JPH0364926B2 - - Google Patents

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JPH0364926B2
JPH0364926B2 JP7712985A JP7712985A JPH0364926B2 JP H0364926 B2 JPH0364926 B2 JP H0364926B2 JP 7712985 A JP7712985 A JP 7712985A JP 7712985 A JP7712985 A JP 7712985A JP H0364926 B2 JPH0364926 B2 JP H0364926B2
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glass
layer
soft ferrite
ferrite
less
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Description

【発明の詳細な説明】 利用産業分野 この発明は、磁気デイスク装置等に用いられる
薄膜磁気ヘツド用の複合基板、特に、磁気記録、
再生及び消去ヘツドを積層配置できる薄膜磁気ヘ
ツド用複合基板に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Application This invention relates to a composite substrate for a thin film magnetic head used in a magnetic disk device etc., particularly for magnetic recording,
The present invention relates to a composite substrate for a thin film magnetic head on which read and erase heads can be stacked.

背景技術 一般に、薄膜磁気ヘツドは、周波数特性がすぐ
れており、半導体テクノロジーに基づく製造プロ
セスで製作されるため、高精度の磁気ヘツドを低
コストで製造可能であり、今後、磁気ヘツドの主
流となるものと考えられる。
BACKGROUND TECHNOLOGY In general, thin-film magnetic heads have excellent frequency characteristics and are manufactured using a manufacturing process based on semiconductor technology, making it possible to manufacture high-precision magnetic heads at low cost, and they will become the mainstream of magnetic heads in the future. considered to be a thing.

薄膜磁気ヘツドには、記録、再生用ヘツドとし
て用いられるインダクテイブヘツド、再生ヘツド
として用いられる磁気抵抗素子ヘツド等がある。
Thin film magnetic heads include inductive heads used as recording and reproducing heads, and magnetoresistive heads used as reproducing heads.

インダクテイブヘツドは、第4図に示す如く、
ソフトフエライト等の基板からなる下部コア20
と、これにギヤツプを介して配設するパーマロ
イ、センダスト、あるいはアモルフアスからなる
上部コア21と、上部コア21内の絶縁層22内
に配した銅等の導体23と、該上部コアの外側に
被覆した保護膜層24とからなる。
The inductive head is as shown in Figure 4.
Lower core 20 made of a substrate such as soft ferrite
, an upper core 21 made of permalloy, sendust, or amorphous disposed through a gap, a conductor 23 made of copper or the like disposed within an insulating layer 22 within the upper core 21, and a coating on the outside of the upper core. It consists of a protective film layer 24.

磁気抵抗素子ヘツドは、第5図に示す如く、磁
気シールド材となる基板25と所要のギヤツプを
介して配置されるパーマロイからなる磁気抵抗素
子26と、該素子26の両側に配置されるヨーク
材27とを、保護膜層28内に内蔵させた構成か
らなる。
As shown in FIG. 5, the magnetoresistive element head includes a substrate 25 serving as a magnetic shielding material, a magnetoresistive element 26 made of permalloy disposed through a required gap, and yoke materials disposed on both sides of the element 26. 27 is built into the protective film layer 28.

フロツピーデイスク用のトンネル型、ストラド
ル型、バルク型磁気ヘツドのように、記録ヘツ
ド、再生ヘツドを組合わせた構成とするために
は、薄膜磁気ヘツドを2層構造とすることが考え
られるが、第1層の薄膜磁気ヘツドを作成したの
ち、直接、第2層の薄膜磁気ヘツドを構成する
と、第1層目のコア形状によつて、第2層目の基
板形状が複雑化し、磁気特性の劣化が懸念され
る。
In order to create a structure in which a recording head and a reproducing head are combined, such as tunnel type, straddle type, and bulk type magnetic heads for floppy disks, it is conceivable to form a thin film magnetic head into a two-layer structure. If the second layer thin film magnetic head is directly constructed after creating the first layer thin film magnetic head, the shape of the second layer substrate will be complicated due to the core shape of the first layer, and the magnetic properties will be affected. There are concerns about deterioration.

