JPS61198694A - 高周波エネルギの交差入力装置を有するガスレ−ザ - Google Patents

高周波エネルギの交差入力装置を有するガスレ−ザ

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JPS61198694A
JPS61198694A JP26272485A JP26272485A JPS61198694A JP S61198694 A JPS61198694 A JP S61198694A JP 26272485 A JP26272485 A JP 26272485A JP 26272485 A JP26272485 A JP 26272485A JP S61198694 A JPS61198694 A JP S61198694A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 !!上皇五11監 本発明は、レーザ光束に沿い流動するレーザガスを収容
する管状体を有し、その場合管状体に沿い、相互に対向
する、高周波エネルギを交差入力する電極が配置された
ガスレーザに関する。
従来の技術 このようなレーザの作動に際し熱が生じ、これができる
だけ完全かつ迅速に導出される必要がある。低出力レー
ザの場合、熱導出の難点は、例えば工業的に薄板等の切
断に使用されるような高出力レーザの場合よりも明白に
わずかである。熱が不十分に導出されるにすぎない場合
、このことが結果として無視しえない出力低減を   
・生じる。
ガスレーザの場合、レーザ冷却が、レーザガスを冷却す
ることにより行なわれることがすでニ公知である。この
ことは、レー・テカスカ冷却循環系中を流動し、この循
環系が部分的に管状体により形成されかつ循環系中に相
応する冷却装置が配置されていることを表わす。
発明が解決しようとする問題点 ところで本発明の課題は、前記せる種類のガスレーザを
、これが高出力で使用可能であり、かつできるだけわず
かな出力損失で作動するように発展させることである。
問題点を解決するための手段 本発明によれば、この課題を解決するため、前述のガス
レーザにおいて、レーザガス流を多数の連続する分流に
分割するため管状体に多数のガス入口および一出口が配
置され、その場合この管状体がこれら入口および出口に
より偶数の流動区間に分割されかつ最(#に2つの流動
区間が配置され、かつこれら電極が、管状体の長手方向
に前後して配置された部分電極に分割され、その場合そ
れぞれの分流に1つの部分電極対が配置され、さらにそ
れぞれの分流がそれぞれ1つのまたは共通の冷却装置を
貫流することが提案される。
従って、このガスレーザの場合、レーザがスが、他の種
類のレーザから公知の方法で冷却装置を使用し冷却され
るが、但しガス導管が特別な方法で形成される。大体に
おいて、管状体中のがス流が分流に分割され、これら分
流が、それぞれ管状体から導出されかつ再び供給されか
つ連続的に全ての管状体を満たす。もはやガスが管状体
のわずかに1部分の距離を貫流するにすぎないので、ガ
スがそのわずかな滞留時間により1方で著るしく昇温せ
ず、かつこれにより他方で1つの位置だけでなく、多数
の位置にそれぞれ冷却されたレーザガスが供給される。
総じてこのことが、管状体中の温度を低く維持しかつ目
的とする出力増大を惹起する。レーザガスの入口および
出口を有利に配置し並びに流動技術的に有利に形成し5
るため、管状体の全長にわたって延びる、高周波エネル
ギ入力用の2つの電極の代りに、管状体の長手方向に距
離をおいて連続的に取付けられた部分電極ないしは、と
くに同じ長さの部分電極を有する部分雷雨対を使用する
。部分電極の対向距離は、レーザガス用入口および出口
の占有面積に応じ、かつ少くとも、直線状に長手方向に
延びる管状体の場合はできるだけ小さくなければならな
い。    。
理論的には、レーザガスの分流をそれぞれ冷却すること
ができるが、但しこのことが比較的大きい装置費用およ
び所要面積を生じる。従って有利な解決は、遅くとも共
通の冷却装置の入口でガス分流を統合することである。
同じこと  ゞが、返流すべき冷却された分流にも該当
する。
本発明の殊に有利な実施例は、管状体のそれぞれの終端
部にガス入口が配置されていることである。前記せるよ
うに、流入するガスは流出するガスよりも低温であり、
かつ従って管状体の2つの終端部範囲内での低温空気分
流の導入が管路端部の低温維持をもたらす。この位置に
、公知の方法で7−)l′ミラー、すなわち終端部ミラ
ー、および部分的に透過性のいわゆる出力ミラーが配置
される。ミラーの取付は部材が感熱性であるので、管状
体は、これら範囲内の低温空気分流により冷却するのが
極めて有利である。
