JPS5987614A - Metallic magnetic thin film head - Google Patents

Metallic magnetic thin film head

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JPS5987614A
JPS5987614A JP19745882A JP19745882A JPS5987614A JP S5987614 A JPS5987614 A JP S5987614A JP 19745882 A JP19745882 A JP 19745882A JP 19745882 A JP19745882 A JP 19745882A JP S5987614 A JPS5987614 A JP S5987614A
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Japan
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film
films
sendust
magnetic
interlayer
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JP19745882A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideo Zama
座間 秀夫
Kanji Kawano
寛治 川野
Mitsuo Abe
阿部 光雄
Katsuo Konishi
小西 捷雄
Norio Goto
典雄 後藤
Hiroaki Ono
裕明 小野
Mitsuharu Tamura
光治 田村
Kiyoshi Ishihara
石原 「きよし」
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To obtain a thin film head having excellent magnetic characteristics by using an electrically insulated material having a heat expansion coefficient approximate to the coefficient of a metallic magnetic film as an inter-layer film and thereby suppressing the generation of the stress produced by a heat treatment in a manufacturing process of the metallic magnetic films laminated alternately with theinter-layer films. CONSTITUTION:As shown in the figure, ''Sendust'' films 2, 2', 2'' and 2''' and inter-layer films 3, 3' and 3'' are laminated alternately with each other between nonmagnetic substrates 1 and 1'. A glass film 4 is used to adhere the film 2''' and the substrate 1'. The thickness ranging from the film 2 through the film 2''' is equal to the track width. A head gap 5 is formed with a prescribed angle to said track width. The films 3-3'' have a heat expansion coefficient approximate to that of films 2-2''', and a nonmagnetic insulator having excellent adhesive performance to the films 2-2''' and high reliability is used. The glass having a comparatively large heat expansion coefficient alpha of about 45X10<-7>/deg is used for a material suitable to an Si inter-layer film.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、ビデオテープレコーダなどに適した金属磁性
薄膜ヘッドに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a metal magnetic thin film head suitable for video tape recorders and the like.

〔従来技術〕[Prior art]

近年、ビデオテープレコーダに用いられる磁気テープと
してメタルテープが普及し、これとともに、かかる磁気
テープに適する磁気ヘッドとして、高飽和磁束密度のセ
ンダスト膜をコア材とする金属磁性薄膜ヘッドが注目さ
れてきており、従来のフェライトヘッドに比べて優れた
性能を有していることが確認されている。
In recent years, metal tapes have become popular as magnetic tapes used in video tape recorders, and with this, metal magnetic thin film heads whose core material is Sendust film with high saturation magnetic flux density have attracted attention as magnetic heads suitable for such magnetic tapes. It has been confirmed that this head has superior performance compared to conventional ferrite heads.

かかる金属磁性薄膜ヘッドは、基本的には、2つの非磁
性基板間にセンダスト膜を挾み込んで構成されるもので
あるが、磁気テープに形成すべき記録トラックの幅が比
較的広いことおよびセンダスト膜の膜厚がトラック幅を
決定するものであることから、センダスト膜の膜厚を比
較的大きくしなければならない0しかしながらセンダス
ト膜の抵抗値は非常に小さく、その膜厚を大きくすると
、高周波での渦電流損失が著しく大きくなり、高周波で
の再生効率が低下してしまうことになる。
Such a metal magnetic thin film head is basically constructed by sandwiching a sendust film between two nonmagnetic substrates, but the recording track to be formed on the magnetic tape has a relatively wide width. Since the thickness of the sendust film determines the track width, the thickness of the sendust film must be made relatively large. However, the resistance value of the sendust film is very small, and increasing the film thickness will cause high frequency The eddy current loss becomes significantly large, and the regeneration efficiency at high frequencies decreases.

そこで、かかる欠点を除去するために、非憾性基板間で
センダスト膜と電気的絶縁性を有する層間膜とを交互に
複数積層し、多I@構造にして所定のトラック幅を得る
ようにし、コア材の電気抵抗を増大させて、高周波での
渦電流損失が大幅に減少するように構成している。
Therefore, in order to eliminate such defects, a plurality of sendust films and electrically insulating interlayer films are alternately laminated between the non-abrasive substrates to form a multi-I@ structure and obtain a predetermined track width. The electrical resistance of the core material is increased to significantly reduce eddy current loss at high frequencies.

