JPS61236011A - Composite substrate for thin film magnetic head - Google Patents

Composite substrate for thin film magnetic head

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JPS61236011A
JPS61236011A JP7712985A JP7712985A JPS61236011A JP S61236011 A JPS61236011 A JP S61236011A JP 7712985 A JP7712985 A JP 7712985A JP 7712985 A JP7712985 A JP 7712985A JP S61236011 A JPS61236011 A JP S61236011A
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soft ferrite
layer
glass
ferrite
thin film
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Toshiaki Wada
和田 俊朗
Junichi Nakaoka
潤一 中岡
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Sumitomo Special Metals Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To produce easily a laminated thin film magnetic head by laminating and forming a specified nonmagnetic oxide ceramic sheet between 2 soft ferrite sheets through a glass adhesive layer and specifying the outer principal plane of the soft ferrite sheet. CONSTITUTION:A nonmagnetic oxide ceramic sheet 3 having a thermal expansion coefficient which differs from thermal expansion coefficient of a soft ferrite sheet by <=1X10<-6>/deg is laminated and formed between the 2 soft ferrite sheets 1 and 2 through a glass adhesive layer 4 and the surface roughness of the outer principal plane of each soft ferrite is regulated to <=200Angstrom . In the composite substrate, 2 layers of soft ferrite are electrically separated since the ceramic layer and the glass layer used mainly of or laminating and sticking are provided between the soft ferrite layers and a magnetic circuit can be respectively formed on the soft ferrite layer surfaces of both principal planes of the substrate. Besides, the glass layer 4 is coated, laminated and pressed on both principal planes of the ceramic sheet 3 and the material on which the glass layer is coated and the principal plane are appropriately selected in accordance with the operability and the material of each layer. A bulk-type thin film magnetic head can be thus manufactured.

Description

【発明の詳細な説明】 利用産業分野 この発明は、磁気ディスク装置等に用いられる薄膜磁気
ヘッド用の複合基板、特に、磁気記録。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Application The present invention relates to a composite substrate for a thin film magnetic head used in a magnetic disk device, etc., and in particular, to magnetic recording.

再生及び消去ヘッドを積層配置できる薄膜磁気ヘッド用
複合基板に関する。
The present invention relates to a composite substrate for a thin film magnetic head on which read and erase heads can be stacked.

背景技術 一般に、薄膜磁気ヘッドは、周波数特性がすぐれており
、半導体テクノロジーに基づく製造プロセスで製造され
るため、高精度の磁気ヘッドを低コストで製造可能であ
り、今後、磁気ヘッドの主流となるものと考えられる。
Background Art In general, thin-film magnetic heads have excellent frequency characteristics and are manufactured using a manufacturing process based on semiconductor technology, making it possible to manufacture high-precision magnetic heads at low cost, and they will become the mainstream of magnetic heads in the future. considered to be a thing.

薄膜磁気ヘッドには、記録、再生用ヘッドとして用いら
れるインダクティプヘッド、再生ヘッドとして用いられ
る磁気抵抗素子ヘッドがある。
Thin film magnetic heads include inductive heads used as recording and reproducing heads and magnetoresistive heads used as reproducing heads.

インダクテイブヘッドは、第4図に示す如く、ソフトフ
ェライト等の基板からなる下部コア(20)と、これに
ギャップを介して配設するパーマロイ。
As shown in FIG. 4, the inductive head includes a lower core (20) made of a substrate such as soft ferrite, and a permalloy core (20) disposed on the lower core (20) through a gap.

センダスト、あるいはアモルファスからなる上部コア(
21)と、上部コア(21)内の絶縁層(22)内に配
した銅等の導体(23)と、該上部コアの外側に7!!
!2覆した保護膜層(24)とからなる。
Upper core made of sendust or amorphous (
21), a conductor (23) such as copper disposed within the insulating layer (22) in the upper core (21), and 7! on the outside of the upper core. !
! It consists of two overlapping protective film layers (24).

磁気抵抗素子ヘッドは、第5図に示す如く、磁気シール
ド材となる基板(25)と所要のギャップを介して配置
されるパーマロイからなる磁気抵抗素子(26)と、該
素子(26)の両側に配置されるヨーク材(21)とを
、保護膜層(28)内に内臓させた構成からなる。
As shown in FIG. 5, the magnetoresistive element head includes a substrate (25) serving as a magnetic shield material, a magnetoresistive element (26) made of permalloy disposed with a predetermined gap in between, and a magnetoresistive element (26) made of permalloy placed on both sides of the element (26). The yoke material (21) disposed in the protective film layer (28) is built into the protective film layer (28).

