JPS61239883A - 菌体濃度計測装置 - Google Patents

菌体濃度計測装置

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JPS61239883A
JPS61239883A JP60078371A JP7837185A JPS61239883A JP S61239883 A JPS61239883 A JP S61239883A JP 60078371 A JP60078371 A JP 60078371A JP 7837185 A JP7837185 A JP 7837185A JP S61239883 A JPS61239883 A JP S61239883A
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JP
Japan
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ultrasonic
signal
ultrasonic wave
concentration
suspension
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Pending
Application number
JP60078371A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenji Baba
研二 馬場
Shoji Watanabe
昭二 渡辺
Shunsuke Nokita
舜介 野北
Akihiro Tanaka
昭裕 田中
Mikio Yoda
幹雄 依田
Shunji Mori
俊二 森
Junichi Ishii
潤市 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPS61239883A publication Critical patent/JPS61239883A/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2291/00Indexing codes associated with group G01N29/00
    • G01N2291/02Indexing codes associated with the analysed material
    • G01N2291/028Material parameters
    • G01N2291/02809Concentration of a compound, e.g. measured by a surface mass change

Landscapes

  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)
  • Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
  • Investigating Or Analysing Biological Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕 本発明は培養槽や醗酵槽などの槽内に入っている懸濁液
中の微生物濃度を測定する菌体濃度の計測装置に関する
。 〔発明の背景〕 バイオプラントに用いられる菌体濃度計には、(1)高
濃度まで計測できること、 (2)気泡、攪拌の影響を受けないこと、(8)殺菌操
作(1200,15分)可能なこと、など厳しい機能が
要求される。 従来のバイオフ2ント用の菌体濃度計としては、光Cレ
ーザーなど)の透過光や反射波が濃度に対水で減衰する
ことを利用したものが知られている。 しかし、光の減衰に着目する限り、光路上の気泡は誤差
の原因となるし、まt1菌体が光路上を満たすほどの高
濃度までは計測困難である。この究め、光学式の場合に
は前記の(1)及び(2)の機能が充分には満足されな
い。 一方、溶液の濃度計として、超音波の音速を用いる方法
が知られている。(特開昭58−77656号公報など
)しかし、音速で濃度を求める方法は、懸濁液のような
非水溶液では適用できないとされてい九〇特に、懸濁液
中に気泡が存在すると、気市によって超音波が散乱する
ので濃度を計測できなくなる。 このように、従来の菌体濃度では■〜■の機能が満足さ
れていなかったので、給気ガス中の酸素濃度、排気ガス
中の酸素濃度並びに炭酸ガス濃度などの物理化学量を計
測して、これらから、微生物の菌体濃度を演算するとい
う間接的な手法を採っている。しかし、菌体濃度や菌体
