JPS61218817A - 微粒子流の流れ制御装置 - Google Patents

微粒子流の流れ制御装置

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JPS61218817A
JPS61218817A JP60225977A JP22597785A JPS61218817A JP S61218817 A JPS61218817 A JP S61218817A JP 60225977 A JP60225977 A JP 60225977A JP 22597785 A JP22597785 A JP 22597785A JP S61218817 A JPS61218817 A JP S61218817A
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JP
Japan
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chamber
contraction
particles
downstream
flow
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Pending
Application number
JP60225977A
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English (en)
Inventor
Yuji Chiba
千葉 裕司
Kenji Ando
謙二 安藤
Tatsuo Masaki
正木 辰雄
Masao Sugata
菅田 正夫
Kuniji Osabe
長部 国志
Osamu Kamiya
神谷 攻
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 し産業上の利用分野] 本発明は、微粒子の移送手段や吹き付は手段等として利
用される微粒子流の流れ制御装置に関するもので、例え
ば、微粒子による、成膜加工、複合素材の形成、ドーグ
加工、または微粒子の新たな形成場等への応用が期待さ
れるものである。
本明細書において、微粒子とは、原子、分子、超微粒子
及び一般微粒子をいう。ここでB微粒子とは、例えば、
気相反応を利用した、ガス中蒸発法、プラズマ蒸発法、
気相化学反応法、更には液相反応を利用した。コロイド
学的な沈殿法、溶液噴霧熱分解法等によって得られる。
超微細な(一般には0.5 pm以下〕粒子をいう。一
般微粒子とは、機械的粉砕や析出沈殿処理等の一般的手
法によって得られる微m村子をいう。また、ビームとは
、流れ方向に断面績がほぼ一定の噴流のことをいい、そ
の断面形状は問わないものである。
し従来の技術] 一般に微粒子は、キャリアガス中に分散浮遊されて、キ
ャリアガスの流れによって移送されている。そして、移
送された微粒子は、受体で受けられて1例えば成膜状態
で受体上に捕集される。
従来、上記微粒子の移送に伴う微粒子の流れ制御は、上
流側と下流側の差圧によって、キャリアガスと共に流れ
る微粒子の全流路を、管材又は筐体で区画することによ
って行われているに過ぎない。従って、微粒子の流れは
、その強弱はあるものの必然的に、微粒子の流路を区画
する管材又は筐体内全体に分散した状態で生ずることに
なる。
また、微粒子を受体へ吹き付ける場合等においては、ノ
ズルを介してキャリアガスと共に微粒子を噴出させるこ
とが行われている。この微粒子の吹き付けに用いられて
いるノズルは、単なる平行管又は先細ノズルで、確かに
噴出直後の微粒子の噴流断面はノズル端目面の面積に応
じて絞られる。しかし、噴流はノズルの出口面で拡散さ
れるので、単に一時的に流路を絞っただけのものに過ぎ
ず、また噴流の速度が音速を越えることはない。
[発明が解決しようとする問題点] ところで、微粒子の全流路を管材又は筐体で区画し、上
流側と下流側の差圧によって、この流路に沿ってキャリ
アガスと共に微粒子を移送するのでは、それほど高速の
