JPS61222100A - 半導体メモリの試験方法 - Google Patents

半導体メモリの試験方法

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JPS61222100A
JPS61222100A JP60064568A JP6456885A JPS61222100A JP S61222100 A JPS61222100 A JP S61222100A JP 60064568 A JP60064568 A JP 60064568A JP 6456885 A JP6456885 A JP 6456885A JP S61222100 A JPS61222100 A JP S61222100A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cell
test
cells
memory
test pattern
Prior art date
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Pending
Application number
JP60064568A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsutomu Yamazaki
勉 山崎
Tetsuo Takezaki
竹崎 鉄夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
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Publication of JPS61222100A publication Critical patent/JPS61222100A/ja
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  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明は半導体メモリの試験方法に関し、特にはデー
タの書込み及び読出し時におけるメモリセル間の干渉に
よる不良を検査する方法に関する。
/を叩の脛興) この発明は、メモリセルの幾何学的配置に注目して、特
定の注目セルに対してその注目セルを取り囲む隣接メモ
リセルとの間でデータの書込み読出しを行ない、マトリ
ックス配置の各メモリセルを順次注目セルに設定して、
同様のメモリ動作を繰り返すことに□よって半導体メモ
リを試験して不良メモリを検出する。
〈従来の技術〉 半導体集積回路で構成されたランダムアクセスメモリ(
DRAM)は、装置を完成する過程でメモリ容量Nビッ
トの各ビットが正常に動作するか否かが試験される。こ
のような不良モードを効率よく検出するために従来から
種々のパターンが考案されているが、その中でも代表的
なパターンとしてはN系、N 系及びN−V2系等の各
種試験パターンが提案されている。
即ちN系は、例えばNビット全てにデータを書き込んだ
後、Nビットの内容を読出すことによって不良を検出す
る。この場合テストパターン長はN+N=2Nとなり、
データをして@O″及び″l″の2通りを実行するとし
ても4Nになる。
次にN2系は、あるビットを固定し、その固定ビットと
残りの(N−1)ビットとの間で読み書きを繰返して実
行する。例えばあるビットを01として残りをC2r 
C3・・・cNとすると、ビットC1のデータを読み続
いてピッ)C2を読み出しだ後再びビットC1を読み、 C,→C2→C1→C3・・・・・→CN−1→C1→
cNのように固定ビットに戻りながら読み出しを実行す
る。従って固定ビットに対して(N+N−1)回の動作
を実行し、固定ビットをC1〜cNまで順次変えてゆく
ことにより、総テストパターン長はN(N+N−1)=
2N  −Nとなる。
旦 更にN2系は、N 系における固定ビットとのデータの
読み書きを実行するメモリセルを、正方形の一辺のみに
固定して行なう試験パターンで、このときのテストパタ
ーン長はN (婿+籍−1)=2N暑−Nになる。
〈発明が解決しようとする問題点〉 提案されている上述のような試験パターンでテストする
場合、メモリセル間におけるデータの相互干渉等による
不良を厳密に検査するパターンとしては、N 系或いは
NF2系が望ましい。
しかしながら例えば上記N2系を使用した場合、64K
DRAMのパターンでは、サイクルタイムを500ns
とすると t=(2x6ssasx2sa−65536)X500
〜16.7秒 旦 となる。またN2系の代表的な試験パターンであるスラ
イディングダイアゴナルを例にとると、256にビット
のDRAMではN=262,144であす、従ってテス
トパターン長は(4N2+7N2)X2岬1.074X
 10  となる。同様にサイクルタイムt=500n
sとすると1つの半導体メモリをテストするために約9
分の時間を要することになり、実用的とはいえず、近年
のように半導体メモリの大容量化が進むに伴って短時間
で且つ不良検出率の高い試験パターンが望まれていた。
〈問題点を解決するための手段〉 半導体メモリに生じるデータのセル間干渉は大部分の場
合隣接セル間で起っている。従ってこの発明は、セルを
取り囲む近接セルとの幾何学的関係に注目し、1つのメ
モリセルとその周囲に位置するセルに限定してその間で
、中心部のメモリセルを一方の相手とし周囲の複数のメ
モリセルを他方の相手としてデータの書込み読出しを行
なうビンボンパターンを採る試験方法である。
〈作 用〉 最もデータのセル間干渉の起り易い幾何学的に隣接した
メモリセル間でテストを実行するため、不良の検出率を
損うことがなく、その1各ビットに対しては周辺ビット
とのピンポンパターンで済むためテストパターン長とし
ては27Nx2=54Nとなり、256KDRMではt
=500nsとすれば約130m5でテストを実行する
ことができる。