量の管理が出来ないために、菌体の増殖速度や生産物の
収率な、どの正確な値がわからず、効率的な生産が困難
という問題を有する。 〔発明の目的〕 本発明の目的は微生物菌体濃度を気泡を含む微生物懸濁
液でも高濃度まで測定できる菌体濃度計測装置を提供す
ることにある。 〔発明の概要〕 1       本発明の特徴とするところは懸濁液中
に超音波を多数回発生させ、超音波を発生させた毎に測
定した伝播速度測定値の平均値を伝播速度を求めて微生
物の菌体濃度を計測するようにしたことにある。 〔発明の実施例〕 第1図に本発明の実施例を示し、第2図に第1図のA−
A’面の断面図を示す。 まず、培養装置の構成並びに動作を説明する。 100は培養槽で、各糧微生物、動植物細胞並びに組織
等の菌体を培養する。培養槽100は通常円筒形で、内
部では培養液110が入れてあり、ここで菌体が培養さ
れる。超音波送受信子300げ、超音波送受信装置31
0から電気信号を受けて超音波を発信し、超音波発信部
外壁101、培養液110を伝播し超音波反射部外壁3
20で反射し、この経路を逆に伝播する。反射した超音
波は超音波送受信子300に受信される。A/D変換装
置330は超音波送受信装置310から得を受信信号を
ディジタル信号に変換する。マイクロプロセッサ340
はA/D変換装置330で得を信号から培養液110の
超音波伝播時間を演算する。 時間制御回路350は超音波送受信装置310、A/D
変換装置330の信号処理のタイミングを制御する。温
度検出器400で培養液110の温度を検出し、温度信
号変換装置410で電流から電圧へ、又は電圧から電流
へと変換する。菌体濃度演算装置500はマイクロプロ
セッサ340で得た伝播速度信号と温度信号変換装置4
10から得られる温度信号に基づき菌体濃度を演算する
。 好気性培養では、空気などの酸素含有ガスを供給する必
要がある。空気などの酸素含有ガスが、コンプレッサー
120によりガス供給管130を介して散気装置140
から培養槽100内部の培養液110に供給されて、培
養液中に溶存する。供給酸素と培養液110との気液接
触、及び溶存酸素の菌体への酸素吸収を促進するために
、モータ150によって、シャフト160に固定された
攪拌翼170Aと170Bとが回転される。攪拌翼17
0A、17Bの回転速度は動植物細胞並びに組織等の培
養では低速(lrpmから数rpm前後)であるが、パ
ン酵母やS CP (SingleCell prot
ein ; 通称単細胞たんばく質又は石油たんばくと
称されている)などの菌体培養を、高濃度で実施する場
合には高速(最高数百rpmlになる場合もある。モー
タ150は培養液表面に発生しt泡を消すtめにシャフ
ト160に固定されt消泡具180も同時に駆動する。 なお、培養槽100内部のガスは排気管190により排
気される。 菌体の増殖には基質を必要とする。基質タンク200内
に貯留され九基質210は基質供給ポンプ220により
基質供給管230を通じて培養槽100内に供給される
。培養液110中の菌体はこのような系のなかで増殖し
、菌体濃度が時間と共に増加する。 つぎに、培養槽100内に入っている培養液110に懸
濁する菌体の濃度を非接触で計測する動作を説明する。 まず、超音波送受信子300、超音波発信部外壁101
及び超音波反射部320について説明する。 超音波送受信子300は、培養槽100外壁の超音波発
信部外壁101に密着固定される。培養槽100の外壁
は超音波を通過させる金属などの材料(例えばステンレ
ススチール)で構成されている。超音波反射部320は
超音波送受信子300から発信された超音波を反射し、
再度超音波送受信子300で受信するように配置される
。第1図の実施例では、超音波発信部外壁101と超音
波反射部320とは共に培養槽100と一体構造で1厚
さ一定の外壁で、超音波送受信子300による超音波の
送信及び受信を効果的に行うように超音]@の伝播経路
上に垂直に配置される。 超音波送受信子300から発信されt超音波は音を伝播
できる材料例えばステンレススチールからなる超音波発
信部外壁101を伝播し、さらに培養液110中を伝播
して超音波反射部320に衝突して反射する。超音波発
信部外壁101と超音波反射部320とは反射超音波が
再度培養液110中と超音波発信部外壁101とを伝播
して超音波送受信子300で受信されるように平行に配
置される。超音波送受信子300と超音波反射部320
との配置は、培養液110内を伝播する超音波が、培養
液110内のシャフト160、攪拌翼170Aと170
 B、並びに散気装置140などの構造物で妨害されな
いように設置される。 本実施例では超音波送受信子300、超音波発信部外壁
