JPH0428135B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0428135B2
JPH0428135B2 JP60077657A JP7765785A JPH0428135B2 JP H0428135 B2 JPH0428135 B2 JP H0428135B2 JP 60077657 A JP60077657 A JP 60077657A JP 7765785 A JP7765785 A JP 7765785A JP H0428135 B2 JPH0428135 B2 JP H0428135B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bonding
slide block
dead center
contact
capillary
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60077657A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS61236132A (en
Inventor
Akihiro Yamamoto
Yutaka Makino
Noryuki Inagaki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP60077657A priority Critical patent/JPS61236132A/en
Publication of JPS61236132A publication Critical patent/JPS61236132A/en
Publication of JPH0428135B2 publication Critical patent/JPH0428135B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/78Apparatus for connecting with wire connectors
    • H01L2224/7825Means for applying energy, e.g. heating means
    • H01L2224/783Means for applying energy, e.g. heating means by means of pressure
    • H01L2224/78301Capillary
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • H01L2224/8512Aligning
    • H01L2224/85148Aligning involving movement of a part of the bonding apparatus
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体装置などの被加工物の素子側電
極と外部引出し電極とを金属細線で接続するワイ
ヤボンデイング装置におけるボンデイング方法に
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a bonding method in a wire bonding apparatus that connects an element side electrode of a workpiece such as a semiconductor device and an external lead electrode using a thin metal wire.

従来の技術 従来のワイヤボンデイング装置として、特願昭
58−240211号出願に示されるものがある。本発明
はこの従来装置を用いたボンデイング方法に改良
を加えたものであるので、先ず第2図及び第3図
に基づいて上記従来装置について説明する。
Conventional technology As a conventional wire bonding device,
There is one shown in application No. 58-240211. Since the present invention is an improvement on the bonding method using this conventional device, the conventional device will first be explained based on FIGS. 2 and 3.

第2図において、1は昇降位置及び昇降速度を
制御手段2によつて制御されるスライドブロツ
ク、3は枢軸4を介してスライドブロツクに回動
自在に支持されたボンデイングアーム、5はボン
デイングアーム3の先端に取付けたキヤピラリ、
6はボンデイングアーム3に弾性荷重を加える付
勢手段である。
In FIG. 2, 1 is a slide block whose lifting position and speed are controlled by a control means 2, 3 is a bonding arm rotatably supported by the slide block via a pivot 4, and 5 is a bonding arm 3. The capillary attached to the tip of the
Reference numeral 6 denotes a biasing means for applying an elastic load to the bonding arm 3.

XYテーブル7上には被加工物としての半導体
装置aがセツトされ、その素子側電極8aと外部
引出し電極8bとを、キヤピラリ5に供給される
金属細線bで接続するように前記装置は作動す
る。
A semiconductor device a as a workpiece is set on the XY table 7, and the device is operated to connect its element side electrode 8a and external lead electrode 8b with a thin metal wire b supplied to the capillary 5. .

前記スライドブロツク1はリニヤモータ9の駆
動によつて昇降せしめられ、その昇降位置及び昇
降速度は主制御回路2a、メモリ2b、駆動回路
2cなどから構成される制御手段2によつて制御
されている。
The slide block 1 is raised and lowered by the drive of a linear motor 9, and its raising/lowering position and speed are controlled by a control means 2 comprising a main control circuit 2a, a memory 2b, a drive circuit 2c, etc.

前記付勢手段6は前記ボンデイングアーム3に
レバー10を介して常に接続されているバネ6a
と、通電時にのみ前記レバー10を介して前記ボ
ンデイングアーム3に弾性荷重(電磁吸引力)を
付与するソレノイド6bとで構成されている。
The biasing means 6 is a spring 6a which is always connected to the bonding arm 3 via a lever 10.
and a solenoid 6b that applies an elastic load (electromagnetic attraction force) to the bonding arm 3 via the lever 10 only when energized.

前記ボンデイングアーム3は超音波ホーンから
なり、超音波振動子11の振動をキヤピラリ5に
伝えている。
The bonding arm 3 consists of an ultrasonic horn, and transmits the vibrations of the ultrasonic vibrator 11 to the capillary 5.

