JPS61236132A - Bonding process in wire bonding apparatus - Google Patents
Bonding process in wire bonding apparatusInfo
- Publication number
- JPS61236132A JPS61236132A JP60077657A JP7765785A JPS61236132A JP S61236132 A JPS61236132 A JP S61236132A JP 60077657 A JP60077657 A JP 60077657A JP 7765785 A JP7765785 A JP 7765785A JP S61236132 A JPS61236132 A JP S61236132A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slide block
- bonding
- dead center
- contact
- capillary
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
- H01L24/78—Apparatus for connecting with wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/78—Apparatus for connecting with wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/78—Apparatus for connecting with wire connectors
- H01L2224/7825—Means for applying energy, e.g. heating means
- H01L2224/783—Means for applying energy, e.g. heating means by means of pressure
- H01L2224/78301—Capillary
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/8512—Aligning
- H01L2224/85148—Aligning involving movement of a part of the bonding apparatus
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は半導体装置などの被加工物の素子側電極と外部
引出し電極とを金属細線で接続するワイヤボンディング
装置におけるボンディング方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a bonding method in a wire bonding apparatus that connects an element side electrode of a workpiece such as a semiconductor device and an external lead electrode using a thin metal wire.
従来の技術
従来のワイヤボンディング装置として、特願昭58−2
40211号出願に示されるものがある。本発明はこの
従来装置を用いたボンディング方法に改良を加えたもの
であるので、先ず第2図及び第3図に基づいて上記従来
装置について説明する。Conventional technology As a conventional wire bonding device, patent application No. 58-2
There is one shown in the No. 40211 application. Since the present invention is an improvement on the bonding method using this conventional device, the conventional device will first be explained based on FIGS. 2 and 3.
第2図において、1は昇降位置及び昇降速度を制御手段
2によって制御されるスライドブロック、3は枢軸4を
介してスライドブロックに回動自在に支持されたボンデ
ィングアーム、5はボンディングアーム3の先端に取付
けたキャピラリ、6はボンディングアーム3に弾性荷重
を加える付勢手段である。In FIG. 2, 1 is a slide block whose lifting position and speed are controlled by control means 2, 3 is a bonding arm rotatably supported by the slide block via a pivot 4, and 5 is the tip of the bonding arm 3. A capillary 6 attached to the bonding arm 3 is a biasing means for applying an elastic load to the bonding arm 3.
XYテーブル7上には被加工物としての半導体装置aが
セットされ、その素子側電極8aと外部引出し電極8b
とを、キャピラリ5に供給される金属細線すで接続する
ように前記装置は作動する。A semiconductor device a as a workpiece is set on the XY table 7, and its element side electrode 8a and external lead electrode 8b
The device operates in such a way that the thin metal wire supplied to the capillary 5 connects the two.
前記スライドブロック1はリニヤモータ9の駆動によっ
て昇降せしめられ、その昇降位置及び昇降速度は主制御
回路2a、メモリ2b、駆動回路20などから構成され
る制御手段2によって制御されている。The slide block 1 is raised and lowered by the drive of a linear motor 9, and its raising and lowering position and speed are controlled by a control means 2 comprising a main control circuit 2a, a memory 2b, a drive circuit 20, and the like.
前記付勢手段6は前記ボンディングアーム3にレバー1
0を介して常に接続されているバネ6aと、通電時にの
み前記レバー10を介して前記ボンディングアーム3に
弾性荷重(電磁吸引力)を付与するソレノイド6bとで
構成されている。The biasing means 6 is attached to the bonding arm 3 by lever 1.
0, and a solenoid 6b that applies an elastic load (electromagnetic attraction force) to the bonding arm 3 via the lever 10 only when energized.
前記ボンディングアーム3は超音波ホーンからなり、超
音波振動子11の振動をキャピラリ5に伝えている。The bonding arm 3 is composed of an ultrasonic horn, and transmits the vibration of the ultrasonic vibrator 11 to the capillary 5.
次に前記装置におけるスライドブロック1の昇降運動の
制御方法を第4図に基き説明する。Next, a method of controlling the vertical movement of the slide block 1 in the device will be explained based on FIG. 4.
