JPS61230033A - 温度分布測定装置 - Google Patents
温度分布測定装置Info
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- JPS61230033A JPS61230033A JP60071361A JP7136185A JPS61230033A JP S61230033 A JPS61230033 A JP S61230033A JP 60071361 A JP60071361 A JP 60071361A JP 7136185 A JP7136185 A JP 7136185A JP S61230033 A JPS61230033 A JP S61230033A
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- G01J5/00—Radiation pyrometry, e.g. infrared or optical thermometry
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はアーク熱により溶解する鋼等の被溶解材の温度
分布を測定する温度分布測定装置に関する。
分布を測定する温度分布測定装置に関する。
鋼や合金等の溶解にはアークを発生させこのアーク熱に
より溶解するアーク溶解法なる技術がある。この技術の
うち特開昭５５−１６５２７１号公報に開示されている
ＶＡＤＥＲ（Ｖａｃｕｕｍ ＡｒｃＤｏｕｂｌｅ Ｅｌ
＠ｃｔｒｏｄｅ Ｒ＠ｍｅｌｔｌｎｇ）法と呼ばれるも
のがある。これは第８図に示すように非水冷鋳Ｗ１上部
に一対の消耗電極２，３を水平方向に対向させて設置し
、これら電極２，３間に真空中でアーク人を発生させ、
このアーク熱によりミ極２．３を溶融するものである。
より溶解するアーク溶解法なる技術がある。この技術の
うち特開昭５５−１６５２７１号公報に開示されている
ＶＡＤＥＲ（Ｖａｃｕｕｍ ＡｒｃＤｏｕｂｌｅ Ｅｌ
＠ｃｔｒｏｄｅ Ｒ＠ｍｅｌｔｌｎｇ）法と呼ばれるも
のがある。これは第８図に示すように非水冷鋳Ｗ１上部
に一対の消耗電極２，３を水平方向に対向させて設置し
、これら電極２，３間に真空中でアーク人を発生させ、
このアーク熱によりミ極２．３を溶融するものである。
また、他の溶解方法として第９図に示す技術もある。す
なわち、消耗電極４，５を鋳麗６上部にその中心線が交
わるように水平または下方向きに対向させて設置し、真
空下或は、不活性ガス雰囲気中で各電極４，５間及び各
電極４゜５と鋳型６及び再溶解インゴット７間にアーク
Ｂを発生させ、そのアーク熱により電極４，５を溶融さ
せるものである。
なわち、消耗電極４，５を鋳麗６上部にその中心線が交
わるように水平または下方向きに対向させて設置し、真
空下或は、不活性ガス雰囲気中で各電極４，５間及び各
電極４゜５と鋳型６及び再溶解インゴット７間にアーク
Ｂを発生させ、そのアーク熱により電極４，５を溶融さ
せるものである。
なお、消耗電極４，５は長手方向（イ）、←）にスライ
ド可能であるとともに（ハ）、に）方向に移動可能な構
成となっておシ、溶解の進行に従りて消耗電極４．５を
送出させて各電極４．５間のギャップが調整されている
。このようにして溶融した溶融金属は落下して鋳型６に
入り、この鋳型６において溶融ノール８となシ凝固して
インゴット７として製造される。
ド可能であるとともに（ハ）、に）方向に移動可能な構
成となっておシ、溶解の進行に従りて消耗電極４．５を
送出させて各電極４．５間のギャップが調整されている
。このようにして溶融した溶融金属は落下して鋳型６に
入り、この鋳型６において溶融ノール８となシ凝固して
インゴット７として製造される。
以上のアーク熱溶解法の技術において、高品質で均一な
インゴットを製造するためには、各電極２．３．４．５
