()の化合物の酸付加塩は常法によ
つて、例えば酸または適当な陰イオン交換剤で処
理することによつて得られる。塩形成するアミノ
基と遊離カルボキシル基とをもつ式()の化合
物の分子内塩は、例えばその酸付加塩のような塩
を等電点まで例えば弱塩基で中和するかまたは液
状イオン交換剤で処理することによつて生成され
る。塩形成基をもつ式()の化合物の1−オキ
シドの塩は同様の方法により作ることができる。 塩はこれを常法により遊離化合物に変えること
ができる。例えば、金属塩およびアンモニウム塩
を適当な酸で処理することによつて、また酸付加
塩を例えば適当な塩基性剤で処理することによつ
て、遊離化合物に変えることができる。 得られた異性体混合物は、これをそれ自体公知
の方法によつて、例えばジアステレオマー異性体
の混合物を分別結晶化、吸着クロマトグラフイ
(カラムクロマトグラフイまたは薄層クロマトグ
ラフイ)または他の適当な分離方法によつて個個
の異性体に分けることができる。得られたラセミ
体は、これを常法によつて、適当ならば適当な塩
形成基を導入した後に、例えば光学活性の塩形成
剤とのジアステレオマー塩混合物を生成し、この
混合物を各ジアステレオマー塩に分けそしてこう
して分けたジアステレオマー塩を遊離化合物に変
えることによつて、または光学活性の溶媒から分
別結晶化することによつて、個個の対掌体に分け
ることができる。 本発明は、その工程で中間体として生成する化
合物を原料として使いそして残りの工程段階を行
うかまたはその工程を任意の段階で中断するよう
な具体例をも包含する。さらに、原料を誘導体の
形で使うことができるしまたはその反応中に生成
させることができる。 なお、原料および反応条件としては、先に殊に
好ましいものとして挙げた化合物が得られるよう
に選ぶのが好ましい。 本発明方法で使う式()の原料は例えば次の
ようにして作られる。 式 (この式でRA 1は好ましくはアミノ保護基RA 1で
あり、そしてR2は好ましくは水酸基であるが、
基RA 2でもある) で表わされるセフエム化合物において、アセチル
オキシメチル基を例えばPH9〜10の水酸化ナトリ
ウム水溶液のような弱塩基性媒質中で加水分解す
るかまたは適当なエステラーゼ例えばリゾビウ
ム・トリトリイ(Rhizobium tritolii)、リゾビウ
ム・ルピニイ(Rhizobium lupinii)、リゾビウ
ム・ジヤポニカム(Rhizobium japonicum)ま
たはバチルス・サブチリス(Bacillus subtilis)
からの相当する酵素で処理してヒドロキシメチル
基に変え、式−C(=0)−R2の遊離カルボキシ
ル基を適当な方法によつて官能的に変え(例え
ば、ジフエニルジアゾメタンのようなジアゾ化合
物で処理してエステル化し)、そして上記のヒド
ロキシメチル基を例えばハロゲン化剤例えば塩化
チオニルのような塩素化剤またはN−メチル−
N,N′−ジシクロヘキシル−カルボジイミジウ
ムアイオダイドのようなよう素化剤で処理してク
ロメチル基またはヨードメチル基のようなハロゲ
ノメチル基に変える。クロルメチル基はこれを例
えば適当な2価クロム化合物例えば2価クロムの
塩化物や酢酸塩のような無機または有機塩でジメ
チルスルホキシドのような適当な溶媒中で処理し
て直接にメチレン基に変えるか、または間接的に
そのヨードメチル基(これは例えばクロルメチル
化合物をアセトンのような適当な溶媒中によう化
ナトリウムのような金属よう化物で処理すること
によつて生成される)にしてから、このヨードメ
チル化合物を酢酸の存在下で亜鉛のような適当な
還元剤で処理して式()の原料のメチレン基に
変える。 式()の化合物〔これは式()の化合物か
ら、例えば電気化学的還元または2価クロム塩や
アルミニウムアマルガムで還元することによつて
も得られる〕において、7−位置の保護されたア
ミノ基を遊離し、または他の保護されたアミノ基
に変え、そして(または)7−位置の遊離アミノ
基を保護された基に変えることができる。これら
の反応は例えば上記のようにそれ自体公知の方法
によつて行なわれる。 式()の原料は次のようにして得られる。す