また、第1層と第2層の薄膜磁気ヘツド間に保
護膜層を設けることが考えられるが、第1層の磁
気ヘツド作製後に、保護膜層を設け、さらに、保
護膜層を研摩等で所要形状に仕上げる必要があ
り、寸法精度の向上が望めず、また、厚い保護膜
層形成に多大の工程とコストを要する問題があ
る。
Furthermore, it is possible to provide a protective film layer between the first and second layer thin film magnetic heads, but the protective film layer is provided after the first layer magnetic head is fabricated, and then the protective film layer is polished, etc. There is a problem in that it is necessary to finish it into a desired shape, it is difficult to expect an improvement in dimensional accuracy, and it requires a large number of steps and costs to form a thick protective film layer.

また、積層構成の薄膜磁気ヘツドを作製するの
に、個別に薄膜磁気ヘツドを作製したのち、これ
を張合わせる方法があるが、この場合、張合わせ
時の整合精度の問題や、製造が1個単位の作業と
なるため、多大の工数とコストを要する問題があ
つた。
Furthermore, in order to produce a thin film magnetic head with a laminated structure, there is a method of producing thin film magnetic heads individually and then bonding them together, but in this case, there are problems with alignment accuracy during bonding, and manufacturing is required in one piece. Since the work was done in units, there was a problem that required a large amount of man-hours and costs.

発明の目的 この発明は、かかる現状に鑑み、積層構造の薄
膜磁気ヘツドが容易に製造できる薄膜磁気ヘツド
用基板を目的としている。
OBJECTS OF THE INVENTION In view of the current situation, the object of the present invention is to provide a substrate for a thin film magnetic head, which allows a thin film magnetic head having a laminated structure to be easily manufactured.

発明の構成と効果 この発明は、2枚のソフトフエライト板間に、
上記ソフトフエライト板の熱膨脹係数との差が1
×10-6/deg以下の熱膨脹係数を有した非磁性酸
化物系セラミツクス板を、 ガラス接着層を介して積層成形した構成からな
り、各ソフトフエライトの外主面が200Å以下の
表面粗度を有することを特徴とする薄膜磁気ヘツ
ド用複合基板である。
Structure and Effects of the Invention The present invention provides the following features:
The difference between the coefficient of thermal expansion of the above soft ferrite plate is 1
It is constructed by laminating non-magnetic oxide ceramic plates with a thermal expansion coefficient of ×10 -6 /deg or less with a glass adhesive layer in between, and the outer main surface of each soft ferrite has a surface roughness of 200 Å or less. 1. A composite substrate for a thin film magnetic head, characterized by having the following characteristics:

この発明方法によつて、ソフトフエライト、セ
ラミツクス、ソフトフエライトの3主層からなる
複合基板が得られ、この複合基板は、ソフトフエ
ライト層間にセラミツクス層並びに主に積層接着
のためのガラス層を有するため、2層のソフトフ
エライトが磁気的に分離され、該基板の両主面の
ソフトフエライト層面に、それぞれ磁気回路を形
成することができる。
By the method of this invention, a composite substrate consisting of three main layers of soft ferrite, ceramics, and soft ferrite is obtained, and this composite substrate has a ceramic layer between the soft ferrite layers and a glass layer mainly for lamination adhesion. The two layers of soft ferrite are magnetically separated, and a magnetic circuit can be formed on each of the soft ferrite layers on both main surfaces of the substrate.

すなわち、第1図に示すごとく、この発明によ
る複合基板10の一方のソフトフエライト層1面
に、消去ヘツド30を形成し、他方のソフトフエ
ライト層2面に、記録再生ヘツド31を形成した
フロツピーデイスク用のバルク型構造の薄膜磁気
ヘツドを作製できる。
That is, as shown in FIG. 1, there is provided a floppy disk in which an erasing head 30 is formed on one surface of one soft ferrite layer of a composite substrate 10 according to the present invention, and a recording/reproducing head 31 is formed on two surfaces of the other soft ferrite layer. A thin film magnetic head with a bulk type structure for disks can be fabricated.