ところで、層間膜としては、従来、Sio2膜が用いら
れており、その熱膨張係数は4〜6×10−7/deg
でアリ、これに対してセンダスト膜の熱膨張係数は13
0〜150 X 10−7/ degであって層間膜と
センダスト膜との熱膨張係数が著しく異なっている。そ
こで、層間膜とセンダスト膜との積層体に熱を加えると
、両者の熱膨張係数の大きな差から、センダスト膜に比
較的大きな応力が生ずることになる。
By the way, Sio2 film has conventionally been used as an interlayer film, and its thermal expansion coefficient is 4 to 6 x 10-7/deg.
In contrast, the thermal expansion coefficient of Sendust film is 13
0 to 150 x 10-7/deg, and the thermal expansion coefficients of the interlayer film and the sendust film are significantly different. Therefore, when heat is applied to the laminate of the interlayer film and the sendust film, a relatively large stress is generated in the sendust film due to the large difference in coefficient of thermal expansion between the two.

一方、センダスト膜は、所望の特性を生じさせるために
は、熱処理が不可欠である。センダスト膜は、非磁性基
板上にスパッタリングスルことによって形成するが、所
望の磁気特性を生じさせるために、スパッタリング時非
磁性基板を加熱するか、あるいは、低温でスパッタリン
グしたときには、アニール処理をする必要がある。した
がって、このような熱処理により、センダスト膜には比
較的大きな応力が生ずることになる。
On the other hand, the sendust film requires heat treatment in order to develop desired characteristics. The sendust film is formed by sputtering on a non-magnetic substrate, but in order to produce the desired magnetic properties, it is necessary to heat the non-magnetic substrate during sputtering, or to perform an annealing treatment when sputtering is performed at a low temperature. There is. Therefore, such heat treatment causes relatively large stress in the sendust film.

かかる応力は、磁気特性を決定する一つの要素である初
透磁率に著しく影響し、磁気特性を劣化させることにな
る。したがって、センダスト膜を用いた従来の金属磁性
薄膜ヘッドでは、熱処理によって所望の磁気特性を得よ
うとすると、この熱処理によって生ずる応力により、同
時に、磁気特性が制約を受け、充分なる性能を発揮させ
ることができないという欠点があった。
Such stress significantly affects the initial magnetic permeability, which is one element that determines the magnetic properties, and deteriorates the magnetic properties. Therefore, in conventional metal magnetic thin film heads using sendust films, when attempting to obtain desired magnetic properties through heat treatment, the stress generated by this heat treatment simultaneously limits the magnetic properties, making it difficult to achieve sufficient performance. The drawback was that it was not possible.

〔本発明の目的〕[Object of the present invention]

本発明の目的は、上記従来技術の欠点を除き層間膜と交
互に積層された金属磁性膜の、製造過程の熱処理におけ
る応力の発生が抑制され、優れた磁気特性を有する金属
磁性薄膜ヘッドを提供するにある。
An object of the present invention is to provide a metal magnetic thin film head that eliminates the drawbacks of the prior art described above, suppresses the generation of stress during heat treatment in the manufacturing process of metal magnetic films alternately laminated with interlayer films, and has excellent magnetic properties. There is something to do.

〔本発明の概要〕[Summary of the invention]

この目的を達成するために、本発明は、眉間膜として、
金属磁性膜の熱膨張係数に近い熱膨張係数を有する電気
絶縁物質からなることを特徴とする。
To achieve this objective, the present invention provides, as a glabellar membrane,
It is characterized by being made of an electrically insulating material having a coefficient of thermal expansion close to that of the metal magnetic film.

〔本発明の実施例〕[Example of the present invention]

以下、本発明の実施例を図面について説明するO 第1図は本発明による金属磁性薄膜ヘッドの一実施例を
示す正面図であって、1.1′は非磁性基板 2 、2
/ 、 2//、 2///はセンダスト膜、3゜5′
、3“は層間膜、4はガラス膜、5はヘッドギャップで
ある。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a front view showing an embodiment of a metal magnetic thin film head according to the present invention, in which 1.1' is a non-magnetic substrate 2, 2
/ , 2//, 2/// is Sendust film, 3゜5'
, 3'' is an interlayer film, 4 is a glass film, and 5 is a head gap.

同図において、非磁性基板1.1′間に、センダスト膜
2.2’、2“、2′と層間膜5.5’、5“とが交互
に積層されており、ガラス膜4はセンダスト膜2″′と
非磁性基板1′とを接着している。センダスト膜2から
センダストJ1g2″′までの厚さがトラック幅を形成
しておシ、かかるトラック幅に対して所定の角度でヘッ
ドギャップ5が形成されている。
In the figure, Sendust films 2.2', 2", 2' and interlayer films 5.5', 5" are alternately laminated between the non-magnetic substrates 1.1', and the glass film 4 is Sendust films 2.2', 2", 2' and interlayer films 5.5', 5". The film 2'' is bonded to the non-magnetic substrate 1'.The thickness from the Sendust film 2 to the Sendust J1g2'' forms the track width, and the head is attached at a predetermined angle to the track width. A gap 5 is formed.

層間膜3.3/ 、 sl/は、センダスト膜2.2’
Interlayer film 3.3/, sl/ is Sendust film 2.2'
.

i、2#の熱膨張係数に近い熱膨張係数を有し、センダ
スト膜2 、2/ 、 2″、 2#との接着性、信頼
性の点から良好な非磁性絶縁体を用いる。具体的には、
センダストがF”e 、 Ag 、 Siの合金磁性体
であることから、各々の酸化物であるFezOa +A
120a 、 Singが、非磁性絶縁体であり、かつ
、センダスト膜との接着性、信頼性などの点からみて、
層間膜の材料として好ましいが、Fezes絶縁物の薄
膜を形成することは、AAやSiの酸化物膜を形成する
よりも困難であり、また、磁性化、半磁性化する場合も
あり、層間膜が磁性あるいは、半磁性を有すると、その
磁気特性が金属磁性膜ヘッドに影響して好ましくないこ
とから、Al+ Sl系の非磁性酸化物を層間膜とする
のが好ましい。しかも、A/zo3は熱膨張係数αが約
80 X 10−7/deg  と、SiO2の熱膨張
係数(α= s x 10−’/deg )と比べて非
常に大きくてセンダストの熱膨張係数(α=150〜1
50 X10−7/aeg)に近く、層間膜5.3’、
5“の材料としては最適である。Sl系の層間膜に好適
な材料の例としては、熱膨張係数αが約45X 1o−
7/degと比較的大きいコーニング社の7059ガラ
スがある0 以上のように、この実施例では、センダスト膜間に形成
されている層間膜は、該センダスト膜の熱膨張係数に近
い熱膨張係数を有する材料からなるものであるから、セ
ンダスト膜は熱処理時における応力の影響をほとんど受
けておらず、大幅に向上した磁気特性を有している。な
お、非磁性基板1.1′を、センダスト膜の熱膨張係数
に近い熱膨張係数の材料により形成することにより、さ
らに磁気特性を改善することができる。さらに、この実
施例は、センダスト膜と非磁性絶縁材からなる層間膜と
の交互の多層構造をなしていることから、高周波での再
生効率が高まって性能が向上し、しかもセンダスト膜と
層間膜との接着性に優れていることから、歩留が大幅に
向上することになる。
A non-magnetic insulator is used that has a thermal expansion coefficient close to that of Sendust film 2, 2/, 2'', and 2#, and is good in terms of adhesion and reliability with Sendust films 2, 2/, 2'', and 2#. for,
Since Sendust is an alloy magnetic material of F''e, Ag, and Si, each oxide, FezOa +A
120a, Sing is a non-magnetic insulator, and in terms of adhesion with the sendust film, reliability, etc.
Although preferred as a material for interlayer films, forming a thin film of Fezes insulators is more difficult than forming AA or Si oxide films, and may become magnetized or semi-magnetic, making it difficult to form thin films of Fezes insulators. If the interlayer film is magnetic or semimagnetic, the magnetic properties thereof will affect the metal magnetic film head, which is undesirable. Therefore, it is preferable to use an Al+Sl based nonmagnetic oxide as the interlayer film. Furthermore, A/zo3 has a thermal expansion coefficient α of approximately 80 x 10-7/deg, which is extremely large compared to the thermal expansion coefficient of SiO2 (α = s x 10-'/deg), and is similar to that of sendust ( α=150~1
50 X10-7/aeg), interlayer film 5.3',
An example of a material suitable for a Sl-based interlayer film is a material with a thermal expansion coefficient α of approximately 45X 1o-
Corning's 7059 glass is relatively large at 7/deg. As described above, in this example, the interlayer film formed between the sendust films has a coefficient of thermal expansion close to that of the sendust film. Since the sendust film is made of a material that has the following properties, it is hardly affected by stress during heat treatment and has significantly improved magnetic properties. The magnetic properties can be further improved by forming the nonmagnetic substrate 1.1' from a material with a thermal expansion coefficient close to that of the Sendust film. Furthermore, since this embodiment has a multilayer structure in which the Sendust film and the interlayer film made of a non-magnetic insulating material are alternately formed, the reproduction efficiency at high frequencies is increased and the performance is improved. Since it has excellent adhesion with other materials, yields can be greatly improved.

第2図(a)ないしくe)は第1図の金用磁性薄膜ヘッ
ドの一具体例を示す工程図であって、第1図に対応する
部分には同一符号をつけている。
2(a) to 2(e) are process diagrams showing a specific example of the magnetic thin film head for gold shown in FIG. 1, and parts corresponding to those in FIG. 1 are given the same reference numerals.

まず、熱膨張係数αが約150 X 10−7/ de
g の非磁性基板1上に、センダスト膜2を、DC4極
のスパッタリング装置により、4μm/時の速度で8μ
mの厚さに形成した(第2図(a))。
First, the coefficient of thermal expansion α is approximately 150 x 10-7/de
A sendust film 2 is deposited on a non-magnetic substrate 1 at a rate of 8 μm at a speed of 4 μm/hour using a DC 4-pole sputtering device.
The film was formed to a thickness of m (FIG. 2(a)).

次に、RFスパッタリング装置により、99%セラミッ
クアルミナターゲットを用い、センダスト膜2上にAl
2O3からなる層間膜6を約toooXの厚さに形成し
た(第2図(b))。Al2O3の膜は熱膨張係数αが
約80 X 10−?/ deg  であり、従来層間
膜として用いた5i02膜の熱膨張係数αが約s x 
10−7/degであるのに対して非常に大きくセンダ
ストの熱膨張係数α(= i3o〜150×10−’/
deg )に近い。
Next, using an RF sputtering device, using a 99% ceramic alumina target, Al was sputtered onto the sendust film 2.
An interlayer film 6 made of 2O3 was formed to a thickness of about tooX (FIG. 2(b)). The Al2O3 film has a thermal expansion coefficient α of approximately 80 x 10-? / deg, and the thermal expansion coefficient α of the 5i02 film conventionally used as an interlayer film is approximately s x
10-7/deg, whereas Sendust's thermal expansion coefficient α (= i3o~150×10-'/
degree).

次に、層間膜3上に、上記の方法により、センダスト膜
2′を8μmの厚さで形成しく第2図(C))、以下、
同様にして、層間膜とセンダスト膜を交互に形成して、
センダスト膜2.2’、2’2′″と層間膜3.3’、
5“とが交互に積層して形成される(第2図(d)’)
oこのように積層された積層体の最上のセンダスト膜2
″と、非磁性基板1′とに低融点ガラス膜4を夫々的0
.2μmの厚さでスパッタリングし、センダスト膜2″
′と非磁性基板1′とを、両者に形成した低融点ガラス
膜4を突き合わせて重ね合わせ、加熱して接着した(第
2図(e))。次に、点線6に沿って切断し、その切断
面を研削、ラップ加工し、さらに、非磁性膜を介してボ
ンディング接合することによりヘッドギャップを形成し
、第1図に示すように、ヘッドギャップ5を有する金属
磁性薄膜ヘッドを得た。
Next, a sendust film 2' is formed on the interlayer film 3 to a thickness of 8 μm by the method described above (FIG. 2(C)).
In the same way, interlayer films and sendust films are alternately formed,
Sendust films 2.2', 2'2''' and interlayer films 3.3',
5" are alternately stacked (Fig. 2(d)')
o The uppermost sendust film 2 of the thus laminated laminate
A low melting point glass film 4 is applied to the non-magnetic substrate 1' and the non-magnetic substrate 1', respectively.
.. Sputtered with a thickness of 2 μm and formed a sendust film 2″
' and the non-magnetic substrate 1' were stacked against each other with the low melting point glass film 4 formed on both faces, and were bonded together by heating (FIG. 2(e)). Next, a head gap is formed by cutting along the dotted line 6, grinding and lapping the cut surface, and bonding it through a non-magnetic film.As shown in FIG. A metal magnetic thin film head having 5 was obtained.

この製造方法では、センダスト膜2.2′、2″2″′
の磁気特性を出すためのアニール処理工程を別に設けて
いないが、センダスト膜2Mに非磁性基板1′を接着す
る工程において加熱するものであるから、この加熱がア
ニール処理と同等の作用をなし、センダスト膜2 、2
/ 、 2′/、 2/#は磁気特性を有することにな
る。もちろん、第2図(d)の積層工程後アニール処理
を行ない、それからセンダスト膜2′と非磁性基板1′
との接着処理を行なうようにしてもよい。
In this manufacturing method, the sendust film 2.2', 2"2"'
Although there is no separate annealing process for producing the magnetic properties, since heating is performed in the process of bonding the non-magnetic substrate 1' to the Sendust film 2M, this heating has the same effect as the annealing process. Sendust film 2, 2
/, 2'/, 2/# have magnetic properties. Of course, an annealing treatment is performed after the lamination process shown in FIG. 2(d), and then the Sendust film 2' and the nonmagnetic substrate 1'
It is also possible to perform an adhesion process with.

この製造方法によると、従来の5iOzの層間膜に比べ
、磁気特性は全周波数帯域(〜8 M Hz )にわた
って向上し、特に、高域での磁気特性の改善がみられた
。この磁気特性の向上の顕著なことは、特に、初透磁率
μに表わされている。
According to this manufacturing method, compared to the conventional 5iOz interlayer film, the magnetic properties were improved over the entire frequency band (~8 MHz), and in particular, the magnetic properties were improved in the high frequency range. The remarkable improvement in magnetic properties is particularly expressed in the initial magnetic permeability μ.

次に、本発明による金属磁性薄膜ヘッドの製造方法の他
の具体例について説明する。
Next, another specific example of the method for manufacturing a metal magnetic thin film head according to the present invention will be described.

この具体例では、第2図(a)な−いしくe)に示した
工程において、層間膜3.3’、3“とじてコーニング
社の7059ガラスを用いたものであって、この705
9ガラスは、先に述べたように、約45×1o−7/d
egの熱膨張係数を有して、5i02よりも非常に大き
く、しかも、センダスト膜との接着性が良好である。す
なわち、第2図(a)ないしくe)の工程において、セ
ンダスト膜2.2’、2“上に夫々コーニング社の70
59ガラスをターゲットとし、約800Xの厚さの70
59ガラスによる層間膜3 、 !、/ 、 s//l
、形成するものである。このようにして形成されたセン
ダスト膜2.2’、2“21f/と層間膜5,5’、5
“の交互の積層体は、真空中600°Cで約30間のア
ニール処理がなされ、各センダスト膜の磁気特性を出す
ようにする。この場合、非磁性基板1の熱膨張係数はセ
ンダスト膜の熱膨張係数よりも若干率さいことか・ら、
センダスト膜2′の膜面が凹状に反ることになるが、そ
の膜面を平面研摩した後非磁性基板1′を接着する。
In this specific example, Corning's 7059 glass is used for the interlayer films 3.
9 glass, as mentioned earlier, is about 45 x 1o-7/d
It has a coefficient of thermal expansion of eg, which is much larger than 5i02, and has good adhesion to the sendust film. That is, in the steps shown in FIGS. 2(a) to 2(e), Corning Co.'s 70
Targeting 59 glass, 70 with a thickness of about 800X
59 Interlayer film made of glass 3,! , / , s//l
, to form. Sendust films 2.2', 2"21f/ and interlayer films 5, 5', 5 thus formed
The alternating laminates are annealed in vacuum at 600°C for about 30 minutes to bring out the magnetic properties of each Sendust film. In this case, the thermal expansion coefficient of the non-magnetic substrate 1 is the same as that of the Sendust film. Since it is slightly smaller than the coefficient of thermal expansion,
Although the film surface of the sendust film 2' is warped in a concave shape, the non-magnetic substrate 1' is bonded after flattening the film surface.

以下は、先に述べたものと同様の工程を経て、第1図に
示す金属磁性薄膜ヘッドを得ることができ、その磁気特
性も、先に述べた製造方法によるものと同程度のものを
得ることができた。
The metal magnetic thin film head shown in Figure 1 can be obtained by going through the same process as described above, and its magnetic properties are also comparable to those obtained by the manufacturing method described above. I was able to do that.

第3図は層間膜の各材料に対するセンダスト膜の初透磁
率を示す説明図であって、横軸に層間膜材料の熱膨張係
数を、また、縦軸には、層間膜の材料がSiO2である
ときのセンダスト膜の初透磁率に対する、層間膜が他の
材料であるときのセンダスト膜の初透磁率の比を夫々表
わしている。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing the initial magnetic permeability of the Sendust film for each material of the interlayer film, where the horizontal axis shows the coefficient of thermal expansion of the interlayer film material, and the vertical axis shows the coefficient of thermal expansion of the interlayer film material of SiO2. It represents the ratio of the initial magnetic permeability of the Sendust film when the interlayer film is made of another material to the initial magnetic permeability of the Sendust film at a certain time.

第6図においては、眉間膜の厚さを0.2μmとし、セ
ンダスト層の厚さを6μmとして、センダスト膜3層1
層間膜2層を交互に積層したものとし、4 M Ilz
における初透磁率の比を表わしている。点Aは層間膜が
5iOzであり、点B、Cは夫々7059ガラス、 A
l20gであるときの初透磁率の比を表わしている。こ
のことから、7059 。
In Fig. 6, the thickness of the glabellar membrane is 0.2 μm, the thickness of the sendust layer is 6 μm, and 3 layers of sendust film 1
Two interlayer films are alternately laminated, and 4 M Ilz
It represents the ratio of initial permeability at . At point A, the interlayer film is 5iOz, at points B and C, 7059 glass, and A
It represents the ratio of initial magnetic permeability when l20g. From this, 7059.

AlzOaが5i02に比べて、層間膜の材料としてセ
ンダスト膜の磁気特性を大幅に向上させるものであるこ
とがわかる。
It can be seen that AlzOa significantly improves the magnetic properties of the Sendust film as an interlayer film material compared to 5i02.

実験の結果、層間膜が5iOz、 7059ガラス。As a result of the experiment, the interlayer film was 5iOz and 7059 glass.

A120aからなる場合には、夫々層間膜の膜厚が約3
00X以上であれば絶縁性が保たれ、渦電流損失などの
損失を除去することができることがわかった。そこで、
センダスト膜と層間膜との熱膨張係数の差による応力の
影響をなるべく大きくみるためには、層間膜としては比
較的層間膜が厚い方が好ましい。一方、スロー、スチル
3倍速、サーチなどの特殊プレーを考えると、磁気ヘッ
ドのトラック幅となるセンダストの多層膜中の非磁性絶
縁材からなる層間膜の膜厚をあまシ厚くするとミ磁気テ
ープ上に形成された記録トラック中には、金属磁性薄膜
ヘッドの層間膜による幅広の無記録部分が生し、この無
記録部分からのノイズ量が大きくなって再生画面に目立
って現われ、再生画像の画質を劣化させることになる。
In the case of A120a, the thickness of each interlayer film is approximately 3
It has been found that insulation is maintained and losses such as eddy current loss can be eliminated if the temperature is 00X or higher. Therefore,
In order to maximize the effect of stress due to the difference in thermal expansion coefficient between the sendust film and the interlayer film, it is preferable that the interlayer film be relatively thick. On the other hand, considering special plays such as slow speed, still 3x speed, and search, if the thickness of the interlayer film made of non-magnetic insulating material in Sendust's multilayer film, which is the track width of the magnetic head, is slightly thickened, the magnetic tape In the recording track formed on the recording track, there is a wide unrecorded part due to the interlayer film of the metal magnetic thin film head, and the amount of noise from this unrecorded part becomes large and appears conspicuously on the playback screen, which affects the image quality of the reproduced image. It will cause deterioration.

そこで、層間膜の膜厚には自ずから限界があり、上記の
ように、02μmと一定にした。
Therefore, there is a limit to the thickness of the interlayer film, and as mentioned above, it was fixed at 0.2 μm.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明によれば、製造過程の熱処
理において、金属磁性膜中の応力の発生を抑制すること
ができるから、優れた磁気特性を発揮することができ、
高周波での再生効率が高く性能力゛向上し、しかも、生
産歩留りも向上して上記従来技術にない優れた機能の金
属磁性薄膜ヘッドを提供することができる0
As explained above, according to the present invention, it is possible to suppress the generation of stress in the metal magnetic film during heat treatment during the manufacturing process, so that excellent magnetic properties can be exhibited.
It is possible to provide a metal magnetic thin film head with high playback efficiency at high frequencies, improved performance, improved production yield, and superior functions not found in the conventional technology.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明による金属磁性薄膜ヘッドの一実施例を
示す正面図、第2図(a)ないしくe)は第1図の金属
磁性薄膜ヘッドの製造方法の一具体例を示す工程図、第
3図は層間膜の各材料に対するセンダスト膜の初透磁率
を示す説明図である0 1.1′・・・非磁性基板 2.2’、2“、2′・・・センダスト膜5.3’、5
“・・・層間膜 4・・・低融点ガラス膜 5・・・ヘッドギャップ 代理人弁理士 薄 1)利 7常4 第 1 関 筒2 図 第3 閃 cx(Xlo、/de9ン 第1頁の続き 0発 明 者 田村光治 横浜市戸塚区吉田町292番地株 式会社日立製作所家電研究所内 0発 明 者 石原徹 勝田市大字稲田1410番地株式会 社日立製作所東海工場内 93
FIG. 1 is a front view showing an embodiment of the metal magnetic thin film head according to the present invention, and FIGS. 2(a) to 2e) are process diagrams showing a specific example of the method for manufacturing the metal magnetic thin film head of FIG. , FIG. 3 is an explanatory diagram showing the initial magnetic permeability of the Sendust film for each material of the interlayer film. .3', 5
“…Interlayer film 4…Low melting point glass film 5…Head gap agent Patent attorney Usui 1) Li 7jo 4 1st Kantsutsu 2 Figure 3 Sen CX (Xlo, /de9n 1st page) Continuation of 0 Author: Mitsuharu Tamura, Hitachi, Ltd. Home Appliance Research Laboratory, 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama 0 Author: Toshi Ishihara 93, Tokai Factory, Hitachi, Ltd., 1410 Inada, Oaza, Katsuta City

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)2つの非磁性基板間に、複数の金属磁性膜と眉間
膜とが交互に積層してなる金属磁性薄膜ヘッドにおいて
、該層間膜は該金属磁性膜の熱膨張係数に近い熱膨張係
数を有する非磁性絶縁材からなり、熱処理にともなう該
金属磁性膜の応力を抑制することができるように構成し
たことを特徴とする金属磁性薄膜ヘッド。 (2、特許請求の範囲第(1)項において、前記金属磁
性膜はセンダスト膜であり、前記層間膜はアルミナ膜あ
るいは熱膨張率が45 X 10−7/degのガラス
膜であることを特徴とする金用磁性薄膜ヘッド。
(1) In a metal magnetic thin film head in which a plurality of metal magnetic films and glabellar films are alternately laminated between two nonmagnetic substrates, the interlayer film has a thermal expansion coefficient close to that of the metal magnetic film. 1. A metal magnetic thin film head comprising a non-magnetic insulating material having a structure such that stress in the metal magnetic film due to heat treatment can be suppressed. (2. In claim (1), the metal magnetic film is a sendust film, and the interlayer film is an alumina film or a glass film with a coefficient of thermal expansion of 45 x 10-7/deg. A magnetic thin film head for gold.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61187109A (en) * 1985-02-15 1986-08-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Magnetic head
JPH06111233A (en) * 1992-09-30 1994-04-22 Victor Co Of Japan Ltd Thin film laminated magnetic head

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61187109A (en) * 1985-02-15 1986-08-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Magnetic head
JPH06111233A (en) * 1992-09-30 1994-04-22 Victor Co Of Japan Ltd Thin film laminated magnetic head

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