の温度分布、特に各電極先端において溶融した落下直前
の溶融金属の温度情報を把握することが重要である。
インゴットを製造するためには、各電極２．３．４．５
の温度分布、特に各電極先端において溶融した落下直前
の溶融金属の温度情報を把握することが重要である。
つまり、電極先端の溶融温度はインク９ツトが凝固形成
されるときの内部組織を支配し、インゴットの品質を決
定する重要な因子となっているからである。ところで溶
融温度が高すぎると溶融プールが深くなって微細組織を
得るのが困難となり、また低過ぎると健全な組織が形成
されない等の問題があシ、シたがって適切な溶解温度で
溶解金属の粒適が落下するのが望ましい。
されるときの内部組織を支配し、インゴットの品質を決
定する重要な因子となっているからである。ところで溶
融温度が高すぎると溶融プールが深くなって微細組織を
得るのが困難となり、また低過ぎると健全な組織が形成
されない等の問題があシ、シたがって適切な溶解温度で
溶解金属の粒適が落下するのが望ましい。
よって、各電極２．３．４．５の温度を測定して供給電
流をコントロールをすれば高品質で均一なインク９ツト
が安定して鋳造できることになる。
流をコントロールをすれば高品質で均一なインク９ツト
が安定して鋳造できることになる。
しかしながらアーク溶解法に対する温度測定にあっては
次に示すような問題があって実現されていないのが現状
である。すなわち、■ 各電極２，３，４．５では溶解
す゛る先端から他端にかけて数百度の温度勾配が存在し
、かつ、溶解する先端部の巾が狭いため ■ 各電極２．３−４ ＊ ５が移動するため■ アー
ク光が外乱となるため である。したがりてアーク溶鋼の操業に際しては主にオ
ペレータの経験に頼っているのが実状である。
次に示すような問題があって実現されていないのが現状
である。すなわち、■ 各電極２，３，４．５では溶解
す゛る先端から他端にかけて数百度の温度勾配が存在し
、かつ、溶解する先端部の巾が狭いため ■ 各電極２．３−４ ＊ ５が移動するため■ アー
ク光が外乱となるため である。したがりてアーク溶鋼の操業に際しては主にオ
ペレータの経験に頼っているのが実状である。
本発明は上記実情に基づいてなされたもので、その目的
とするところは、オンラインで被溶解材の温度分布が測
定できる温度分布測定装置を提供することにある。
とするところは、オンラインで被溶解材の温度分布が測
定できる温度分布測定装置を提供することにある。
本発明は、被溶解材の輝度を検出する輝度検出器にアー
ク成分を除去して放射輝度成分を通過させる光学フィル
タを設け、この輝度検出器から出力される放射輝度成分
の検出僅号から被溶解材の温度分布を求める温度分布測
定装置である。
ク成分を除去して放射輝度成分を通過させる光学フィル
タを設け、この輝度検出器から出力される放射輝度成分
の検出僅号から被溶解材の温度分布を求める温度分布測
定装置である。
以下、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。第１図は温度分布測定装置の全体構成図であって、
１０はアーク溶解炉の真空容器であり、１１．１２は被
溶解材としての各電極である。Ｃはアークであシ、１３
は落下している粒滴状の溶解金属である。
る。第１図は温度分布測定装置の全体構成図であって、
１０はアーク溶解炉の真空容器であり、１１．１２は被
溶解材としての各電極である。Ｃはアークであシ、１３
は落下している粒滴状の溶解金属である。
さて、２０は輝度検出器としての撮像装置であって、こ
れは電極１１．１２の放射輝度分布を真空容器１０に設
けられている測定窓を通して検出するように設置され、
その視野５は各電極１１．１２が入るような１次元とな
っている。
れは電極１１．１２の放射輝度分布を真空容器１０に設
けられている測定窓を通して検出するように設置され、
その視野５は各電極１１．１２が入るような１次元とな