101及び超音波反射部320が、攪拌翼170Aと1
70Bとの間に設置しである。なお、超音波送受信子3
00、超音波発信部外壁101及び超音波反射部320
は、攪拌翼170Bと散盲装置140との間や、空間的
に余裕があれば、散気装置140の下部に設置すること
もできる。 超音波送受信子300から発信された超音波は超音波発
信部外壁101と培養液110を伝播して超音波反射部
320で反射し、再度培養液110と超音波発信部外壁
101を伝播して超音波送受信子300に受信される。 超音波発信部外壁101と超音波反射部320は伝播す
る超音波が培養液110内のシャフト160で妨害され
ないように、中心よりずらせて設置されている。 このようにして超音波受信子300に受信された超音波
信号に基づき次のようにして伝播時間を計測する。 本実施例ではパルス伝播時間差法により計測する。第3
図に超音波送受信装置310.A/D変換装置330、
マイクロプロセッサ340、時間制御回路350並びに
菌体濃度演算装置500の詳細な構成を示す。 まず、超音波送受信装置310の構成を説明する。 310は同期信号発生回路で、同期信号の周波数が時間
制御回路350で設定される。時間制御回路350は超
音波送受信装置310、A/D変換装置330及びマイ
クロプロセッサ340を構成する各回路に時間的規制を
与える時間信号を発生する。同期信号の発振周波数は数
百Hz前後であるが、高周波になり発信超音波で菌体を
損傷する恐れがある場合にはさらに低周波にするのが望
ましい。312はパルス発生回路で、同期信号発生回路
311から送信され九同期信号から所定時間遅れてパル
ス信号を発生する。パルス発生回路312で発生したパ
ルス信号は超音波送受信子300に送信される。超音波
送受信子300は超音波を培養液110に送信及び受信
し、受信信号を電気信号に変換する。超音波送受信子3
00の受信電気信号は増幅回路313で増幅されA/D
変換装置330に加えられる。 次に、超音波送受信装置310.A/D変換装置330
及び時間制御回路350における、信号処理を第4図を
参照して説明する。 第4図(a)は、増幅回路313で得られt超音波の発
信信号3ti(添字iはi回目の信号を表す。)と反射
波受信信号5ri(添字iはi回目の信号を表す、、)
を示す。超音波の発信及び受信は1回の平均処理でN回
実施するが、第4図では2回実施しt例を示す。時間制
御回路350は超音波送受信子300の超音波発信周期
を制御する。A/D変換装置330は受信信号Srを受
けてこれを第4図(C)に示すようなディジタル信号に
変換する。 超音波発信周波数が1ないし20MHzのとき、A/D
変換の周波数は10MHzないし100M、Hzが望ま
しい。実施例では100MHzの場合を説明する。A/
D変換装置330は時間制御回路350から第4図(b
)に示す信号を受ける。時間制御回路350は超音波送
信の開始時間toとA/D変換の対象となる区間を指定
するA/D変換変換開始時間色A/D変換終了時間1.
を指定する。具体的には第4図(b)に示すような時間
t。 と時間1.との間にゲートを開く信号である。超音波送
信の開始時間toは信号5ttの立ち上がりと同期して
いる。すなわち、送信信号がトリガーレベルgを越え九
時間が1.である。A/D変換装置330は時間制御回
路350から信号(b)を受けて信号(a)をA/D変
換する。第4図に示す信号(C)はA/D変換の周波数
が100MHz(サンプリングタイムがIons)の例
を示す。このときのサンプル数は500個となるが、複
雑になるので500個を図示していない。サンプリング
タイ(1が10°°1す7ブ数”500個0時はす7プ
リングする時間の区間は10nsX(500−1)=4
.99μsとなる。第4図の信号(C)は時間tsが1
00μs1時間t1が104.99μsの例である。こ
こで、A/D変換されたi回目の信号を3ri(tj)
とする。第5図に示すように5rirtj)は5rll
tl) がi回目の反射波テ時間100μsのときの信
号を表し、Sr1 (t21が同じくi回目の反射波で
時間100.01μ5(100μs+10 n 5=1
00.ol tt s )のときの信号を表す。同様に
% S rl (t H)が同じくi回目の反射波1時
間100.02μs (100μs+20nss=40
0、02 p s )のときの信号を表し、8rs(t
aGo)が時間104.99μs 1100.cgs+
490 n s =10449 tt s )のときの
信号を表す。 マイクロプロセッサ340は時間のメモリーM?と信号
