JPS61237462A - 集積回路 - Google Patents

集積回路

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Publication number
JPS61237462A
JPS61237462A JP60079013A JP7901385A JPS61237462A JP S61237462 A JPS61237462 A JP S61237462A JP 60079013 A JP60079013 A JP 60079013A JP 7901385 A JP7901385 A JP 7901385A JP S61237462 A JPS61237462 A JP S61237462A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gap
metallic film
pad section
integrated circuit
external
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60079013A
Other languages
English (en)
Inventor
Satoshi Nakao
中尾 悟至
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP60079013A priority Critical patent/JPS61237462A/ja
Publication of JPS61237462A publication Critical patent/JPS61237462A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0248Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、特に外部サージ電圧が印加される環境で用い
られる集積回路に関する。
(発明の技術的背景とその問題点〕 一般に過電圧等の外部サージ電圧の影響を受けやすい環
境に設けられる集積回路には、外部サージに対する保護
回路が必要である。例えば、自動車用点火装置等に使用
されるハイブリッド厚膜集積回路には、その外部端子に
点火火花等によって発生する外部サージ電圧が印加され
、その点火火花等のエネルギーが大きい場合には上記厚
膜集積回路の回路素子が破壊されることがある。このよ
うな外部サージ電圧に対して回路素子を保護するため、
従来第3図(A)、(B)に示すように集積回路11に
は保護回路が設けられる。すなわち、第3図(A)に示
すように外部配線と内部回路12を接続するための外部
端子13に十分大きな容量を有するコンデンサ14を設
ける。このコンデンサ14からなる保護回路によって、
外部サ−ジのエネルギー、を吸収して内部回路12の回
路素子を保護することができる。また、第31!21(
8)に示すようにコンデンサ14の代りに大きな電力特
性を有するツェナダイオード15を設けてもよい。しか
しながら、このような保護回路では、大官lのコンデン
サ14を使用する場合、集積回路11の周波数応答の劣
化、チップ面積の増大、および大容量のコンデンサ14
のコストが高いという問題があった。また、ツェナダイ
オード15を使用した場合には、集積回路11の入力信
号等の振幅が制限されて、ダイナミックレンジが十分取
れないという問題があった。
このような問題を解決するために、第4図(A)、(B
)の集積回路が提案されている。セラミック等の基板2
1上に回路素子に接続されるパッド部22が設けられる
。このパッド部22と所定の間隔をもって接地された金
属1!124が設けられる。
パッド部22と金Tm1924とを接続するように高抵
抗膜31が設けられている。パッド部22と高抵抗膜3
1と金属ll124はS+詣25によって被覆されてい
る。このように構成された集積回路において、第4図(
8)に示すように、パッド部22に接続される外部端子
13から外部サージ電圧が印加された場合、高抵抗11
3L金属#124を介して外部サージ電圧が放電される
ので回路素子が保護されることになる。しかしながらこ
のような集積回路においては、パッド部22の通常信号
の一部が高抵抗膜31を介して接地電位の金属膜24に
流れることになるため、例えば高インピーダンスの入力
回路への入力端子として使用することはできないという
問題があった。
(発明の目的) 本発明は上記事情を考慮してなされたもので、通常信号
の一部が接地に流れることなく、かつ外部サージ電圧か
ら内部回路を保護することができる集積回路を提供する
ことを目的とする。
(発明の概’Iり 上記目的を達成するために本発明による集積回路は、所
定回路が形成された基板と、この基板上の所定回路の一
部で外部配線に接続される第1の金WAIIと、この第
1の金属膜に極めて細いギ1シップを介して前記基板上
に設けた接地電位の第2の金属膜とを備えたことを特徴
とする。
また本発明による集積回路は、所定回路が形成された基
板と、この基板上の所定回路の一部で外部配線に接続さ
れる第1の金属膜と、前記基板上に設番プられた接地電
位の第2の金属膜と、前記第1の金gAIIIと前記第
2の金属膜間に設けられ極めて細いギャップが形成され
た高抵抗膜とを備えたことを特徴とする。
〔発明の実施例〕
本発明の第1の実施例による集積回路を第1図(A)、
(B)に示す。セラミック等の基板21上に回路素子に
接続される銀、パラジウム等からなるパッド部22が設
けられている。このパッド部22と所定の間隔をもって
銀、パラジウム等からなる金属lI24が設けられ、こ
の金1iiFJ24は接地されている。そしてこれらパ
ッド部22と金属膜24とを接続するように、例えば1
00にΩ以上の高抵抗膜31を設ける。この高抵抗IJ
31の中央には、パッド部22と金属膜24との直接の
導通を遮断するように極めて細いギャップ32が形成さ
れている。このギャップ32の形成は、まず高抵抗1s
31を形成した線に、レーザまたはダイヤモンドカッタ