なわち式 (この式でR2は好ましくは水酸基である) で表わされる2,3位置または3,4位置に2重
結合をもつている上記の化合物において、そのヒ
ドロキシメチル基をホルミル基に酸化し、適当な
工程段階で3−セフエム化合物を所望の2−セフ
エム化合物に異性化し、そして、所望または必要
ならば、得られた化合物における水酸基R2を適
当なエーテル化された水酸基で、またはアミノ基
またはヒドラジノ基で置換するのである。この酸
化処理は例えば米国特許第3351596号明細書に記
載の方法に従つて行なうことができる。すなわ
ち、酸化金属化合物例えば3酸化クロムまたは2
酸化マンガンのような金属酸化物で処理すること
により、または2−セフエム化合物の場合には有
利には2,3−ジクロル−5,6−ジシアノ−
1,4−ベンゾキノンで、そして3−セフエム化
合物の場合には有利には脂肪族スルホキシド例え
ばジ−低級アルキルスルホキシド例えばジメチル
スルホキシド、またはアルキレンスルホキシド例
えばテトラメチレンスルホキシドを使つて、脂肪
族カルボン酸無水物例えば酢酸無水物の存在下
で、好ましくはスルホキシドの過剰量とこのスル
ホキシドと同モルの量の無水物を使つて、そして
約−50゜〜約+70℃の温度で、所望によりベンゼ
ンまたはトルエンのような不活性溶剤を添加して
処理することにより酸化するのである。3−セフ
エム化合物を相当する2−セフエム化合物に異性
化するには例えば、場合により元の位置に形成さ
れているエステルまたは無水物を塩基例えばトリ
エチルアミンのような第3アミンおよび(また
は)複素環式塩基例えばピリジンで処理すればよ
い。 式()の2−セフエム原料は全合成により例
えばオーストリア特許第263768号および264537号
明細書に記載の方法により得ることもできる。 上に述べたように、式()の新規化合物はセ
フアム構造をもつ化合物の製造において中間体と
して使うことができ、得られたセフアム化合物は
貴重な薬理学的性質をもつており、また再び中間
体として使うこともできる。 例えば式()の化合物を置換されている場合
のある脂肪族性のジアゾー炭化水素化合物例えば
ジアゾメタンのようなジアゾ−低級アルカン、ま
たはフエニル−ジアゾメタンのようなフエニル−
ジアゾ−低級アルカンで処理して相当するエノー
ル誘導体例えばエノールエーテルに変え、または
酸好ましくは適当な酸誘導体例えば塩化物のよう
なハライドまたは無水物で処理してエノールエス
テルに変え、そして所望ならば上記のようにして
得られたエノール誘導体において式−C(=0)
−RA 2の保護されているカルボキシル基をそれ自
体公知の方法で遊離カルボキシル基に変えること
によつて次式で表わされるセフエム化合物を得る
ことができる。 この式は2,3−位置または3,4−位置に2
重結合を含んでおり、またこの式においてRa 1お
よびRb 1は前に与えた意味をもつており、R2は水
酸基または保護されているカルボキシル基を前記
カルボニル基といつしよに形成するRA 2基であ
り、そしてRAは置換されている場合のある脂肪
族性炭化水素基またはアシル基である。 式()の化合物特にRa 1が6β−アミノ−ペ
ナム−3−カルボン酸化合物および7β−アミノ
−3−セフエム−4−カルボン酸化合物の薬理学
上活性なN−アシル誘導体におけるアシル基であ
り、Rb 1が水素原子であり、R2が水酸基である
か、または生理学的条件の下で容易に分裂するこ
とのできるエステル化されたカルボキシル基をカ
ルボニル基といつしよに形成しているエーテル化
された水酸基であり、そしてRAが前に与えた意
味をもちそしてアシル基としてのRa 1中に存在す
る場合のある官能性基例えばアミノ基、カルボキ
シル基、水酸基および(または)スルホ基が通常
遊離の形で存在するような化合物または塩形成基
をもつこのような化合物の塩は、非経腸的および
(または)経口的に投与する場合に、微生物例え
ばグラム陽性菌例えばスタフイロコカス・オーリ
ウス(Staphylococcus aureus)、ストレプトコ
カス・ピロゲネス(Streptococcus phrogenes)