っている。
３０は温度制御装置であって、これは撮像装置２０から
のビデオ信号を受けて温度分布を求めるものであシ、４
０は表示部である。
のビデオ信号を受けて温度分布を求めるものであシ、４
０は表示部である。
ここで、撮像装置２０および温度制御装置３０の具体的
な構成について第２図を参照して説明する。
な構成について第２図を参照して説明する。
撮像装置２０は、その先端に光学フィルタ２１が設けら
れ、この光学フィルタ２１を通った光がレンズ２２を通
ってセンサ２３上に結像されるようになっている。この
センサ２３は光電変換素子を１次元に多数配列した構成
のもので、例えば光電変換素子としてシリコン・フォト
・ダイオード・アレイ（リニア・プレイ、ＣＣＤ−次元
センナ）を１０２４素子配列した構成となっている。
れ、この光学フィルタ２１を通った光がレンズ２２を通
ってセンサ２３上に結像されるようになっている。この
センサ２３は光電変換素子を１次元に多数配列した構成
のもので、例えば光電変換素子としてシリコン・フォト
・ダイオード・アレイ（リニア・プレイ、ＣＣＤ−次元
センナ）を１０２４素子配列した構成となっている。
ここで光学フィルタ２ノについて説明する。
第３図は電極１１．１２間で発生するアークＣの分光放
射特性と黒体炉を用いて得られた黒体の分光放射特性と
の相対的比較を示している。
射特性と黒体炉を用いて得られた黒体の分光放射特性と
の相対的比較を示している。
なお、同図においてアーク・スペクトルは被溶解材とし
て数種ある中の一例であるが、他の被溶解材を用いた場
合でも、また不活性雰囲気、或は真空度を変えた場合で
もスペクトルは異なるが０．８５μｍ以上については黒
体放射に比べ殆んど無視しうろことが判明している。ま
た同図はシリコン・フォト・ダイオードアレイを検出器
としたマルチ・チャンネル分光器を用いて測定したもの
で、これに用いたレンズ、回折格子、フォト・ダイオー
ドプレイの総合的な分光感度は第４図に示すようになっ
ていることが判明している。第３図に示すようにアーク
光の放射分光特性、は、波長０゜８０μｍ付近まで強い
ス（クトルが存在する。一方、波長０．８０μｍ以下で
はシリコン・フォト・ダイオード・アレイを用いたアー
ク光のスペクトルは、例えば１５００℃（Ｐｌ）、１６
５０℃（Ｐ２）の黒体放射と比較して非常に弱くほとん
ど無視しうろことがわかる。
て数種ある中の一例であるが、他の被溶解材を用いた場
合でも、また不活性雰囲気、或は真空度を変えた場合で
もスペクトルは異なるが０．８５μｍ以上については黒
体放射に比べ殆んど無視しうろことが判明している。ま
た同図はシリコン・フォト・ダイオードアレイを検出器
としたマルチ・チャンネル分光器を用いて測定したもの
で、これに用いたレンズ、回折格子、フォト・ダイオー
ドプレイの総合的な分光感度は第４図に示すようになっ
ていることが判明している。第３図に示すようにアーク
光の放射分光特性、は、波長０゜８０μｍ付近まで強い
ス（クトルが存在する。一方、波長０．８０μｍ以下で
はシリコン・フォト・ダイオード・アレイを用いたアー
ク光のスペクトルは、例えば１５００℃（Ｐｌ）、１６
５０℃（Ｐ２）の黒体放射と比較して非常に弱くほとん
ど無視しうろことがわかる。
従って、本実施例における光学フィルター２１は、Ｓ／
Ｎを向上させるために、波長０．９０μｍ以上の赤外線
透過フィルターを用いてアーク光を除去し、各電極１１
．１２の放射輝度分布を検出するようにしている。この
場合、第４図かられかるように波長０．９０μｍ以上で
もシリコン・フォト・ダイオード・プレイは感度を持り
ておシ、シかも測定対象温度が１４００℃以上であって
十分な出力値が得られる。
Ｎを向上させるために、波長０．９０μｍ以上の赤外線
透過フィルターを用いてアーク光を除去し、各電極１１
．１２の放射輝度分布を検出するようにしている。この
