JPH0464476B2 - - Google Patents
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- JPH0464476B2 JPH0464476B2 JP60262724A JP26272485A JPH0464476B2 JP H0464476 B2 JPH0464476 B2 JP H0464476B2 JP 60262724 A JP60262724 A JP 60262724A JP 26272485 A JP26272485 A JP 26272485A JP H0464476 B2 JPH0464476 B2 JP H0464476B2
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- tubular body
- gas
- inlets
- laser according
- gas laser
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/07—Construction or shape of active medium consisting of a plurality of parts, e.g. segments
- H01S3/073—Gas lasers comprising separate discharge sections in one cavity, e.g. hybrid lasers
- H01S3/076—Folded-path lasers
-
- H—ELECTRICITY
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0975—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、レーザ光束に沿い流動するレーザガ
スを収容する管状体および少くとも2つのエネル
ギ供給用電極を有し、その場合レーザガス流を多
数の連続する分流に分割するため管状体に多数の
ガス入口および−出口が配置され、かつ管状体が
これら入口および出口により偶数の、少くとも2
つの流動区間に分割され、かつ隣接する流動区間
の入口並びに出口が合せられ、並びにそれぞれの
分流がそれぞれ1つのまたは共通の冷却装置を貫
流するガスレーザに関する。
スを収容する管状体および少くとも2つのエネル
ギ供給用電極を有し、その場合レーザガス流を多
数の連続する分流に分割するため管状体に多数の
ガス入口および−出口が配置され、かつ管状体が
これら入口および出口により偶数の、少くとも2
つの流動区間に分割され、かつ隣接する流動区間
の入口並びに出口が合せられ、並びにそれぞれの
分流がそれぞれ1つのまたは共通の冷却装置を貫
流するガスレーザに関する。
従来の技術
このようなレーザの作動に際し熱が生じ、これ
ができるだけ完全かつ迅速に導出される必要があ
る。低出力レーザの場合、熱導出の難点は、例え
ば工業的に薄鈑等の切断に使用されるような高出
力レーザの場合よりも明白にわずかである。熱が
不十分に導出されるにすぎない場合、このことが
結果として無視しえない出力低減を生じる。
ができるだけ完全かつ迅速に導出される必要があ
る。低出力レーザの場合、熱導出の難点は、例え
ば工業的に薄鈑等の切断に使用されるような高出
力レーザの場合よりも明白にわずかである。熱が
不十分に導出されるにすぎない場合、このことが
結果として無視しえない出力低減を生じる。
ガスレーザの場合、レーザ冷却が、レーザガス
を冷却することにより行なわれることがすでに公
知である。このことは、レーザガスが冷却循環系
中を流動し、この循環系が部分的に管状体により
形成されかつ循環系中に相応する冷却装置が配置
されていることを表わす。
を冷却することにより行なわれることがすでに公
知である。このことは、レーザガスが冷却循環系
中を流動し、この循環系が部分的に管状体により
形成されかつ循環系中に相応する冷却装置が配置
されていることを表わす。
発明が解決しようとする問題点
ところで本発明の課題は、前記せる種類のガス
レーザを、これが高出力で使用可能でありかつで
きるだけわずかな出力損失で作動するように発展
させることである。