フロッピーディスク用のトンネル型、ストラドル型、バ
ルク型磁気ヘッドのように、記録ヘッド。
Recording heads, such as tunnel-type, straddle-type, and bulk-type magnetic heads for floppy disks.

再生ヘッドを組合わせた構成とするためには、薄膜磁気
ヘッドを2層構造とすることが考えられるが、第1層の
薄膜磁気ヘッドを作成したのち、直接、第2層の薄膜磁
気ヘッドを構成すると、第1層目のコア形状によって、
第2層目の基板形状が複雑化し、磁気特性の劣化が懸念
される。
In order to create a configuration in which a read head is combined, it is conceivable to make the thin film magnetic head a two-layer structure, but after creating the first layer thin film magnetic head, the second layer thin film magnetic head is directly attached. When configured, depending on the core shape of the first layer,
The shape of the second layer substrate becomes complicated, and there is a concern that the magnetic properties may deteriorate.

また、第1層と第2層の薄膜磁気ヘッド間に保護膜層を
設けることが考えられるが、第1層の磁気ヘッド作製後
に、保護膜層を設け、さらに、保護膜層を研摩等で所要
形状に仕上げる必要があり、寸法精度の向上が望めず、
また、厚い保護膜層形成に多大の工程とコストを要する
問題がある。
Also, it is possible to provide a protective film layer between the first layer and the second layer of thin film magnetic heads, but after manufacturing the first layer magnetic head, the protective film layer is provided, and then the protective film layer is polished, etc. It is necessary to finish it into the required shape, and there is no hope of improving dimensional accuracy.
Further, there is a problem in that forming a thick protective film layer requires a large number of steps and costs.

また、積層構成の薄膜磁気ヘッドを作製するのに、個別
に薄膜磁気ヘッドを作製したのち、これを張合わせる方
法があるが、この場合、張合わせ時の整合精度の問題や
、製造が1個単位の作業となるため、多大の工数とコス
トを要する問題があった。
Additionally, in order to manufacture a thin film magnetic head with a laminated structure, there is a method in which thin film magnetic heads are manufactured individually and then laminated together. Since this is a unit work, there is a problem in that it requires a large amount of man-hours and costs.

発明の目的 この発明は、かかる現状に鑑み、積層構造の薄膜磁気ヘ
ッドが容易に製造できる薄膜磁気ヘッド用基板を目的と
している。
OBJECTS OF THE INVENTION In view of the current situation, an object of the present invention is to provide a substrate for a thin film magnetic head, which allows a thin film magnetic head having a laminated structure to be easily manufactured.

発明の構成と効果 この発明は、2枚のソフトフェライト板間に、上記ソフ
トフェライト板の熱膨脹係数との差が1xlO−6/d
eg以下の熱膨脹係数を有した非磁性酸化物系セラミッ
クス板を、 ガラス接着層を介して積層成形した構成からなり、各ソ
フトフェライトの外主面が200八以下の表面粗度を有
することを特徴する薄膜磁気ヘッド用複合基板である。
Structure and Effects of the Invention The present invention provides a structure in which the difference between the coefficient of thermal expansion of the soft ferrite plate and the coefficient of thermal expansion of the soft ferrite plate is 1xlO-6/d.
It consists of non-magnetic oxide-based ceramic plates with a coefficient of thermal expansion of EG or less, which are laminated with a glass adhesive layer interposed therebetween, and each soft ferrite has a surface roughness of 2008 or less on its outer main surface. This is a composite substrate for thin film magnetic heads.

この発明方法によって、ソフトフェライト、セラミック
ス、ソフトフェライトの3主層からなる複合基板が得ら
れ、この複合基板は、ソフトフェライト層間にセラミッ
クス層並びに主に積層接着のためのガラス層を有するた
め、2層のソフトフェライトが電気的に分離され、該基
板の両生面のソフトフェライト層面に、それぞれ磁気回
路を形成することができる。
By the method of this invention, a composite substrate consisting of three main layers of soft ferrite, ceramics, and soft ferrite is obtained, and since this composite substrate has a ceramic layer and a glass layer mainly for lamination bonding between the soft ferrite layers, two The soft ferrite layers are electrically separated, and magnetic circuits can be formed on each of the soft ferrite layer surfaces on the bidirectional surfaces of the substrate.