移送速度は望み得ない。また、微粒子の流路を区画する
管材や筐体の壁面と微粒子の接触を、全移送区間に亘っ
て避は難い。
このため、特に活性を有する微粒子をその捕集位置まで
移動させる際に、経時的活性の消失や、管材や筐体の壁
面との接触による活性の消失を生みやすい問題がある。
また、管材や筐体で微粒子の全流路を区画したのでは、
流れのデッドスペースの発生等によって、移送微粒子の
捕集率が低下したり、キャリアガスの微粒子移送への利
用効率も低下する。
一方、従来の平行管や先細ノズルは、流過した噴流内の
微粒子の密度分布が大きい拡散流となる。従って、微粒
子を基体へ吹き付ける場合等において、均一な吹き付は
制御が行い難い問題がある。また、均一な吹き付は領域
の制御も困難である。
[問題点を解決するための手段J 上記問題点を解決するために講じられた手段を1本発明
の基本原理の説明図である第1図で説明すると、流路に
縮小拡大ノズル1を設け、この縮小拡大ノズルlの下流
側に、移動可能に受体6を設けた微粒子流の流れ制御装
置とすることによって上記問題点を解決したものである
本発明における縮小拡大ノズル1とは、流入口1dから
中間部に向って徐々に開口面積が絞られてのど部2とな
り、こののど部2から流出口1bに向って徐々に開口面
積が拡大されているノズルをいう。第1図においては、
説明の便宜上、縮小拡大ノズル1の流入側と流出側は、
各々密閉系であるJ:流室3と下流室4に連結されてい
る。しかし、本発明における縮小拡大ノズルlの流入側
と流出側は1両者間に差圧を生じさせて、下流側で排気
しつつキャリアガスと共に微粒子を流過させることがで
きれば、密閉系であっても開放系であってもよい。
[作 用] 例えば第1図に示されるように、上流室3内に微粒子を
分散含有させたキャリアガスを供給する一方、下流室4
内を真空ポンプ5で排気すると、に流室3と下流室4間
に圧力差を生じる。
従って、供給された全粒子を含むキャリアガスは、上流
室3から縮小拡大ノズルlを流過して下流室4へと流入
することになる。
縮小拡大ノズル1は、」波流室3の圧力P。と′F上流
室4圧力Pの圧力比P/Poと、のど部2の開口面wi
A’と流出口1bの開口面積Aとの比A/A”とを調節
することによって、キャリアガスと共に噴出する微粒子
の流れを高速化できる。そして、上流室3と下流室4内
の圧力比P/Poが臨界圧力比より大きければ、縮小拡
大ノズル1の出口流速が亜音速以下の流れとなり、キャ
リアガスと共に微粒子は減速噴出される。また、上記圧
力比が臨界圧力比以下であれば、11小拡大ノズル1の
出口流速は[音速流となり、キャリアガスと共に微粒子
を超音速にて噴出させることができる。
ここで、微粒子流の速度をU、その点における音速をa
、微粒子流の比熱比をγとし、微粒子流を圧縮性の一次
元流で断熱膨張すると仮定すれば、微粒子流の到達マツ
ハ数Mは、ト流室の圧力Poと下流室の圧力Pとから次
式で定まり、特にP/P、が臨界圧力比以下の場合1M
は1以上となる。
尚、音速aは局所温度をT、気体定数をRとすると、次
式で求めることができる。
a=E71Uf また、流出ロ1b開ロ面積A及びのど部2の開口面積A
”とマツハ数Mには次の関係がある。
従って、上流室3の圧力Paと下流室4の圧力Pの圧力
比P/Poによって(1)式から定まるマツハ数Mに応
じて開口面積比A/A’を定めたり、A/A”によって
(2)式から定まるMに応じてP/POを調整すること
によって、拡大縮小ノズルlから噴出する微粒子を適正
膨張流として噴出させることができる。
このときの微粒子流の速度Uは、次の(3)式によって
求めることができる。
前述のような圧力比が臨界圧力比未満の噴出においては
、噴出されるキャリアガスと微粒子は均一な拡散波とな
り、比較的広いi囲に亘って一度に均一に微粒子を吹き
付けることが可能となる。
前述のような超音速の適正膨張流としてキャリアガスと
共に微粒子を一定方向へ噴出させると、キャリアガスと
微粒子は噴出直後の噴流断面をほぼ保ちながら直進し、
ビーム化される。従って、このキャリアガスによって運