また、第2図に示す如く、この発明による複合
基板10の一方のソフトフエライト層1面に、記
録ヘツド32を形成し、他方のソフトフエライト
層2面に、再生ヘツド33を形成した構成からな
る磁気抵抗素子磁気ヘツドを作製することができ
る。
Further, as shown in FIG. 2, the composite substrate 10 according to the present invention has a structure in which a recording head 32 is formed on one surface of one soft ferrite layer, and a reproducing head 33 is formed on two surfaces of the other soft ferrite layer. A magnetoresistive element magnetic head can be fabricated.

図面に基づく発明の開示 第3図はこの発明による複合基板の製造方法を
示す組立説明図である。
DISCLOSURE OF THE INVENTION BASED ON DRAWINGS FIG. 3 is an explanatory assembly diagram showing a method for manufacturing a composite substrate according to the present invention.

また、第3図に示す製造方法は、非磁性酸化物
系セラミツクス板3の一方面に、グレージング
法、スパツター法にて、軟化点が400℃〜850℃
で、上記ソフトフエライト板1,2の熱膨脹係数
との差が、1×10-6/deg以下の熱膨脹係数を有
するガラス層4を被着し、一方のソフトフエライ
ト板1の表面粗度500Å以下に鏡面加工した主面
側に対向させ、また、他方のソフトフエライト板
2の表面粗度500Å以下の鏡面加工した主面に、
グレージング法、スパツター法にて、同様の性状
を有するガラス層4を被着し、これを先のセラミ
ツクス板3の表面粗度500Å以下に鏡面加工した
他方側の主面に対向させ、これをガラス層4を中
心側に積層密着させて、該ガラス層4のガラス粘
度が103〜107.6ポイズとなる温度に加熱し、0.1
Kg/cm2〜100Kg/cm2の加圧力を加えて積層成形し、
その後、各ソフトフエライト板1,2の外主面
を、ダイヤモンド研摩あるいはメカノケミカル研
摩して、200Å以下の表面粗度に研摩加工し、ソ
フトフエライト1、ガラス4、セラミツクス3、
ガラス4、ソフトフエライト2の多層からなるこ
の発明による複合基板10に作製する製造方法で
ある。
In addition, in the manufacturing method shown in FIG. 3, one side of the non-magnetic oxide ceramic plate 3 is coated with a material having a softening point of 400°C to 850°C using a glazing method or a sputtering method.
Then, a glass layer 4 having a coefficient of thermal expansion whose difference between the coefficients of thermal expansion of the soft ferrite plates 1 and 2 is 1×10 -6 /deg or less is deposited, and the surface roughness of one of the soft ferrite plates 1 is 500 Å or less. facing the mirror-finished main surface side, and on the mirror-finished main surface of the other soft ferrite plate 2 with a surface roughness of 500 Å or less,
A glass layer 4 having similar properties is applied using a glazing method or a sputtering method, and this is placed opposite to the other main surface of the ceramic plate 3, which has been mirror-finished to a surface roughness of 500 Å or less. Layer 4 is laminated closely to the center side, heated to a temperature such that the glass viscosity of glass layer 4 is 10 3 to 10 7.6 poise, and 0.1
Laminate molding by applying pressure of Kg/ cm2 to 100Kg/ cm2 ,
Thereafter, the outer main surfaces of each soft ferrite plate 1 and 2 are polished to a surface roughness of 200 Å or less by diamond polishing or mechanochemical polishing, and the soft ferrite plates 1, glass 4, ceramics 3,
This is a manufacturing method for manufacturing a composite substrate 10 according to the present invention, which is composed of multiple layers of glass 4 and soft ferrite 2.