のメモリーMgとがあって、第5図に示すように順次信
号が格納さるる。マイクロプロセッサ340における信
号処理のフローチャートを第6因に示す。 マイクロプロセッサ340の処理は波形平均処理工程3
41と伝播時間演算工程342とにわけられる。波形平
均処理工程341は加算処理341Aと除算処理341
Bとからなり、伝播時間演算工程342は最大値検出処
理342Aと伝播時間演算処理342Bとからなる。 fsS図に示すように格納された信号は第6図の加算処
理341Aにおいて次に説明するようにして超音波の送
受信回数毎に加算及び更新されて、最終的には平均処理
回数N回目C例ではN=100の例を示す。)でその加
算信号になる。i回目の時間t1におけるこの加算計算
【第6図の加算処理)は(1)式で計算される。 i回目の超音波送受信における処理では時間100μs
(i回目のサンプリング)の信号5rl(tll、時間
100.01 a s (2回目Oす7フリング)の信
号5r1(t2)、・・・・・・時間104.49μs
 (500回目のサンプリング)の信号5rlt3(\
t l1GO)が各々メモリーに格納される。続いて、
9目の超音波送受信における処理では信号3r2(tl
)、Sr31 t2)、・旧・・信号S r、 (t、
、、)が各々の時間のメモリーに加算される。以下同様
にして、100回目の超音波送受信における処理では信
号5rsoo (tl )、5rxoo I h)、・
・・・・・信号S rloo (t soo Iが各々
の時間のメモリーに加算される。この様にして、(1)
式の計算が行われる。 次に、第6図の除算処理341Bでは(2)式に従って
計算が行われる。 5aLt、)=St(tJ)/100   ・・・・・
・・・・(2)このようKして、信号5i(tll  
の確率的に最も確かな信号、すなわち期待値5a(tJ
) が求まる。 この波形平均処理の原理について以下に説明する。 培養液110中を伝播する超音波は攪拌や気泡の影響が
ノイズ信号として入る。i回目の測定におけるノイズの
信号をEi(t)とし、ノイズがないときの信号を同様
に3i ltl 1  とすると、実際に測定される信
号Smt(tllは次式で表される。 Sm1(t3)=Si(t31+Ei(t)   ・旧
−−(8)ここで、測定回数iについての期待値(平均
値)をとると、次式となる。 E[”Sm1lt、)]=EC8i(t、):]+E(
Ei(t)”]   ・−(4)ここで、E[”Xi”
lはXiの期待値で、次式で計算される。 (8)式の期待値をとると、E CE t (t ) 
’1==Qであるので、次式が成り立つ。 E(Smi(t、))=E[8i(tj))    =
(6)すなわち、期待値C平均値)をとると、測定され
t信号はノイズを含まない新の信号に等しくなる。 続いて最大値検出処理342Aでは次の比較式によって
最大値S、、1を求める。 8、、、=M、、C8□t=sa(tjl: 8j t
))≧8−(tk)1(==1.loo:)    ・
・・・・・(7)この(7)式で最初j=1とする。ま
ずに=1のと1      きには、S、(tl>=S
、+tk> なのでSmay=8、(tllとなる。次
にに=2のときには、S、CjslとS 、 l t2
)との大小関係が比較されて、5a(tl)≧8−+h
lならばS□x =81(tll 8alt1)<8−
 (h)ならば8−ax = 8 z (t)とする。 以下kを3から100まで順次繰り返して、信号の最大
値S1.8を求める。Sl、8がS、lt、)とすると
、時間t、がS、、80時間である。第4図(a)にお
いてピークの時間t、をあらかじめ求めておいて、第6
図の伝播時間演算処理342Bでは伝播時間Tは次式で
求まる。 ’l’=t、−t、           ・・・・・
・・・・(8)次に、培養液100の温度計測について
説明する。 温度検出用センサー400としてはサーミスターなどの
測温抵抗体が用いられる。温度検出用センサー400の
設定位置は培養液110に常時浸漬する場所アあれば良
く、攪拌翼170Aと散気装置140との間や、攪拌翼
170人と170Bとの間などに設置してもよい。なお
、温度検出用センサー400を培養槽100の上部から
挿入する場合には、攪拌翼170Bの、温度検出用セン
サー400を培養槽100の上の培養液110に浸漬し
ても差し支えない。また、温度検出用センサー400は
、通常、図示しない保護ケースにいれて培養液中に挿入
する。温度検出用センサー400で検出された温度信号
を温度信号変換装置410に加え菌体濃度演算装置50