ばれる微粒子の流れもビーム化され、最小限の拡散で下
流室4内の空間中を、下流室4の壁面との干渉のない空
間的に独立状態で、かつ超音速で移送されることになる
このようなことから、縮小拡大ノズルl内又はその付近
で微粒子を形成したり活性化して、これをそのままビー
ム化移送すれば、超音速による、しかも空間的に独立状
態にあるビームとして移送することができ1例えば下流
室4内に設けた受体6上に付着捕集することができる。
従って、良好な活性状態のまま微粒子を捕集することが
可能となる。また、噴流断面が流れ方向にほぼ一定のビ
ームとして微粒子が基板6上に吹き付けられるので、こ
の吹き付は領域を容易に制御できるものである。
一方、本発明においては、受体6が移動可能に設けられ
ているので、微粒子流を受けながら受体6を上下又は左
右に移動させれば、ビーム化した流れとして微粒子が移
送されて来る場合でも、任意の範囲に微粒子を受けるこ
とができる。また。
受体6を前後に移動させれば、m不拡大ノズルlから噴
出される微粒子を受けるタイミングを調節することがで
き、例えばドープ加工を施すときの微粒子の衝突力等を
調整できる。尚、本発明における受体6の移動は、上記
上下、左右、前後への移動の他、回転、傾動等であって
もよい。
[実施例コ 第2図は本発明を超微粒子による成膜装置に利用した場
合の一実施例の概略図で、図中1は縮小拡大ノズル、3
は上流室、4aは第一下流室、 4bは第二下流室であ
る。
上流室3と第一下流室4aは、一体のユニットとして構
成されており、第一下流室4aに、やはり各々ユニット
化されたスキマー7、ゲートバルブ8及び第二下流室4
bが、全て共通した径のフランジ(以下「共通フランジ
」という)を介して、相互に連結分層可能に順次連結さ
れている。上流室3、第一下流室4a及び第二下流室4
bは、後述する排気系によって、上流室3から第二下流
室4bへと、段階的に高い真空度に保たれているもので
ある。
上流室3の一側には、共通フランジを介して気相励起装
置9が取付けられている。この気相励起装置9は、プラ
ズマによって活性なMi微粒子を発生させると共に、例
えば水素、ヘリウム、アルゴン、窒素等のキャリアガス
と共にこの超微粒子を、対向側に位置する縮小拡大ノズ
ルlへと送り出すものである。送り出された超微粒子が
、上流室3の内面に付着しないよう、上流室3の内面に
付着防止処理を施しておいてもよい。
気相励起装置9は、第3図(a)に示されるように、棒
状の第一電極9aを管状の第二電極sb内に設け、第二
電極9a内にキャリアガスと原料ガスを供給して、両電
極9a、 9b間で放電させるものとなっている。また
、気相励起装置9は、第3図(b)に示されるように、
第二電極9b内に設けられている第一電極9aを多孔管
として、第一電極8a内を介して両電極9a、 9b間
にキャリアガスと原料ガスを供給するものとしたり、同
(C)に示されるように。
半割管状の両電極9a、 9bを絶縁材8Cを介して管
状に接合し、両電極9a、 9bで形成された管内にキ
ャリアガスと原料ガスを供給するものとすることもでき
る。
上記気相励起装置9から送り出された超微粒子は、縮小
拡大ノズルlへと流入して第一下流室4aへ噴出される
ことになる。
縮小拡大ノズルlは、第一下流室4aの上流室3側の側
端に、上流室3に流入口1aを開口させ、第一下流室4
aに流出口1bを開口させて、上流室3内に突出した状
態で、共通フランジを介して取付けられている。但しこ
の縮小拡大ノズルlは、第一下流室4a内に突出した状
態で取付けるようにしてもよい。縮小拡大ノズル1をい
ずれに突出させるかは、移送する超微粒子の大きさ、量
、性質子に応じて選択すればよい。
縮小拡大ノズルlとしては、前述のように、流入口1a
から徐々に開口面積が絞られてのど部2となり、再び徐
々に開口面積が拡大して流出口1bとなっているもので
あればよいが、第4図(a)に拡大して示しであるよう
に、流出口1b位置で内周面が中心軸に対してほぼ平行
になっていることが好ましい、これは、噴出されるキャ