次に前記装置におけるスライドブロツク1の昇
降運動の制御方法を第4図に基き説明する。
Next, a method of controlling the vertical movement of the slide block 1 in the above device will be explained with reference to FIG.

第4図はスライドブロツク1の昇降位置を時間
の経過に従つて示したものである。その左半分は
半導体装置aの素子側電極8aをボンデイングす
る第1ボンデイング工程(第2図参照)を示
し、その右半分は外部引出し電極8bをボンデイ
ングする第2ボンデイング工程(第3図参照)
を示しているが、両者は基本的には同様に制御さ
れる。
FIG. 4 shows the ascending and descending positions of the slide block 1 over time. The left half shows the first bonding step (see FIG. 2) for bonding the element side electrode 8a of the semiconductor device a, and the right half shows the second bonding step (see FIG. 3) for bonding the external lead electrode 8b.
However, both are basically controlled in the same way.

第4図においてHは予め設定された上死点位
置、Sは予め設定されたサーチ位置、Cはキヤピ
ラリ5が半導体装置aのボンデイング面に最初に
接触するときのスライドブロツク1の昇降位置
(接触位置)、Lは下死点位置である。
In FIG. 4, H is the preset top dead center position, S is the preset search position, and C is the vertical position (contact) of the slide block 1 when the capillary 5 first contacts the bonding surface of the semiconductor device a. position), L is the bottom dead center position.

前記接触位置Cは、前記キヤピラリ5がボンデ
イング面に接触するとき、超音波振動の振動波形
が変わることを利用して、接触検出装置12によ
つて検知される(第2図参照)。前記下死点位置
Lは接触位置Cより一定距離(例えば0.2mm)ΔL
下方に定められている。
The contact position C is detected by the contact detection device 12 using the fact that the vibration waveform of ultrasonic vibration changes when the capillary 5 contacts the bonding surface (see FIG. 2). The bottom dead center position L is a certain distance (for example, 0.2 mm) ΔL from the contact position C.
It is defined below.

かくして、第4図に示すようにスライドブロツ
ク1は上死点位置Hからサーチ位置Sまで高速速
で降下し、次いで低速度に切替えられて徐々に降
下しながら接触位置Cを探り、前記接触検出装置
12によつて接触位置Cが検出されると、更に前
記一定距離ΔL低速度で降下し、下死点位置Lに
達する(尚、第4図に破線でキヤピラリ5の動き
を示している。)。
Thus, as shown in FIG. 4, the slide block 1 descends from the top dead center position H to the search position S at a high speed, and then switches to a low speed and gradually descends while searching for the contact position C, and detects the contact. When the contact position C is detected by the device 12, it further descends at a low speed by the predetermined distance ΔL and reaches the bottom dead center position L (the movement of the capillary 5 is shown by a broken line in FIG. 4). ).

スライドブロツク1が接触位置Cから下死点位
置Lにある間に、ボンデイングが行われ、第1ボ
ンデイング工程においては、前記バネ6aによ
る弾性荷重が、第2ボンデイング工程において
は、前記バネ6a及び前記ソレノイド6bによる
弾性荷重が夫々キヤピラリ5からボンデイング面
に加えられる。
Bonding is performed while the slide block 1 is from the contact position C to the bottom dead center position L, and in the first bonding step, the elastic load by the spring 6a is applied, and in the second bonding step, the elastic load is applied to the spring 6a and the Elastic loads are applied from the respective capillaries 5 to the bonding surfaces by the solenoids 6b.

発明が解決しようとする問題点 ところで上記従来方法によると、接触検出装置
12による接触位置Cの検出が正確に行われるこ
とが必須条件となる。しかしボンデイング面の材
質やキヤピラリ5、ボンデイングアーム3などの
振動の影響を受けて前記接触検出装置12が誤作
動することがある。
Problems to be Solved by the Invention According to the conventional method described above, it is essential that the contact position C be accurately detected by the contact detection device 12. However, the contact detection device 12 may malfunction due to the influence of the material of the bonding surface, the vibration of the capillary 5, the bonding arm 3, etc.