すなわち、第1図に示すごとく、この発明による複合基
板(10)の一方のソフトフェライト層(1)面に、消
去ヘッド(30)を形成し、他方のソフトフェライト層
(2)面に、記録再生ヘッド(31)を形成したフロッ
ピーディスク用のバルク型構造の薄膜磁気ヘッドを作製
できる。
That is, as shown in FIG. 1, an erasing head (30) is formed on one soft ferrite layer (1) surface of a composite substrate (10) according to the present invention, and a recording head (30) is formed on the other soft ferrite layer (2) surface. A thin-film magnetic head with a bulk type structure for a floppy disk having a reproducing head (31) formed thereon can be manufactured.

また、第2図に示す如く、この発明による複合基板(1
0)の一方のソフトフェライト層(1)面に、記録ヘッ
ド(32)を形成し、他方のソフトフェライト層(2)
面に、再生ヘッド(33)を形成した構成からなる磁気
抵抗素子磁気ヘッドを作製することができる。
Further, as shown in FIG. 2, a composite substrate (1
A recording head (32) is formed on one soft ferrite layer (1) surface of 0), and the recording head (32) is formed on the other soft ferrite layer (2)
A magnetoresistive element magnetic head having a configuration in which a reproducing head (33) is formed on the surface can be manufactured.

図面に基づ〈発明の開示 第3図はこの発明による複合基板の製造方法を示す組立
説明図である。
Disclosure of the Invention Based on the Drawings FIG. 3 is an explanatory assembly diagram showing a method of manufacturing a composite substrate according to the present invention.

また、第3図に示す製造方法は、非磁性酸化物系セラミ
ックス板(3)の一方面に、グレージング法。
The manufacturing method shown in FIG. 3 is a glazing method on one side of the non-magnetic oxide ceramic plate (3).

スパッター法にて、軟化点が400℃〜850 ’Cで
、上記ソフトフェライト板(1)(2)の熱膨脹係数と
の差が、lX10−6/deg以下の熱膨脹係数を有す
るガラス層(4)を被着し、一方のソフトフェライト板
(1)の表面粗度500A以下に鏡面加工した主面側に
対向させ、また、他方のソフトフェライト板(2)の表
面粗度500A以下に鏡面加工した主面に、グレージン
グ法、スパッター法にて、同様の性状を有するガラス層
(4)を被着し、これを先のセラミックス板(3)の表
面粗度50〇八以下に鏡面加工した他方側の主面に対向
させ、これをガラス層(4)を中心側に積層密着させて
、該ガラス層(4)のガラス粘度が103〜iQ7.6
ポイズとなる温度に加熱し、0.1kcJ4〜100k
g、Jの加圧力を加えて積層成形し、その後、各ソフト
フェライト板(1)(2)の外主面を、ダイヤモンド研
摩あるいはメカノケミカル研摩して、20OA以下の表
面粗度に研摩加工し、ソフトフェライト(1)、ガラス
(4)、セラミックス(3)、ガラス(4)、ソフトフ
ェライト(2)の多層からなるこの発明による複合基板
(10)に作製する製造方法である。
A glass layer (4) having a softening point of 400°C to 850'C and a coefficient of thermal expansion with a difference from the coefficient of thermal expansion of the soft ferrite plates (1) and (2) of 1X10-6/deg or less by sputtering. was applied and faced the main surface side of one soft ferrite plate (1) which was mirror-finished to a surface roughness of 500A or less, and the other soft ferrite plate (2) was mirror-finished to a surface roughness of 500A or less. A glass layer (4) having similar properties is applied to the main surface by a glazing method or a sputtering method, and this is mirror-finished to a surface roughness of 5008 or less than that of the ceramic plate (3). The glass layer (4) is laminated and adhered to the center side so that the glass viscosity of the glass layer (4) is 103 to iQ7.6.
Heat to a temperature of 0.1kcJ4 to 100k
Laminate molding is performed by applying pressing forces of g and J, and then the outer main surfaces of each soft ferrite plate (1) and (2) are polished to a surface roughness of 20 OA or less by diamond polishing or mechanochemical polishing. This is a manufacturing method for producing a composite substrate (10) according to the present invention, which is composed of multiple layers of soft ferrite (1), glass (4), ceramics (3), glass (4), and soft ferrite (2).