第4図はスライドブロック1の昇降位置を時間の経過に
従って示したものである。その左半分は半導体装置aの
素子側電極8aをボンディングする第1ボンデイング工
程I (第2図参照)を示し、その右半分は外部引出し
電極8bをボンディングする第2ボンデイング工程■
(第3vI!J参照)を示しているが、両者は基本的に
は同様に制御される。FIG. 4 shows the ascending and descending positions of the slide block 1 over time. The left half shows the first bonding process I (see FIG. 2) for bonding the element side electrode 8a of the semiconductor device a, and the right half shows the second bonding process I for bonding the external lead electrode 8b.
(See 3rd vI!J), but both are basically controlled in the same way.
第4図においてHは予め設定された上死点位置、Sは予
め設定されたサーチ位置、Cはキャピラリ5が半導体装
置aのボンディング面に最初に接触するときのスライド
ブロック1の昇降位置(接触位置)、Lは下死点位置で
ある。In FIG. 4, H is the preset top dead center position, S is the preset search position, and C is the vertical position (contact) of the slide block 1 when the capillary 5 first contacts the bonding surface of the semiconductor device a. position), L is the bottom dead center position.
前記接触位置Cは、前記キャピラリ5がボンディング面
に接触する六き、超音波振動の振動波形が変わることを
利用して、接触検出袋fi!12によって検知される(
第2図参照)。前記下死点位置しは接触位fi!cより
一定距離(例えば0゜2鶴)ΔL下方に定められている
。The contact position C is determined by using the fact that the vibration waveform of the ultrasonic vibration changes when the capillary 5 contacts the bonding surface. Detected by 12 (
(See Figure 2). The bottom dead center position is the contact position fi! It is set a certain distance (for example, 0°2 cranes) ΔL below c.
かくして、第4図に示すようにスライドブロック1は上
死点位置Hからサーチ位置Sまで高速度で降下し、次い
で低速度に切替えられて徐々に降下しながら接触位Rc
を探り、前記接触検出装置12によって接触位置Cが検
知されると、更に前記一定距離ΔL低速度で降下し、下
死点位置しに達する(尚、第4図に破線でキャピラリ5
の動きを示している。)。Thus, as shown in FIG. 4, the slide block 1 descends at high speed from the top dead center position H to the search position S, and then changes to a low speed and gradually descends until it reaches the contact position Rc.
When the contact position C is detected by the contact detection device 12, the contact position C is further lowered by the fixed distance ΔL at a low speed, and reaches the bottom dead center position (in addition, the broken line in FIG. 4 indicates that the capillary 5
It shows the movement. ).
スライドブロック1が接触位置Cから下死点位置しにあ
る間に、ボンディングが行われ、第1ボンデイング工程
■においては、前記バネ6aによる弾性荷重が、第2ボ
ンデイング工程■においては、前記バネ6a及び前記ソ
レノイド6bによる弾性荷重が夫々キャピラリ5からボ
ンディング面に加えられる。Bonding is performed while the slide block 1 is from the contact position C to the bottom dead center position, and in the first bonding process (2), the elastic load by the spring 6a is applied, and in the second bonding process (2), the elastic load is applied to the spring 6a. Elastic loads are applied from the capillary 5 to the bonding surface by the solenoid 6b.
発明が解決しようとする問題点
ところで上記従来方法によると、接触検出装置12によ
る接触位置Cの検出が正確に行われることが必須条件と
なる。しかしボンディング面の材質やキャピラリ5、ボ
ンディングアーム3などの振動の影響を受けて前記接触
検出装置12が誤作動することがある。Problems to be Solved by the Invention According to the above conventional method, it is essential that the contact position C be detected accurately by the contact detection device 12. However, the contact detection device 12 may malfunction due to the influence of the material of the bonding surface, the vibrations of the capillary 5, the bonding arm 3, etc.
