JPS61199234A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔麺業上の利用分野〕 この発明は、たとえばコバルト、コバルト合金。

鉄、鉄合金、ニッケル、ニッケル合金などの金属強磁性
体よりなる磁性層、あるいは酸化鉄、酸化クロムなどの
金属酸化物強磁性体よりなる磁性層を有する磁気記録媒
体に関するものである。

〔従来の技術〕

近年、コンピュータ・システムにおける磁気ディスク等
の外部記憶装置の重畳性が増大し、高記録密度化に対す
る要求はますます高まっている。

磁気記録装置は記録再生ヘッドおよび磁気ディスクの主
構成部から構成され、磁気ディヌクは高速で回転し記録
再生ヘッドは磁気ディスクより微小間隔浮上している。

磁気記録装置の高性能化に伴い、この浮上間隔を小さく
するために記録再生ヘッドの荷重を小さくするとともに
接触始動・停止（コンタクト・ヌタート・ストツ７”　
：　ａｓｓ　）型ヘッド浮揚システムが採用されている
。磁気ディスクすなわち磁気記録媒体の高記録密度化、
高性能化を図るためには、記録媒体の薄層化、均−一様
化、磁気特性の改良（株蜂力、角形比）、および低浮上
量における安定したヘッド浮揚状態を確保しヘッドとデ
ィスクの衝突（ヘッド・クラッシュ）を防止するための
ディスク表面精度の向上、耐ヘッドクラツシユ性等の向
上が必登である。それに伴い磁性媒体層を支持する基板
の品質の向上が重要となっている。

高密度記録に適する基板の条件としては機械的平坦性お
よび表面粗さが良好であり、欠陥が小さくその数も少な
いことが挙けられる。さらに、記録媒体の薄層化に伴い
基板の十分な硬度も必要とされてきた。すなわち、基板
が軟かいと磁気ヘッドが磁気ディスクに接続した際に陥
没などの変形を起こし、ｉ気ヘッドの安定した浮揚状態
が得られないばかりか、ｉ気記録装置の信頼性を表すコ
ンタクトスタートヌトップ（ａＳＳ）回数が小さくなる
という問題がある。

従来、磁気ディスクの基板にはアルミ合金が使われてい
るが１表面硬化や表面精度をだすため。

その上に硬化層を被槍している。この硬化層は研磨性の
良好なＮｒ−ｐめつき膜やアルマイト膜が用いられてき
た（たとえは、電々公社研究実用化報告第３１巻第９号
１７３１〜１７４４瓜、先行技術特願昭５９−８８６３
３号９％願昭５９−１１１４６８号明細書）。

この膜を形成した後９機械加工を行い表面精度をあげ、
磁性媒体層を形成する。この磁性媒体層の磁気特性と結
晶配向性には密接な関係があり、結晶配向性は磁性媒体
層の下地膜の種類に影響されることがわかっている（た
とえば、太田ら、第８回日本応用磁気学会学術講演概要
集、１５ｐＢ−８（１９８４））０たとえば、　　ｒ　
　Ｆｅ２（１３薄膜の場合は〔１１１〕配向、　　Ｃｏ
および００合金薄膜の場合は０軸配向した場合が磁気特
性が良好であることがわかっている。

〔発甲が解決しようとする問題点〕

しかし２種々の°硬化層を形成し磁性媒体層を形成する
と、はとんどの場合望ましい結晶配向性になりにくり、
その結果磁化曲線から求められる角形比Ｓ矢が悪化する
など磁気特性が良くならないという問題点があった。

この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、結晶配向性すなわち磁気特性が良好でａＳＳ
回数が増大する信頼性の高い磁気記録媒体を得ることを
目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明の磁気記録媒体は、非磁性硬化層と磁性媒体層
の間にＴａＯ＊　Ｔａ０２　＊およびＴａＮのうちのい
ずれか１ｓよりなる非磁性下地層を形成したものである
。