〈実施例〉 第1図は、従来から実用化されている半導体基板に形成
されたダイナミックRAMの模式図で直交するビット線
B 1 + B 2・・・とワード線w1.w2・・・
に対してメモリセルC1jが形成されている。該メモリ
セルC1jの作成にあたっては、半導体基板の利用率を
高めて集積化を図るために、図に示す如く、幾何学的に
同一列に配置された。メモリセルci1〜ciぎ は、
電気的には隣接するセル間で異なるビット線に交互に接
続される。このような配置構造を採る半導体メモリにお
いて、1つの注目セルC33を設定すると、該注目セル
C33を取り囲む隣接セルとしては周囲に8個のメモリ
セルC22゜C23*C24tC32、ca4ec42
 +C43tc44 が存在する。
尚上記8個のメモリセルと注目セルCaaとの関係は幾
何学的には第1図に示すような隣接関係になるが、ビッ
ト線との電気的な接続関係からみれば注目セルC33と
8個の周辺メモリセルCとの関係は第2図に示すような
関係になり、メモリセルC22とメモリセルC24につ
いては一見隣接関係にないかのように見える。しかし幾
何学的な位置関係については第1図に示すように隣接関
係にあり、従って次に説明するデータのセル間干渉のテ
スト実行にあたっては、注目セルC33に対して8個の
メモリセルC22+ C23+C24+C325C34
+C42+C43+ C44を隣接セルとして干渉試験
を実行する。
上記9個のメモリセルC22〜C24IC32〜C34
゜C42〜C44を挙げてテスト工程を次に説明する。
■ まずテストを実行するにあたって、容量Nビットの
半導体メモリにバックグランドとしてのデータ1D′を
書込む。
■ 選択した9個のセルの内、中央に位置するメモリセ
ルC33を注目セルとしてデータ”D”を書込む。
■ 周囲のセル群の1つのメモリセルC23にデータ”
D″を書込む。
■ 上記注目セルC33のデータ“D”を読む。
■ 周辺メモリセルC23に書込まれた上記データ“D
”を読む。
■ 注目セルC33を固定したまま周囲メモリセルをC
245C34+C44+C43+C42yc32 +C
22に順次変えて上記テスト工程■、■及び■を繰返し
実行する。
■ 上記各周囲メモリセルとの間でデータの読出/書込
みを実行した後注目セルC33にバックグランドと同じ
内容のデータ“D”を書込む。
■ 注目セルを順次変えてNビットの夫々を注目セルに
設定しながら上記テスト工程■〜■を実行する。
■ バックグランドをデータ1D″に変えて上記テスト
工程■〜■を実行する。
上記テスト工程■〜■を実行することによって、半導体
メモリを構成するNビットの夫々について、隣接するメ
モリセル間でデータ干渉が生じている場合にはテスト実
行過程で検出することができ、半導体メモリの良、不良
を検出することができる。
上記実施例の如く隣接セルに注目したテスト工程■〜■
では、テストパターン長は、27NX2=54Nとなり
、例えばサイクル時間t=500nsをもつ256KD
RAMを対象としたテストでは所要時間は約130m5
となる。
旦 尚N2系のテストパターンを利用した場合には上述のよ
うに約9分のテスト時間を要したが、本実施例では約1
80m5に過ぎない。
本実施例では干渉が最も支配的となる隣接セルの関係を
選んでテストしているため、所要時間の割には信頼でき
るテスト結果を得ることができる。
〈発明の効果〉 以上本発明によれば、不良検出の確率をほとんど低下さ
せることなくテスト時間の短縮を図ることができ、半導
体メモリの集積度の上昇に対応した簡易な試験方法を得
ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による一実施例を説明するための半導体
メモリの模式図、第2図は同半導体メモリの各セルを電
気的な関係から配置した図である。 B1〜B4 :ビット線 W1〜W5 :ワード線ci
i〜C55:メモリセル C33:注目セル C22゜
C23+C24+C32+C34rc42 +C43+
C44’周辺メモリセル 代理人 弁理士 福 士 愛 彦(他2名)−〜   
 つ     1! 〜   鳴  領   哨 δG” cc4Q:la34

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)Nビットメモリセルがマトリックスに配置された半
    導体メモリを試験する方法において、メモリセルの1つ
    を注目セルに設定し、 該注目セルを一方の相手とし注目セルを取り囲む幾何学
    的に隣接するメモリセルを他方の相手として、他方の相
    手を順次変化させながらデータの書込み読出しを実行し
    、 半導体メモリの各メモリセルを順次注目セルとして上記
    データの書込み読出しを行うことを特徴とする半導体メ
    モリの試験方法。
JP60064568A 1985-03-26 1985-03-26 半導体メモリの試験方法 Pending JPS61222100A (ja)

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JPS61222100A true JPS61222100A (ja) 1986-10-02

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007055068A1 (ja) * 2005-11-14 2007-05-18 Mitsubishi Electric Corporation メモリ診断装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007055068A1 (ja) * 2005-11-14 2007-05-18 Mitsubishi Electric Corporation メモリ診断装置
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