他方でこのことは、管状体の長手方向に見て全ての出口
が前記入口間に配置されることを表わす。管状体を最低
2つの流動区間に分割することKより2つのガス分流が
得られるのである力ζ但しそのためにまた必然的に相応
に4つの入口および出口が配置される必要はない。例え
ば、2つのガス分流の場合、2つの入口および1つの出
口で十分である。同じことが、多数の流動区間ないしは
分流にも通用される。
大きいレーザ出力が、結果的に長い管状体となる。それ
にもかかわらずこのガスレーザを取扱いにくい長さとし
ないため、本発明をさらに発展させ、管状体がU字形の
形状を有することが提案される。いわゆる”折たたまれ
た”(gefaltete )レーザが、種々の種類の
実施形態ですでに公知である。このものは、前記せる2
つの終端部ミラーのほかに付加的な偏向ミラーを有する
。U字形の場合、U牢固の長手軸て対し45°下に傾斜
せる2つの偏向ミラーが必要である。これらミラーが、
U牢固からU字横桁への移行部に配置される。
本発明の1実施例は、自由なU字脚終端部の範囲内にも
、またU字横桁に接続するU字脚終端部の範囲内にもそ
れぞれ1つの入口が配置され、かつU牢固の中央範囲内
にそれぞれ1つの出口が配置されることである。このこ
とは、そら r力;共通の出口を1経て管状体から導出されること金
表わす。従ってこの実施例の場合、4つの入口および、
大体において2重出口として形成された2つの出口で十
分である。また明白に、できるだけ付近に隣接する2つ
の個々の出口を備えることも考慮可能であるが、但し″
′2重出口”を有する構造が有利である。それぞれのU
牢固が2つの区間ではなく、6つまたはそれ以上の区間
に分割されている場合、前記実施例がこの実施形態にも
同じく適用される。
本発明のもう1つの実施例によれば、自由U字脚終端部
の入口、およびU字横桁に接続するU字脚終端部の入口
、並びに2つの出口ないしは2重出口が、流動状態に応
じ統合されるかまたはそれぞれ相互に1例えば短管を経
て結合されることが提案される。この方法で、4つの流
動区間を有する実施形態の場合、冷却装置へのないしは
この装置からの供給−および排出管の数が1つの供給管
および2つの返流管ないしは1つの分岐返流管に低減さ
れる。これら導管の数は、6,8およびそれ以上の流動
区間への分割が行なわれた場合明白に増大する。しかし
同じくこのような実施形態の場合も、入口および出口が
本発明の前記構造により統合される。さらに、U字横桁
に接続する区間に対する冷却されたガス流の同時の供給
がU字横桁自体でも行なわれることができる。
本発明の他の変法は、全ての部分電極が共通の高周波発
生装置に接続されていることを特徴とする。従ってまた
部分的気流と同じく、部分電極の回路が、電極の部分電
極への分割にもかかわらず不断に1つの発生装置を必要
とするにすぎないように統合される。さらに殊に有利な
のは、レーザガスの分流が管状体を最低50m/秒の高
速度で貫流し、すなわち高速流レーザが挙げられること
である。すでに前記に詳説したように、管状体中のガス
の加熱を最低に制限しかつ吸収された熱をできるだけ迅
速に除去する必要がある。これら分流により、一定の流
速で管状体中のわずかな滞留時間が達成され、かつこの
滞留時間が、流速を殊に大きく選択した場合に最小とな
る。
電極対をそれぞれ同じ方向に普通に配列した場合、光束
中の不均質なエネルギ分布が得ら瓢このことが1方で収
束性に不利に作用しかつ他方で効率を低減させる。
本発明のもう1つの課題は、ガス噴流中のできるだけ均
質なエネルギ分布を有するガスレーザをつくり出すこと
である。このことは、電極対ないしはその区間が管状体
の円周方向に食違いに相互に配置されていることにより
達成される。
ガス噴流中のエネルギ分布の形を左右することができか
つ例えばピーク形の代りに楔形を得るため、本発明のも
う1つの特徴によれば、最低1つの電極対またはその区
間がガス流ないしはレーザ光束に対し旋回可能に配置さ
れる。この場合、所望のエネルギ分布に応じ、旋回を小
さいかまたは大きい角度で実施することができる。殊に
簡単な種類の旋回装置が、電極対またはそれらの区間を
ガス管に固定結合しかつこれを多数の区間に分割し、そ
の最低1つの区間を旋回可能に取付けた場合に得られる
。この場合有利なのが、旋回可能な電極ないしは管区間
を調節装置に接続し、その結果調節が制御装置またはプ
ログラム制御により実施されうろことである。さらにま
た、作動工程中に意図せざる旋回を阻止するため、ロッ
ク装置が備えられる。
実施例 以下に1本発明を図面実施例につき詳説する。
このガスレーザは、有利に円形の内径−および外径断面
を有する管状体1を有し、この管状体中にレーザガス、
有利にco2ガスもまたレーザ光束も配置される。2つ