例えばキヤピラリ5がボンデイング面に接触す
る前に前記接触検出装置12が誤作動すると、そ
の後スライドブロツク1は前記一定距離ΔLしか
降下しないため、前記付勢手段6からキヤピラリ
5に及ぼされる弾性荷重が不足して、適切なボン
デイングが行われなくなり、又極端な場合にはボ
ンデイングが不可となる。他方、前記接触が前記
接触検出装置12によつて検出されない場合に
は、前記弾性荷重が過大になつて、この場合にも
ボンデイング不良が生ずる。
For example, if the contact detection device 12 malfunctions before the capillary 5 comes into contact with the bonding surface, the slide block 1 will then descend only by the predetermined distance ΔL, so that the elastic load applied to the capillary 5 from the biasing means 6 will be insufficient. As a result, proper bonding cannot be performed, and in extreme cases, bonding cannot be performed. On the other hand, if the contact is not detected by the contact detection device 12, the elastic load becomes excessive, and bonding failure also occurs in this case.

問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために本発明方法は、昇
降位置及び昇降速度を制御手段によつて制御され
るスライドブロツクに、キヤピラリを取付けたボ
ンデイングアームを回動自在に支持せしめると共
に、キヤピラリが被加工物のボンデイング面に接
触してボンデイングアームが回動するとき、ボン
デイングアームの回動に応じた弾性荷重を前記キ
ヤピラリに与える付勢手段を配設してなるワイヤ
ボンデイング装置において、前記キヤピラリが前
記ボンデイング面に最初に接触するときのスライ
ドブロツクの昇降位置としての接触位置を予め決
定し、この接触位置の上下に接近する接触直前位
置と下死点位置とを設定して、これらをスライド
ブロツクの上死点位置と共に前記制御手段に記憶
させると共に、上死点位置から接触直前位置への
スライドブロツクの降下速度及び接触直前位置か
ら下死点位置へのスライドブロツクの降下速度を
前記制御手段に記憶させ、これらデータに基づい
てスライドブロツクを上死点位置から接触直前位
置へ降下させた後、接触直前位置から下死点位置
へ降下させることを特徴とする。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the method of the present invention provides a method in which a bonding arm with a capillary attached is rotatably mounted on a slide block whose lifting position and speed are controlled by a control means. A wire bonding device comprising a biasing means for supporting the capillary and applying an elastic load to the capillary according to the rotation of the bonding arm when the capillary contacts the bonding surface of the workpiece and the bonding arm rotates. In the apparatus, a contact position is determined in advance as a lifting/lowering position of the slide block when the capillary contacts the bonding surface for the first time, and a position just before contact and a bottom dead center position are set above and below this contact position. Then, these are stored in the control means together with the top dead center position of the slide block, and the descending speed of the slide block from the top dead center position to the position immediately before contact and the descending speed of the slide block from the position immediately before contact to the bottom dead center position are controlled. The speed is stored in the control means, and based on these data, the slide block is lowered from the top dead center position to the position immediately before contact, and then lowered from the position immediately before contact to the bottom dead center position.

作 用 本発明は上記構成を有し、第1図に示すように
スライドブロツクは上死点位置Hから接触直前位
置Mに高速度に降下した後、所定の低速度で一定
距離ΔH降下して下死点位置Lに達する間に、ボ
ンデイングを行うことができる。そして本発明で
は、従来例において行われた接触位置の検知を行
わないので、接触検出装置の誤作動による悪影響
を受けることがない。従つて本発明によれば、キ
ヤピラリが前記ボンデイング面に最初に接触した
ときから下死点位置Lに達するまでのスライドブ
ロツクの降下距離に大きな差異が生じないので、
ボンデイング時の弾性荷重を適正値に維持できる
結果、従来例にみられたボンデイング不良の問題
を解決できる。
Function The present invention has the above configuration, and as shown in FIG. 1, the slide block descends at high speed from the top dead center position H to the position M just before contact, and then descends a certain distance ΔH at a predetermined low speed. Bonding can be performed while the bottom dead center position L is reached. Further, in the present invention, since the contact position is not detected as in the conventional example, there is no adverse effect due to malfunction of the contact detection device. Therefore, according to the present invention, there is no large difference in the descending distance of the slide block from when the capillary first contacts the bonding surface until it reaches the bottom dead center position L.
As a result of being able to maintain the elastic load at an appropriate value during bonding, the problem of poor bonding seen in the conventional example can be solved.