リアガス及び超微粒子の流れ方向が、ある程度流出口1
b内周面の方向によって影響を受けるので、できるだけ
平行流にさせやすくするためである。しかし、第4図(
b)に示されるように、のど部2から流出口1bへ至る
内周面の中心軸に対する角度αを、7°以下好ましくは
5°以下とすれば、剥離現象を生じに<<、噴出するキ
ャリアガス及び超微粒子の流れはほぼ均一に維持される
ので、この場合はことさら上記のように平行にしなくと
もよい。平行部の形成を省略することにより、縮小拡大
ノズルlの作製が容易となる。また、縮小拡大ノズルl
を第4図(C)に示されるような矩形のものとすれば、
スリット状にキャリアガス及び超微粒子を噴出させるこ
とができる。
ここで、前記剥離現象とは縮小拡大ノズルlの内面に突
起物等があった場合に、縮小拡大ノズルlの内面と流過
流体間の境界層が大きくなって、流れが不均一になる現
象をいい、噴出流が高速になるほど生じやすい、前述の
角度αは、この開離現象防止のために、縮小拡大ノズル
1の内面仕上げ精度が劣るものほど小さくすることが好
ましい。縮小拡大ノズルlの内面は、JIS B 06
01に定められる、表面仕上げ精度を表わす逆三角形マ
ークで三つ以上、最適には四つ以上が好ましい。特に、
縮小拡大ノズルlの拡大部における開離現象が、その後
のキャリアガス及び超微粒子の流れに大きく影響するの
で、上記仕上げ精度を、この拡大部を重点にして7める
ことによって、縮小拡大ノズルlの作製を容易にできる
。また、やはり剥離現象の発生防止のため、のど部2は
滑らかな湾曲面とし、断面積変化率における微係数が(
1)とならないようにする必要がある。
縮小拡大ノズル1の材質としては1例えば鉄、ステンレ
ススチールその他の金属の他、アクリル樹脂、ポリ塩化
ビニル、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン
等の合成樹脂、セラミック材料、石英、ガラス等、広く
用いることができる。この材質の選択は、生成される超
微粒子との非反応性、加工性、真空系内におけるガス放
出性等を考慮して行えばよい。また、縮小拡大ノズルl
の内面に、超微粒子の付着・反応を生じにくい材料をメ
ッキ又はコートすることもできる。具体例としては、ポ
リフッ化エチレンのコート等を挙げることができる。
縮小拡大ノズルlの長さは、装置の大きさ等によって任
意に定めることができる。ところで、縮小拡大ノズル1
を流過するときに、キャリアガス及び超微粒子は、保有
する熱エネルギーが運動エネルギーに変換される。そし
て、特に超音速で噴出される場合、熱エネルギーは著し
く小さくなって過冷却状態となる。従って、キャリアガ
ス中に凝縮成分が含まれている場合、上記過冷却状態に
よって積極的にこれらを凝縮させ、これによってa微粒
子を形成させることも可能である。これによる超微粒子
の形成は、均質核形成であるので、均質な超微粒子が得
やすい。また、この場合、十分な凝縮を行うために、縮
小拡大ノズル1は長い方が好ましい、一方、上記のよう
な凝縮を生ずると、これによって熱エネルギーが増加し
て速度エネルギーは低下する。従って、高速噴出の維持
を図る上では、縮小拡大ノズル1は短い方が好ましい。
上流室3の圧力POと下流室4の圧力Pの圧力比P/P
Oと、のど部2の開口面積A”と流出口1bの開口面積
との比A/A”との関係を適宜に調整して、上記縮小拡
大ノズル1内を流過させることにより、超微粒子を含む
キャリアガスはビーム化され、第一下流室4aから第二
下流室4bへと超高速で流れることになる。
スキマー7は、第二下流室4bが第一下流室4aよりも
上の高真空度を保つことができるよう、第一下流室4a
と第二下流室4bとの間の開口面積を調整できるように
するためのものである。具体的には、第5図に示される
ように、各々く字形の切欠部10.10’を有する二枚
の調整板11.11’を、切欠部10.10  を向き
合わせてすれ違いスライド可能に設けたものとなってい
る。この調整板11゜11  は、外部からスライドさ