レーザを、これが高出力で使用可能でありかつで
きるだけわずかな出力損失で作動するように発展
させることである。
問題点を解決するための手段
本発明によれば、この課題を解決するため、前
述のガスレーザにおいて、高周波エネルギを交差
入力する2つの電極が形成されかつこれらが管状
体の長手に沿い相互に対向して取付けられ、その
場合それぞれの電極が、管状体の長手方向に連続
的に配置された部分電極に分割され、かつ部分電
極対がそれぞれの分流に所属され、部分電極対が
管状体の円周方向に互いに転位して配置されかつ
最低1つの電極対または最低1つの区間が、ガス
流ないしはレーザ光線に対して旋回可能に配置さ
れていることが提案される。
述のガスレーザにおいて、高周波エネルギを交差
入力する2つの電極が形成されかつこれらが管状
体の長手に沿い相互に対向して取付けられ、その
場合それぞれの電極が、管状体の長手方向に連続
的に配置された部分電極に分割され、かつ部分電
極対がそれぞれの分流に所属され、部分電極対が
管状体の円周方向に互いに転位して配置されかつ
最低1つの電極対または最低1つの区間が、ガス
流ないしはレーザ光線に対して旋回可能に配置さ
れていることが提案される。
従つて、このガスレーザの場合、レーザガス
が、他の種類のレーザから公知の方法で冷却装置
を使用し冷却されるが、但しガス導管が特別な方
法で形成される。大体において、管状体中のガス
流が分流に分割され、これら分流が、それぞれ管
状体から導出されかつ再び供給されかつ連続的に
全ての管状体を満たす。もはやガスが管状体のわ
ずかに1部分の距離を貫流するにすぎないので、
ガスがそのわずかな滞留時間により1方で著るし
く昇温せず、かつこれにより他方で1つの位置だ
けでなく、多数の位置にそれぞれ冷却されたレー
ザガスが供給される。総じてこのことが、管状体
中の温度を低く維持しかつ目的とする出力増大を
惹起する。レーザガスの入口および出口を有利に
配置し並びに流動技術的に有利に形成しうるた
め、管状体の全長にわたつて延びる、高周波エネ
ルギ入力用の2つの電極の代りに、管状体の長手
方向に距離をおいて連続的に取付けられた部分電
極ないしは、とくに同じ長さの部分電極を有する
部分電極対を使用する。部分電極の対向距離は、
レーザガス用入口および出口の占有面積に応じ、
かつ少くとも、直線状に長手方向に延びる管状体
の場合はできるだけ小さくなければならない。
が、他の種類のレーザから公知の方法で冷却装置
を使用し冷却されるが、但しガス導管が特別な方
法で形成される。大体において、管状体中のガス
流が分流に分割され、これら分流が、それぞれ管
状体から導出されかつ再び供給されかつ連続的に
全ての管状体を満たす。もはやガスが管状体のわ
ずかに1部分の距離を貫流するにすぎないので、
ガスがそのわずかな滞留時間により1方で著るし
く昇温せず、かつこれにより他方で1つの位置だ
けでなく、多数の位置にそれぞれ冷却されたレー
ザガスが供給される。総じてこのことが、管状体
中の温度を低く維持しかつ目的とする出力増大を
惹起する。レーザガスの入口および出口を有利に
配置し並びに流動技術的に有利に形成しうるた
め、管状体の全長にわたつて延びる、高周波エネ
ルギ入力用の2つの電極の代りに、管状体の長手
方向に距離をおいて連続的に取付けられた部分電
極ないしは、とくに同じ長さの部分電極を有する
部分電極対を使用する。部分電極の対向距離は、
レーザガス用入口および出口の占有面積に応じ、
かつ少くとも、直線状に長手方向に延びる管状体
の場合はできるだけ小さくなければならない。
理論的には、レーザガスの分流をそれぞれ冷却
することができるが、但しこのことが比較的大き
い装置費用および所要面積を生じる。従つて有利
な解決は、遅くとも共通の冷却装置の入口でガス
分流を統合することである。同じことが、返流す
べき冷却された分流にも該当する。
することができるが、但しこのことが比較的大き
い装置費用および所要面積を生じる。従つて有利
な解決は、遅くとも共通の冷却装置の入口でガス
分流を統合することである。同じことが、返流す
べき冷却された分流にも該当する。
本発明の殊に有利な実施例は、管状体のそれぞ
れの終端部にガス入口が配置されていることであ
る。前記せるように、流入するガスは流出するガ