例えばキャピラリ5がボンディング面に接触する前に前
記接触検出装置12が誤作動すると、その後スライドブ
ロック1は前記一定距離ΔLしか降下しないため、前記
付勢手段6からキャピラリ5に及ぼされる弾性荷重が不
足して、適切なボンディングが行われなくなり、又極端
な場合にはボンディングが不可となる。他方、前記接触
が前記接触検出装置12によって検出されない場合には
、前記弾性荷重が過大になって、この場合にもボンディ
ング不良が生ずる。For example, if the contact detection device 12 malfunctions before the capillary 5 comes into contact with the bonding surface, the slide block 1 will then descend only by the predetermined distance ΔL, so the elastic load applied from the biasing means 6 to the capillary 5 will be insufficient. As a result, proper bonding will not be performed, and in extreme cases, bonding will not be possible. On the other hand, if the contact is not detected by the contact detection device 12, the elastic load becomes excessive, and bonding failure also occurs in this case.
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明方法は、° 昇降位
置及び昇降速度を制御手段によって制御されるスライド
ブロックに、キャピラリを取付けたボンディングアーム
を回動自在に支持せしめると共に、キャピラリが被加工
物のボンディング面に接触してボンディングアームが回
動するとき、ボンディングアームの回動に応じた弾性荷
重を前記キャピラリに与える付勢手段を配設してなるワ
イヤボンディング装置において、前記キャピラリが前記
ボンディング面に最初に接触するときのスライドブロッ
クの昇降位置としての接触位置を予め決定し、この接触
位置の上下に接近する接触直前位置と下死点位置とを設
定して、これらをスライドブロックの上死点位置と共に
前記制御手段に記憶させると共に、上死点位置から接触
直前位置へのスライドブロックの降下速度及び接触直前
位置から下死点位置へのスライドブロックの降下速度を
前記制御手段に記憶させ、これらデータに基づいてスラ
イドブロックを上死点位置から接触直前位置へ降下させ
た後、接触直前位置から下死点位置へ降下させることを
特徴とする。Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the method of the present invention includes: ° A bonding arm with a capillary attached is rotatably supported on a slide block whose lifting position and speed are controlled by a control means. A wire bonding device comprising: a biasing means for applying an elastic load to the capillary in accordance with the rotation of the bonding arm when the capillary contacts a bonding surface of a workpiece and the bonding arm rotates; In this step, a contact position as a rising/lowering position of the slide block when the capillary first contacts the bonding surface is determined in advance, and a position immediately before contact and a bottom dead center position that approach above and below this contact position are set. , these are stored in the control means together with the top dead center position of the slide block, and the descending speed of the slide block from the top dead center position to the position immediately before contact and the descending speed of the slide block from the position immediately before contact to the bottom dead center position is stored in the control means, and based on these data, the slide block is lowered from the top dead center position to the position immediately before contact, and then lowered from the position immediately before contact to the bottom dead center position.
作用
本発明は上記構成を有し、第1図に示すようにスライド
ブロックは上死点位置Hから接触直前位置Mに高速度に
降下した後、所定の低速度で一定距離ΔH降下して下死
点位置しに達する間に、ボンディングを行うことができ
る。そして本発明では、従来例において行われた接触位
置の検知を行わないので、接触検出装置の誤作動による
悪影響を受けることがない。従って本発明によれば、キ
ャピラリが前記ボンディング面に最初に接触したときか
ら下死点位置しに達するまでのスライドブロックの降下
距離に大きな差異が生じないので、ボンディング時の弾
性荷重を適正値に維持できる結果、従来例にみられたボ
ンディング不良の問題を解決できる。Function The present invention has the above-mentioned configuration, and as shown in FIG. 1, the slide block descends at high speed from the top dead center position H to the position M just before contact, and then descends at a predetermined low speed by a certain distance ΔH. Bonding can be performed while the dead center position is reached. Further, in the present invention, since the contact position is not detected as in the conventional example, there is no adverse effect due to malfunction of the contact detection device. Therefore, according to the present invention, since there is no large difference in the descending distance of the slide block from when the capillary first contacts the bonding surface until it reaches the bottom dead center position, the elastic load during bonding can be adjusted to an appropriate value. As a result, the problem of poor bonding seen in the conventional example can be solved.
実施例
以下本発明の一実施例のワイヤボンディング装置におけ
るボンディング方法について、図面を参照しながら説明
する。EXAMPLE Hereinafter, a bonding method in a wire bonding apparatus according to an example of the present invention will be described with reference to the drawings.