第3図の製造方法において、セラミツクス板3
の両主面にガラス層4を被着して積層圧着した
り、あるいは、各フエライト板1,2にガラス層
4を被着して積層圧着するなど、ガラス層を被着
する相手材並びに主面は、作業性、各層の材質な
どに応じて適宜選定すればよい。
In the manufacturing method shown in FIG.
The glass layer 4 is applied to both main surfaces of the glass layer 4 and laminated and crimped, or the glass layer 4 is applied to each ferrite plate 1 and 2 and laminated and crimped. The surface may be appropriately selected depending on workability, material of each layer, etc.

また、先にセラミツクス板3にガラス層4を被
着して、一方のフエライト板1と圧着し、また、
他方のフエライト板2にガラス層4を被着して、
これらを合せて積層圧着してもよく、ガラス層を
被着する相手材並びに主面、及び積層組立順序
は、作業性や能率、各層の材質などに応じて適宜
選定すればよい。
In addition, the glass layer 4 is first applied to the ceramic plate 3, and the glass layer 4 is crimped to one of the ferrite plates 1, and
A glass layer 4 is applied to the other ferrite plate 2,
These may be laminated and pressure-bonded together, and the mating material and main surface to which the glass layer is attached, and the lamination assembly order may be appropriately selected depending on workability, efficiency, the material of each layer, etc.

また、鏡面加工した主面を対向させた2枚のソ
フトフエライト板間に、 上記ソフトフエライト板の熱膨脹係数との差が
1×10-6/deg以下の熱膨脹係数を有し、両面を
鏡面加工した非磁性酸化物系セラミツクス板を介
在させ、 さらにソフトフエライト板と非磁性酸化物系セ
ラミツクス板との間に、軟化点が400℃〜850℃
で、上記ソフトフエライト板の熱膨脹係数との差
が1×10-6/deg以下の熱膨脹係数を有するガラ
ス板介して、 これを積層密着させて、該ガラス板のガラス粘
度が103〜107.6ポイズとなる温度に加熱し、0.1
Kg/cm2〜100/cm2の加圧力を加えて積層成形し、 その後、各ソフトフエライトの外主面を200Å
以下の表面粗度に研摩加工する製造方法もよい。
In addition, between two soft ferrite plates with their mirror-finished principal surfaces facing each other, the difference between the thermal expansion coefficient of the soft ferrite plate and the coefficient of thermal expansion is 1×10 -6 /deg or less, and both sides are mirror-finished. A non-magnetic oxide ceramic plate with a softening point of 400℃ to 850℃ is interposed between the soft ferrite plate and the non-magnetic oxide ceramic plate.
Then, these are laminated and adhered through a glass plate having a coefficient of thermal expansion with a difference of 1×10 -6 /deg or less from the coefficient of thermal expansion of the soft ferrite plate, so that the glass viscosity of the glass plate is 10 3 to 10 7.6 Heat to a temperature of 0.1
Laminate molding is performed by applying a pressure of Kg/cm 2 to 100/cm 2 , and then the outer main surface of each soft ferrite is 200Å
A manufacturing method that involves polishing to the following surface roughness may also be used.

発明の好ましい実施態様 この発明において、使用するソフトフエライト
は、 Mn−Zn系フエライトとしては、MnO21mol%
〜38mol%、ZnO6mol%〜25mol%、
Fe2O351mol%〜56mol%の組成が好ましく、 また、Ni−Zn系フエライトとしては、
NiO215mol%〜25mol%、ZnO25mol%〜35mol
%、Fe2O349mol%〜59mol%の組成が好ましい。
Preferred embodiment of the invention In this invention, the soft ferrite used is MnO21mol% as Mn-Zn ferrite.
~38mol%, ZnO6mol%~25mol%,
The composition of Fe 2 O 3 is preferably 51 mol% to 56 mol%, and as the Ni-Zn ferrite,
NiO2 15mol%~25mol%, ZnO25mol%~35mol
%, a composition of 49 mol% to 59 mol% Fe 2 O 3 is preferred.