実施例 以下本発明の一実施例のワイヤボンデイング装
置におけるボンデイング方法について、図面を参
照しながら説明する。
Embodiment A bonding method in a wire bonding apparatus according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第2図及び第3図に示すワイヤボンデイング装
置は、従来装置と基本的には同一に構成されてい
るが、仮想線で示す接触検出装置12を有してい
ない点で異なつている。
The wire bonding apparatus shown in FIGS. 2 and 3 has basically the same structure as the conventional apparatus, but differs in that it does not include the contact detection device 12 shown by the phantom line.

スライドブロツク1は機枠13に設けたガイド
ロツド14に案内されて昇降動する。この昇降動
はリニヤモータ9の駆動によつて行われるが、こ
のリニヤモータ9は機枠13側に固定されるセン
タポール9a、ヨーク9b、磁石9c及びスライ
ドブロツク1側に固着されるボビン9d、コイル
9eによつて構成されている。
The slide block 1 is guided by a guide rod 14 provided on a machine frame 13 to move up and down. This elevating movement is performed by driving a linear motor 9, which consists of a center pole 9a, a yoke 9b, a magnet 9c fixed to the machine frame 13 side, a bobbin 9d fixed to the slide block 1 side, and a coil 9e. It is composed of.

前記スライドブロツク1には枢軸4を介して超
音波ホーンで構成されるボンデイングアーム3が
回動自在に枢支してある。このボンデイングアー
ム3の先端にはキヤピラリ5が取付けてあり、こ
こに金属細線bが供給される。又ボンデイングア
ーム3の基端には超音波発振器18によつて起振
される超音波振動子22が取付けてある。
A bonding arm 3 composed of an ultrasonic horn is rotatably supported on the slide block 1 via a pivot 4. A capillary 5 is attached to the tip of this bonding arm 3, to which a thin metal wire b is supplied. Further, an ultrasonic vibrator 22 excited by an ultrasonic oscillator 18 is attached to the base end of the bonding arm 3.

6aはレバー10を介してボンデイングアーム
3を第2図反時計方向に付勢するバネで、第1ボ
ンデイング時及び第2ボンデイング時にボンデイ
ングアーム3に作用する。これ以外のときは、前
記レバー10はストツパ15に当接している。
A spring 6a biases the bonding arm 3 counterclockwise in FIG. 2 via the lever 10, and acts on the bonding arm 3 during the first bonding and the second bonding. At other times, the lever 10 is in contact with the stopper 15.

6bは通電時に吸引板16を吸引して、その電
磁吸引力によつてレバー10を介してボンデイン
グアーム3を第2図反時計方向に付勢するソレノ
イドである。制御手段2の主制御回路2aから、
第2ボンデイング時に通電命令が出され、前記ソ
レノイド6bはボンデイングアーム3を付勢す
る。尚、17はバネ力の弱い補助スプリングであ
る。
A solenoid 6b attracts the suction plate 16 when energized and uses its electromagnetic attraction force to bias the bonding arm 3 counterclockwise in FIG. 2 via the lever 10. From the main control circuit 2a of the control means 2,
During the second bonding, an energization command is issued, and the solenoid 6b energizes the bonding arm 3. Note that 17 is an auxiliary spring with a weak spring force.