によりおこなわれる。ギャップ32は10〜100μ−
程度が望ましい。さらにこれらパッド部22、金jil
124、高抵抗膜31が形成された基板21全体に対し
て第1図(B)に示すように耐湿性対策等のため絶縁耐
圧の高いシロコンゲル等の樹脂25の保護膜が形成され
る。
このような集積回路において、パッド部22に、数V〜
10数Vの通常信号が加わったとしても、ギャップ32
のためパッド部22と金属g124は遮断されており、
パッド部22から金属膜24へN流が流れることがない
。しかしながら数100Vから数10kVの外部サージ
電圧が、外部端子13からパッド部22に印加された場
合、このような高電圧に対しては、ギャップ32は実質
的に存在しないのと同等であるから、サージ電圧が放電
され、内部回路が保護される。
本発明の他の実施例による集積回路を第2図(A)、(
B)に示す。第3図(A)、(B)と同一の構成要素に
は同一の参照番号を付しである。
本実施例では、高抵抗膜31を設けず、パッド部22に
対して極めて細かいギャップ42を介して、接地された
金11124を設けている点に特徴がある。このギャッ
プ42は10〜100μm程度が望ましい。このギャッ
プ42の形成は、パッド部22と金属膜24をあらかじ
め連続して形成した後、レーザまたはダイヤモンドカッ
タ等により切断しておこなわれる。
本実施例においても、数v〜10数Vの通常信号に対し
てはパッド部22と金属11!24に遮断状態にあり、
通常信号の電流が金属1124に流れることはないが、
数100vから数10kVの外部サージ電圧に対しては
、ギャップ32は実質的に存在しないのと同等になって
、サージ電圧が放電され、内部回路が保護される。
なお、上記実施例において接地電位24と高抵抗1I3
1、ギャップ32またはギャップ42を介して接続され
る部分は、パッド部22に限ることなく、回路素子およ
び外部端子と接続されている金属膜であればよい。また
高抵抗1131は、金属酸化物、半導体等により形成さ
れる。
〔発明の効果〕
以上の通り本発明によれば外部サージ電圧から内部回路
を保護するとともに、通常信号の一部が接地に流れるこ
とがないので、高インピーダンスの入力回路等をもサー
ジ電圧から保護することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(A)、(B)は本発明の一実施例による集積回
路の平面図および断面図、第2図(A)。 (B)は本発明の他の実施例による集積回路の平面図お
よび断面図、第3図(A)、(B)は従来の集積回路の
構成図、第4図(A)、(B)は従来の集積回路の平面
図および断面図である。 11・・・集積回路、13・・・外部端子、14−・・
コンデンサ、15・・・ツェナーダイオード、21・・
・基板、22・・・パッド部、31・・・高抵抗膜、3
2.42・・・ギャップ。 出願人代理人  猪  股    清 汽 I 図 (A)             (B)■ も2 図 (A)             (B)= ら3 (A) +2 色4 (A) (B) 図 (B)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、所定回路が形成された基板と、この基板上の所定回
    路の一部で外部配線に接続される第1の金属膜と極めて
    細いギャップを介して前記基板上に設けられた接地電位
    の第2の金属膜とを備えたことを特徴とする集積回路 2、所定回路が形成された基板と、この基板上の所定回
    路の一部で外部配線に接続される第1の金属膜と、前記
    基板上に設けられた接地電位の第2の金属膜と、前記第
    1の金属膜と前記第2の金属膜間に設けられ、極めて細
    いギャップが形成された高抵抗膜とを備えたことを特徴
    とする集積回路。
JP60079013A 1985-04-13 1985-04-13 集積回路 Pending JPS61237462A (ja)

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JP60079013A JPS61237462A (ja) 1985-04-13 1985-04-13 集積回路

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JPS61237462A true JPS61237462A (ja) 1986-10-22

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ID=13678060

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60079013A Pending JPS61237462A (ja) 1985-04-13 1985-04-13 集積回路

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JP (1) JPS61237462A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07321292A (ja) * 1994-03-14 1995-12-08 Sgs Thomson Microelectron Sa 少なくとも2つの導電性エレメントを含む集積回路内の構造およびその製造の方法
JP2002507062A (ja) * 1998-03-10 2002-03-05 オリックス テクノロジー コーポレイション 集積回路用過電圧保護デバイス

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JPH07321292A (ja) * 1994-03-14 1995-12-08 Sgs Thomson Microelectron Sa 少なくとも2つの導電性エレメントを含む集積回路内の構造およびその製造の方法
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