およびデイプロコカス・プニユーモニエ
(Diplococcus pneumoniae)(例えばマウスでは
約0.001〜0.02g/Kgs.c.またはP.o.の投与量で)
およびグラム陰性菌例えばエシエリチア・コリ
(Escherichia coli)、サルモネラ・チフイムリウ
ム(Salmonella typhimurium)、シゲルラ・フレ
クスネリ(Shigella flexneri)、クレブシルラ・
プニユモニエ(Klebsiella pneumoniae)、エンテ
ロバクター・クロアカエ(Enterobacter
cloacae)、プロテウス・ブルガリス(proteus
vulgaris)、プロテウス・レツトゲリ(Proteus
rettgeri)、およびプロテウス・ミラビリス
(Proteus mirabilis)(例えばマウスにおいて約
0.001〜0.15g/Kgs.c.またはp.o.の投与量で)に
対し、殊にペニシリン抵抗性細菌にも、少い毒性
で有効である。故に、これらの新化合物を例えば
抗生活性な製剤の形で相当する感染の処置に使う
ことができる。 さらに、式()のセフアム化合物において、
3−位置のオキソ基を例えば水素化ほう素ナトリ
ウムのような適当な錯金属水素化物でアルコール
またはエーテルのような適当な溶剤の存在下で処
理することにより水酸基に変えることができ、ま
たその水酸基を所望によりエステル化された水酸
基特に有機カルボン酸でエステル化された水酸基
に変えることができ、そして(または)式−C
(=0)−RA 2の保護されているカルボキシル基を
遊離カルボキシル基に変えることができる。この
ようにして得られる式 (この式においてRBは水素原子またはアシル
基である) で表わされるセフアム化合物において、式RB−
OH()の化合物の諸要素すなわち酸の水の諸
要素を酸性または塩基性の条件下において分裂す
ることができ、こうして式 (この式においてRa 1,Rb 1およびR2は上で与え
た意味をもつており、これらの基はそれ自体公知
の方法により別の基に変えることができる) で表わされる(前記3−セフエム化合物を得るこ
とができる。式()の化合物またはそれらの塩
は特にRa 1が6β−アミノ−ペナム−3−カルボ
ン酸化合物および7β−アミノ−3−セフエム−
4−カルボン酸化合物の薬理学上活性なN−アシ
ル誘導体におけるアシル基であり、Rb 1が水素原
子であり、R2が水酸基であるかまたは生理学的
条件の下で容易に分裂することのできるエステル
化されたカルボキシル基をカルボニル基といつし
よに形成しているエーテル化された水酸基である
場合に貴重な薬理学的性質特に抗微生物活性をも
つており、または薬理学的性質をもつ前記化合物
の製造において中間体として使うことができる。 本発明方法では前記の式()の化合物の式
()の化合物または式()および式()の
化合物への変換において、式()の化合物を単
離する必要がない。すなわち式()の化合物か
ら式()の化合物の製造後直接に粗製反応混合
物の形で式()または式()および式()
の化合物に変えることができるのである。 なお、本明細書において、〓低級〓と示された
有機基は特に定義してない限り炭素原子を7個ま
で、好ましくは4個までもつものである。〓アシ
ル基〓は炭素原子を20個まで、好ましくは12個ま
でもつものである。 次に実施例によつて本発明をさらに具体的に説
明する。 例 1 3−ホルミル−7β−フエニルアセチルアミノ
−2−セフエム−4α−カルボン酸ジフエニルメ
チルエステル1.53gを塩化メチレン40mlに溶かし
て0℃に冷却しそして3−クロル過安息香酸
0.61gと混合する。加温の下で室温で1時間放置
してから、5%の炭酸水素ナトリウム水溶液、
0.5モル濃度りん酸水素ジカリウム水溶液および
水で順次洗つてから、それら水性洗液を塩化メチ
レンで2回洗いそして棄てる。その有機相を硫酸
マグネシウムで乾かしそして減圧下で蒸発する。 こうして得た黄色のゼリー状残分は2重結合を
3−位置に優先的にもつ3−ホルミルオキシ−7
−β−フエニルアセチルアミノ−セフエム−4−
カルボン酸ジフエニルメチルエステルを含む。こ