前記スライドブロツク1の昇降位置、昇降速度
は制御手段2によつて制御される。この制御手段
2は主制御回路2a、メモリ2b、駆動回路2c
などから構成されている。尚、19はスライドブ
ロツク1の昇降位置を検出する位置センサ、20
はスライドブロツク1の昇降速度を検出する速度
センサである。
The elevating position and elevating speed of the slide block 1 are controlled by a control means 2. This control means 2 includes a main control circuit 2a, a memory 2b, and a drive circuit 2c.
It is composed of etc. In addition, 19 is a position sensor that detects the vertical position of the slide block 1, and 20
is a speed sensor that detects the vertical speed of the slide block 1.

被加工物としての半導体装置aを固定支持する
XYテーブル7は前記主制御回路2aの指令に基
づいてXY2方向の所定運動を行う。
Fixedly support the semiconductor device a as a workpiece
The XY table 7 performs predetermined movements in two XY directions based on commands from the main control circuit 2a.

前記制御手段2のメモリ2bには、キヤピラリ
5が前記ボンデイング面に最初に接触するときの
スライドブロツク1の昇降位置として予め決定さ
れる接触位置に対し、その上方に接近した位置で
ある接触直前位置M及びその下方に接近した設置
である下死点位置Lを、スライドブロツク1の上
死点位置Hと共に記憶させている。又上死点位置
Hから接触直前位置Mへのスライドブロツク1の
降下速度及び接触直前位置Mから下死点位置Lへ
のスライドブロツク1の降下速度も、前記メモリ
2bに記憶させている。
The memory 2b of the control means 2 stores a position immediately before contact, which is a position close to above the contact position, which is predetermined as the vertical position of the slide block 1 when the capillary 5 first contacts the bonding surface. M and the bottom dead center position L, which is located close to the bottom of the slide block 1, are stored together with the top dead center position H of the slide block 1. The speed of descent of the slide block 1 from the top dead center position H to the position M just before contact and the speed of descent of the slide block 1 from the position M just before contact to the bottom dead center position L are also stored in the memory 2b.

接触直前位置Mと下死点位置Lとの間の距離
ΔHは例えば0.5mmに定められている。又上死点位
置Hから接触直前位置Mへの降下速度に比較し接
触直前位置Mから下死点位置Lへの降下速度は低
速に設定されている。
The distance ΔH between the position M immediately before contact and the bottom dead center position L is set to, for example, 0.5 mm. Furthermore, the speed of descent from the position M just before contact to the position L of bottom dead center is set to be low compared to the speed of descent from the position H just before contact to the position M just before contact.

第1ボンデイング工程と第2ボンデイング工
程の各昇降位置H,M,Lは第1図に示すよう
に両電極8a,8bの高低差分だけ相違してい
る。
As shown in FIG. 1, the vertical positions H, M, and L in the first bonding process and the second bonding process differ by the height difference between the electrodes 8a and 8b.

かくして、前記制御手段2はメモリ2bに記憶
された諸データに基き、スライドブロツク1の昇
降動を第1図に示すように制御する。
Thus, the control means 2 controls the vertical movement of the slide block 1 as shown in FIG. 1 based on the various data stored in the memory 2b.

先ず第1ボンデイング工程において、スライ
ドブロツク1は上死点位置Hより接触直前位置M
に高速で降下する(このとき例えばキヤピラリ5
は電極8aのボンデイング面の直上約0.3mmの高
さになる。)。次いで接触直前位置Mより下死点位
置Lに一定距離ΔH(例えば0.5mm)低速で降下す
る。この間キヤピラリ5は第1図に破線で示すと
共に第2図に示すように、前記ボンデイング面に
接触し、スライドブロツク1の降下に伴うボンデ
イングアーム3の第2図時計方向の回動により生
ずるバネ6aの弾性荷重を利用して第1ボンデイ
ング作用を行う。
First, in the first bonding step, the slide block 1 moves from the top dead center position H to the position M just before contact.
(at this time, for example, capillary 5
is approximately 0.3 mm above the bonding surface of the electrode 8a. ). Then, it descends at low speed from the position M immediately before contact to the bottom dead center position L by a certain distance ΔH (for example, 0.5 mm). During this time, the capillary 5 is in contact with the bonding surface as shown by the broken line in FIG. 1 and as shown in FIG. The first bonding action is performed using the elastic load of.