せることができ、両切架部10,10’の重なり具合で
、ビームの通過を許容しかつ第二下流室の十分な真空度
を維持し得る開口度に調整されるものである。尚、スキ
マー7の切欠部10,10′及び調整板11.11’の
形状は、図示される形状の他、半円形その他の形状でも
よい。
ゲートバルブ8は、ハンドル12を回すことによって昇
降される層状の弁体13を有するもので、ビーム走行時
には開放されているものである。このゲートバルブ8を
閉じることによって、L流室3及び第一下流室4a内の
真空度を保ちながら第二下流室4bのユニット交換が行
える。また、本実施例の装置において、超微粒子は第二
下流室4b内で捕集されるが、ゲートバルブ8をポール
パルプ等としておけば、特に超微粒子が酸化されやすい
金属微粒子であるときに、このポールバルブと共に第二
下流室4bのユニット交換を行うことにより。
急激な酸化作用による危険を伴うことなくユニット交換
を行える利点がある。
第二下流室4b内には、ビームとして移送されて来る8
61粒子を受けて付着させ、これを成膜状態で捕集する
ための受体6が位置している。この受体6は、共通フラ
ンジを介して第二下流室4bに取付けられた受体支持装
置16の受体ホルダー17に取付けられている。受体ホ
ルダー17は、超微粒子の捕集の最適温度条件下に受体
6を加熱又は冷却できるようになっている。
受体支持装置16について、第6図で更に説明する。
受体支持装置16は、前後移動用モータ25aと、左右
移動用モータ25bと、上下移動用モータ25cを備え
ており、これらのモータ25a〜25cの駆動によって
、受体ホルダー17に取付けられている受体6を3前後
、左右、上下に移動させることがで、きるようになって
いる。
受体支持装置は、基枠26に対してスライド可能かつ気
密に挿通されたアーム27及びロッド28を備えている
。アーム27にはラック28が形成されていて、これが
前後移動用モータ25bによって回動する平歯車30と
噛み合っている。平歯車30が回動すると、アーム27
のラック29がこれと噛み合っていることにより、アー
ム27とロッド28が基枠2B内を前後にスライドして
、装置全体と共に受体6が前後に移動されることになる
アーム27の前端には第一テーブル31が取付けられて
おり、この第一テーブル31の前面左右方向に形成され
たレール32上に、スライド可能に第二テーブル33が
設けられている。この第二テーブル33は、左右移動用
モータ25bによって作動する、次の上下移動用の機構
と同様の機構によって、レール32に沿って左右にスラ
イド移動して受体6を左右に移動させるものである。
第二テーブル33の前面には、上下移動用モータ25c
によって回動されるスクリュー軸34が、上下方向に支
持されている。このスクリュー軸34は、内面にスクリ
ュー軸34のねじと噛み合うねじが形成されたスライド
支持部35を貫通している。スライド支持部35は、そ
の後面が第二テーブルの前面に摺接しており、上下移動
用モータ25cによってスクリュー軸34が回動すると
、スクリュー軸34のねじとスライド支持部35のねじ
の噛み合いによって、上下にスライド移動される。スラ
イド支持部35には受体6を保持する受体ホルダー17
が取付けられていて、スライド支持部35の移動と共に
受体6が上下に移動されるようになっている。
尚、上流室3及び第二下流室4bの上下には1図示され
るように各々共通フランジを介してガラス窓18が取付
けられていて、内部観察ができるようになっている。ま
た、図示はされていないが、上流室3、第一下流室4a
及び第二下流室の前後にも各々同様のガラス窓(図中の
18と同様)が共通2ランジを介して取付けられている
。これらのガラス窓1日は、これを取外すことによって
、共通フランジを介して各種の測定装置、ロードロック
室等と付は替えができるものである。
次に、本実施例における排気系について説明する。
上流室3は、圧力調整弁19を介してメインバルブ20
aに接続されている。第一下流室4dは直接メインバル
ブ20aに接続されており、このメインバルブ20aは