の残分を0℃でテトラヒドロフラン30mlおよび炭
酸水素ナトリウムの0.5モル水溶液30mlといつし
よに1時間かきまぜてから、減圧の下で約25mlに
なるまで濃縮する。これを水25mlで希釈しそして
酢酸エチルで2回抽出する。この有機相を水で洗
い、硫酸マグネシウムで乾かしそして減圧下で蒸
発する。残分をシリカゲル65g上でクロマトグラ
フ処理する。こうして生成した7β−フエニルア
セチルアミノ−セフアム−3−オン−4ξ−カル
ボン酸ジフエニルメチルエステルをアセトン2〜
3%を含む塩化メチレンで溶離しそしてジオキサ
ンから真空凍結乾燥する。こうして得た、薄層ク
ロマトグラフにおいて完全には純粋でない生成物
は、これを更に精製しないで原料として使用す
る。 無定形の7β−フエニルアセチルアミノ−セフ
アム−3−オン−4ξ−カルボン酸ジフエニルメ
チルエステルの性質は次のとおりである。薄層ク
ロマトグラフ(シリカゲル):Rf〜0.47(系:ト
リオール・アセトン・メタノール:酢酸80:10:
5:5)、紫外吸収スペクトル(塩化メチレン
中):2.95μ,5.61μ,5.77μ,5.85μ,5.95
μ,6.21μおよび6.87μに特性バンド。この化合
物は陽性の塩化第2鉄反応を示す。この反応は前
記エノール形の存在を示すものである。 3−クロル過安息香酸の過剰量を使い、アセト
ン10%を含む塩化メチレンで溶離すると7β−フ
エニルアセチルアミノ−セフアム−3−オン−4
ξ−カルボン酸ジフエニルメチルエステル−1−
オキシドと同定される極性化合物を溶離すること
ができる。薄層クロマトグラム(シリカゲル):
Rf=0.22(系:トルエン・アセトン・メタノー
ル・酢酸80:10:5:5)、赤外吸収スペクトル
(塩化メチレン中):2.96μ,5.58μ,5.76μ
(肩)、5.83μ,5.97μ,6.22μおよび6.61μに特
性バンド。この化合物は、エノール形の存在を示
す陽性の塩化第2鉄反応を示す。 前記化合物の原料は次のようにして作ることが
できる。 蒸留水70ml中に3−アセチルオキシメチル−7
β−フエニルアセチルアミノ−2−セフエム−4
α−カルボン酸3.40gを懸濁し、これはバイブロ
ミキサを使つてかきまぜながら1Nの水酸化ナト
リウム水溶液をPH7.3になるまで混合する。この
溶液を温度調節浴の中で35℃に加熱しそしてこれ
をバチルス・サブチリス(Bacillus subtilis)
ATCC6633からの細胞真空凍結乾燥物0.4gを水3
mlに懸濁して加える。1Nの水酸化ナトリウム水
溶液を加えてPH値を7.4に保持する。約2.5時間後
に理論的水酸化ナトリウム消費量の半分が消費さ
れる。こうして水酸化ナトリウムを最早消費しな
くなるまで反応させる(反応溶液のPH値は数時間
室温で放置した後でも最早変わらない)。これを
冷えた酢酸エチル300mlで覆いそしてりん酸の5
モル水溶液を十分にかきまぜながら加えてPH2.0
に酸性となす。水相を分取し、塩化ナトリウムで
飽和しそして冷えた酢酸エチル250mlずつで2回
抽出する。それら有機相を合わせ、塩化ナトリウ
ムの飽和水溶液50mlずつで5回洗い、硫酸ナトリ
ウムで乾かしそして蒸発する。この残分はクロマ
トグラフによれば純粋な3−ヒドロキシメチル−
7β−フエニルアセチルアミノ−2−セフエム−
4α−カルボン酸から成る。これは酢酸エチルと
シクロヘキサンとの混合物から数回結晶化した後
に白色針状結晶の形であつて156〜156.5℃で融解
する。 3−ヒドロキシメチル−7β−フエニルアセチ
ルアミノ−2−セフエム−4α−カルボン酸0.7g
をジオキサンとメタノールとの4:1の混合物30
mlに溶かし、ジフエニルジアゾメタン0.507gをジ
オキサン5.07mlに溶かして混合しそして室温で放
置する。その色が薄く消えなくなるまでジフエニ
ルジアゾメタンを90分間にわたつて少しずつさら
に加える。これを蒸発乾燥し、残分を酢酸エチル
とシクロヘキサンとの混合物から結晶として取り
出す。こうして得た微細な無色針状結晶の3−ヒ
ドロキシメチル−7β−フエニルアセチルアミノ
−2−セフエム−4α−カルボン酸ジフエニルメ