スよりも低温であり、かつ従つて管状体の2つの
終端部範囲内での低温空気分流の導入が管終端部
の低温維持をもたらす。この位置に、公知の方法
でレーザミラー、すなわち終端部ミラー、および
部分的に透過性のいわゆる出力ミラーが配置され
る。ミラーの取付け部材が感熱性であるので、管
状体は、これら範囲内の低温空気分流により冷却
するのが極めて有利である。他方でこのことは、
管状体の長手方向に見て全ての出口が前記入口間
に配置されることを表わす。管状体を最低2つの
流動区間に分割することにより2つのガス分流が
得られるのであるが、但しそのためにまた必然的
に相応に4つの入口および出口が配置される必要
はない。例えば、2つのガス分流の場合、2つの
入口および1つの出口で十分である。同じこと
が、多数の流動区間ないしは分流にも適用され
る。
れの終端部にガス入口が配置されていることであ
る。前記せるように、流入するガスは流出するガ
スよりも低温であり、かつ従つて管状体の2つの
終端部範囲内での低温空気分流の導入が管終端部
の低温維持をもたらす。この位置に、公知の方法
でレーザミラー、すなわち終端部ミラー、および
部分的に透過性のいわゆる出力ミラーが配置され
る。ミラーの取付け部材が感熱性であるので、管
状体は、これら範囲内の低温空気分流により冷却
するのが極めて有利である。他方でこのことは、
管状体の長手方向に見て全ての出口が前記入口間
に配置されることを表わす。管状体を最低2つの
流動区間に分割することにより2つのガス分流が
得られるのであるが、但しそのためにまた必然的
に相応に4つの入口および出口が配置される必要
はない。例えば、2つのガス分流の場合、2つの
入口および1つの出口で十分である。同じこと
が、多数の流動区間ないしは分流にも適用され
る。
大きいレーザ出力が、結果的に長い管状体とな
る。それにもかかわらずこのガスレーザを取扱い
にくい長さとしないため、本発明をさらに発展さ
せ、管状体がU字形の形状を有することが提案さ
れる。いわゆる“折たたまれた”(gefaltete)レ
ーザが、種々の種類の実施形態ですでに公知であ
る。このものは、前記せる2つの終端部ミラーの
ほかに付加的な偏向ミラーを有する。U字形の場
合、U字脚の長手軸に対し45°下に傾斜せる2つ
の偏向ミラーが必要である。これらミラーが、U
字脚からU字横桁への移行部に配置される。
る。それにもかかわらずこのガスレーザを取扱い
にくい長さとしないため、本発明をさらに発展さ
せ、管状体がU字形の形状を有することが提案さ
れる。いわゆる“折たたまれた”(gefaltete)レ
ーザが、種々の種類の実施形態ですでに公知であ
る。このものは、前記せる2つの終端部ミラーの
ほかに付加的な偏向ミラーを有する。U字形の場
合、U字脚の長手軸に対し45°下に傾斜せる2つ
の偏向ミラーが必要である。これらミラーが、U
字脚からU字横桁への移行部に配置される。
本発明の1実施例は、自由なU字脚終端部の範
囲内にも、またU字横桁に接続するU字脚終端部
の範囲内にもそれぞれ1つの入口が配置され、か
つU字脚の中央範囲内にそれぞれ1つの出口が配
置されることである。このことは、それぞれのU
字脚の分流が相互に向流し、かつこれらが共通の
出口を経て管状体から導出されることを表わす。
従つてこの実施例の場合、4つの入口および、大
体において2重出口として形成された2つの出口
で十分である。また明白に、できるだけ付近に隣
接する2つの個々の出口を備えることも考慮可能
であるが、但し“2重出口”を有する構造が有利
である。それぞれのU字脚が2つの区間ではな
く、3つまたはそれ以上の区間に分割されている
場合、前記実施例がこの実施形態にも同じく適用
される。
囲内にも、またU字横桁に接続するU字脚終端部
の範囲内にもそれぞれ1つの入口が配置され、か
つU字脚の中央範囲内にそれぞれ1つの出口が配
置されることである。このことは、それぞれのU
字脚の分流が相互に向流し、かつこれらが共通の
出口を経て管状体から導出されることを表わす。
従つてこの実施例の場合、4つの入口および、大
体において2重出口として形成された2つの出口
で十分である。また明白に、できるだけ付近に隣
接する2つの個々の出口を備えることも考慮可能
であるが、但し“2重出口”を有する構造が有利