また、ソフトフエライトは、密度が理論密度の
99.9%以上であることが望ましく、また、ポアの
大きさは0.5μm以下であることが望ましい。
In addition, soft ferrite has a density that is lower than the theoretical density.
It is desirable that the ratio is 99.9% or more, and the size of the pores is preferably 0.5 μm or less.

中間層の酸化物系セラミツクスは、ソフトフエ
ライト板の熱膨脹係数との差が、1×10-6/deg
以下の熱膨脹係数を有する非磁性セラミツクスで
あれば、Al2O3系、TiO2−BaO系、TiO2−CaO
系、ZrO2系、MgO系あるいは結晶化ガラス等
が、適宜選定できる。また、セラミツクスの気孔
率は0.01%以下が望ましい。
The difference in thermal expansion coefficient of the intermediate layer oxide ceramic from that of the soft ferrite plate is 1×10 -6 /deg.
Non-magnetic ceramics with the following thermal expansion coefficients include Al 2 O 3 series, TiO 2 -BaO series, TiO 2 -CaO
ZrO 2 -based, MgO-based, crystallized glass, etc. can be selected as appropriate. Further, the porosity of ceramics is preferably 0.01% or less.

また、セラミツクスの熱膨脹係数とソフトフエ
ライト板の熱膨脹係数との差が、1×10-6/deg
を越えると、複合基板のフエライトあるいはセラ
ミツクスに割れを発生し、また、フエライトの磁
気特性を劣化させるため好ましくない。
Also, the difference between the coefficient of thermal expansion of ceramics and the coefficient of thermal expansion of soft ferrite plate is 1×10 -6 /deg.
Exceeding this is not preferable because cracks will occur in the ferrite or ceramics of the composite substrate and the magnetic properties of the ferrite will deteriorate.

主に積層接着用となるガラスは、軟化点が400
℃〜850℃で、ソフトフエライト板の熱膨張係数
との差が、1×10-6/deg以下の熱膨脹係数を有
するガラスであれば、ほう珪酸系、ソーダ石灰
系、高鉛系ガラス等、種々のガラスが利用でき
る。なお、ガラスには、耐水性、耐摩耗性、化学
的安定性なる性質を有することが望ましい。
Glass, which is mainly used for laminating adhesives, has a softening point of 400
℃~850℃, if the difference in thermal expansion coefficient from the soft ferrite plate is 1×10 -6 /deg or less, borosilicate-based, soda-lime-based, high lead-based glass, etc. Various glasses are available. Note that it is desirable that the glass has properties such as water resistance, abrasion resistance, and chemical stability.

また、前記ガラスは、軟化点が400℃未満では、
後工程で磁性膜の熱処理時に所要のヘツド寸法精
度が得られないため、製品化ができず、また、
850℃を越えると、ガラスとフエライトの積層形
成時に、加熱によりソフトフエライトの磁気特性
が劣化するため、好ましくなく、軟化点は400℃
〜850℃とする。
Moreover, when the softening point of the glass is less than 400°C,
Because the required head dimensional accuracy could not be obtained during the heat treatment of the magnetic film in the post-process, it was not possible to commercialize the product, and
If the temperature exceeds 850℃, it is undesirable because the magnetic properties of soft ferrite will deteriorate due to heating when forming a layer of glass and ferrite, and the softening point will be 400℃.
~850℃.