チルエステルは179〜179.5℃で融解する。〔α〕20 D
=+390゜±1゜(クロロホルム中でc=
1.174)、薄層クロマトグラム(シリカゲル):Rf
=0.35(系:ベンゼン・アセトン4:1)、紫外
吸収スペクトル(95%のエタノール水溶液):λ
ma=250mμ(ε=6500)およびλmin=245mμ
(ε=6400)、赤外吸収スペクトル:2.7μ,2.89
μ,5.58μ,5.71μ,5.90μ,6.61μおよび6.65
μ(塩化メチレン中)に特性バンドおよび3.00
μ,3.07μ,5.62μ,5.71μ,6.04μ,6.52μ,
6.68μ,7.10μ,7.42μ,8.20μおよび8.52μ
(鉱油中)に特性バンド。 3−ヒドロキシメチル−7β−フエニルアセチ
ルアミノ−2−セフエム−4α−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステル5.14gとアセトン150mlとの
混合物に−15℃でクロム酸溶液(酸化クロム
()の267gを濃塩酸230mlと水400mlとの混合物
に溶かしそして水で1000mlに希釈して作つたも
の)をその橙褐色が消えなくなるまで滴加する。
20分後にこの溶液4.5mlを消費する。これを−10
℃で20分間かきまぜてから、イソプロパノール
0.5mlを加えて、減圧下で濃縮する。この濃縮物
を水50mlで希釈して酢酸エチルで抽出する。この
有機抽出液を水で洗い、強酸マグネシウムで乾か
しそして蒸発する。残分を酢残エチルとシクロヘ
キサンとの混合物から再結晶すれば、3−ホルミ
ル−7β−フエニルアセチルアミノ−2−セフエ
ム−4α−カルボン酸ジフエニルメチルエステル
が得られる。融点175.5〜176℃(分解を伴う)、
薄層クロマトグラム(シリカゲル):Rf=0.35
(系:トルエン・アセトン4:1)およびRf=
0.58(系:トルエン・アセトン65:35)、紫外吸
収スペクトル(95%エタノール中):λmax=
289mμ(ε=20000)、赤外吸収スペクトル(鉱
油中):3.00μ,5.63μ,5.76μ,5.95μ,5.99
μおよび6.07μに特性バンド。 例 2 7β−アミノ−セフアム−3−オン−4ξ−カ
ルボン酸ジフエニルメチルエステルの4−メチル
フエニルスルホン酸塩(これは専らエノール型と
して、7β−アミノ−3−セフエム−3−オール
−4−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの4
−メチルフエニルスルホン酸塩として存在する)
の0.250gを塩化メチレン10mlに溶かし、これをト
リメチルクロルシラン0.063mlおよびピリジン
0.044mlと混合して、室温で30分間かきまぜてか
ら0℃に冷却する。これにピリジン0.088mlとフ
エニル酢酸クロライド0.092mlとを加えて、0℃
で1時間そして室温でさらに1時間反応させ、そ
してジオキサンと水との1:1の混合物5mlで希
釈して10分間かきまぜる。これを塩化メチレン50
mlで希釈し、相を分離して、有機相を炭酸水素ナ
トリウムの飽和水溶液および塩化ナトリウムの飽
和水溶液で洗い、硫酸ナトリウムで乾かしそして
減圧下で蒸発する。残分をシリカゲル上でクロマ
トグラフ処理する。こうして7β−フエニルアセ
チルアミノ−セフアム−3−オン−4ξ−カルボ
ン酸ジフエニルメチルエステルが塩化メチレンで
溶離される。薄層クロマトグラム(シリカゲ
ル):Rf〜0.55(系:酢酸エチル・ピリジン・水
85:10:5)、紫外吸収スペクトル(95%エタノ
ール水溶液中):λmax=283mμ(ε=4400)、
紫外吸収スペクトル(塩化メチレン中):2.94
μ,5.12μ,5.77μ,5.93μ,6.21μおよび6.63
μに特性バンド。 例 3 適当な原料を選んで同様の方法によつて次の化
合物が得られる。 7β−アミノ−セフアム−3−オン−4α−カ
ルボン酸ジフエニルメチルエステルの4−メチル
フエニルスルホン酸塩、これは主にエノール型に
おいて7β−アミノ−3−セフエム−3−オール