スライドブロツク1は下死点位置Lで所定時間
停止した後、高速で上昇し、第2ボンデイング工
程の上死点位置Hに達する。
After the slide block 1 stops at the bottom dead center position L for a predetermined time, it rises at high speed and reaches the top dead center position H for the second bonding process.

スライドブロツク1が前記上死点位置Hに停止
している間に、XYテーブルが移動して、キヤピ
ラリ5の直下に電極8bが位置するようになる。
次いでスライドブロツク1は第1ボンデイング工
程と同様に昇降して、第2ボンデイングを行
う。但し第2ボンデイング工程においては、ソ
レノイド6bに通電がなされて、バネ6aとソレ
ノイド6bとの両者の弾性荷重が作用する状態で
ボンデイングが行われる。
While the slide block 1 is stopped at the top dead center position H, the XY table moves so that the electrode 8b is positioned directly below the capillary 5.
Next, the slide block 1 is raised and lowered in the same manner as in the first bonding step to perform the second bonding. However, in the second bonding process, the solenoid 6b is energized and bonding is performed under the condition that the elastic loads of both the spring 6a and the solenoid 6b are applied.

本発明は上記実施例に示す外、種々の態様に構
成することができる。例えば、スライドブロツク
1の昇降位置、昇降速度に関する運動特性は第1
図に示すものに限定されないことは勿論である。
The present invention can be configured in various ways other than those shown in the above embodiments. For example, the motion characteristics regarding the vertical position and vertical speed of the slide block 1 are
Of course, it is not limited to what is shown in the figure.

発明の効果 本発明は上記構成を有し、スライドブロツクの
接触直前位置と下死点位置とが予め正確に設定さ
れ、この間を低速でスライドブロツクが降下する
とき、キヤピラリが被加工物のボンデイング面に
接触し、付勢手段による弾性荷重が加えられた状
態でボンデイングが行われ、キヤピラリが前記ボ
ンデイング面に最初に接触したときから前記下死
点位置に達するまでのスライドブロツクの降下距
離に大きな差異が生じないので、ボンデイング時
の弾性荷重を適正値に維持することができる。
Effects of the Invention The present invention has the above-mentioned configuration, in which the position immediately before the contact of the slide block and the bottom dead center position are accurately set in advance, and when the slide block descends at low speed between these positions, the capillary moves toward the bonding surface of the workpiece. Bonding is performed with the capillary in contact with the bonding surface and an elastic load is applied by the biasing means, and there is a large difference in the descending distance of the slide block from when the capillary first contacts the bonding surface to when it reaches the bottom dead center position. Since this does not occur, the elastic load during bonding can be maintained at an appropriate value.