場合、第４図かられかるように波長０．９０μｍ以上で
もシリコン・フォト・ダイオード・プレイは感度を持り
ておシ、シかも測定対象温度が１４００℃以上であって
十分な出力値が得られる。
また、レンズ２２は各電極１１．１２の移動範囲領域を
視野とするような焦点距離のものが選定されて設けられ
ている。さらに撮像装置２０には、センサ２３を駆動す
るドライバ回路２４およびビデオ信号増幅回路２５が内
設されている。
視野とするような焦点距離のものが選定されて設けられ
ている。さらに撮像装置２０には、センサ２３を駆動す
るドライバ回路２４およびビデオ信号増幅回路２５が内
設されている。
次に温度制御回路３０の構成について説明する。ビデオ
信号増幅回路２５からのビデオ信号はＡ／１） （アナ
ログ−ディジタル）変換回路３１を通って暗電流補正演
算部３２に送られるようなっている。この暗電流補正演
算部３２は、シリコン・フォト・ダイオード・アレイ（
特にＣＣＤセンサ）では周囲温度により暗電流が変化す
るのでこれを補正するものである。この補正は次のよう
に行なわれる。すなわち、１０２４素子のシリコン・フ
ォト・ダイオード・アレイのうち１〜３０番目の素子の
受光面に光学的にシールを覆してこれら素子の出力平均
値を暗電流とする。そして、３１〜１０２４番目の素子
の出力値から暗電流値を差演算して暗電流補正が行なわ
れる。
信号増幅回路２５からのビデオ信号はＡ／１） （アナ
ログ−ディジタル）変換回路３１を通って暗電流補正演
算部３２に送られるようなっている。この暗電流補正演
算部３２は、シリコン・フォト・ダイオード・アレイ（
特にＣＣＤセンサ）では周囲温度により暗電流が変化す
るのでこれを補正するものである。この補正は次のよう
に行なわれる。すなわち、１０２４素子のシリコン・フ
ォト・ダイオード・アレイのうち１〜３０番目の素子の
受光面に光学的にシールを覆してこれら素子の出力平均
値を暗電流とする。そして、３１〜１０２４番目の素子
の出力値から暗電流値を差演算して暗電流補正が行なわ
れる。
この暗電流補正が行なわれたデータはバラツキ補正演算
部３３に送られるようになっている。
部３３に送られるようになっている。
このバラツキ補正演算部３３は各シリコン・フォト・ダ
イオード・アレイの感度のバラツキを補正するもので、
素子バラツキ記憶部３４に所定のシリコン・フォト・ダ
イオード・プレイ（例えばセンサ２３の中央に位置する
５１２番目の素子）の出力値と他の全てのシリコン・フ
ォト・ダイオード・アレイの出力値とを黒体炉を用いて
測定し、その比率がそれぞれ記憶されておシ、この比率
によシバラツキ補正が行なわれる。
イオード・アレイの感度のバラツキを補正するもので、
素子バラツキ記憶部３４に所定のシリコン・フォト・ダ
イオード・プレイ（例えばセンサ２３の中央に位置する
５１２番目の素子）の出力値と他の全てのシリコン・フ
ォト・ダイオード・アレイの出力値とを黒体炉を用いて
測定し、その比率がそれぞれ記憶されておシ、この比率
によシバラツキ補正が行なわれる。
このバラツキ補正後のデータは放射率補正演算部３５に
より放射率補正が行なわれて温度変換演算部３６に送ら
れるように構成されている。
より放射率補正が行なわれて温度変換演算部３６に送ら
れるように構成されている。
なお、放射率補正演算部３５には、補正を行なうための
放射率値が予め被温度測定物となる被溶解材を実際の測
定と同一条件（同一雰囲気）で測定され求められて格納
されている。
放射率値が予め被温度測定物となる被溶解材を実際の測
定と同一条件（同一雰囲気）で測定され求められて格納
されている。
また、温度変換演算部３６は、予め黒体炉校正で得られ
た温度と電圧との関係から温度分布を演算し求めるもの
である。そして、温度変換演算部３６の出力電圧はＤ／
Ａ変換回路３７を通って表示部４０に送られる構成とな
っている。
た温度と電圧との関係から温度分布を演算し求めるもの