である。それぞれのU字脚が2つの区間ではな
く、3つまたはそれ以上の区間に分割されている
場合、前記実施例がこの実施形態にも同じく適用
される。
本発明のもう1つの実施例によれば、自由U字
脚終端部の入口、およびU字横桁に接続するU字
脚終端部の入口、並びに2つの出口ないしは2重
出口が、流動状態に応じ統合されるかまたはそれ
ぞれ相互に、例えば短管を経て結合されることが
提案される。この方法で、4つの流動区間を有す
る実施形態の場合、冷却装置へのないしはこの装
置からの供給−および排出管の数が1つの供給管
および2つの返流管ないしは1つの分岐返流管に
低減される。これら導管の数は、6,8およびそ
れ以上の流動区間への分割が行なわれた場合明白
に増大する。しかし同じくこのような実施形態の
場合も、入口および出口が本発明の前記構造によ
り統合される。さらに、U字横桁に接続する区間
に対する冷却されたガス流の同時の供給がU字横
桁自体でも行なわれることができる。
脚終端部の入口、およびU字横桁に接続するU字
脚終端部の入口、並びに2つの出口ないしは2重
出口が、流動状態に応じ統合されるかまたはそれ
ぞれ相互に、例えば短管を経て結合されることが
提案される。この方法で、4つの流動区間を有す
る実施形態の場合、冷却装置へのないしはこの装
置からの供給−および排出管の数が1つの供給管
および2つの返流管ないしは1つの分岐返流管に
低減される。これら導管の数は、6,8およびそ
れ以上の流動区間への分割が行なわれた場合明白
に増大する。しかし同じくこのような実施形態の
場合も、入口および出口が本発明の前記構造によ
り統合される。さらに、U字横桁に接続する区間
に対する冷却されたガス流の同時の供給がU字横
桁自体でも行なわれることができる。
本発明の他の変法は、全ての部分電極が共通の
高周波発生装置に接続されていることを特徴とす
る。従つてまた部分的気流と同じく、部分電極の
回路が、電極の部分電極への分割にもかかわらず
不断に1つの発生装置を必要とするにすぎないよ
うに統合される。さらに殊に有利なのは、レーザ
ガスの分流が管状体を最低50m/秒の高速度で貫
流し、すなわち高速流レーザが挙げられることで
ある。すでに前記に詳説したように、管状体中の
ガスの加熱を最低に制限しかつ吸収された熱をで
きるだけ迅速に除去する必要がある。これら分流
により、一定の流速で管状体中のわずかな滞留時
間が達成され、かつこの滞留時間が、流速を殊に
大きく選択した場合に最小となる。
高周波発生装置に接続されていることを特徴とす
る。従つてまた部分的気流と同じく、部分電極の
回路が、電極の部分電極への分割にもかかわらず
不断に1つの発生装置を必要とするにすぎないよ
うに統合される。さらに殊に有利なのは、レーザ
ガスの分流が管状体を最低50m/秒の高速度で貫
流し、すなわち高速流レーザが挙げられることで
ある。すでに前記に詳説したように、管状体中の
ガスの加熱を最低に制限しかつ吸収された熱をで
きるだけ迅速に除去する必要がある。これら分流
により、一定の流速で管状体中のわずかな滞留時
間が達成され、かつこの滞留時間が、流速を殊に
大きく選択した場合に最小となる。
電極対をそれぞれ同じ方向に普通に配列した場
合、光束中の不均質なエネルギ分布が得られ、こ
のことが1方で収束性に不利に作用しかつ他方で
効率を低減させる。
合、光束中の不均質なエネルギ分布が得られ、こ
のことが1方で収束性に不利に作用しかつ他方で
効率を低減させる。
本発明により、部分電極対が管状体の円周方向
に互いに転位して配置されていることによつて、
ガス噴流中のできるだけ均質なエネルギ分布を有
するレーザをつくり出すことが達成される。
に互いに転位して配置されていることによつて、
ガス噴流中のできるだけ均質なエネルギ分布を有
するレーザをつくり出すことが達成される。
最低1つの電極対または最低1つの区間が、ガ
ス流ないしはレーザ光線に対して旋回可能に配置
されている本発明の特徴により、ガス噴流中のエ
ネルギ分布の形を調節することができ、たとえば
ピーク形の代りに楔形にすることができる。この
場合、所望のエネルギ形状に応じ、旋回を小さい
かまたは大きい角度で実施することができる。殊
に簡単な種類の旋回装置が、電極対またはそれら
の区間をガス管に固定結合しかつこれを多数の区