真空ポンプ5aに接続されている。第二下流室4bはメ
インバルブ20bに接続されており、更にこのメインバ
ルブ20bは真空ポンプ5bに接続されている。尚、2
1a、 21bは、各々メインバルブ20a、 20b
のすぐ上流側にあらびきバルブ22a、 22bを介し
て接続されていると共に、補助バルブ23a。
23bを介して真空ポンプ5aに接続された減圧ポンプ
で、上流室3、第一下流室4a及び第二下流室4b内の
あらびきを行うものである。尚、24a〜24hは、各
室3 、4a、 4b及びポンプ5a、 5b、 21
a、 21bのリーク及びパージ用バルブである。
まず、あらびきバルブ21a、 21hと圧力調整弁1
8を開いて、上流室3、第−及び第二下流室4a、 4
b内のあらびきを減圧ポンプ20a、 20bで行う0
次いで、あらびきバルブ21a、 21bを閉じ、補助
パルプ23a、 23b及びメインバルブ20a、 2
0bを開いて、真空ポンプ5a、 5bで上流室3、第
−及び第二下流室4a、 4b内を十分な真空度とする
。このとき、圧力調節弁19の開度を調整することによ
って、上流室3より第一下流室4aの真空度を高くし、
次にキャリアガス及び原料ガスを流し、更に第一下流室
4aより第二下流室4bの真空度が高くなるよう、スキ
マー7で調整する。この調整は、メインバルブ20bの
開度調整で行うこともできる。そして、超微粒子の形成
並びにそのビーム化噴射による成膜作業中を通じて、各
室3 、4a、 4bが一定の真空度を保つよう制御す
る。この制御は、手動でもよいが、各室3 、4a、 
4b内の圧力を検出して、この検出圧力に基づいて圧力
調整弁18、メインバルブ20a、 20b、スキマー
7等を目動的に開閉制御することによって行ってもよい
。また、上流室3に供給されるキャリアガスと原料ガス
が直に縮小拡大ノズルlを介して下流側へと移送されて
しまうようにすれば、移送中の排気は、下流側、即ちf
f1−及び第二下流室4a、 4bのみ行うこととする
ことができる。
上記真空度の制御は、上流室3と第一下流室4aの真空
ポンプ5aを各室3.4a毎に分けて設けて制御を行う
ようにしてもよい、しかし1本実施例のように、一台の
真空ポンプ5aでビームの流れ方向に排気し、上流室3
と第一下流室4aの真空度を制御するようにすると、多
少真空ポンプ5aに脈動等があっても1両者間の圧力差
を一足に保ちやすい、従って、この差圧の変動の影響を
受けやすい流れ状態を、一定に保ちやすい利点がある。
真空ポンプ5a、 5bによる吸引は、特に第−及び第
二下流室4a、 4bにおいては、その上方より行うこ
とが好ましい、上方から吸引を行うことによって、ビー
ムの重力による降下をある程度抑止することができる。
本実施例に係る装置は以上のようなものであるが1次の
ような変更が可能である。
まず、縮小拡大ノズル1は、上下左右への傾動や一定間
隔でのスキャン可能とすることもでき、広い範囲に亘っ
て成膜を行えるようにすることもできる。特にこの傾動
やスキャンは、第4図(C)の矩形ノズルと組合わせる
と有利である。
縮小拡大ノズルlの少なくとも一部を透光体で形成して
紫外、赤外、レーザー光等の各種の波長を持つ光を流れ
に照射することもできる。また、縮小拡大ノズル1を複
数個設けて、一度に複数のビームを発生させることもで
きる。特に、複数個の縮小拡大ノズルlを設ける場合、
各々独立した上流室3に接続しておくことによって、異
なる微粒子のビームを同時に走行させることができ、異
なる微粒子の積層又は混合捕集や、ビーム同志を交差さ
せることによる、異なる微粒子同志の衝突によって、新
たな微粒子を形成させることも可能となる。
本実施例では、発生室3、第一下流室4a及び第二下流
室4bで構成されているが、第二下流室4bを省略した
り、第二下流室の下流側に更に第三。
帛四・・・・・・下流室を接続することもできる。また
■波流室3を加圧すれば、第一下流室4aは開放系とす
ることができ、第一下流室4aを減圧して上流室3を開
放系とすることもできる。特にオートクレーブのように