0で利用できる信号(電流又は電圧)に変換する。 菌体濃度演算装置500はマイクロプロセッサ3燵」で
求めた伝播時間とセンサー400で測定U!一度信号に
基づき以下のようにして菌体濃度を求める。 定数演算回路502では温度信号変換装置410から受
けt温度信号に基づいて定数大を演算する。 一方、定数演算回路502では温度信号変換装置410
から受けた信号に基づいて定数Bを演算する。定数Aと
Bとは、伝播時間から菌体濃度を換算するためのパラメ
ータであり、後で詳述する。 菌体濃度演算回路501はマイクロプロセッサ340で
得を伝播時間の信号Tと、定数演算回路502で得た定
数Aと定数演算回路502で得た定数Bとにより菌体濃
度を演算する。この演算式はあらかじめ設定しておくが
、友とえば、マイクロコンピュータ−を設置して関数関
係を変更することも出来る。 微生物懸濁液である培養液110中における超音波の伝
播を第7図に模式的に示す。ここで、培養液110C微
生物懸濁液)は水111と微生物112との混合液であ
る。厳密には水111は基質ヂ溶解した液であるが、基
質の濃度が低い場合にh水とみ表してよい。超音波送受
信装置300から発して、超音波発信部外壁101と水
111と微生物112とを伝播して超音波反射部320
で反射し、再度水111と微生物112と超音波発信部
外壁101とを伝播して超音波送受信装置300で受信
されるまでの、伝播時間T、は次式%式% : d :培養槽外壁の厚さ t :超音波発信部外壁と超音波反射部との距C9:微
生物の体積濃度 ■、:培養槽外壁の音速 ■、:水の音速 vb:微生物の音速 微生物の体積濃度と菌体濃度(固形物重量濃度)との関
係は次式であるから、 C1=ρ、・C1・・・・・・Cl0)ここで、ρb:
微生物の密度 (9)式は次式で整理できる。 T、=2・、/、−A−(、+B      ・・・・
・・(11]または、 (、=Tt/(2・t−A)+B/(2・t−A)・・
・(12)ただし、 (12)式は、伝播時間T、と距離t1定数A、 Bが
既知であれば菌体濃度を計算できることを表す。 培養槽外壁の厚さd1超音波発信部外壁と超音波反射部
との距離t1培養槽外壁の音速■1、及び水の音速V、
は、温度一定の条件では一定であり、まt事前に求める
ことができる。しtがって、定数Bは一定である。一方
、微生物の密度ρb及び微生物の音速Vbは、微生物の
種類によって異なるので、各々異なる数値となる。 C11】式は、AとBとが一定なら、線形関係の弐Fな
る。すなわち、菌体濃度C1を独立変数とし、伝播時間
Ttを従属変数とする直線となる。したがって、逆に伝
播時間T、を計測すれば、(12)式から菌体濃度Cv
を演算できる。 一方、定数A及びBにある音速(培養槽外壁の音速V1
、水の音速v1、微生物の音速Vblは各々次式で表せ
る。 ■、==%)      ・・・・・・・・・C15)
7・″ K −/ p −・・・・・・・・・(16)
V b =  K b / I b       = 
1171ここで、 K、:培養槽外壁の体積圧縮率 に、:水の体積圧縮率 Kb:微生物の体積圧縮率 ρ、:培養槽外壁の密度 ρw:水の密度 これらの物理量はすべて温度によって変化する。 すなわち、音速(培養槽外壁の音速v、、水の音速vw
、微生物の音速V、)は、温度によって変化する。この
究め、1131式と(14)式は定数A及びBが変化す
る。一方、温度一定の条件では、微生物の音速Vbのみ
がその菌体濃度に応じて変化する。温度が変化する場合
には、 A”f+(θ)        ・・・・・・・・・(
18)B=fz(θ)        ・・・・・・・
・・(19)ここで、 fl(の:温度θによって定数大を決める関数fz(の
:温度θによって定数Bを決める関数したがって、関数
型fl(の及びfz(のを事前に求めておけば、(11
)式または(121式から菌体濃度を演算できる。すな
わち、 C==f TT、、θ)     ・・・・・・・・・
(20)ここで、 fl’l’、、θ):伝播時間T、並びに温度θによっ
て菌体濃度CWを決める関数 一般には、この関数関係は線形とは限らないので、対象
とする微生物に応じて、関数型を事前に求める。 このようにして、菌体濃度演算装置500は菌体濃度C
1を伝播時間T、と温度θとから演算する。 なお、温度一定の培養条件では温度を計測する必要はな
く、1121式は伝播時間のみで菌体濃度C1が求まる
次式となる。 Cv = f  l T t )          
   1.006.”、+13’1さて、次に超音波の
伝播時間(速度)を求める際の平均処理について説明す
る。 培養液110を伝播する超音波は、培養液110の散気