間に分割し、その最低1つの区間を旋回可能に取
付けた場合に得られる。この場合有利なのが、旋
回可能な電極ないしは管区間を調節装置に接続
し、その結果調節が制御装置またはプログラム制
御により実施されうることである。さらにまた、
作動工程中に意図せざる旋回を阻止するため、ロ
ツク装置が備えられる。
ス流ないしはレーザ光線に対して旋回可能に配置
されている本発明の特徴により、ガス噴流中のエ
ネルギ分布の形を調節することができ、たとえば
ピーク形の代りに楔形にすることができる。この
場合、所望のエネルギ形状に応じ、旋回を小さい
かまたは大きい角度で実施することができる。殊
に簡単な種類の旋回装置が、電極対またはそれら
の区間をガス管に固定結合しかつこれを多数の区
間に分割し、その最低1つの区間を旋回可能に取
付けた場合に得られる。この場合有利なのが、旋
回可能な電極ないしは管区間を調節装置に接続
し、その結果調節が制御装置またはプログラム制
御により実施されうることである。さらにまた、
作動工程中に意図せざる旋回を阻止するため、ロ
ツク装置が備えられる。
実施例
以下に、本発明を図面実施例につき詳説する。
このガスレーザは、有利に円形の内径−および
外径断面を有する管状体1を有し、この管状体中
にレーザガス、有利にCO2ガスもまたレーザ光束
も配置される。2つの終端部に、ミラーユニツト
3ないしは4は取付けられている。ミラーユニツ
ト4に終端ミラーが取付けられるとともに、ミラ
ーユニツト3に部分的に透過性のいわゆる出力ミ
ラーが配置される。この出力ミラーを経て、形成
されたレーザ光束が射出し、かつこの光束がレー
ザ供給管5を経て作業位置等に達する。有利に、
管状体1がU字形に形成され、それによりその長
さが半分に低減される。とりわけこのことが、レ
ーザ光束用の2つの偏向ミラー6および7の取付
けを必要とする。
外径断面を有する管状体1を有し、この管状体中
にレーザガス、有利にCO2ガスもまたレーザ光束
も配置される。2つの終端部に、ミラーユニツト
3ないしは4は取付けられている。ミラーユニツ
ト4に終端ミラーが取付けられるとともに、ミラ
ーユニツト3に部分的に透過性のいわゆる出力ミ
ラーが配置される。この出力ミラーを経て、形成
されたレーザ光束が射出し、かつこの光束がレー
ザ供給管5を経て作業位置等に達する。有利に、
管状体1がU字形に形成され、それによりその長
さが半分に低減される。とりわけこのことが、レ
ーザ光束用の2つの偏向ミラー6および7の取付
けを必要とする。
レーザ光束の形成に所要のエネルギが、管状体
に、相対向する2つの電極を経て供給され、従つ
て交差入力を有するガスレーザが挙げられる。こ
のレーザは、高周波発生装置8から生じる高周波
エネルギで作動される。
に、相対向する2つの電極を経て供給され、従つ
て交差入力を有するガスレーザが挙げられる。こ
のレーザは、高周波発生装置8から生じる高周波
エネルギで作動される。
本発明の特徴によれば、前記せるように管状体
の長手方向に延びかつ管状体のそれぞれ部分的外
周を包囲する2つの電極が、部分電極9,10,
11,12,13,14,15,16に分割され
ている。この場合、それぞれ同じ長さ、同じ大き
さ並びに同じ形状の部分電極9および10ないし
は11および12ないしは13および14ないし
は15および16が1つの部分電極対を形成す
る。全ての部分電極ないしは部分電極対が、1点
鎖線により示した導線を経て共通の唯一の高周波
発生装置8に接続されている。
の長手方向に延びかつ管状体のそれぞれ部分的外
周を包囲する2つの電極が、部分電極9,10,
11,12,13,14,15,16に分割され
ている。この場合、それぞれ同じ長さ、同じ大き
さ並びに同じ形状の部分電極9および10ないし
は11および12ないしは13および14ないし
は15および16が1つの部分電極対を形成す
る。全ての部分電極ないしは部分電極対が、1点
鎖線により示した導線を経て共通の唯一の高周波
発生装置8に接続されている。
電極だけでなく、公知の方法で管状体から導出
されかつ外部で冷却されるレーザガス流も分割さ
れ、それも詳しくは連続する部分流17,18,
19および20に分割されている。このことは、
レーザガスがそれぞれ管状体の1部分の距離を流
動するにすぎず、かつその後に冷却のため導出さ
