JPS6122598A - 薄膜発光素子 - Google Patents

薄膜発光素子

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JPS6122598A
JPS6122598A JP59141980A JP14198084A JPS6122598A JP S6122598 A JPS6122598 A JP S6122598A JP 59141980 A JP59141980 A JP 59141980A JP 14198084 A JP14198084 A JP 14198084A JP S6122598 A JPS6122598 A JP S6122598A
Authority
JP
Japan
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light emitting
thin film
transparent electrode
film light
emitting element
Prior art date
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Pending
Application number
JP59141980A
Other languages
English (en)
Inventor
由紀雄 井手
大沼 照行
喜之 影山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、エレクトロルミネセンスELと称される薄膜
発光素子に関する。
従来技術 一般に、この種の°薄膜発光素子は、ガラス基板上に透
明電極1発光層及び金属電極を順次設け、両電極間に交
流電圧を印加することにより発光層から発光させるもの
である。
ここに、従来にあっては、透明電極をITO(Indi
um  Tin  0xide ) 、 5nOz 、
 SnO2: Sb、Ti0z/Ag/Ti0z等の酸
化物半導体により形成しているものである。このような
材料による透明電極の場合、次のような欠点を有する。
ます、透明基板としてはガラス板が一般的に用いられる
が、このガラス板に含まれるアルカリイオン(Na”、
に+等)が容易に透明電極中に拡散してアクセプタ準位
を形成する。この結果、ドナーは捕捉されて透明電極の
導電率が低下することになる。従って、薄膜発光素子と
してその発光効率が低下してしまう。又、このような導
電率の低下は一様でなくムラを生ずるため、場所によっ
て特性に差を生ずることになる。特に、大面積化した場
合にはこのような不均一性が顕著になり、十分な導電率
が得られず、透明電極の長さの差により所望部分の実効
電圧に差が生ずるものである。
結局、酸化物半導体透明電極による場合、耐久性、耐環
境性が悪いため、デバイスとしての薄膜発光素子の機能
を低下させてしまうものである。
又、近年にあってはアモルファ・スシリコンa−3iが
注目されており、a−8iを主としたa−8i:C:H
を発光層として用いる薄膜発光素子もある。このa−8
i:C:H層による場合、プラズマCVD法等の還元雰
囲気下で作製することが多い。つまり、a−8i:C:
H層が透明電極上又は絶縁層上に形成されるものである
が、この時、従来のようにITO等の酸化物半導体によ
る透明電極であると、還元されて、In、Sn等が発光
層や絶縁層中に拡散して、発光特性を低下させてしまう
ことにもなる。
目的 本発明は、このような点に鑑みなされたもので、耐久性
、耐環境性に優れた透明電極を備え、発光効率の向上が
可能な特性の安定した薄膜発光素子を得ることを目的と
する。
構成 本発明は、上記目的を達成するため、透明電極を錫Sn
,鉛Pb、インジウムInから選択した元素と、炭素C
2窒素N、硫黄Sから選択した元素とにより形成したこ
とを特徴とするものである。
以下1本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。第
1図は、薄膜発光素子の基板構成を示すもので、ガラス
基板1上に透明電極2.絶縁層3゜発光層4、絶縁層5
、AQによる金属電極6が順次積層形成されている。こ
こに、絶縁層3,5はSi3N、↓により形成され、発
光層4はa−8i:C:Hにより形成されている。これ
により、電極2,6間に交流電源7により交流電圧をか
けた時、その電界によって発光層4から発光を生ずるも
のである。
しかして1本実施例では、透明電極2を酸素を含まない
還元性透明導電膜として形成するものである。その構成
元素として、錫S r3.鉛Pb、インジウムInから
選択した元素と、炭素C2窒素N、硫黄Sから選択した
元素とにより構成するものである。従って。
5nxCr−x、5nxNt−x、5nxSt−x。
PbxCz−x、PbxNt−x、PbxSt−x。
InxC1−x、InxNt−x、Inx5t−x等を
基本材料として構成される。なお、いずれも0 < x
 < 1である。そして、必要に応じて水素Hを含むこ
れらの水素化物が用いられる。即ち、Sn xCt−x
:H,Sn XN 1−X:H,Sn x S t−x
:H。
Pb xCt−x:H,pb XN 1−X:H,Pb
 x S t−x:H。
In XCl−X:H,In xN 1−x:H,In
 x S t−x:Hである。更に、導電性のコントロ
ールのために。
必要に応じてIPPIII〜20原子%の範囲で、周期
律表1[1a族(B、AQ、Ga、I n、TQ)又は
周期律表Va族(N、P、As、S b、B i)のい
ずれかの元素を不純物として含有させてもよい。
このような透明電極2を備えることにより、酸素を含ま
ない還元性のものであるため、ガラス基板1に含まれる