〔作用〕

この発明に係るＴａｇ、　ＴａＯ２，およびＴａＮのう
ちのいずれか１種よシ成る非磁性下地層の形成により、
非磁性硬化層の悪影響を防止し、磁性媒体層の結晶配向
性を良くすることができ、非磁性硬化層の硬く表面精度
の良好な特性を減することがなＸ、Ｓｏ 〔実施例〕 以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図において、（１）は非磁性基板であるアルミニウム合
金基板、（２）は非磁性硬化層、（３）はＴａＯ非磁性
下地層、（４）は磁性媒体層である。

以下、具体的実施例によりこの発明をより詳細に説明す
るが、この発明はこれに限定されるものではない。

実施例 ディスク状アルミニウム合金基板（１１上に非磁性硬化
層（２）としてアルマイト膜を４μｍ被曖抜機。

アルマイト膜を鏡面仕上げした後、非磁性下地層（３）
としてＴａＣ膜を反応スパッタ法により形成した。

さらに、磁性媒体層（４）としてｒ　　Ｆｅ２０Ｂ薄膜
を形成した。

ＴａＣ膜の膜厚を変えた試料を炸裂し９種々の測定を行
い、結果を表にまとめた。結晶配向性については、Ｘ線
回折法によシ測定し、　　ｒ　　Ｆｅ２０３（ヌビネル
型）の２２２方向のビークＩ　（２２２）と３１１方向
のビークＩ（３１１）の比によって表現した。角形比Ｂ
−＋は磁化曲線よシ求めた。

さらに、非磁性下地層の膜厚と各特性値の変化を、非磁
性下地層がＴａＯの場合の例を第２図に。

非磁性下地層がＴａＮの場合の例を第３図にそれぞれ示
す。図中９曲線１１は＋　（２２２）／Ｉ（３１１）の
変化９曲線１２はＢ−ｙｒの変化１曲唐１３はａＳＳ回
数の比の変化を表す。

注）　ＴａＯ膜厚がＯＡ　（形成しない）の時のａＳＳ
回数を１として比で表した。

表および第２図より明らかなように、　　ＴａＯの膜厚
が５０′Ａを越えると、結晶配向性およびＢ＋の値が向
上していく。一方、　　ＴａＯの膜厚が２４０ＯＡ　を
越え３００ＯＡ以上になると、　　０８８回数の悪化が
みられた。’ｒａｏの膜厚が厚すき゛ると、非磁性硬化
層の効果が薄れてしまい、　　ａＳＳ回数の悪化につな
がったと考えられる。また、　　３００ＯＡ以上だと熱
膨張係数の違いから、クラックがはいることが多く。

３０００２以上は望ましくなぼ。

上記実施例では、　　’ｒａｃ膜の場合について説明し
たが、　　ＴａＯ２，ＴａＮの場合であっても同様の結
果が得られ、上記実施例と同様の効果を奏する。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明によれば、非磁性基板と、この
非磁性基板に被棲された非磁性硬化層と。

この非磁性硬化層に液種された’ｒａａ、　Ｔａ０２ｔ
　およびＴａＮのうちのいずれか１種よりなる非磁性下
地層と、この非磁性下地層に被接された磁性媒体層を備
えたので、結晶配向性および磁気特性が向上し、　ａＳ
Ｓ回数が増大し、信頼性の高い磁気記録媒体が得られる
効果がある。

また＊　　’ｒａａ、　ＴａＣ２，およびＴａＮのうち
のいずれか１種よりなる非磁性下地層の厚さを５０〜２
４００Ｈの範囲にすると、一層上述の効果が増大する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例により得られた磁気記録媒
体を示す断面図であり、第２図および第３図は非磁性下
地層の膜厚と各特性値の変化を示す特性図である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基板と、この非磁性基板に被覆された非磁
   性硬化層と、この非磁性硬化層に被覆されたＴａＣ、Ｔ
   ａＣ＿２、およびＴａＮのうちのいずれか１種よりなる
   非磁性下地層と、この非磁性下地層に被覆された磁性媒
   体層を備えた磁気記録媒体。
2. （２）ＴａＣ、ＴａＣ＿２、およびＴａＮのうちのいず
   れか１種より形成された非磁性下地層の膜厚を５０〜２
   ４００Åの範囲にしたことを特徴とする特許請求の範囲
   第１項記載の磁気記録媒体。