れることを表わす。このレーザガス流の分割を実
施しうるため、管状体が多数のガス入口および−
出口を有する。それぞれの分流自体に1つの入口
および1つの出口が付属するが、但しこれらを少
くとも部分的に統合することもできる。ミラー部
分、それも詳しくはミラーユニツト3および4の
範囲内でもまた偏向ミラー6および7の範囲内で
も加熱されたレーザガスが有害である、それとい
うのもこれがミラーおよび/またはその調節に不
利に作用するので、実施例によれば、ミラーユニ
ツト3および4の範囲内にもまた偏向ミラー6お
よび7の範囲内にもそれぞれ1つの入口21,2
2,23,24を配置することが提案される。こ
の場合有利に、1方で入口21および22、他方
で入口23および24が、管路25ないしは26
等を経て流動状態に相応に相互に接続される。そ
れぞれの管路に供給管27ないしは28が導か
れ、これら供給管がブロワ29の1つのあるいは
また2つの別々の出口に接続され、このブロワが
冷却せるガスを場合により導管30を経てレーザ
ガス冷却装置31から吸入する。加熱されたレー
ザガスが、この冷却装置に、有利に共通の供給管
32を経て流入する。
されかつ外部で冷却されるレーザガス流も分割さ
れ、それも詳しくは連続する部分流17,18,
19および20に分割されている。このことは、
レーザガスがそれぞれ管状体の1部分の距離を流
動するにすぎず、かつその後に冷却のため導出さ
れることを表わす。このレーザガス流の分割を実
施しうるため、管状体が多数のガス入口および−
出口を有する。それぞれの分流自体に1つの入口
および1つの出口が付属するが、但しこれらを少
くとも部分的に統合することもできる。ミラー部
分、それも詳しくはミラーユニツト3および4の
範囲内でもまた偏向ミラー6および7の範囲内で
も加熱されたレーザガスが有害である、それとい
うのもこれがミラーおよび/またはその調節に不
利に作用するので、実施例によれば、ミラーユニ
ツト3および4の範囲内にもまた偏向ミラー6お
よび7の範囲内にもそれぞれ1つの入口21,2
2,23,24を配置することが提案される。こ
の場合有利に、1方で入口21および22、他方
で入口23および24が、管路25ないしは26
等を経て流動状態に相応に相互に接続される。そ
れぞれの管路に供給管27ないしは28が導か
れ、これら供給管がブロワ29の1つのあるいは
また2つの別々の出口に接続され、このブロワが
冷却せるガスを場合により導管30を経てレーザ
ガス冷却装置31から吸入する。加熱されたレー
ザガスが、この冷却装置に、有利に共通の供給管
32を経て流入する。
分流17および18の出口が、共通の出口に統
合されている。類似に、共通の出口34が分流1
9および20に備えられる。排出装置35中で、
2つの“2重出口”33および34が、概念的に
示した管路36を経て相互に接続され、この管路
自体が共通の供給管32に接続されている。有利
に、この供給管が、図面において例えば円形37
により表わされた位置に接続する。同じことが、
管路25および26にも該当する。管路25およ
び26の範囲内に有利に同じに形成された供給装
置38および39が、排出装置35に相応する。
合されている。類似に、共通の出口34が分流1
9および20に備えられる。排出装置35中で、
2つの“2重出口”33および34が、概念的に
示した管路36を経て相互に接続され、この管路
自体が共通の供給管32に接続されている。有利
に、この供給管が、図面において例えば円形37
により表わされた位置に接続する。同じことが、
管路25および26にも該当する。管路25およ
び26の範囲内に有利に同じに形成された供給装
置38および39が、排出装置35に相応する。
第2図による実施例において、電極対40〜4
3が、ガス流中のできるだけ均質なエネルギ分布
を得るため、第3図から明白なように管状体1の
円周方向に食違いに配置されている。電極対の角
度位置を相互に任意に調節しうるため、図示され
ていないが、電極対の配置された管部材が他の管
部材に対し旋回可能に配置され、その場合これら
電極対が所属の管部材に固定されている。第4図
は、管部材に歯車44が取付けられ、この歯車に
ピニオン45が嵌まることを示す。このピニオン