従つて本発明によれば、従来例における接触検
出装置の誤作動に基づくボンデイング不良の問題
を解決することができる。
Therefore, according to the present invention, it is possible to solve the problem of defective bonding caused by malfunction of the contact detection device in the conventional example.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例におけるスライドブ
ロツクの運動特性図、第2図は本発明に用いられ
るワイヤボンデイング装置の1例を示す一部縦断
側面図(但し、仮想線で示す部分は従来例を示
す。)、第3図はその作用を示す要部の側面図、第
4図は従来例におけるスライドブロツクの運動特
性図である。 1……スライドブロツク、2……制御手段、3
……ボンデイングアーム、5……キヤピラリ、6
……付勢手段、a……被加工物、H……上死点位
置、M……接触直前位置、L……下死点位置。
Fig. 1 is a motion characteristic diagram of a slide block in an embodiment of the present invention, and Fig. 2 is a partially longitudinal side view showing an example of a wire bonding device used in the present invention (however, the portion indicated by the imaginary line is a conventional one). 3 is a side view of the main parts showing its operation, and FIG. 4 is a diagram showing the movement characteristics of the slide block in the conventional example. 1...Slide block, 2...Control means, 3
...Bonding arm, 5...Capillary, 6
...Biasing means, a...Workpiece, H...Top dead center position, M...Position immediately before contact, L...Bottom dead center position.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 昇降位置及び昇降速度を制御手段によつて制
御されるスライドブロツクに、キヤピラリを取付
けたボンデイングアームを移動自在に支持せしめ
ると共に、キヤピラリが被加工物のボンデイング
面に接触してボンデイングアームが移動すると
き、ボンデイングアームの移動に応じた弾性荷重
を前記キヤピラリに与える付勢手段を配設してな
るワイヤボンデイング装置において、前記キヤピ
ラリが前記ボンデイング面に最初に接触するとき
のスライドブロツクの昇降位置としての接触位置
を予め決定し、この接触位置の上下に接近する接
触直前位置と下死点位置とを設定して、これらを
スライドブロツクの上死点位置と共に前記制御手
段に記憶させると共に、上死点位置から接触直前
位置へのスライドブロツクの降下速度及び接触直
前位置から下死点位置へのスライドブロツクの降
下速度を前記制御手段に記憶させ、これらデータ
に基づいてスライドブロツクを上死点位置から接
触直前位置へ降下させた後、接触直前位置から下
死点位置へ降下させることを特徴とするワイヤボ
ンデイング装置におけるボンデイング方法。
1. A bonding arm with a capillary attached is movably supported on a slide block whose lifting position and speed are controlled by a control means, and the bonding arm moves as the capillary comes into contact with the bonding surface of the workpiece. In the wire bonding apparatus, which is provided with a biasing means for applying an elastic load to the capillary in accordance with the movement of the bonding arm, the slide block is moved up and down when the capillary first contacts the bonding surface. A contact position is determined in advance, and a position immediately before contact and a bottom dead center position that approach above and below this contact position are set, and these are stored in the control means together with the top dead center position of the slide block, and the top dead center position is stored in the control means. The descending speed of the slide block from the position immediately before contact to the position immediately before contact and the descending speed of the slide block from the position immediately before contact to the position at bottom dead center are stored in the control means, and based on these data, the slide block is moved from the position at top dead center to contact. A method of bonding in a wire bonding apparatus, characterized in that the wire bonding device is lowered to a position immediately before contact, and then lowered from the position immediately before contact to a bottom dead center position.
JP60077657A 1985-04-12 1985-04-12 Bonding process in wire bonding apparatus Granted JPS61236132A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60077657A JPS61236132A (en) 1985-04-12 1985-04-12 Bonding process in wire bonding apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60077657A JPS61236132A (en) 1985-04-12 1985-04-12 Bonding process in wire bonding apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61236132A JPS61236132A (en) 1986-10-21
JPH0428135B2 true JPH0428135B2 (en) 1992-05-13

Family

ID=13639952

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60077657A Granted JPS61236132A (en) 1985-04-12 1985-04-12 Bonding process in wire bonding apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61236132A (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61236132A (en) 1986-10-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4603802A (en) Variation and control of bond force
JP3094374B2 (en) Frame fixing device for wire bonder
JPH06177179A (en) Chip parts mounting device and load control thereof
JPH0428135B2 (en)
JPH02231736A (en) Wire bonding method
JP2558717B2 (en) Wire bonding equipment
JP2001127097A (en) Bonding device and its control method
JPH0431179B2 (en)
JPH09148790A (en) Electronic device mounter
JP2602886B2 (en) Inner lead bonding apparatus and inner lead bonding method
JPH04317343A (en) Bonding apparatus
JP2575066B2 (en) Semiconductor assembly equipment
JP3749330B2 (en) Pellet bonding equipment
JP2523657B2 (en) Wire bonding method
JP3625934B2 (en) Parallel seam joining method and parallel seam joining apparatus
JPH05131386A (en) Die handling collet lifting mechanism
JPS59181027A (en) Wire bonding device
JP2950724B2 (en) Wire bonding apparatus and work touch detection method using the same
JP2676446B2 (en) Wire bonding method
JPS63136536A (en) Wire bonding method
JP3189402B2 (en) Bump forming method
JP2940259B2 (en) Bonding method
JPH07151800A (en) Resistivity measuring instrument
JP2725102B2 (en) Wire bonding method
JPH03268437A (en) Wire bonding device

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term