−4−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの4
−メチルフエニルスルホン酸塩として存在する:
融点143〜145℃(分解を伴う)、薄層クロマトグ
ラム(シリカゲル):Rf〜0.28(系:酢酸エチ
ル・ピリジン・水85:10:5)、紫外吸収スペク
トル(エタノール中):λmax=262mμ(ε=
3050)および282mμ(ε=3020)、赤外吸収スペ
クトル(塩化メチレン中):5.58μ,5.77μ
(肩)、6.02μおよび6.22μに特性バンド、 7β−(D−α−t−ブトキシカルボニルアミ
ノ−α−フエニル−アセチルアミノ)−セフアム
−3−オン−4ξ−カルボン酸ジフエニルメチル
エステル:Rf値〜0.5(シリカゲル、系:トルエ
ン・アセトン・メタノール・酢酸80:10:4:
5)、赤外吸収スペクトル(塩化メチレン中):
2.94μ,3.40μ,5.62μ,5.77μ,5.75〜5.95μ
(巾広いバンド)、6.21μおよび6.88μに特性バン
ド、 7β−(5−ベンゾイルアミノ−5−ジフエニ
ルメトキシカルボニル−バレリル−アミノ)−セ
フアム−3−オン−4ξ−カルボン酸ジフエニル
メチルエステル(対応する3−メトキシ−3−セ
フエム化合物のRf=0.45〔トルエン:酢酸エチル
1:1系〕)。 例 4 (a) アセトニトリル40ml中の3−ホルミル−7β
−フエニルアセチルアミノ−3−セフエム−1
−カルボン酸ジフエニルメチルエステル−1−
オキシド3.0gの溶液を0℃に冷やし、3−クロ
ル過安息香酸1.2gを加える。室温に暖ためて1
時間放置し、5%亜硫酸水素ナトリウム水溶
液、0.5モルりん酸水素=カリウム水溶液およ
水で順に洗い、水性洗液を塩化メチレンで2回
抽出してから捨てる。有機相を硫酸マグネシウ
ム上で乾かし、減圧下で留去する。 (b) 3−ホルミルオキシ−7β−フエニルアセチ
ルアミノ−3−セフエム−4−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステル−1−オキシドを含むゼ
リー状の黄色残さをテトラヒドロフラン30mlお
よび0.5モル炭酸水素ナトリウム溶液30mlと0
℃で1時間かきまぜ、減圧下で約25mlの容量に
濃縮する。水25mlで希釈し、酢酸エチルで2回
抽出する。有機相を水で洗い、硫酸マグネシウ
ム上で乾かし、減圧下で留去する。残さをシリ
カゲル65gでクロマトグラフ処理する。アセト
ン2〜3%を含む塩化メチレンで7β−フエニ
ルアセチルアミノ−3−ヒドロキシ−3−セフ
エム−4−カルボン酸ジフエニルメチルエステ
ル−1−オキシドを溶離し、アセトンから凍結
乾燥する。 出発材料は次のようにして製造することがで
きる。 (c) 蒸留水150ml中の7β−フエニルアセトアミ
ド−セフアロスポラン酸9.5gの懸濁液に2N水
酸化ナトリウムを加えてPHを7.4に調整する。
こうして得られる透明溶液を、バチルス・サブ
チリス(Bacillus subtilis)菌株ATCC6633由
来の製精エステラーゼによつて一定PHおよび35
℃で5時間転化させる。次に酢酸エステル400
mlによつて層状にし、氷冷下で5Mりん酸によ
つてPH2に酸性化する。分離した水性相を酢酸
エステル150mlずつで2回抽出する。一緒にし
た有機抽出物をすぐに水で洗い、冷却下で硫酸
ナトリウムで乾かし約400mlに濃縮する。過剰
量のジフエニルジアゾメタンと22℃で3時間反
応させてから、シクロヘキサン2倍量をかきま
ぜながら加えると3−ヒドロキシメチル−7β
−フエニルアセトアミド−セフ−3−エム−4
−カルボン酸ベンズヒドリルエステルが無定形
の固体として沈でんする。薄層クロマトグラ
フ:Rf=0.23(トルエン/アセトン2:1)、
紫外吸収スペクトル(C2H5OH):λ
max258nm(ε=8500)、赤外吸収スペクトル
(ヌジヨール):2.84(OH),3.02(NH)5.67
(ラクタム)、5.82(ベンズヒドリルエステ
ル)、5.98(アミド)、6.12(C=C)および
6.55μ(アミド)に特性吸収バンド。 (d) 3−ヒドロキシメチル−7β−フエニルアセ