第3図の製造方法において、セラミックス板(3)の両
生面にガラス層(4)を被着して積層圧着したり、ある
いは、各フェライト板(1M2)にガラス層(4)を被
着して積層圧着するなど、ガラス層を被着する相手材並
びに主面は、作業性、各層の材質などに応じて適宜選定
すればよい。
In the manufacturing method shown in Fig. 3, the glass layer (4) is applied to both surfaces of the ceramic plate (3) and laminated and crimped, or the glass layer (4) is applied to each ferrite plate (1M2). The mating material and main surface to which the glass layer is attached may be appropriately selected depending on the workability, the material of each layer, etc.

また、先にセラミックス板(3)にガラス層(4)を被
着して、一方のフェライト板(1)と圧着し、また、他
方のフェライト板(2)にガラス層(4)を被着して、
これらを合せて積層圧着してもよく、ガラス層を被着す
る相手材並びに主面、及び積層組立順序は、作業性や能
率、各層の材質などに応じて適宜選定すればよい。
In addition, the glass layer (4) is first applied to the ceramic plate (3) and crimped to one of the ferrite plates (1), and the glass layer (4) is applied to the other ferrite plate (2). do,
These may be laminated and pressure-bonded together, and the mating material and main surface to which the glass layer is attached, and the lamination assembly order may be appropriately selected depending on workability, efficiency, the material of each layer, etc.

また、鏡面加工した主面を対向させた2枚のソフトフェ
ライト板間に、 上記ソフトフェライト板の熱膨脹係数との差が1xlO
−6/deg以下の熱膨脹係数を有し、両面を鏡面加工
した非磁性酸化物系セラミックス板を介在させ、 さらにソフトフェライト板と非磁性酸化物系セラミック
ス板との間に、軟化点が400’C〜850 ’Cで、
上記ソフトフェライト板の熱膨脹係数との差が1XIO
−6/de(I以下の熱膨脹係数を有するガラス板を介
して、 これを積層密着させて、該ガラス板のガラス粘度が10
3〜1076ポイズとなる温度に加熱し、0.1に94
〜1004の加圧力を加えて積層成形し、その後、各ソ
フトフェライトの外主面を200Å以下の表面粗度に研
摩加工する製造方法もよい。
Also, between two soft ferrite plates with their mirror-finished main surfaces facing each other, the difference in thermal expansion coefficient from the soft ferrite plate is 1xlO.
A non-magnetic oxide ceramic plate having a thermal expansion coefficient of -6/deg or less and mirror-finished on both sides is interposed, and the softening point is 400' between the soft ferrite plate and the non-magnetic oxide ceramic plate. C~850'C,
The difference between the coefficient of thermal expansion of the above soft ferrite plate is 1XIO
-6/de(I) or less through a glass plate having a thermal expansion coefficient of less than
Heat to a temperature of 3 to 1076 poise, and reduce to 94 to 0.1
A manufacturing method may also be used in which lamination molding is performed by applying a pressure of ~1,004 Å, and then the outer main surface of each soft ferrite is polished to a surface roughness of 200 Å or less.

発明の好ましい実施態様 この発明において、使用するソフトフェライトは、 Mn  Zn系フェライトとしては、tlno 21 
mo1%〜38mo1%、Zn06m01%〜2511
101%、Fe2O351mo1%〜56 mo1%の
組成が好ましく、また、NL  Zn系フェライトとし
ては、NLO215mo1%〜25m01%、ZnO2
5mo1%〜35m01%、Fe20349 mo1%
〜59 mo1%の組成が好ましい。
Preferred Embodiment of the Invention In this invention, the soft ferrite used is tlno 21 as the Mn Zn ferrite.
mo1%~38mo1%, Zn06m01%~2511
101%, Fe2O3 51mo1% to 56 mo1% is preferable, and as the NL Zn ferrite, NLO215mo1% to 25m01%, ZnO2
5mo1%~35m01%, Fe20349 mo1%
A composition of ~59 mo1% is preferred.

また、ソフトフェライトは、密度が理論密度の99.9
%以上であることが望ましく、また、ボアの大きさは0
.5郁以下であることが望ましい。
In addition, soft ferrite has a density of 99.9 of the theoretical density.
% or more, and the bore size is 0.
.. It is desirable that it is 5 or less.