また、ガラスの熱膨脹係数が、ソフトフエライ
ト板の熱膨脹係数との差が、1×10-6/degを越
えると、複合基板のフエライトあるいはガラスに
割れを発生し、また、フエライトの磁気特性を劣
化させるため好ましくない。
Furthermore, if the difference between the coefficient of thermal expansion of the glass and the coefficient of thermal expansion of the soft ferrite plate exceeds 1×10 -6 /deg, cracks will occur in the ferrite or glass of the composite substrate, and the magnetic properties of the ferrite will deteriorate. This is not desirable because it causes

この発明において、ガラスとセラミツクス及び
フエライトの圧着時に、ガラス粘度が103〜107.6
ポイズとなる温度に加熱するのは、107.6ポイズを
越える。すなわち、ガラスの軟化点未満の温度で
は、ソフトフエライトとの接着強度が弱く、ガラ
ス粘度が103ポイズ未満の温度では、ガラスの流
動性が大きくなりすぎ、中間ガラス層が流動して
形状精度を確保できず、また、フエライトとガラ
スとの反応が大きく、フエライト特性の劣化とガ
ラス内に気泡が生成されやすくなるため好ましく
ないためである。
In this invention, when glass and ceramics or ferrite are bonded together, the glass viscosity is 10 3 to 10 7.6.
Heating to a temperature of poise exceeds 10 7.6 poise. In other words, at temperatures below the softening point of glass, the adhesive strength with soft ferrite is weak, and at temperatures where the glass viscosity is less than 10 3 poise, the fluidity of the glass becomes too large, causing the intermediate glass layer to flow and reduce shape accuracy. This is because the reaction between the ferrite and the glass is large, resulting in deterioration of the ferrite properties and the formation of air bubbles in the glass, which is undesirable.

また、ガラスとセラミツクス及びフエライトの
圧着時に、0.1Kg/cm2〜100Kg/cm2の加圧力を負荷
するのは、0.1Kg/cm2未満では、接着力が弱く、
フエライト及びセラミツクスとガラス境界面に接
着されない箇所が形成されやすく、また、100
Kg/cm2を越えると変形が大きく、フエライト及び
セラミツクスとガラスに亀裂が生じやすいためで
ある。
Also, when pressing glass and ceramics or ferrite, apply a pressure of 0.1Kg/cm 2 to 100Kg/cm 2 .If it is less than 0.1Kg/cm 2 , the adhesive force will be weak.
Areas that are not bonded easily are formed at the interface between ferrite and ceramics and glass, and
This is because if it exceeds Kg/cm 2 , the deformation will be large and cracks will easily occur between the ferrite, ceramics, and glass.

また、この発明において、ソフトフエライト層
の表面粗度を200Å以下に限定した理由は、この
表面上に磁性薄膜を形成するが、表面粗度が薄膜
の特性を左右するため、200Å以下の表面粗度が
必要であり、好ましくは、50Å以下であり、ダイ
ヤモンド研摩による仕上でもよいが、より高特性
を得るには、メカノケミカル研摩が望ましい。
In addition, in this invention, the reason why the surface roughness of the soft ferrite layer is limited to 200 Å or less is that a magnetic thin film is formed on this surface, and the surface roughness affects the properties of the thin film. A high degree of polishing is required, preferably 50 Å or less, and finishing by diamond polishing is also possible, but mechanochemical polishing is preferable to obtain higher properties.

ダイヤモンド研摩法としては、 砥 粒;ダイヤモンド、粒径1μm以下、 ラツプ圧力;0.01Kg/cm2〜1Kg/cm2、 回転速度;10m/min〜100m/min、 ラツプ定盤;Sn、Cu、クロス、の条件が好まし
く、 メカノケミカル研摩法としては、 砥 粒;MgO、ZrO2、Al2O3、SiO2粉末、粒径
1μm以下、 ラツプ圧力;0.01Kg/cm2〜1Kg/cm2、 回転速度;10m/min〜100m/min、 ラツプ定盤;Sn、はんだ、クロス、なる条件が
好ましい。
The diamond polishing method uses abrasive grains: diamond, particle size of 1 μm or less, lapping pressure: 0.01 Kg/cm 2 to 1 Kg/cm 2 , rotation speed: 10 m/min to 100 m/min, lapping surface plate: Sn, Cu, cloth. For the mechanochemical polishing method, the following conditions are preferable: Abrasive grains: MgO, ZrO 2 , Al 2 O 3 , SiO 2 powder, particle size
The following conditions are preferable: 1 μm or less, lapping pressure: 0.01 Kg/cm 2 to 1 Kg/cm 2 , rotational speed: 10 m/min to 100 m/min, lapping surface plate: Sn, solder, cloth.