トアミド−セフ−3−エム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル−1−オキシド10.0gを
無水ジメチルスルホキシド140ml中に溶かし、
無水酢酸140mlと反応させる。暗所で4時間半
放置してから、無水トルエンを加えた濃暗色の
溶液を高真空下で約100mlに濃縮し、氷冷塩化
メチレン400mlで希釈し、氷水で洗う。乾かし
た有機抽出物をシリカゲル400gでクロマトグ
ラフ処理する。塩化メチレン/酢酸メチルで3
−ホルミル−7β−フエニルアセトアミド−セ
フ−3−エム−4−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル−1−オキシドを溶離する。 薄層クロマトグラフ:Rf〜0.34(シリカゲ
ル、トルエン/アセトン2:1)、紫外吸収ス
ペクトル(C2H5OH):λmax=295nm(ε=
13000)、赤外吸収スペクトル(CH2C2):2.9,
5.54,5.77,5.90(肩)、5.95,6.21および6.67
μに特性吸収バンド。 (e) 他の合成法:コリンズ(Collins)によるク
ロムトリオキシド−ジピリジン錯塩による酸化 3−ヒドロキシメチル−7β−フエニルアセ
トアミド−セフ−3−エム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル−1−オキシド1.0gを暖
ためながら精製アセトン60ml中に溶かし、30℃
に冷やす。僅かに濁つた溶液を、無水塩化メチ
レン50ml中のクロムトリオキシド−ジピリジン
錯塩5.2g(0.2モル)のよくかきまぜた懸濁中
に加える。15分間30〜32℃で放置してから、塩
化ナトリウムで飽和した1Mクエン酸溶液40ml
ずつで2回抽出し、塩化ナトリウム飽和溶液40
mlずつで2回洗う。水溶液を酢酸エステル50ml
ずつで2回抽出する。一緒にした有機抽出物の
留去残さを予備薄層クロマトグラフ(シリカゲ
ル/トルエン/酢酸エチル1:1)で精製す
る。こうして3−ホルミル−7β−フエニルア
セトアミド−セフ−3−エム−4−カルボン酸
ベンズヒドリルエステル−1−オキシドが得ら
れ、これはAMSO/無酢による酸化によつて
得られるものと同じものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 〔この式でRa 1は水素原子またはアミノ保護基
RA 1でありそしてRb 1は水素原子またはアシル基
AcであるかまたはRa 1とRb 1とはいつしよになつ
て2価のアミノ保護基を表わし、そしてこれらの
アミノ保護基およびアシル基は過酸酸化を受けな
い基であり、そしてRA 2は保護されたカルボキシ
ル基を式中のカルボニル基−C(=O)−といつ
しよになつて形成している基である〕 で表わされる2,3−位置または3,4−位置に
2重結合をもつているセフエム化合物を過酸で処
理し、そして得られた3−ホルミルオキシ−4−
RA 2−カルボニル−7β−N−Ra 1−N−Rb 1−
ア
ミノ−セフエム化合物においてホルミルオキシ基
を分裂し、 そして所望により、得られた塩形成基をもつ化合
物を塩に変えまたは得られた塩を遊離化合物また
は他の塩に変え、所望により、得られた異性体混
合物を個々の異性体に分離することを特徴とす
る、式 (この式でRa 1とRb 1とRA 2とは前記と同じ意
味
である) で表わされる7β−アミノ−セフアム−3−オン
−4−カルボン酸化合物、および/または相当す
る3−エノール互変異性体または塩形成基をもつ
このような化合物の塩の製法。 2 式 〔この式でRa 1は水素原子またはアミノ保護基
RA 1でありそしてRb 1は水素原子またはアシル基
AcであるかまたはRa 1とRb 1とはいつしよになつ
て2価のアミノ保護基を表わし、そしてこれらの
アミノ保護基およびアシル基は過酸酸化を受けな
い基であり、そしてRA 2は保護されたカルボキシ
ル基を式中のカルボニル基−C(=O)−といつ
しよになつて形成している基である〕 で表わされる2,3−位置または3,4−位置に