である。そして、温度変換演算部３６の出力電圧はＤ／
Ａ変換回路３７を通って表示部４０に送られる構成とな
っている。
なお、ドライバ回路２４にはスタートノ臂ルス発生回路
３８からスタートノ母ルスが送出されるものとなってお
シ、また温度制御装置３０はシーケンス制御部３９によ
りスタートパルスの発生タイミングが制御されるととも
に全体の動作タイミングが制御されている。なお、スタ
ートパルス発生回路３８で発生するスタートパルスの周
波数（いわゆる走査周波数）は、一定輝度の対象を測定
する場合、出力電圧とは反比例をする関係にある。従っ
て、黒体炉校正を行う時に、測定する温度範囲を満たす
ような周波数を決め、この周波数をもってスタートパル
スを発生させている。
３８からスタートノ母ルスが送出されるものとなってお
シ、また温度制御装置３０はシーケンス制御部３９によ
りスタートパルスの発生タイミングが制御されるととも
に全体の動作タイミングが制御されている。なお、スタ
ートパルス発生回路３８で発生するスタートパルスの周
波数（いわゆる走査周波数）は、一定輝度の対象を測定
する場合、出力電圧とは反比例をする関係にある。従っ
て、黒体炉校正を行う時に、測定する温度範囲を満たす
ような周波数を決め、この周波数をもってスタートパル
スを発生させている。
次に上記の如く構成された装置の動作について説明する
。各電極１１．１２に電流が供給されてアークＣが発生
すると、このアーク熱により各電極１１．１２は溶解し
て粒滴状の溶解金属１３として鋳歴内に落下する。この
アーク溶解とともにスタートパルス発生回路３８からス
タートパルスがドライバ回路２４に送出されるととＫよ
シセンサ２３の各シリコン・フォト・ダイオード・アレ
イが駆動する。ここで撮像装置２０の視野ｆは各電極１
１．１２を捕えているので各電極１１．１２の輝度像が
光学フィルタ２１、レンズ２２を通ってセンサ２３上に
結像される。ところで、光学フィルタ２１には赤外線透
過フィルタが用いられているためアーク光は除外され各
電極１１．１２の放射輝度分布成分がセンサ２３に達し
ている。これによりセンサ２３からは放射輝度分布に応
じたビデオ信号が出力され、このビデオ信号がビデオ信
号増幅回路２５を通りて〜勺変換回路３１に送られてデ
ィジタルビデオ信号に変換されて暗電流補正演算部３２
に送られる。この暗電流補正演算部３２でディジタルビ
デオ信号は暗電流補正が行なわれ、さらにバラツキ補正
演算部３２で各シリコン・フォト・ダイオード・アレイ
に対する感度のバラツキ補正が行なわれる。そして、バ
ラツキ補正が終了するとディジタルビデオ信号は放射率
補正演算部３５によシ放射率の補正が行なわれて温度変
換演算部３６に送られる。
。各電極１１．１２に電流が供給されてアークＣが発生
すると、このアーク熱により各電極１１．１２は溶解し
て粒滴状の溶解金属１３として鋳歴内に落下する。この
アーク溶解とともにスタートパルス発生回路３８からス
タートパルスがドライバ回路２４に送出されるととＫよ
シセンサ２３の各シリコン・フォト・ダイオード・アレ
イが駆動する。ここで撮像装置２０の視野ｆは各電極１
１．１２を捕えているので各電極１１．１２の輝度像が
光学フィルタ２１、レンズ２２を通ってセンサ２３上に
結像される。ところで、光学フィルタ２１には赤外線透
過フィルタが用いられているためアーク光は除外され各
電極１１．１２の放射輝度分布成分がセンサ２３に達し
ている。これによりセンサ２３からは放射輝度分布に応
じたビデオ信号が出力され、このビデオ信号がビデオ信
号増幅回路２５を通りて〜勺変換回路３１に送られてデ
ィジタルビデオ信号に変換されて暗電流補正演算部３２
に送られる。この暗電流補正演算部３２でディジタルビ
デオ信号は暗電流補正が行なわれ、さらにバラツキ補正
演算部３２で各シリコン・フォト・ダイオード・アレイ
に対する感度のバラツキ補正が行なわれる。そして、バ