状態(ガス供給量)や攪拌状態(攪拌回転数)により影
響を受ける。特に、これらが受信超音波の強度に強く影
響する。第8図に受信超音波の例をいくつか示す。第8
図+ (a)〜(e))に示すよう【、受信しt超音波
は1回1回各々異なり、ある時は強い超音波(たとえば
(a)と(C))が受信され、一方、ある時は気泡に妨
害されて受信超音波は殆ど検出されない(たとえば(b
)、 (d)、 (e) )。このように発明者らは受
信超音波の波形そのものが、散気状態や攪拌状態により
影響を受けるので、受信した超音波のピークを直接検出
できないことを見い出した。このため、従来の音速式の
濃度計測法では菌体濃度を計測できない。また、ピーク
を検出して次の超音波パルスを発信するシングアラウン
ド法ではさらに誤差が大きくなる。 このように超音波は伝播経路上にランダムに存在する気
泡で散乱するため受信超音波から直接伝播時間を求める
ことは出来ない。しかし、発明者らは、弱い信号であっ
ても、超音波が伝播して一部でも受信さえすれば、受信
超音波を複数回受信1     して平均処理すれば、
伝播時間を求められることを見出し九〇例えば、得られ
九超音波受信信号を128回受信及び記憶して平均処理
した結果、第9図に示すような波形が常時安定して得ら
れた。 次に、本発明を実施し交際の伝播時間と菌体濃度との関
係を第10図に示す。第9図は実験し友結果である。こ
の実験では1.66の酵母(サツカロマイセス セルビ
シアス: 3 acchromycesserevis
iase )懸濁液を対象に、温度一定条件下で散気流
量をO〜4t/wm、攪拌速度をO〜253rImの間
で変動させた。受信波形の平均処理の回数は128回と
した。第10図で、■で示した高さはデータの変動幅を
表す。第10図かられかるように、散気と攪拌している
場合でも伝播時間と菌体濃度とは直線関係にあることが
わかる。 また、温度を20C〜40Cに変化させt時の、伝播時
間と菌体濃度との関係を第11図に示す。 第11図から、温度が決れば伝播時間と菌体濃度との直
線関係を選べることがわかる。例えば温度30C1伝播
時間140μsのときの菌体濃度は、約68 g/lで
ある。 これらの図から、平均処理して得九波形から求めた伝播
時間と温度とを用いて菌体濃度を計測できることがわか
る。 以上、温度が変化する場合を例にとって説明したが、温
度一定条件では温度計測は不要で、菌体濃度は伝播時間
Ttのみで計測できる。しかし、温度を厳密に精度良く
制御することが困難な場合には、温度一定制御を実施し
ている場合であっても、実施例で説明しtように、温度
を考慮する方が望ましい。 第12図に培養検地の例の断面図を示す。 培養液中における超音波は、菌体濃度に比例し距離に反
比例して減衰する。このため、菌体濃度が高かつtす、
超音波を送受信する距離が長かったシすると、超音波の
減衰量が大きくなシ、超音波送受信装置310の増幅回
路313の増幅率を増加させても超音波を受信できなく
なる。 第12図に示す実施例は培養槽の一部を加工して、超音
波を送受信する距離を短くした点に特徴がある。 第12図の実施例は超音波の伝播距離tが短いので、高
濃度のときに適用して好適である。超音波送受信装置3
10から得た電気パルスを超音波送受信子300で超音
波に変換する。この超音波は、超音波発信部外壁101
と培養液110を伝播して超音波反射部320で反射し
、次に逆方向に、培養液110と超音波発信部外壁10
1を伝播l−て、再度超音波送受信子300で受信され
る。 受信した超音波は超音波送受信子300で電気信号に変
換されて、超音波送受信装置310に送信される。これ
以後の動作は第1図及び第3図の実鴬例と同様である。 第12図に示す実施例では、超音波発信部外壁101と
超音波反射部320との距離を、第1図の実施例で示し
たように培養槽100Aの直径より短くする。菌体濃度
が高くなると超音波の減衰が大きくなる。すなわち、培
養液110における超音波の減衰量が少ない。このため
、超音波伝播距離の長い大型の培養槽でも超音波を受信
でき、また、小型の培養槽でも培養液110を高濃度ま
で計測できる効果がある。 @13図、第14図に超音波送受信子300の具体的な
取付構造を示す。 第13図、第14図は超音波送受信子300と超音波発
信部外壁101と超音波反射部320とを、超音波反射
部固定具321を介して一体構造とし、さらに、フラン
ジ322で培養槽100のフランジ102に0リング3
23を介して固定した点に特徴がある。なお、図示しな
いが、7ランジ322と7ランジ102とはボルト、ナ
ツトで固定する。 第13図及び第14図の特徴は区音波反射部固定具32