第2図及び第3図に示すワイヤボンディング装置は、従
来装置と基本的には同一に構成されているが、仮想線で
示す接触検出袋fit12を有していない点で異なって
いる。The wire bonding apparatus shown in FIGS. 2 and 3 has basically the same structure as the conventional apparatus, but differs in that it does not have the contact detection bag fit12 shown by the imaginary line.
スライドブロック1は機枠13に設けたガイドロッド1
4に案内されて昇降動する。この昇降動はリニヤモータ
9の駆動によって行われるが、このリニヤモータ9は機
枠13側に固定されるセンタポール9a、ヨーク9b、
磁石9c及びスライドブロック1側に固着されるボビン
9d、・コイル9eによって構成されている。The slide block 1 is a guide rod 1 provided on the machine frame 13.
4 and move up and down. This vertical movement is performed by driving a linear motor 9, which includes a center pole 9a fixed to the machine frame 13 side, a yoke 9b,
It is composed of a magnet 9c, a bobbin 9d fixed to the slide block 1 side, and a coil 9e.
前記スライドブロック1には枢軸4を介して超音波ホー
ンで構成されるボンディングアーム3が回動自在に枢支
しである。このボンディングアーム3の先端にはキャピ
ラリ5が取付けてあり、ここに金imi*bが供給され
る。又ボンディングアーム3の基端には超音波ホーン1
8によって起振される超音波振動子11が取付けである
。A bonding arm 3 composed of an ultrasonic horn is rotatably supported on the slide block 1 via a pivot 4. A capillary 5 is attached to the tip of this bonding arm 3, to which gold imi*b is supplied. Also, an ultrasonic horn 1 is installed at the base end of the bonding arm 3.
An ultrasonic vibrator 11 excited by 8 is attached.
6aはレバー10を介してボンディングアーム3を第2
図反時計方向に付勢するバネで、第1ボンディング時及
び第2ボンディング時にボンディングアーム3に作用す
る。これ以外のときは、前記レバー10はストッパ15
に当接している。6a moves the bonding arm 3 to the second position via the lever 10.
A spring biasing counterclockwise in the figure acts on the bonding arm 3 during first bonding and second bonding. In other cases, the lever 10 is moved to the stopper 15.
is in contact with.
6bは通電時に吸引板16を吸引して、その電磁吸引力
によってレバー10を介してボンディングアーム3を第
2図反時計方向に付勢するソレノイドである。制御手段
2の主制御回路2aから、第2ボンディング時に通電命
令が出され、前記ソレノイド6bはボンディングアーム
3を付勢する。尚、17はバネ力の弱い補助スプリング
である。A solenoid 6b attracts the suction plate 16 when energized and uses its electromagnetic attraction force to urge the bonding arm 3 counterclockwise in FIG. 2 via the lever 10. A power supply command is issued from the main control circuit 2a of the control means 2 during the second bonding, and the solenoid 6b energizes the bonding arm 3. Note that 17 is an auxiliary spring with a weak spring force.
前記スライドブロック1の昇降位置、昇降速度は制御手
段2によって制御される。この制御手段2は主制御回路
2a、メモリ2b、駆!lJ回路2cなどから構成され
ている。尚、19はスライドブロック1の昇降位置を検
出する位置センサ、20はスライドブロック1の昇降速
度を検出する速度センサである。The lifting position and lifting speed of the slide block 1 are controlled by a control means 2. This control means 2 includes a main control circuit 2a, a memory 2b, and a drive! It is composed of an lJ circuit 2c and the like. Note that 19 is a position sensor that detects the vertical position of the slide block 1, and 20 is a speed sensor that detects the vertical speed of the slide block 1.
被加工物としての半導体装置aを固定支持するXYテー
ブル7は前記主制御回路2aの指令に基づいてXY2方
向の所定運動を行う。The XY table 7, which fixedly supports the semiconductor device a as a workpiece, performs predetermined movements in two directions, XY and Y, based on commands from the main control circuit 2a.
前記制御手段2のメモリ2bには、キャピラリ5が前記
ボンディング面に最初に接触するときのスライドブロッ
ク1の昇降位置として予め決定される接触位置に対し、
その下方に接近した位置である接触直前位置M及びその
下方に接近した設置である下死点位置りを、スライドブ
ロック1の上死点位置Hと共に記憶させている。The memory 2b of the control means 2 stores information regarding the contact position predetermined as the vertical position of the slide block 1 when the capillary 5 first contacts the bonding surface.