ラツキ補正が終了するとディジタルビデオ信号は放射率
補正演算部３５によシ放射率の補正が行なわれて温度変
換演算部３６に送られる。
そうして、この温度変換演算部３６によシ黒体炉校正か
ら得られた温度と電圧との関係から電極１１．１２の温
度分布が演算し求められる。
ら得られた温度と電圧との関係から電極１１．１２の温
度分布が演算し求められる。
第５図は求められた温度分布の一例であってＱ１ｅＱ２
が各電極１１．１２の先端位置に相当している。そして
、この温度分布データはＤ／Ａ変換回路３１によシアナ
ログ信号に変換されて表示部４０に送られて表示される
。
が各電極１１．１２の先端位置に相当している。そして
、この温度分布データはＤ／Ａ変換回路３１によシアナ
ログ信号に変換されて表示部４０に送られて表示される
。
このように上記一実施例においては、撮像装置２０にア
ーク光を除去して放射輝度を通過させる赤外線透過フィ
ルタ２１を設け、撮像装置２０からの放射輝度のビデオ
信号から温度分布を求める構成としたので、アーク溶解
中に溶解金属、特に各電極１１．１２の先端における落
下直前の溶解金属の温度分布がアーク光の影響を受けず
に正確に測定できる。そして、この温度分布測定にあっ
ては、撮像装置２ｏが視野ｆを有しているので、各電極
１１．１２に温度勾配があったり、また移動したとして
も常に正確に測定できる。したがって、この温度分布情
報や各種操作条件（電流、電圧など）を主制御部（不図
示）にフィードバックすることにより適切なアーク熱が
発生でき、これに・よって高品質なインゴットが製造で
きるとともに安定して効率の良い操業が可能となる。
ーク光を除去して放射輝度を通過させる赤外線透過フィ
ルタ２１を設け、撮像装置２０からの放射輝度のビデオ
信号から温度分布を求める構成としたので、アーク溶解
中に溶解金属、特に各電極１１．１２の先端における落
下直前の溶解金属の温度分布がアーク光の影響を受けず
に正確に測定できる。そして、この温度分布測定にあっ
ては、撮像装置２ｏが視野ｆを有しているので、各電極
１１．１２に温度勾配があったり、また移動したとして
も常に正確に測定できる。したがって、この温度分布情
報や各種操作条件（電流、電圧など）を主制御部（不図
示）にフィードバックすることにより適切なアーク熱が
発生でき、これに・よって高品質なインゴットが製造で
きるとともに安定して効率の良い操業が可能となる。
第６図は温度分布情報を電極電流制御部４１゜４２にフ
ィードバックして各電極１１，１２の゛電流を制御する
場合の構成図である。
ィードバックして各電極１１，１２の゛電流を制御する
場合の構成図である。
なお、本発明は上記一実施例に限定されるものではない
。例えば第７図に示すように撮像装置５０は２次元像の
撮像装置（シリコン・ビジコン、二次元固体撮像装置等
）を用いて偏度制御装置５１により各電極の温度分布を
求めて表示部５２で表示させるようにしてもよい。また
、ＶＡＤＥＲ法によるアーク溶解装置に対して適用して
もよい。
。例えば第７図に示すように撮像装置５０は２次元像の
撮像装置（シリコン・ビジコン、二次元固体撮像装置等
）を用いて偏度制御装置５１により各電極の温度分布を
求めて表示部５２で表示させるようにしてもよい。また
、ＶＡＤＥＲ法によるアーク溶解装置に対して適用して
もよい。
〔発明の効果〕−
以上詳記したように本発明によれば、オンラインで被溶
解材の温度分布が測定できる温度分布測定装置を提供で
きる。
解材の温度分布が測定できる温度分布測定装置を提供で
きる。
第１図は本発明に係る温度分布測定装置の一実施例を示
す構成図、第２図は本発明装置の具体的な構成図、第３
図はアークおよび黒体の分光放射特性の相対的比較を示
す図、第４図はマルチチャンネル分光器の分光感度を示
す図、第５図は本発明装置の温度分布測定結果を示す図
、第６図および第７図は本発明装置の変形例を示す図、