2重結合をもつているセフエム化合物を過剰量の
過酸で処理し、そして得られた3−ホルミルオキ
シ−4−RA 2−カルボニル−7β−N−Ra 1−N−
Rb 1−アミノ−セフエム−1−オキシド化合物に
おいてホルミルオキシ基を分裂し、所望により、
得られた塩形成基をもつ化合物を塩に変えまたは
得られた塩を遊離化合物または他の塩に変え、所
望により、得られた異性体混合物を個々の異性体
に分離することを特徴とする、式 (この式でRa 1とRb 1とRA 2とは前記と同じ意
味
である) で表わされる7β−アミノ−セフアム−3−オン
−4−カルボン酸化合物の1−オキシドおよび/
または相当する3−エノール互変異性体または塩
形成基をもつこのような化合物の塩の製法。
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ZA (1) | ZA734049B (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1804983A1 (de) * | 1967-11-03 | 1969-05-14 | Ciba Geigy | Verfahren zur Herstellung von Cephalosporansaeurederivaten |
DE2128605A1 (de) * | 1970-06-18 | 1971-12-23 | Ciba-Geigy Ag, Basel (Schweiz) | Neue Cephalosporansäurederivaten und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3275626A (en) * | 1962-07-31 | 1966-09-27 | Lilly Co Eli | Penicillin conversion via sulfoxide |
-
1972
- 1972-06-29 CH CH978772A patent/CH590873A5/de not_active IP Right Cessation
-
1973
- 1973-06-14 ZA ZA734049A patent/ZA734049B/xx unknown
- 1973-06-27 SU SU7301943899A patent/SU583760A3/ru active
- 1973-06-28 BE BE132844A patent/BE801596A/xx not_active IP Right Cessation
-
1979
- 1979-12-27 JP JP16949179A patent/JPS55136290A/ja active Granted
- 1979-12-27 JP JP16949279A patent/JPS55136291A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1804983A1 (de) * | 1967-11-03 | 1969-05-14 | Ciba Geigy | Verfahren zur Herstellung von Cephalosporansaeurederivaten |
DE2128605A1 (de) * | 1970-06-18 | 1971-12-23 | Ciba-Geigy Ag, Basel (Schweiz) | Neue Cephalosporansäurederivaten und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPS55136291A (en) | 1980-10-23 |
ZA734049B (en) | 1974-05-29 |
JPS55136290A (en) | 1980-10-23 |
BE801596A (fr) | 1973-12-28 |
CH590873A5 (en) | 1977-08-31 |
SU583760A3 (ru) | 1977-12-05 |
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