が図示せざる調節装置に接続され、調節装置自体
がプログラム制御装置等に接続されていることが
できる。
3が、ガス流中のできるだけ均質なエネルギ分布
を得るため、第3図から明白なように管状体1の
円周方向に食違いに配置されている。電極対の角
度位置を相互に任意に調節しうるため、図示され
ていないが、電極対の配置された管部材が他の管
部材に対し旋回可能に配置され、その場合これら
電極対が所属の管部材に固定されている。第4図
は、管部材に歯車44が取付けられ、この歯車に
ピニオン45が嵌まることを示す。このピニオン
が図示せざる調節装置に接続され、調節装置自体
がプログラム制御装置等に接続されていることが
できる。
第1図および第2図は本発明による装置のそれ
ぞれ1実施例を示す略示縦断面図、第3図はそれ
ぞれの電極対の角度位置を例示する横断面図、お
よび第4図は管部材の旋回駆動装置の1実施例を
略示する横断面図である。 1……管状体、3,4……ミラーユニツト、5
……レーザ供給管、6,7……偏向ミラー、8…
…高周波発生装置、9〜16……部分電極、9,
10,11,12,13,14,15,16……
部分電極対、17〜20……レーザガスの部分
流、21〜24……ガス入口、25,26……管
路、27,28……ガス供給管、29……ブロ
ワ、30……ガス導管、31……ガス冷却装置、
32……ガス供給管、33,34……共通のガス
出口、35……ガス排出装置、36……管路、3
7……供給管接続位置、38,39……ガス供給
装置、40〜43……電極対、44……歯車、4
5……ピニオン。
ぞれ1実施例を示す略示縦断面図、第3図はそれ
ぞれの電極対の角度位置を例示する横断面図、お
よび第4図は管部材の旋回駆動装置の1実施例を
略示する横断面図である。 1……管状体、3,4……ミラーユニツト、5
……レーザ供給管、6,7……偏向ミラー、8…
…高周波発生装置、9〜16……部分電極、9,
10,11,12,13,14,15,16……
部分電極対、17〜20……レーザガスの部分
流、21〜24……ガス入口、25,26……管
路、27,28……ガス供給管、29……ブロ
ワ、30……ガス導管、31……ガス冷却装置、
32……ガス供給管、33,34……共通のガス
出口、35……ガス排出装置、36……管路、3
7……供給管接続位置、38,39……ガス供給
装置、40〜43……電極対、44……歯車、4
5……ピニオン。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 レーザ光束に沿い流動するレーザガスを収容
する管状体1および少くとも2つのエネルギ供給
用電極を有し、その場合レーザガス流を多数の連
続する分流17,18,19,20に分割するた
め管状体1に多数のガス入口および−出口21〜
24,33,34が存在し、かつ管状体1がこれ
ら入口および出口により偶数の、少くとも2つの
流動区間に分割され、かつ隣接する流動区間の入
口並びに出口が合せられており、並びにそれぞれ
の分流がそれぞれ1つのまたは共通の冷却装置3
1を貫流する装置において、高周波エネルギを交
差入力する2つの電極が形成されかつこれらが管
状体の長手方向に相互に対向して取付けられ、そ
の場合それぞれの電極は、管状体の長手方向に連
続的に配置された部分電極9〜16に分割され、
かつ各分流17〜20に1つの部分電極対9,1
0,11,12;13,14,15,16が所属
され、部分電極対40,41,42,43が管状
体1の円周方向に互いに転位して配置されかつ少
なくとも1つの電極対40〜43または少なくと
も1つの区間が、ガス流ないしはレーザ光束に対
して旋回可能に配置されていることを特徴とする
高周波エネルギの交差入力装置を有するガスレー
ザ。 2 管状体1がU字形の形状を有することを特徴
とする、特許請求の範囲第1項記載のガスレー
ザ。 3 自由U字脚終端部の範囲内にもまたU字横桁
に接続するU字脚終端部の範囲内にもそれぞれ1
つの入口21,22,23,24が配置され、か
つU字脚の中央範囲内にそれぞれ1つの出口3
3,34が配置されていることを特徴とする、特
許請求の範囲第2項記載のガスレーザ。 4 自由U字脚終端部の入口21,22、および
U字横桁に接続するU字脚終端部の入口23,2
4、並びに2つの出口33,34が、流れに従つ