第８図および第９図はアーク溶解法による装置の構成図
である。 １０−・・真空容器、Ｉ Ｊ 、 １２−・・電極、２
０・・・撮像装置、２１・・・光学フィルタ、２２・・
・レンズ、２３・・・センサ、３０・・・温度制御装置
、３６−・・温度変換演算部、４０−・・表示部。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 音第３図 ０，４ Ｑ５ ０．６ Ｑ７ ０．８ Ｑ９
１．０波４１ｃ （Ｍｍ） 第 ４ 図 ０．４ ０．５ ０．６ ０７ Ｑ８ ０．９ １０
夜 番 第 ５ 図 第 ６ 図 第 ８ 図 第 ９ 図
す構成図、第２図は本発明装置の具体的な構成図、第３
図はアークおよび黒体の分光放射特性の相対的比較を示
す図、第４図はマルチチャンネル分光器の分光感度を示
す図、第５図は本発明装置の温度分布測定結果を示す図
、第６図および第７図は本発明装置の変形例を示す図、
第８図および第９図はアーク溶解法による装置の構成図
である。 １０−・・真空容器、Ｉ Ｊ 、 １２−・・電極、２
０・・・撮像装置、２１・・・光学フィルタ、２２・・
・レンズ、２３・・・センサ、３０・・・温度制御装置
、３６−・・温度変換演算部、４０−・・表示部。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 音第３図 ０，４ Ｑ５ ０．６ Ｑ７ ０．８ Ｑ９
１．０波４１ｃ （Ｍｍ） 第 ４ 図 ０．４ ０．５ ０．６ ０７ Ｑ８ ０．９ １０
夜 番 第 ５ 図 第 ６ 図 第 ８ 図 第 ９ 図
Claims (3)
- （１）アークを発生しこのアーク熱により被溶解材を溶
解させるアーク溶解装置において、前記被溶解材の輝度
を検出する輝度検出器と、この輝度検出器に設けられア
ーク光成分を除去して前記被溶解材の放射輝度成分を通
過させる光学フィルタと、前記輝度検出器から出力され
る前記放射輝度成分の検出信号を受けて前記被溶解材の
温度分布を演算し求める温度演算手段とを具備したこと
を特徴とする温度分布測定装置。 - （２）輝度検出器は、複数の光電変換素子を１次元また
は２次元のうちいずれか一方で配列した特許請求の範囲
第（１）項記載の温度分布測定装置。 - （３）光学フィルタは、赤外線透過フィルタを用いる特
許請求の範囲第（１）項記載の温度分布測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60071361A JPS61230033A (ja) | 1985-04-04 | 1985-04-04 | 温度分布測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60071361A JPS61230033A (ja) | 1985-04-04 | 1985-04-04 | 温度分布測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61230033A true JPS61230033A (ja) | 1986-10-14 |
Family
ID=13458278
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60071361A Pending JPS61230033A (ja) | 1985-04-04 | 1985-04-04 | 温度分布測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61230033A (ja) |
-
1985
- 1985-04-04 JP JP60071361A patent/JPS61230033A/ja active Pending
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