の終端部に、ミラーユニット3ないしは4が取付けられ
ている。ミラーユニット4に終端ミラーが取付けられる
とともに、ミラーユニット3に部分的に透過性のいわゆ
る出力ミラーが配置される。この出力ミラーを経て、形
成されたレーザ光束が射出し、かつこの光束がレーザ供
給W5を経て作業位置等に達する。有利に、管状体1が
U字形に形成され、それによりその長さが半分に低減さ
れる。
とりわけこのことが、レーザ光束用の2つの偏向ミラー
6および7の取付けを必要とする。
レーザ光束の形成に所要のエネルギが、管状体に、相対
向する2つの電極を経て供給され、従って交差入力を有
するガスレーザが挙げられじ る。このレーザは、高周波発生装置8がら生へる高周波
エネルギで作動される。
本発明の特徴によれば、前記せるように管状体の長手方
向に延びかつ管状体のそれぞれ部分的外周を包囲する2
つの電極が、部分電極9゜10:’11,12;13,
14;15,16に分割されている。この場合、それぞ
れ同じ長さ、同じ大きさ並び忙同じ形状の部分電極9お
よび10ないしは1丁および12ないしは13および1
4ないしは15および16が1つの部分電極対を形成す
る。全ての部分電極ないしは部分電極対が、1点鎖線に
より示した導線を経て共通の唯一の高周波発生装置8に
接続されている。
電極だけでなく、公知の方法で管状体から導出されかつ
外部で冷却されるレーザガス流も分割され、それも詳し
くは連続する部分流17゜18.19および20に分割
されている。このことは、レーザガスがそれぞれ管状体
の1部分の距離を流動するにすぎず、かつその後に冷却
のため導出されることを表わす。このレーザガス流の分
割を実施しうるため、管状体が多数のガス入口および一
出口を有する。それぞれの分流自体に1つの入口および
1つの出口が付属するが、但しこれらを少くとも部分的
に統合することもできる。ミラ一部分、それも詳しくは
ミラーユニット3および4の範囲内でもまた偏向ミラー
6および7の範囲内でも加熱されたレーザガスが有害で
ある、それというのもこれがミラーおよび/またはその
調節に不利に作用するので、実施例によれば、ミラーユ
ニット3および4の範囲内にもまた偏向ミラー6および
7の範囲内にもそれぞれ1つの入口21,22,23゜
24を配置することが提案される。この場合有利に、1
方で入口21および22、他方で入口   ゞ23およ
び24が、管路25ないしは26等を経て流動状態に相
応に相互に接続される。それぞれの管路に供給管27な
いしは28が導かへこれら供給管がプロワ29の1つの
あるいはまた2つの別々の出口に接続され、このプロワ
が冷却せるガスを場合忙より導管3oを経てレーザガス
冷却装置31から吸入する。加熱されたレーザガスが、
この冷却装置に、有利に共通の供給管32を経て流入す
る。
分流17および18の出口が、共通の出口に統合されて
いる。類似に、共通の出口34が分流19および20に
備えられる。排出装置35中で、2つの″2重゛出口”
33および34が、概念的に示した管路36を経て相互
に接続さ瓢この管路自体が共通の供給管32に接続され
ている。有利に、この供給管が、図面において例えば円
形37により表わされた位置に接続する。
同じことが、管路25および26にも該当する。
管路25および26の範囲内に有利に同じに形成された
供給装置38および39が、排出装置35に相応する。
第2図による実施例において、電極対40〜43が、ガ
ス流中のできるだけ均質なエネルギ分布を得るため、第
3図から明白なように管状体1の円周方向に食違いに配
置されている。電極対の角度位置を相互に任意に調節し
5るため、図示されていないが、電極対の配置された管
部材が他の管部材に対し旋回可能に配置され、その場合
これら電極対が所属の管部材に固定されている。第4図
は、管部材に歯車44が取付げられ、この歯車にfニオ
ン45が嵌まることを示す。このピニオンが図示せざる
調節装置に接続され、調節装置自体がプログラム制御装
置等に接続されていることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は本発明による装置のそれぞれ1実
施例を示す略示縦断面図、第3図はそれぞれの電極対の
角度位置を例示する横断面図、および第4図は管部材の
旋回駆動装置の1実施例を略示する横断面図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、レーザ光束に沿い流動するレーザガスを収容する管
    状体を有し、その場合管状体に沿い、相対向する、高周
    波エネルギを交差入力する電極が配置されているガスレ
    ーザにおいて、レーザガス流を多数の連続する分流(1