、上流室3を加圧し、第一下流室48以下を減圧するこ
ともできる。
縮小拡大ノズルlを開閉する弁を設け、上流室3偏に一
時原料ガスとキャリアガスを溜めながら、上記弁を断続
的に開閉して、微粒子を得ることもできる。前記縮小拡
大ノズルlののど部2を含む下流側で行うエネルギー付
与と同期させて、上記弁を開閉すれば、排気系の負担が
大幅に低減されると共に、原料ガスの有効利用を図りつ
つパルス状の微粒子流を得ることができる。尚、同一排
気条件下とすれば、上述の断続的開閉の方が、下流側を
高真空に保持しやすい利点がある。
また、縮小拡大ノズルlを複数個直列位置に配し、各々
上流側と下流側の圧力比を調整して、ビーム速度の維持
を図ったり、各室を球形化して、デッドスペースの発生
を極力防止することもできる。
[発明の効果」 本発明によれば、微粒子を、均一な分散状態の超音速の
ビームとして、空間的に独立した状態で移送することが
できる。従って、活性微粒子をそのままの状態で捕集位
置まで確実に移送できると共に、ビームの照射面を制御
することによって、その吹き付は領域を正確に制御する
ことができる。
一方、本発明によれば、微粒子を受ける受体6の位置を
任意に調節できるので、微粒子の受体6に対する衝突エ
ネルギーの調整、パターニング、広面積に対する処理等
も、上記ビーム化と相俟って高精度で行うことができる
また、ビームという集束した超高速平行流となることや
、ビーム化されるときに熱エネルギーが運動エネルギー
に変換されて、ビーム内の微粒子は凍結状態となるので
、これらを利用した新しい反応場を得ることにも大きな
期待を有するものである。更に、本発明の流れ制御装置
によれば、上記凍結状態になることから、流体中゛の分
子のミクロな状態を規定し、一つの状態からある状態へ
の遷移を取り扱うことも可能である。即ち、分子の持つ
各種のエネルギー準位までも規定し、その準位に相当す
るエネルギーを付与するという、新たな方式による気相
の化学反応が可能である。また、従来とは異なるエネル
ギー授受の場が提供されることにより、水素結合やファ
ンデアワールス結合等の比較的弱い分子間力で形成され
る分子間化合物を容易に生み出すこともできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の基本原理の説明図、第2図は本発明を
超微粒子による成膜装置に利用した場合の一実施例を示
す概略図、第3図(a)〜(C)は各々気相励起装置の
例を示す図、第4図(a)〜(C)は各々縮小拡大ノズ
ルの形状例を示す図、第5図はスキマーの説明図、第6
図は受体支持装置の拡大図である。 l:縮小拡大ノズル、la=流入口、 1b=流出口、2:のど部、3:上流室。 4:下流室、4a:第一下流室、 4b二第二下流室、  5 、5a、 5b:真空ポン
プ、6:受体、7:スキマー、8:ゲートバルブ、9、
マイクロ波電極、10.10” :切欠部、11、11
’ :調整板、12:ハンドル、13:升体、14ニジ
リンダ、15ニスライド軸、 16:受体支持装置、17二受体ホルダー、18ニガラ
ス窓、19:圧力調整弁。 20a、 20b:メインバルブ、 21a、 21b+減圧ポンプ、 22a、 22b:あらびきバルブ、 23a、 23b:補助バルブ、 24a〜24h ニリーク及びパージ用バルブ、25a
:前後移動用モータ。 25b:左右移動用モータ、 25C:上下移動用モータ、26:基枠、27:アーム
、28:ロッド、29ニラツク、30:平歯車、31:
第一テーブル、32:レール、33:第二テーブル、3
4ニスクリユー軸、35ニスライド支持部。 第1図 第3図 (G) 第4図 (C)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)流路に縮小拡大ノズルを設け、この縮小拡大ノズル
    の下流側に、移動可能に受体を設けたことを特徴とする
    微粒子流の流れ制御装置。
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