A position immediately before contact M, which is a position close to the bottom of the contact position, and a bottom dead center position, which is a position close to the bottom of the contact position, are stored together with the top dead center position H of the slide block 1.
父上死点位置Hから接触直前位置Mへのスライドブロッ
ク1の降下速度及び接触直前位置Mから下死点値ELへ
のスライドブロック1の降下速度も、前記メモリ2bに
記憶させている。The descending speed of the slide block 1 from the upper dead center position H to the position M immediately before contact and the descending speed of the slide block 1 from the immediately before contact position M to the bottom dead center value EL are also stored in the memory 2b.
接触直前位置Mと下死点位置りとの間の距離ΔHは例え
ば0.5flに定められている。父上死点位置Hから接
触直前位置Mへの降下速度に比較し接触直前位置Mから
下死点位置しへの降下速度は低速に設定されている。The distance ΔH between the position M immediately before contact and the bottom dead center position is set to, for example, 0.5 fl. The speed of descent from the position M immediately before contact to the bottom dead center position is set to be low compared to the speed of descent from the position H immediately before contact to the position M immediately before contact.
第1ボンデイング工程Iと第2ボンデイング工程■の各
昇降位置H,M、Lは第1図に示すように両電極8a、
8bの高低差分だけ相違している。As shown in FIG.
The only difference is the height difference of 8b.
かくして、前記制御手段2はメモリ2bに記憶された諸
データに基き、スライドブロック1の昇降動を第1図に
示すように制御する。Thus, the control means 2 controls the vertical movement of the slide block 1 as shown in FIG. 1 based on the various data stored in the memory 2b.
先ず第1ボンデイング工程■において、スライドブロッ
ク1は上死点位置Hより接触直前位置Mに高速で降下す
る(このとき例えばキャピラリ5は電極8aのボンディ
ング面の直上約0.3鶴の高さになる。)。次いで接触
直前位置Mより下死点位置しに一定距離ΔH(例えば0
.5 tm)低速で降下する。この間キャピラリ5は第
1図に破線で示すと共に第2図に示すように、前記ボン
ディング面に接触し、スライドブロック1の降下に伴う
ボンディングアーム3の第2図時計方向の回動により生
ずるバネ6aの弾性荷重を利用して第1ボンディング作
用を行う。First, in the first bonding step (3), the slide block 1 descends at high speed from the top dead center position H to the position M immediately before contact (at this time, for example, the capillary 5 is placed at a height of approximately 0.3 mm directly above the bonding surface of the electrode 8a). Become.). Next, a certain distance ΔH (for example, 0
.. 5 tm) Descend at low speed. During this time, the capillary 5 is in contact with the bonding surface as shown by the broken line in FIG. 1 and as shown in FIG. The first bonding action is performed using the elastic load of.
スライドブロックlは下死点位置して所定時−開停止し
た後、高速で上昇し、第2ボンデイング工程■の上死点
位置Hに達する。After the slide block 1 is located at the bottom dead center and stops opening at a predetermined time, it rises at high speed and reaches the top dead center position H in the second bonding step (2).
スライドブロック1が前記上死点位置Hに停止している
間に、XYテーブルが移動して、キャピラリ5の直下に
電極8bが位置するようになる。次いでスライドブロッ
ク1は第1ボンデイング工程■と同様に昇降して、第2
ボンデイングを行う。但し第2ボンデイング工程■にお
いては、ソレノイド6bに通電がなされて、バネ6aと
ソレノイド6bとの両者の弾性荷重が作用する状態でボ
ンディングが行われる。While the slide block 1 is stopped at the top dead center position H, the XY table moves so that the electrode 8b is positioned directly below the capillary 5. Next, the slide block 1 is raised and lowered in the same way as in the first bonding process (■), and the second
Perform bonding. However, in the second bonding step (2), the solenoid 6b is energized and bonding is performed in a state where the elastic loads of both the spring 6a and the solenoid 6b are applied.
本発明は上記実施例に示す外、種々の態様に構成するこ
とができる。例えば、スライドブロック1の昇降位置、
昇降速度に聞する運動特性は第1図に示すものに限定さ
れないことは勿論である。The present invention can be configured in various ways other than those shown in the above embodiments. For example, the vertical position of the slide block 1,
Of course, the motion characteristics related to the lifting speed are not limited to those shown in FIG.