    7、18、19、20)に分割するため管状体(1)に
    多数のガス入口および−出口(21〜24;33、34
    )が配置され、その場合管状体(1)がこれら入口およ
    び出口により偶数の流動区間に分割されかつ最低2つの
    流動区間が配置され、かつこれら電極が、管状体(1)
    の長手方向に前後して配置された部分電極 (9〜16)に分割され、その場合それぞれの分流(1
    7〜20)に1つの部分電極対 (9、10;11、12;13、14;15、16)が
    配置され、さらにそれぞれの分流がそれぞれ1つのまた
    は共通の冷却装置(31)を貫流することを特徴とする
    高周波エネルギの交差入力装置を有するガスレーザ。 2、管状体(1)のそれぞれの終端部にガス入口(21
    、22)が配置されていることを特徴とする、特許請求
    の範囲第1項記載の高周波エネルギの交差入力装置を有
    するガスレーザ。 3、管状体(1)がU字形の形状を有することを特徴と
    する、特許請求の範囲第1項または第2項のいずれかに
    記載の高周波エネルギの交差入力装置を有するガスレー
    ザ。 4、自由U字脚終端部の範囲内にもまたU字横桁に接続
    するU字脚終端部の範囲内にもそれぞれ1つの入口(2
    1、22;23、24)が配置され、かつU字脚の中央
    範囲内にそれぞれ1つの出口(33、34)が配置され
    ていることを特徴とする、特許請求の範囲第2項または
    第3項のいずれかに記載の高周波エネルギの交差入力装
    置を有するガスレーザ。 5、自由U字脚終端部の入口(21、22)、およびU
    字横桁に接続するU字脚終端部の入口(23、24)、
    並びに2つの出口(33、34)が、流動状態に相応に
    統合されるかまたはそれぞれ相互に接続されていること
    を特徴とする、特許請求の範囲第4項記載の高周波エネ
    ルギの交差入力装置を有するガスレーザ。 6、全ての部分電極(9〜16)が共通の高周波発生装
    置(8)に接続されていることを特徴とする、特許請求
    の範囲第1項から第5項までのいずれか1項に記載の高
    周波エネルギの交差入力装置を有するガスレーザ。 7、レーザガスの分流(17〜20)が、管状体(1)
    を最低約50m/秒の高速度で貫流することを特徴とす
    る、特許請求の範囲第1項から第6項までのいずれか1
    項に記載の高周波エネルギの交差入力装置を有するガス
    レーザ。 8、電極対(40、41、42、43)ないしはそれら
    の区間が、管状体(1)の円周方向に食違いに相互に配
    置されていることを特徴とする、特許請求の範囲第1項
    から第7項までのいずれか1項に記載の高周波エネルギ
    の交差入力装置を有するガスレーザ。 9、最低1つの電極対(40〜43)または最低1つの
    区間が、ガス流ないしはレーザ光束に対し旋回可能に配
    置されていることを特徴とする、特許請求の範囲第8項
    記載の高周波エネルギの交差入力装置を有するガスレー
    ザ。 10、電極対(40〜43)またはその区間が管状体(
    1)に固定結合され、かつこの管状体が多数の区間に分
    割され、その最低1つが旋回可能に取付けられているこ
    とを特徴とする、特許請求の範囲第9項記載の高周波エ
    ネルギの交差入力装置を有するガスレーザ。 11、旋回可能に取付けられた電極対(40〜43)な
    いしは電極対を支持する管部材が調節装置(44、45
    )と結合されていることを特徴とする、特許請求の範囲
    第9項または第10項のいずれかに記載の高周波エネル
    ギの交差入力装置を有するガスレーザ。 12、旋回可能な電極対ないしは、電極対を支持する旋
    回可能な管部材に、ロック装置が備えられていることを
    特徴とする、特許請求の範囲第9項から第11項までの
    いずれか1項に記載の高周波エネルギの交差入力装置を
    有するガスレーザ。
JP26272485A 1984-11-24 1985-11-25 高周波エネルギの交差入力装置を有するガスレ−ザ Granted JPS61198694A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19843442898 DE3442898A1 (de) 1984-11-24 1984-11-24 Gas-laser mit quereinkopplung von hochfrequenzenergie
DE3442898.4 1984-11-24
DE8526361.3 1985-09-14