この発明によつて得られる複合基板の厚みは、
使用目的及びパターン形成時における位置合せや
量産時の加工方法の容易さなどを考慮して、5mm
以下が望ましく、好ましくは、0.1mm〜2mmであ
る。
The thickness of the composite substrate obtained by this invention is
5 mm, considering the purpose of use, alignment during pattern formation, and ease of processing during mass production.
The following is desirable, and preferably 0.1 mm to 2 mm.

また、複合基板のセラミツクス層とソフトフエ
ライト層との厚み比率は、用途や使用方法等に応
じて適宜選定されるが、セラミツクス厚み/ソフ
トフエライト厚み=0.01〜1が好ましい。
Further, the thickness ratio between the ceramic layer and the soft ferrite layer of the composite substrate is appropriately selected depending on the application, usage method, etc., but preferably ceramic thickness/soft ferrite thickness = 0.01 to 1.

複合基板の製造において、ガラス層厚みが0.05
mm以上では、ガラス板を使用できるが、0.05mm未
満のガラス板を製造するのが困難なため、ソフト
フエライトあるいはセラミツクスの鏡面研摩主面
に、グレージング法、スパツター法、等の方法
で、ガラス層を被着でき、ガラス層とフエライト
またはセラミツクス、あるいはガラス層同志で溶
着すればよく、かかる方法でソフトフエライトと
セラミツクスとを容易に接着することができる。
なお、グレージング法にてガラス層を被着した場
合、ガラス層内に気泡が残存することがあるが、
後工程で熱間静水圧プレス処理すれば消失させる
ことができる。
In the manufacture of composite substrates, the glass layer thickness is 0.05
A glass plate can be used for a thickness of 0.05 mm or more, but since it is difficult to manufacture a glass plate of less than 0.05 mm, a glass layer is applied to the mirror-polished main surface of soft ferrite or ceramics using methods such as glazing or sputtering. Soft ferrite and ceramics can be easily bonded together by welding the glass layer and ferrite or ceramics, or by welding the glass layers together.
Please note that when a glass layer is applied using the glazing method, air bubbles may remain within the glass layer.
It can be eliminated by hot isostatic pressing in a post-process.

実施例 実施例 1 MnO26.7mol%、ZnO20.8mol%、
Fe2O352.5mol%組成、熱膨脹係数106×10-7
deg、50.8mm×80.8mm寸法のMn−Zn系フエライト
素材を、厚み0.4mmに切断し、表面粗度を0.5μm
に仕上げた。
Examples Example 1 MnO26.7mol%, ZnO20.8mol%,
Fe 2 O 3 52.5mol% composition, thermal expansion coefficient 106×10 -7 /
Mn-Zn ferrite material with dimensions of 50.8 mm x 80.8 mm was cut to a thickness of 0.4 mm, and the surface roughness was 0.5 μm.
Finished.

また、50.8mm×50.8mm×厚み0.2mm寸法のTiO2
−CaO系板の両面を鏡面研摩により、500Å以下
の表面粗度に仕上げた。
In addition, TiO 2 with dimensions of 50.8 mm x 50.8 mm x thickness 0.2 mm
Both sides of the −CaO plate were mirror-polished to a surface roughness of less than 500 Å.

その後、軟化点560℃、熱膨脹係数98×10-7
degの鉛ほうけい酸系ガラスのメツシユサイズ
#350のペーストを、#150のスクリーンを用い
て、上記セラミツクス板の鏡面にスクリーン印刷
し、大気中にて400℃で1時間保持し、さらに、
850℃で15分保持して、グレージングして、20μ
mをガラス層を形成し、ついでガラス面を鏡面加
工で5μm除去して、表面粗度500Å以下に仕上げ
た。
After that, the softening point is 560℃ and the coefficient of thermal expansion is 98×10 -7 /
screen-print a mesh size #350 paste of lead borosilicate glass with a #150 screen onto the mirror surface of the ceramic plate, hold it in the air at 400°C for 1 hour, and
Hold at 850℃ for 15 minutes, glaze, 20μ
A glass layer was formed on M, and then 5 μm of the glass surface was removed by mirror polishing to give a surface roughness of 500 Å or less.