発明の効果
本発明は上記構成を有し、スライドブロックの接触直前
位置と下死点位置とが予め正確゛に設定され、この間を
低速でスライドブロックが降下するとき、キャピラリが
被加工物のボンディング面に接触し、付勢手段による弾
性荷重が加えられた状態でボンディングが行われ、キャ
ピラリが前記ボンディング面に最初に接触したときから
前記下死点位置に達するまでのスライドブロックの降下
距離に大きな差異が生じないので、ボンディング時の弾
性荷重を適正値に維持することができる。Effects of the Invention The present invention has the above configuration, in which the position just before the contact of the slide block and the bottom dead center position are accurately set in advance, and when the slide block descends between these at low speed, the capillary connects the workpiece to the bonding point. Bonding is performed in a state where the capillary is in contact with the bonding surface and an elastic load is applied by the biasing means, and the descending distance of the slide block from when the capillary first contacts the bonding surface until reaching the bottom dead center position is large. Since no difference occurs, the elastic load during bonding can be maintained at an appropriate value.
従らて本発明によれば、従来例における接触検出装置の
誤作動に基づくボンディング不良の問題を解決すること
ができる。Therefore, according to the present invention, it is possible to solve the problem of defective bonding due to malfunction of the contact detection device in the conventional example.
第1図は本発明の一実施例におけるスライドブロックの
運動特性図、第2図は本発明に用いられるワイヤボンデ
ィング装置の1例を示す一部縦断側面図(但し、仮想線
で示す部分は従来例を示す。)、第3図はその作用を示
す要部の側面図、第4図は従来例におけるスライドブロ
ックの運動特性図である。
t−−−−−−−・・・−−−−−−−−一・・・−・
−−−一・・−・・−・・スライドブロック2−・−・
−一−−−・−・−−一−−−−−−・−・・−制御手
段3・−・−・−・・−・−・−−一−・−−一−−・
−・−−−−一・ボンディングアーム5−・−一−−−
−−−−−−・−・−・・・−・−・−一一−−−−キ
ャピラリ6−・−・−・・−・−・−・・−・・−・−
・−一一〜〜付勢手段a−・〜−−−−−−−−−−−
・−・−・−・・−・−−一−−−被加工物H−・−・
−・−一一−−−−−−・−−一−−・−・−・−−−
−−−一上死点位置M−−−−−・−一〜−一−・・−
・−・−・−−−−−−一−−・−・−接触直前位置L
−・−・−・−−−一−−−・・−−−−−−〜−−−
−−−−・−・下死点位置。
出願人 松下電器産業株式会社
代理人 弁理士 中尾敏男 はか1名第1図
第4図
吟聞−Fig. 1 is a movement characteristic diagram of a slide block in an embodiment of the present invention, and Fig. 2 is a partially longitudinal side view showing an example of a wire bonding device used in the present invention (however, the portion indicated by imaginary lines is conventional 3 is a side view of the main parts showing its operation, and FIG. 4 is a diagram showing the motion characteristics of the slide block in a conventional example. t-------・・・-------1・・・-・
−−−1・・−・・−・・Slide block 2−・−・
−1−−−・−・−−1−−−−−・−・・−Control means 3・−・−・−・・−・−・−−1−・−−1−−・
−・−−−−1・Bonding arm 5−・−1−−−
−−−−−−・−・−・・−・−・−11−−−−Capillary 6−・−・−・・−・−・−・・−・・−・−
・-11~~Biasing means a~・~------------
・−・−・−・・−・−−1−−−Workpiece H−・−・
−・−11−−−−−−・−−1−−・−・−・−−−
−−−Top dead center position M−−−−・−1~−1−・・−
・−・−・−−−−−−1−−・−・−Position L just before contact
−・−・−・−−−1−−−・・−−−−−−〜−−−
−−−−・−・Bottom dead center position. Applicant Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Agent Patent Attorney Toshio Nakao 1 person Figure 1 Figure 4 Ginmon-
Claims (1)
れるスライドブロックに、キャピラリを取付けたボンデ
ィングアームを移動自在に支持せしめると共に、キャピ
ラリが被加工物のボンディング面に接触してボンディン
グアームが移動するとき、ボンディングアームの移動に
応じた弾性荷重を前記キャピラリに与える付勢手段を配
設してなるワイヤボンディング装置において、前記キャ
ピラリが前記ボンディング面に最初に接触するときのス
ライドブロックの昇降位置としての接触位置を予め決定
し、この接触位置の上下に接近する接触直前位置と下死
点位置とを設定して、これらをスライドブロックの上死
点位置と共に前記制御手段に記憶させると共に、上死点
位置から接触直前位置へのスライドブロックの降下速度
及び接触直前位置から下死点位置へのスライドブロック
の降下速度を前記制御手段に記憶させ、これらデータに
基づいてスライドブロックを上死点位置から接触直前位
置へ降下させた後、接触直前位置から下死点位置へ降下
させることを特徴とするワイヤボンディング装置におけ