Publications (2)

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JPS61198694A true JPS61198694A (ja) 1986-09-03
JPH0464476B2 JPH0464476B2 (ja) 1992-10-15

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JP26272485A Granted JPS61198694A (ja) 1984-11-24 1985-11-25 高周波エネルギの交差入力装置を有するガスレ−ザ

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DE (1) DE3442898A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63296382A (ja) * 1987-05-28 1988-12-02 Fanuc Ltd レ−ザ発振装置
JPH0444283A (ja) * 1990-06-07 1992-02-14 Fanuc Ltd レーザ発振装置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3643735A1 (de) * 1986-12-20 1988-07-07 Tzn Forschung & Entwicklung Gastransportlaser

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5478098A (en) * 1977-12-05 1979-06-21 Hitachi Ltd Laser equipment of gas flow type
JPS55113391A (en) * 1979-02-21 1980-09-01 Hitachi Ltd Gas flow type laser device
JPS576261U (ja) * 1980-06-11 1982-01-13
JPS5840351A (ja) * 1981-09-03 1983-03-09 Dainippon Ink & Chem Inc 硬化性樹脂組成物
JPS58111384A (ja) * 1981-12-24 1983-07-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd レ−ザ管
JPS603170A (ja) * 1983-06-21 1985-01-09 Mitsubishi Electric Corp 無声放電式ガスレ−ザ装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5110777A (en) * 1974-07-16 1976-01-28 Sharp Kk Handotaisochino seizoho
JPS5839396B2 (ja) * 1978-08-25 1983-08-30 株式会社日立製作所 ガスレ−ザ発生装置
JPS5986277A (ja) 1982-11-10 1984-05-18 Hitachi Ltd ガスレ−ザ発生装置
JPS59136983A (ja) 1983-01-26 1984-08-06 Hitachi Ltd ガスレ−ザ発生装置
DE3422525A1 (de) * 1984-06-16 1986-02-13 Trumpf GmbH & Co, 7257 Ditzingen Gefalteter co(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts)-laser

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5478098A (en) * 1977-12-05 1979-06-21 Hitachi Ltd Laser equipment of gas flow type
JPS55113391A (en) * 1979-02-21 1980-09-01 Hitachi Ltd Gas flow type laser device
JPS576261U (ja) * 1980-06-11 1982-01-13
JPS5840351A (ja) * 1981-09-03 1983-03-09 Dainippon Ink & Chem Inc 硬化性樹脂組成物
JPS58111384A (ja) * 1981-12-24 1983-07-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd レ−ザ管
JPS603170A (ja) * 1983-06-21 1985-01-09 Mitsubishi Electric Corp 無声放電式ガスレ−ザ装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63296382A (ja) * 1987-05-28 1988-12-02 Fanuc Ltd レ−ザ発振装置
JPH0444283A (ja) * 1990-06-07 1992-02-14 Fanuc Ltd レーザ発振装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0464476B2 (ja) 1992-10-15
DE3442898A1 (de) 1986-05-28

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