中間層の酸化物系セラミックスは、ソフトフェライト板
の熱膨脹係数との差が、IX 10−6/deq以下の
熱膨脹係数を有する非磁性セラミックスであれば、M2
O3系、TiO2BaO系、TiO2−K 、、O系、
ZrO2系、r′1gO系あるいは結晶化ガラス等が、
適宜選定できる。また、セラミックスの気孔率は0、0
1%以下が望ましい。
The intermediate layer oxide ceramic is M2 if it is a non-magnetic ceramic whose coefficient of thermal expansion is less than or equal to IX 10-6/deq from the coefficient of thermal expansion of the soft ferrite plate.
O3 system, TiO2BaO system, TiO2-K,, O system,
ZrO2 series, r'1gO series or crystallized glass, etc.
Can be selected as appropriate. Also, the porosity of ceramics is 0, 0
1% or less is desirable.

また、セラミックスの熱膨脹係数とソフトフェライト板
の熱膨脹係数との差が、lX10’″6 /degを越
えると、複合基板のフェライトおるいはセラミックスに
割れを発生し、また、フェライトの磁気特性を劣化させ
るため好ましくない。
Furthermore, if the difference between the coefficient of thermal expansion of the ceramic and the coefficient of thermal expansion of the soft ferrite plate exceeds lX10'''6/deg, cracks will occur in the ferrite or ceramic of the composite substrate, and the magnetic properties of the ferrite will deteriorate. This is not desirable because it causes

主に積層接着用となるガラスは、軟化点が400℃〜8
50℃で、ソフトフェライト板の熱膨脹係数との差が、
1×10″′6/deg以下の熱膨脹係数を有するガラ
スであれば、はう珪酸系、ンーダ石灰系、高鉛系ガラス
等、種々のガラスが利用できる。なお、ガラスには、耐
水性、耐摩耗性、化学的安定性なる性質を有することが
望ましい。
Glass mainly used for lamination and bonding has a softening point of 400°C to 8.
At 50℃, the difference between the thermal expansion coefficient of the soft ferrite plate is
Various types of glasses can be used as long as they have a coefficient of thermal expansion of 1×10'''6/deg or less, such as silicic acid glass, limestone glass, and high lead glass. It is desirable to have properties such as wear resistance and chemical stability.

また、前記ガラスは、軟化点が400℃未満では、後工
程で磁性膜の熱処理時に所要のヘッド寸法精度が得られ
ないため、製品化ができず、また、850’Cを越える
と、ガラスとフェライトの積層形成時に、加熱によりソ
フトフェライトの磁気特性が劣化するため、好ましくな
く、軟化点は400’C〜850 ’Cとする。
Furthermore, if the softening point of the glass is less than 400°C, the required head dimensional accuracy cannot be obtained during the heat treatment of the magnetic film in the post-process, so it cannot be commercialized. When forming a ferrite layer, heating deteriorates the magnetic properties of the soft ferrite, which is not preferable, and the softening point is set at 400'C to 850'C.

また、ガラスの熱膨脹係数が、ソフトフェライト板の熱
膨脹係数との差が、1 x 10−6 /deqを越え
ると、複合基板のフェライトあるいはガラスに割れを発
生し、また、フェライトの磁気特性を劣化させるため好
ましくない。
Furthermore, if the difference between the coefficient of thermal expansion of the glass and the coefficient of thermal expansion of the soft ferrite plate exceeds 1 x 10-6 /deq, cracks will occur in the ferrite or glass of the composite substrate, and the magnetic properties of the ferrite will deteriorate. This is not desirable because it causes

この発明において、ガラスとフェライトの圧着時に、ガ
ラス粘度が103〜1075ポイズとなる温度に加熱す
るのは、IQ7Fiポイズを越える、すなわち、ガラス
の軟化点未満の温度では、ソフトフェライトとの接着強
度が弱く、ガラス粘度が103ポイズ未渦の温度では、
ガラスの流動性が大きくなりすぎ、中間ガラス層が流動
して形状精度を確保できず、また、フェライトとガラス
との反応が大きく、フェライト特性の劣化とガラス内及
び気泡が生成されやすくなるため好ましくないためであ
る。
In this invention, when bonding glass and ferrite, heating to a temperature that makes the glass viscosity 103 to 1075 poise is more than IQ7Fi poise, that is, at a temperature below the softening point of glass, the adhesive strength with soft ferrite is At a weak glass viscosity of 103 poise and a non-vortex temperature,
This is not preferred because the fluidity of the glass becomes too large, the intermediate glass layer flows and shape accuracy cannot be ensured, and the reaction between the ferrite and the glass is large, resulting in deterioration of ferrite properties and the formation of bubbles in the glass. This is because there is no