るボンディング方法。(1) A bonding arm with a capillary attached is movably supported by a slide block whose lifting position and speed are controlled by a control means, and the bonding arm moves as the capillary comes into contact with the bonding surface of the workpiece. In a wire bonding apparatus comprising a biasing means for applying an elastic load to the capillary in accordance with the movement of the bonding arm, the slide block is in an ascending and descending position when the capillary first contacts the bonding surface. A contact position is determined in advance, and a position immediately before contact and a bottom dead center position that approach above and below this contact position are set, and these are stored in the control means together with the top dead center position of the slide block, and the top dead center The descending speed of the slide block from the position immediately before contact to the position immediately before contact and the descending speed of the slide block from the position immediately before contact to the bottom dead center position are stored in the control means, and based on these data, the slide block is brought into contact from the top dead center position. A bonding method in a wire bonding apparatus, characterized in that the wire bonding device is lowered to a position immediately before contact, and then lowered from the position immediately before contact to a bottom dead center position.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60077657A JPS61236132A (en) | 1985-04-12 | 1985-04-12 | Bonding process in wire bonding apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60077657A JPS61236132A (en) | 1985-04-12 | 1985-04-12 | Bonding process in wire bonding apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61236132A true JPS61236132A (en) | 1986-10-21 |
JPH0428135B2 JPH0428135B2 (en) | 1992-05-13 |
Family
ID=13639952
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60077657A Granted JPS61236132A (en) | 1985-04-12 | 1985-04-12 | Bonding process in wire bonding apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61236132A (en) |
-
1985
- 1985-04-12 JP JP60077657A patent/JPS61236132A/en active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0428135B2 (en) | 1992-05-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0154578B1 (en) | Variation and control of bond force | |
JP2635889B2 (en) | Die bonding equipment | |
KR100637590B1 (en) | Apparatus for cutting glass substrates in manufacturing process of flat type displayer | |
JP3094374B2 (en) | Frame fixing device for wire bonder | |
JPH02231736A (en) | Wire bonding method | |
JPS61236132A (en) | Bonding process in wire bonding apparatus | |
JP2558717B2 (en) | Wire bonding equipment | |
JPH04317343A (en) | Bonding apparatus | |
JP2001127097A (en) | Bonding device and its control method | |
JP2575066B2 (en) | Semiconductor assembly equipment | |
JP3625934B2 (en) | Parallel seam joining method and parallel seam joining apparatus | |
JPS5826524Y2 (en) | Hand tie wire bonder touch | |
JPS61242029A (en) | Wire bonding apparatus | |
JP3749330B2 (en) | Pellet bonding equipment | |
JP2602886B2 (en) | Inner lead bonding apparatus and inner lead bonding method | |
JPH02199846A (en) | Wire bonding | |
JP2725102B2 (en) | Wire bonding method | |
JPH07151800A (en) | Resistivity measuring instrument | |
JPH05131386A (en) | Die handling collet lifting mechanism | |
JP3590196B2 (en) | Pellet bonding method and apparatus | |
JPH1074785A (en) | Wire bonding method | |
JP2663193B2 (en) | Semiconductor assembly apparatus and method | |
JP3189402B2 (en) | Bump forming method | |
JPS6364274B2 (en) | ||
JP2940259B2 (en) | Bonding method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |