JPS61233023A - 耐熱性シ−ト - Google Patents
耐熱性シ−トInfo
- Publication number
- JPS61233023A JPS61233023A JP7571885A JP7571885A JPS61233023A JP S61233023 A JPS61233023 A JP S61233023A JP 7571885 A JP7571885 A JP 7571885A JP 7571885 A JP7571885 A JP 7571885A JP S61233023 A JPS61233023 A JP S61233023A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- heat
- polychloromethylstyrene
- polymerization
- irradiating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Organic Insulating Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はフレキシブルプリント回路用シート及び１．０
．キャリヤーフィルム等に使用される耐熱性シートに関
するものである。
．キャリヤーフィルム等に使用される耐熱性シートに関
するものである。
（従来の技術）
従ユｉζフレキシブルプリント回路板用ベースフィルム
として用いられて来たのはポリエステルフィルム及びポ
リイミドフィルムである。ポリエステルは安価ではある
が耐熱性が低く、ハンダ付は困難なため用途が限定され
、一方ハンダ付けを要する用途にはもっばらポリイミド
がベースフィルムとして使用されているが、吸湿による
寸法変化、ボイド、欠陥の生成、フィルム成型の困難等
の問題があり、また高価でもあり、更に用途によっては
ポリイミドの高耐熱を必要とせず、ハンダ付けに耐え得
ればとの分野もあり、この分野で成型容易で安価な耐熱
性素材が望まれ種々の耐熱性樹脂の開発が試みられて来
た。
として用いられて来たのはポリエステルフィルム及びポ
リイミドフィルムである。ポリエステルは安価ではある
が耐熱性が低く、ハンダ付は困難なため用途が限定され
、一方ハンダ付けを要する用途にはもっばらポリイミド
がベースフィルムとして使用されているが、吸湿による
寸法変化、ボイド、欠陥の生成、フィルム成型の困難等
の問題があり、また高価でもあり、更に用途によっては
ポリイミドの高耐熱を必要とせず、ハンダ付けに耐え得
ればとの分野もあり、この分野で成型容易で安価な耐熱
性素材が望まれ種々の耐熱性樹脂の開発が試みられて来
た。
（発明が解決しようとする問題点）
ポリクロルメチルスチレンはネガ型レジスト材料として
電子線或はＸ線レジストとして用いられて来ているが、
レジストということでパターン形成後除去されるもので
基板とに一時的に膜形成をすれば良いということからポ
リマーの重合度も低く単独ではフィルムとして使用に耐
える強力には到底達しないものであった。
電子線或はＸ線レジストとして用いられて来ているが、
レジストということでパターン形成後除去されるもので
基板とに一時的に膜形成をすれば良いということからポ
リマーの重合度も低く単独ではフィルムとして使用に耐
える強力には到底達しないものであった。
本発明者等は従来にない高重合度のポリクロルメチルス
チレンを得、ハンダ浴の温度に十分耐える耐熱性を有す
る特にフレキシブルプリント回路用ベースフィルムとし
て使用できる耐熱性シートを提供すべく研究の結果、本
発明を完成したもので・ある。
チレンを得、ハンダ浴の温度に十分耐える耐熱性を有す
る特にフレキシブルプリント回路用ベースフィルムとし
て使用できる耐熱性シートを提供すべく研究の結果、本
発明を完成したもので・ある。
（問題点を解決するための手段）
本発明はポリクロルメチルスチレンフィルムを遠紫外線
で照射、不融化してなる耐熱性シートである。特にクロ
ルメチルスチレンモノマーを従来とは異なる低温活性触
媒を用いて得た高分子量ポリクロルメチルスチレンをフ
ィルムに製膜したものが好ましく、これに遠紫外線を照
射し不融化してなるものである。
で照射、不融化してなる耐熱性シートである。特にクロ
ルメチルスチレンモノマーを従来とは異なる低温活性触
媒を用いて得た高分子量ポリクロルメチルスチレンをフ
ィルムに製膜したものが好ましく、これに遠紫外線を照
射し不融化してなるものである。
本発明に用いられるクロルメチルスチレンモノマーは例
えばブロモエチルベンジルクロライドとブチルアルコー
ルとの反応（こよって得られるもの（有機合成化学８１
１０５０（１９７８））など公知の方法で得られるも
のである。ただ重合反応前に安定剤、重合禁止剤等を除
去、精製する必要がある。
えばブロモエチルベンジルクロライドとブチルアルコー
ルとの反応（こよって得られるもの（有機合成化学８１
１０５０（１９７８））など公知の方法で得られるも
のである。ただ重合反応前に安定剤、重合禁止剤等を除
去、精製する必要がある。
ポリクロルメチルスチレンは従来より固有粘度〔η〕が
０．１〜０．２のものが知られ、レジスト用に用いられ
ているがこれら既知ポリマーではフィルム化しても脆く
実用に耐えるフィルムとはならず本発明に用い得るもの
ではない。本発明に用い得るポリクロルメチルスチレン
は〔η〕が０．４を超える高重合度のものが好ましい。
０．１〜０．２のものが知られ、レジスト用に用いられ
ているがこれら既知ポリマーではフィルム化しても脆く
実用に耐えるフィルムとはならず本発明に用い得るもの
ではない。本発明に用い得るポリクロルメチルスチレン
は〔η〕が０．４を超える高重合度のものが好ましい。
このポリクロルメチルスチレンを得るには従来よく用い
られる過酸化ベンゾイル（ＢＰＯ）、アゾビスイソブチ
ロニトリル（ＡＩＢＮ ）等の触媒を用いた高熱重合で
はなく、低温活性を有する触媒により約５０℃以下の温
度での低温重合する方法がよい。触媒は低温活性を有す
るものであれば種類は問わないが通常はアゾビス系、過
酸化物系のものが用いられ、例えハ２．２’−アゾビス
ー２．４ジメチルバレロニトリル、２．ｌ−７ゾビスー
２．４ジメチル−４−メトキシバレロニトリル、ジイソ
プロピルパーオキシジカーボネート等がある。重合反応
の温度は使用する触媒の性質に応じた温度で重合させる
が通常５０℃以下の温度で実施される。重合系は無酸素
状態を保つためチッ素置換するか、１０””ｘｚＨｙ以
下の真空が通常えらばれる。触媒量はモノマー重量に対
し０．５％以下の量が通常用いられ、高重合度を得るに
は少ない方が望ましい。また重合反応に際してはクロル
メチルスチレンモノマー１００重量％でも、溶媒にて希
釈した系を用いることも可能であす、実質的にポリクロ
ルメチルスチレンの特性を損なわない範囲で他のビニー
ルモノマーを添加、共重合することも可能である。尚固
有粘度〔η〕はトルエンを溶媒として８０℃にて測定し
、（ηｏ：トルエンの粘度、η：ボポリロルメチルスチ
レン／トルエン溶液の粘度） かくして得られるポリクロルメチルスチレンをフィルム
化するのは溶媒に溶解したドープからのキャスト法、熱
溶触法等公知の方法が用いられる。
られる過酸化ベンゾイル（ＢＰＯ）、アゾビスイソブチ
ロニトリル（ＡＩＢＮ ）等の触媒を用いた高熱重合で
はなく、低温活性を有する触媒により約５０℃以下の温
度での低温重合する方法がよい。触媒は低温活性を有す
るものであれば種類は問わないが通常はアゾビス系、過
酸化物系のものが用いられ、例えハ２．２’−アゾビス
ー２．４ジメチルバレロニトリル、２．ｌ−７ゾビスー
２．４ジメチル−４−メトキシバレロニトリル、ジイソ
プロピルパーオキシジカーボネート等がある。重合反応
の温度は使用する触媒の性質に応じた温度で重合させる
が通常５０℃以下の温度で実施される。重合系は無酸素
状態を保つためチッ素置換するか、１０””ｘｚＨｙ以
下の真空が通常えらばれる。触媒量はモノマー重量に対
し０．５％以下の量が通常用いられ、高重合度を得るに
は少ない方が望ましい。また重合反応に際してはクロル
メチルスチレンモノマー１００重量％でも、溶媒にて希
釈した系を用いることも可能であす、実質的にポリクロ
ルメチルスチレンの特性を損なわない範囲で他のビニー
ルモノマーを添加、共重合することも可能である。尚固
有粘度〔η〕はトルエンを溶媒として８０℃にて測定し
、（ηｏ：トルエンの粘度、η：ボポリロルメチルスチ
レン／トルエン溶液の粘度） かくして得られるポリクロルメチルスチレンをフィルム
化するのは溶媒に溶解したドープからのキャスト法、熱
溶触法等公知の方法が用いられる。
ポリマーの〔η〕が上るに伴いフィルム成型性が向上し
、０．８を超えるとフィルム状に成型できるが屈曲性は
未だなく、０．４になって折り曲げ（１８０’）に耐え
る可撓性が現われ、実用性あるフィルムを得られるよう
になる。触媒、重合温度と得られたポリマーの〔η〕の
関係をみるとＢＰＯ触媒では８０℃五合でたかだか〔η
）＝０．８５であって６゜°Ｃで漸く０．５に達するが
重合速度がおそく実用性に欠ける。前述の低温活性触媒
を用い実用条件で高重合度ポリクロルメチルスチレン（
（η） ＝ ０．５〜１．０）が得られるに到った。
、０．８を超えるとフィルム状に成型できるが屈曲性は
未だなく、０．４になって折り曲げ（１８０’）に耐え
る可撓性が現われ、実用性あるフィルムを得られるよう
になる。触媒、重合温度と得られたポリマーの〔η〕の
関係をみるとＢＰＯ触媒では８０℃五合でたかだか〔η
）＝０．８５であって６゜°Ｃで漸く０．５に達するが
重合速度がおそく実用性に欠ける。前述の低温活性触媒
を用い実用条件で高重合度ポリクロルメチルスチレン（
（η） ＝ ０．５〜１．０）が得られるに到った。
高重合度ポリクロルメチルスチレンを用い！［シタフィ
ルムハ溶媒、例えばトルエン、キシレン、ジメチルホル
ムアミドに可溶であり、熱に対しても融解ないし軟化す
る性質を有してぃ゛る。これを遠紫外線、例えば低圧水
銀灯からの紫外線（主波長２５４ｎｍ’）を照射するこ
とで不融化し本発明の耐熱性シートに転化するのである
。紫外線でも近紫外線（例えば高圧水銀灯による主波長
８６５ｎｍ）では単に着色するのみで上記の不融化は発
現せず本発明の耐熱性シートとはならない。これはポリ
クロルメチルスチレン中の０−ａＺの結合を切断しし、
溶媒を乾燥しシートを作製した。゛凪１シートは非常に
もろく、取扱いに耐え得な０性状であったが他は一応取
扱える性状を持っていたが・凪４は未だ可撓性に欠け、
ＩｋｌＯ，１２が折り曲げにも耐える強力のシートとな
っていた。これを低圧水銀灯（１５Ｗ）で８１距離をお
き１５分間照射した後２６０°Ｃの溶融ハンダを滴下し
たが、変形成は孔あき等の変化は見られなかった。照射
前のシートではいずれも孔が生じていた。
ルムハ溶媒、例えばトルエン、キシレン、ジメチルホル
ムアミドに可溶であり、熱に対しても融解ないし軟化す
る性質を有してぃ゛る。これを遠紫外線、例えば低圧水
銀灯からの紫外線（主波長２５４ｎｍ’）を照射するこ
とで不融化し本発明の耐熱性シートに転化するのである
。紫外線でも近紫外線（例えば高圧水銀灯による主波長
８６５ｎｍ）では単に着色するのみで上記の不融化は発
現せず本発明の耐熱性シートとはならない。これはポリ
クロルメチルスチレン中の０−ａＺの結合を切断しし、
溶媒を乾燥しシートを作製した。゛凪１シートは非常に
もろく、取扱いに耐え得な０性状であったが他は一応取
扱える性状を持っていたが・凪４は未だ可撓性に欠け、
ＩｋｌＯ，１２が折り曲げにも耐える強力のシートとな
っていた。これを低圧水銀灯（１５Ｗ）で８１距離をお
き１５分間照射した後２６０°Ｃの溶融ハンダを滴下し
たが、変形成は孔あき等の変化は見られなかった。照射
前のシートではいずれも孔が生じていた。
実施例２
実施例１と同様に精製したクロルメチルスチレンに触媒
としてジイソプロピルパーオキシジカーボネート０．２
Ｍ量％添加、チッ素置換し、５０℃の恒温槽にて重合し
た。得られたポリマーは〔η〕＝０．６４であった。こ
のポリマーをトルエンを溶媒とし３０重量％のドープを
作製しこれをガラス板上にアプリケーターで流延し、溶
媒を乾燥し２５μｍ厚のフィルムを得た。
としてジイソプロピルパーオキシジカーボネート０．２
Ｍ量％添加、チッ素置換し、５０℃の恒温槽にて重合し
た。得られたポリマーは〔η〕＝０．６４であった。こ
のポリマーをトルエンを溶媒とし３０重量％のドープを
作製しこれをガラス板上にアプリケーターで流延し、溶
媒を乾燥し２５μｍ厚のフィルムを得た。
該フィルムに低圧水銀灯（１５Ｗ）の紫外線をｌＯｒ！
ｘの距離で１０分間照射した。照射後のフィルムはトル
エンにも溶解せず、また８２０℃まで空気中で昇温した
が何らの変化も見られずり、Ｓ、Ｏ。
ｘの距離で１０分間照射した。照射後のフィルムはトル
エンにも溶解せず、また８２０℃まで空気中で昇温した
が何らの変化も見られずり、Ｓ、Ｏ。
測定でも同様であった。対照として高圧水銀灯（１５０
Ｗ）による紫外線を同様に照射したもの及び１５０℃に
て１５分間熱処理したものを作製したがどちらもトルエ
ンに溶解し、熱に対しては２２０℃近辺で変形してしま
った。
Ｗ）による紫外線を同様に照射したもの及び１５０℃に
て１５分間熱処理したものを作製したがどちらもトルエ
ンに溶解し、熱に対しては２２０℃近辺で変形してしま
った。
実施例８
精製クロルメチルスチレン（ＯＭＳ ）と精製メチルア
クリレート（Ｍ人）、精製メチルメタアクリレート（Ｍ
ＭＡ）とを各々９５ ： ５．９０：１０（重量比）で
混合しこれに触媒アゾビスジメチルバレロニトリル０．
３％を添加、真空にて５０″Ｃで重合した。得られた共
重合ポリマー４種の〔η〕は第２表の如くなった。
クリレート（Ｍ人）、精製メチルメタアクリレート（Ｍ
ＭＡ）とを各々９５ ： ５．９０：１０（重量比）で
混合しこれに触媒アゾビスジメチルバレロニトリル０．
３％を添加、真空にて５０″Ｃで重合した。得られた共
重合ポリマー４種の〔η〕は第２表の如くなった。
第２表
これらの共重合物を実施例２と同様にフィルム化し、低
圧水銀灯で遠紫外線を５分間照射した結果いずれも不融
化していることが認められた。
圧水銀灯で遠紫外線を５分間照射した結果いずれも不融
化していることが認められた。
一方ポリステレン（電気化手製）を同様にフィルム化し
遠紫外線照射を同様に行なったが、照射前と変化は認め
られなかった。
遠紫外線照射を同様に行なったが、照射前と変化は認め
られなかった。
実施例４
精製クロルメチルスチレンにアゾビスジメチルバレロニ
トリル０．１重量％を加え真空にて５０℃で重合を行な
った。得られたポリマーは〔η〕＝０．８１でありこれ
をトルエン溶媒の２δ％ドープを作製した。ガラス繊維
布ＫＳ１０２０ （糸：ＤＺ ：ｔ Ｏ１１０経緯共、
密度：経５９木、緯５２本、厚さ：０．０８ｆｌ、目付
２５１ ／ｎ／、シランカップリング処理）を上記ドー
プに浸漬、スクイズした後乾燥し、厚さ０．１ｎのプリ
プレグを得、これを低圧水銀灯で１５分間照射した。
トリル０．１重量％を加え真空にて５０℃で重合を行な
った。得られたポリマーは〔η〕＝０．８１でありこれ
をトルエン溶媒の２δ％ドープを作製した。ガラス繊維
布ＫＳ１０２０ （糸：ＤＺ ：ｔ Ｏ１１０経緯共、
密度：経５９木、緯５２本、厚さ：０．０８ｆｌ、目付
２５１ ／ｎ／、シランカップリング処理）を上記ドー
プに浸漬、スクイズした後乾燥し、厚さ０．１ｎのプリ
プレグを得、これを低圧水銀灯で１５分間照射した。
これのハンダ耐熱性（ＪＩ８ Ｋ６４８４）を調べた所
、２６０”０で１２０秒、ふくれ、はがれは観察できな
かった。
、２６０”０で１２０秒、ふくれ、はがれは観察できな
かった。
（発明の効果）
本発明の耐熱性シートは十分なハンダ耐熱性を有し、フ
レキシブルプリント回路用ベースフィルム、或はＩＯキ
ャリヤーフィルムとして好適である。
レキシブルプリント回路用ベースフィルム、或はＩＯキ
ャリヤーフィルムとして好適である。
Claims (3)
- （１）ポリクロルメテルステレンフィルムを遠紫外線で
照射、不融化してなる耐熱性シート。 - （２）ポリクロルメテルステレンの極限粘度〔η〕が０
．４以上である特許請求の範囲第（１）項記載のシート
。 - （３）ポリクロルメチルスチレンが低温活性触媒を用い
てクロルメチルスチレンを重合したものである特許請求
の範囲第（１）項又は第（２）項記載のシート。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7571885A JPS61233023A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 耐熱性シ−ト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7571885A JPS61233023A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 耐熱性シ−ト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61233023A true JPS61233023A (ja) | 1986-10-17 |
Family
ID=13584312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7571885A Pending JPS61233023A (ja) | 1985-04-09 | 1985-04-09 | 耐熱性シ−ト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61233023A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002085957A1 (en) * | 2001-04-24 | 2002-10-31 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Synthesis of vinyl polymers by controlled radical polymerization |
-
1985
- 1985-04-09 JP JP7571885A patent/JPS61233023A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002085957A1 (en) * | 2001-04-24 | 2002-10-31 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Synthesis of vinyl polymers by controlled radical polymerization |
| US6875832B2 (en) | 2001-04-24 | 2005-04-05 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Synthesis of vinyl polymers by controlled radical polymerization |
| US7351781B2 (en) | 2001-04-24 | 2008-04-01 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Synthesis of vinyl polymers by controlled radical polymerization |
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