1の長さの異なるものを用意して超音波反射部固定具3
21の長さを変更可能にし、大型の培養槽100におけ
る培養液110中の菌体濃度を高濃度まで計測できるよ
うにしたことにある。 すなわち、第12図で説明したように、超音波発信部外
壁101と超音波反射部320との距離が、短いほど高
濃度まで計測できる。 j       超音波反射部固定具321の長さを変
更することを以下に説明する。7ランジ322、超音波
発信部外壁101、超音波反射部固定具321並びに超
音波反射部320が一体構造で構成されて、長さのみ異
なる超音波反射部固定具321を有する、超音波の送信
反射受信装置を複数準備する。 超音波反射部固定具321と超音波反射部320とを別
部品とし、これらをボルト止めすることもできるが、ボ
ルトと超音波反射部固定具321と超音波反射部320
とに僅かな隙間を生じ、殺菌操作が効果的に実施されな
いので、一体構造にしたほうが良い。 以上本発明の詳細な説明し穴が、本発明によれば培養液
へのガス供給による気泡の存在並びに培養液の攪拌の影
響が共に小さく、培養液へのガス供給があり、かつ培養
液を攪拌する場合でも菌体濃度を正確に計測できる。ま
t1培養槽内培養液の菌体濃度を、培養槽外部から超音
波センサーにより非接触で計測できるので、センサーに
対する殺菌操作が不要になるばかりでなくコンタミの心
配がない。その上、培養槽外部に超音波センサーを設置
するので、センサーの維持管理も容易に行える。 〔発明の効果〕 以上説明したように本発明によれば、培養液へのガス供
給による気泡の存在並びに培養液の攪拌の影響が共に小
さく、培養液へのガス供給があり、かつ培養液を攪拌す
る場合でも菌体濃度を正確に計測できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の示す構成図、第2図は第1
図のA−A’断面図、第3図は第1図に示す実施4例の
信号処理部の詳細構成図、第4図は動作説明・用のタイ
ムチャート、第5図は本発明の詳細な説明するための図
、lX6図はマイクロプロセッサの処理内容図、第7図
は超音波伝播の模式面、第8図、第9図は波形図、第1
0図、第11−は本発明を説明するための特性図、第1
2〜14図はそれぞれ本発明の他の実施例を示す構成図
である。 100・・・培養槽、110・・・培養液、300・・
・超音波送受信子、310・・・超音波送受信装置、1
01・・・超音波発信部外壁、320・・・超音波反射
部外壁、330・・・A/D変換装置、340・・・マ
イクロプロセッサ、350・・・時間制御回路、400
・・・温度検出器、41O・・・温度信号変換装置、5
00・・・菌体為 8 配 (e) 不 9 ■ 第  10 図 0   菌体濤洩(8〃璽00 頁の続き

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、培養槽あるいは醗酵槽などの槽内に入つている懸濁
    液中に超音波を発生させ、超音波の前記懸濁液中の伝播
    速度を求め、この伝播速度から懸濁液中の菌体濃度を計
    測するものにおいて、前記超音波の伝播速度を測定する
    伝播速度測定手段は前記懸濁液中に超音波を多数回発生
    させ、超音波を発生させた毎に測定した伝播速度測定値
    の平均値を伝播速度として求めるようにしたことを特徴
    とする菌体濃度計測装置。 2、特許請求の範囲第1項において、前記伝播速度測定
    手段は前記懸濁液の温度によつて超音波の伝播速度測定
    値を補正するようにしたことを特徴とする菌体濃度計測
    装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014119210A (ja) * 2012-12-18 2014-06-30 Takasago Thermal Eng Co Ltd 過冷却解除装置および製氷装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5750652A (en) * 1980-09-12 1982-03-25 Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd Measuring method for bacillus number
JPS5877656A (ja) * 1981-11-04 1983-05-11 Fuji Kogyo Kk 超音波濃度測定装置

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