また、ガラスとフェライトの圧着時に、o、1h4〜1
00に94の加圧力を負荷するのは、0.1kiJ未満
では、接養力が弱く、フェライトとガラス境界面に接着
されない箇所が形成されやすく、また、100に9Jを
越えると変形が大きく、フェライト及びガラスに亀裂が
生じやすいためである。
Also, when crimping glass and ferrite, o, 1h4~1
The reason for applying a pressure of 94 to 00 is that if it is less than 0.1 kiJ, the adhesion force will be weak and areas that are not bonded will easily be formed at the interface between the ferrite and the glass, and if it exceeds 9J to 100, the deformation will be large. This is because cracks are likely to occur in ferrite and glass.

また、この発明において、ソフトフェライト層の表面粗
度を200Å以下に限定した理由は、この表面上に磁性
薄膜を形成するが、表面粗度が薄膜の特性を左右するた
め、200八以下の表面粗度が必要であり、好ましくは
、50Å以下であり、ダイヤモンド研摩による仕上でも
よいが、より高特性を得るには、メカノケミカル研摩が
望ましい。
In addition, in this invention, the reason why the surface roughness of the soft ferrite layer is limited to 200 Å or less is because a magnetic thin film is formed on this surface, and the surface roughness affects the characteristics of the thin film. A roughness is required, preferably 50 Å or less, and diamond polishing may be used, but mechanochemical polishing is desirable to obtain higher properties.

ダイヤモンド研摩法としては、 砥粒;ダイヤモンド、粒径11jrrI以下、ラップ圧
力;  0.01均42〜1均4、回転速度: 10n
/m!n〜100m/min。
As for the diamond polishing method, abrasive grains: diamond, particle size 11 jrrI or less, lapping pressure: 0.01 uniform 42 to 1 uniform 4, rotation speed: 10 n
/m! n~100m/min.

ラップ定盤:SIl、CLL、クロス、の条件が好まし
く、メカノケミカル研摩法としては、 砥粒: MgO、ZrO2,M2O3、5i02粉末1
粒径11s以下、 ラップ圧カニ  0.01 k、44〜1均着、回転速
度; 10m /min〜100m 、’min、ラッ
プ定l;Sn、はんだ、クロス、なる条件が好ましい。
Lap surface plate: SIl, CLL, cross conditions are preferable, and for the mechanochemical polishing method, abrasive grains: MgO, ZrO2, M2O3, 5i02 powder 1
The following conditions are preferable: particle size: 11 seconds or less, lap pressure: 0.01 k, 44-1 uniform deposition, rotational speed: 10 m/min to 100 m, 'min, wrap constant: Sn, solder, cloth.

この発明によって得られる複合基板の厚みは、使用目的
及びパターン形成時における位置合せや量産時の加工方
法の容易さなどを考慮して、5mm以下が望ましく、好
ましくは、0.1mm〜2mmである。
The thickness of the composite substrate obtained by this invention is desirably 5 mm or less, preferably 0.1 mm to 2 mm, considering the purpose of use, alignment during pattern formation, ease of processing during mass production, etc. .

また、複合基板のセラミックス層とソフトフェライト層
との厚み比率は、用途や使用方法等に応じて適宜選定さ
れるが、セラミックス厚み/ソフトフェライト厚み= 
0.01〜1が好ましい。
In addition, the thickness ratio between the ceramic layer and the soft ferrite layer of the composite substrate is appropriately selected depending on the application and usage method, but ceramic thickness/soft ferrite thickness =
0.01-1 is preferable.

複合基板の製造において、ガラス層厚みが0.05 m
m以上では、ガラス板を使用できるが、0.05mm未
満のガラス板を製造するのが困難なため、ソフトフェラ
イトあるいはセラミックスの鏡面研摩主面に、グレージ
ング法、スパッター法。
In the manufacture of composite substrates, the glass layer thickness is 0.05 m.
If the thickness is 0.05 mm or more, a glass plate can be used, but since it is difficult to manufacture a glass plate with a thickness of less than 0.05 mm, the main surface of soft ferrite or ceramics is polished to a mirror surface using a glazing method or a sputtering method.