アルカリイオンが透明電極2に対して拡散しにくい。従
って、透明電極2の導電率が低下することがなく、耐久
性、耐環境性に優れたものとなる。この結果、薄膜発光
素子として、その発光効率が向上することになり、デバ
イスの信頼性が向上する。又、大面積化を図っても透明
電極2の導電率が場所によってムラ、バラツキを生ずる
ことがなく、素子全面にわたって均一な特性を維持する
ことができ、デバイスの大面積化にも対応できるもので
ある。
又、本実施例のようにSi3N4による絶縁層3.5や
a−8i:C:Hによる発光層4の場合、プラズマCV
D法で成膜されるのが一般的であるが、透明電極2が酸
素を含まない還元性のものであるため、プラズマCVD
法による還元雰囲気下においても還元されることがない
。従って、絶縁層3,5や発光層4へのSn、Pb、I
nの拡散は極めて少なく、特性を劣化させることはない
ものである。ちなみに、作製した膜の透明電極2と絶縁
層3との界面をオージェ電子分光法で分析したところ、
絶縁層3へのPb等の拡散は極めて少なかったものであ
る。
ところで、本実施例における透明電極2の作製方法とし
ては、CVD法、プラズマCVD法、光CVD法、反応
性スパッタリング法等が有効である。
特に、プラズマCVD法によるのが有効である。
この場合、S n(CH3)4,5n(Cz H5)4
 。
5n(C3H7)74,5nCCa H9)41 Pb
(C2H5)4.Pb(C4H9)4 、I n(CH
:+)3゜I n(Cz H5)3 、  I n(C
:+ 87)3 、  I n(C4H9)3等の有機
金属化合物を、適当なキャリアガスHe、At、H2、
N2等で希釈導入し、同時に、炭素含有ガス(CH−s
 、 C:2 Ha 、 C3)1a 、 C2H4、
C2H2に代表される炭化水素系ガス等)、窒素含有ガ
ス(N2 、NH3等)。
硫黄含有ガス(H2S等)の中から選択される適当なガ
スを1種以上使用したプラズマCVD法がとられる(こ
こでは、5nxC1−x:H等の水素イーを想定してい
る)。作製される透明電極2の膜厚は50〜10000
オングストロームが好適である。
第2図は、このプラズマCVD法を実施するためのプラ
ズマCVD装置の概略を示すものである。
8は反応容器であり、対向電極9.10が上下に設けら
れ、ガラス基板1は電極10にセットされることになる
。そして、この反応容器8内にはバブラー】1内の有機
金属化合物がガスボンベ12からのキャリアガス、ガス
ボンベ13からの炭素含有ガス等とともに導入される。
14は流量計、15は圧力計である。このとき、電極9
,10間には高周波電源16により高周波電圧が印加さ
れ。
高周波グロー放電が生じ、そのプラズマ中で原料ガスが
分解さ九、ガラス基板1に透明電極2が成膜されること
になる。なお、この成膜処理中、真空ポンプ17により
排気され1反応容器8内は所定圧力に維持される。
なお、本実施例では、発光層4をa−8i:H膜による
ものについて説明したが、その他、例えばZnS系によ
るもの等であってもよい。
本実施例による薄膜発光素子は、光電相互変換デバイス
、光通信デバイス等に応用できる。
効果 本発明は、上述したように錫Sn,釦pb、インジウム
Inから選択した元素と、炭素C1窒素N、硫黄Sから
選択して元素とにより形成された透明電極を備えた薄膜
発光素子としたので、透明電極の特性が安定しておりそ
の導電率の低下がなく耐久性、耐環境性に優れたものと
なるため、薄膜発光素子としてもその発光効率が向上し
、デバイスの信頼性が高いものとなり、又、大面積化し
ても特性の安定したものとすることができ、更には、発
光層がプラズマCVD法等による還元雰囲気下で作製さ
れものに対しても特性を劣化させることがないものであ
る。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の一実施例を示すもので、第1図は薄膜発
光素子の構成図、第2図はプラズマCVD装置の概略構
成図である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.透明基板上に透明電極,発光層,金属電極を順次設
    け、前記電極間に交流電圧を印加して前記発光層から発
    光させる薄膜発光素子において、前記透明電極を錫Sn
    ,鉛Pb,インジウムInから選択した元素と、炭素C
    ,窒素N、硫黄Sから選択した元素とにより形成したこ
    とを特徴とする薄膜発光素子。
  2. 2.透明電極が、水素Hを含むことを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の薄膜発光素子。
  3. 3.透明電極が、周期律表IIIa族又はVa族から選択
    した元素を含むことを特徴とする特許請求の範囲第1項
    又は第2項記載の薄膜発光素子。
JP59141980A 1984-07-09 1984-07-09 薄膜発光素子 Pending JPS6122598A (ja)

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JP59141980A JPS6122598A (ja) 1984-07-09 1984-07-09 薄膜発光素子

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63318995A (ja) * 1987-06-24 1988-12-27 松下電器産業株式会社 洗濯機の負荷量検知装置

Cited By (1)

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