2枚のフエライトの鏡面に、セラミツクスのガ
ラス鏡面研摩面を対向させて重ね、N2雰囲気中
で、800℃(前記ガラス粒度104ポイズ相当温度)
に加熱し、加圧力0.5Kg/cm2にて圧着した。
The mirror-polished surfaces of ceramic glass were stacked on the mirror surfaces of two ferrite sheets, facing each other, and heated at 800°C (temperature equivalent to the above-mentioned glass particle size of 10 4 poise) in an N 2 atmosphere.
and pressure bonded with a pressure of 0.5 kg/cm 2 .

得られた多層の複合基板素材のソフトフエライ
ト面を、下記条件のメカノケミカル研摩にて表面
粗度50Åに仕上げた。得られた複合基板の厚みは
0.7mmで、各ソフトフエライト厚みは0.25mmであ
つた。
The soft ferrite surface of the obtained multilayer composite substrate material was finished to a surface roughness of 50 Å by mechanochemical polishing under the following conditions. The thickness of the obtained composite substrate is
The thickness of each soft ferrite was 0.25 mm.

メカノケミカル研摩法条件 純水中懸濁液使用 砥 粒;MgO粉末、粒径平均0.1μm、 ラツプ圧力;0.1Kg/cm2、 回転速度;50m/min、 ラツプ定盤;Sn。Mechanochemical polishing method conditions: Abrasive grains using suspension in pure water: MgO powder, average particle size 0.1 μm, lapping pressure: 0.1 Kg/cm 2 , rotation speed: 50 m/min, lapping surface plate: Sn.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図と第2図はこの発明による複合基板を用
いた薄膜磁気ヘツドの説明図である。第3図a,
bはこの発明による複合基板の製造方法を示す組
立説明図である。第4図と第5図は従来の基板を
使用した薄膜磁気ヘツドの説明図である。 1,2……ソフトフエライト板、3……セラミ
ツクス、4……ガラス層、10……複合基板、3
0……消去ヘツド、31……記録再生ヘツド、3
2……記録ヘツド、33……再生ヘツド。
FIGS. 1 and 2 are explanatory diagrams of a thin film magnetic head using a composite substrate according to the present invention. Figure 3a,
b is an assembly explanatory diagram showing a method for manufacturing a composite substrate according to the present invention. FIGS. 4 and 5 are explanatory diagrams of a thin film magnetic head using a conventional substrate. 1, 2...Soft ferrite plate, 3...Ceramics, 4...Glass layer, 10...Composite substrate, 3
0...Erasing head, 31...Recording/reproducing head, 3
2...recording head, 33...playback head.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 2枚のソフトフエライト板間に、 上記ソフトフエライト板の熱膨脹係数との差が
1×10-6/deg以下の熱膨脹係数を有した非磁性
酸化物系セラミツクス板を、 ガラス接着層を介して積層成形した構成からな
り、各ソフトフエライトの外主面が200Å以下の
表面粗度を有することを特徴とする薄膜磁気ヘツ
ド用複合基板。
[Scope of Claims] 1. A non-magnetic oxide ceramic plate having a coefficient of thermal expansion that differs from the coefficient of thermal expansion of the soft ferrite plate by 1×10 -6 /deg or less between two soft ferrite plates, 1. A composite substrate for a thin-film magnetic head, comprising a laminated structure with a glass adhesive layer interposed therebetween, and characterized in that each soft ferrite has a surface roughness of 200 Å or less on the outer main surface.
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