等の方法で、ガラス層を被着でき、ガラス層とフェライ
トまたはセラミックス、あるいはガラス層同志で溶着す
ればよく、かかる方法でソフトフェライトとセラミック
スとを容易に接着することができる。なお、グレージン
グ法にてガラス層を被着した場合、ガラス層内に気泡が
残存することがあるが、後工程で熱間静水圧プレス処理
すれば消失させることができる。
A glass layer can be deposited by a method such as the above, and the glass layer and ferrite or ceramics may be welded together, or the glass layers may be welded to each other, and soft ferrite and ceramics can be easily bonded by such a method. Note that when the glass layer is applied by the glazing method, bubbles may remain in the glass layer, but they can be eliminated by hot isostatic pressing in a subsequent step.

実施例 実施例1 tlno 26.7 mo1%、ZnO20,8mo1
%、Fe2O352,5mo1%粗成、熱膨脹係数10
6x10−7/deg、50.8mmX50.8mm寸
法のlln  ZTI系フエフエライト素材厚み0.4
mmに切断し、表面粗度を0.5μmに仕上げた。
Examples Example 1 tlno 26.7 mo1%, ZnO20.8 mo1
%, Fe2O352,5mol1% crude, thermal expansion coefficient 10
6x10-7/deg, 50.8mm x 50.8mm lln ZTI series Huehuerite material thickness 0.4
It was cut into pieces with a surface roughness of 0.5 μm.

また、50.8+n+r+X50.8mmX厚み0.2
mm寸法のT、0゜−に20系板の両面を鏡面研摩によ
り、500Å以下の表面粗度に仕上げた。
Also, 50.8+n+r+X50.8mmXthickness 0.2
Both sides of the 20 series plate were mirror-polished to a surface roughness of 500 Å or less at a T of mm dimension of 0°-.

その後、軟化点560’C1熱膨脹係数98X10−7
/deqの鉛はうけい酸系ガラスのメツシュサイズ13
50のペーストを、#150のスクリーンを用いて、上
記セラミックス板の鏡面にスクリーン印刷し、大気中に
て400℃で1時間保持し、ざらに、850°Cで15
分保持して、グレージングして、20.zmのガラス層
を形成し、ついでガラス面を鏡面加工で5βm除去して
、表面粗度500八以下に仕上げた。
Then, softening point 560'C1 thermal expansion coefficient 98X10-7
/deq lead is silicate glass mesh size 13
The paste No. 50 was screen printed on the mirror surface of the above ceramic plate using a #150 screen, held at 400°C in the air for 1 hour, and roughly heated at 850°C for 15 hours.
Hold and glaze for 20 minutes. A glass layer with a thickness of 5.3 m was formed, and then 5 β m of the glass surface was removed by mirror polishing to give a surface roughness of 5008 or less.

2枚のフェライトの鏡面に、セラミックスのガラス鏡面
研摩面を対向させて重ね、N2雰囲気中で、800’C
(前記ガラス粘度104ポイズ相当温度)に加熱し、加
圧力0.5kMiifにて圧着した。
The mirror polished surface of ceramic glass was stacked on the mirror surface of two ferrite sheets and heated at 800'C in an N2 atmosphere.
(Temperature corresponding to the above-mentioned glass viscosity of 104 poise) and pressure bonded with a pressing force of 0.5 kmif.

得られた多層の複合基板素材のソフトフェライト面を、
下記条件のメカノケミカル研摩にて表面粗度50人に仕
上げた。得られた複合基板の厚みは0.7mmで、各ソ
フトフェライト厚みは0.25m1Tlであった。
The soft ferrite surface of the obtained multilayer composite substrate material is
It was finished to a surface roughness of 50 by mechanochemical polishing under the following conditions. The thickness of the obtained composite substrate was 0.7 mm, and the thickness of each soft ferrite was 0.25 m1Tl.

メカノケミカル研摩法条性 純水中懸濁液使用 砥粒:MgO粉末粉末径粒径平均0如、ラップ圧カニ 
0.1に5着、 回転速度: 50m /min、 ラップ定盤; Sn。
Mechanochemical polishing method using suspension in pure water Abrasive grains: MgO powder powder size Average particle size is 0, lap pressure crab
5th place in 0.1, rotation speed: 50m/min, lap surface plate; Sn.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図と第2図はこの発明による複合基板を用いた薄膜
磁気ヘッドの説明図である。第3図はこの発明による複
合基板の製造方法を示す組立説明図である。第4図と第
5図は従来の基板を使用した薄藤磁気ヘッドの説明図で
ある。 1.2・・・ソフトフェライト板、3・・・セラミック
ス、4・・・ガラス層、10・・・複合基板、30・・
・消去ヘッド、31・・・記録再生ヘッド、32・・・
記録ヘッド、33・・・再生ヘッド。 第1図 第2図 第4図 [ 自発手続ネ甫正書 1゜事件の表示 昭和60年 特許願 第77129号 2、発明の名称 薄膜磁気ヘッド用複合基板 3、補正をする者 事件との関係    出願人 住所  大阪市東区北浜5丁目22番地4、代理人 5、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 1、明細書筒2頁7行目の 「磁気抵抗素子ヘッドがある」を 「磁気抵抗素子ヘッド等がある」と補正する。 2o明細書第2頁19行目の 「内臓させた」を「内蔵させた」と補正する。 3、明細書第4頁19行の 「電気的に」を「磁気的に」と補正する。 4゜明細書筒9頁3行目の [2oJをrcaOJと補正する。 5、明細書第10頁11行の FガラスとフェライトJを 「ガラスとセラミックス及びフェライト」と補正する。 6、明細書第10頁19行の 「ガラス内及び気泡」を 「ガラス内に気泡」 と補正する。 7、明細書第11頁3行の 「ガラスとフェライト」を 「ガラスとセラミックス及びフェライト」と補正する。 8゜明細書第11頁3行の 「フェライトとガラス」を [フェライト及びセラミックスとガラス」と補正する。 9、明細書第11頁5行から6行の 「フェライト及びガラス」を Fフェライト及びセラミックスとガラス」と補正する。 10、明細書筒13頁15行目の rK20Jをrcao Jと補正する。
1 and 2 are explanatory diagrams of a thin film magnetic head using a composite substrate according to the present invention. FIG. 3 is an explanatory assembly diagram showing a method of manufacturing a composite substrate according to the present invention. FIGS. 4 and 5 are explanatory diagrams of a thin rattan magnetic head using a conventional substrate. 1.2...Soft ferrite plate, 3...Ceramics, 4...Glass layer, 10...Composite substrate, 30...
・Erasing head, 31... Recording/reproducing head, 32...
Recording head, 33... Playback head. Figure 1 Figure 2 Figure 4 [ Voluntary Procedures Book 1゜ Display of the Case 1985 Patent Application No. 77129 2 Title of Invention Composite Substrate for Thin Film Magnetic Head 3 Relationship with the Amendment Person Case Applicant Address: 5-22-4 Kitahama, Higashi-ku, Osaka, Agent 5, "Detailed Description of the Invention" column 1 of the specification subject to amendment, page 2 of the specification tube, line 7, "There is a magnetoresistive element head. " is corrected to "There is a magnetoresistive head, etc.". 2o "Internalized" on page 2, line 19 of the specification is amended to "internalized". 3. "Electrically" on page 4, line 19 of the specification is corrected to "magnetically." 4゜Correct [2oJ on page 9 of the specification cylinder, line 3] to rcaOJ. 5. Correct F glass and ferrite J on page 10, line 11 of the specification to "glass, ceramics, and ferrite." 6. On page 10, line 19 of the specification, "bubbles in the glass" is corrected to "bubbles in the glass." 7. "Glass and ferrite" on page 11, line 3 of the specification is corrected to "glass, ceramics, and ferrite." 8゜ "Ferrite and glass" on page 11, line 3 of the specification is corrected to "ferrite and ceramics and glass." 9. "Ferrite and glass" in lines 5 to 6 on page 11 of the specification is corrected to "F ferrite, ceramics and glass." 10. Correct rK20J on page 13, line 15 of the specification cylinder to rcao J.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 2枚のソフトフェライト板間に、 上記ソフトフェライト板の熱膨脹係数との差が1×10
^−^6/deg以下の熱膨脹係数を有した非磁性酸化
物系セラミックス板を、 ガラス接着層を介して積層成形した構成からなり、各ソ
フトフェライトの外主面が200Å以下の表面粗度を有
することを特徴する薄膜磁気ヘッド用複合基板。
[Claims] 1. Between the two soft ferrite plates, the difference in coefficient of thermal expansion of the soft ferrite plates is 1×10.
It is constructed by laminating non-magnetic oxide ceramic plates with a thermal expansion coefficient of 6/deg or less through a glass adhesive layer, and the outer main surface of each soft ferrite has a surface roughness of 200 Å or less. A composite substrate for a thin film magnetic head, characterized in that it has the following characteristics:
JP7712985A 1985-04-11 1985-04-11 Composite substrate for thin film magnetic head Granted JPS61236011A (en)

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