て統合されるかまたはそれぞれ相互に接続されて
いることを特徴とする、特許請求の範囲第3項記
載のガスレーザ。 5 全ての部分電極9〜16が共通の高周波発生
装置8に接続されていることを特徴とする、特許
請求の範囲第1項から第4項までのいずれか1項
に記載のガスレーザ。 6 管状体1の両終端部のそれぞれにガス入口2
1,22が配置されている、特許請求の範囲第1
項から第5項までのいずれか1項記載のガスレー
ザ。 7 電極対40〜43またはその区間が管状体1
に固定結合され、かつこの管状体が多数の区間に
分割され、その最低1つが旋回可能に取付けられ
ている、特許請求の範囲第6項記載のガスレー
ザ。 8 旋回可能に取付けられた電極対40〜43な
いしは電極対を支持する管部材に調節装置44,
45が結合されている、特許請求の範囲第1項か
ら第7項までのいずれか1項に記載のガスレー
ザ。 9 旋回可能な電極対ないしは、電極対を支持す
る旋回可能な管部材に、ロツク装置が備えられて
いる、特許請求の範囲第1項から第8項までのい
ずれか1項に記載のガスレーザ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19843442898 DE3442898A1 (de) | 1984-11-24 | 1984-11-24 | Gas-laser mit quereinkopplung von hochfrequenzenergie |
DE3442898.4 | 1984-11-24 | ||
DE8526361.3 | 1985-09-14 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61198694A JPS61198694A (ja) | 1986-09-03 |
JPH0464476B2 true JPH0464476B2 (ja) | 1992-10-15 |
Family
ID=6251057
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26272485A Granted JPS61198694A (ja) | 1984-11-24 | 1985-11-25 | 高周波エネルギの交差入力装置を有するガスレ−ザ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61198694A (ja) |
DE (1) | DE3442898A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3643735A1 (de) * | 1986-12-20 | 1988-07-07 | Tzn Forschung & Entwicklung | Gastransportlaser |
JPS63296382A (ja) * | 1987-05-28 | 1988-12-02 | Fanuc Ltd | レ−ザ発振装置 |
JP2706557B2 (ja) * | 1990-06-07 | 1998-01-28 | ファナック株式会社 | レーザ発振装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5478098A (en) * | 1977-12-05 | 1979-06-21 | Hitachi Ltd | Laser equipment of gas flow type |
JPS55113391A (en) * | 1979-02-21 | 1980-09-01 | Hitachi Ltd | Gas flow type laser device |
JPS576261B2 (ja) * | 1974-07-16 | 1982-02-04 | ||
JPS5840351A (ja) * | 1981-09-03 | 1983-03-09 | Dainippon Ink & Chem Inc | 硬化性樹脂組成物 |
JPS58111384A (ja) * | 1981-12-24 | 1983-07-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レ−ザ管 |
JPS603170A (ja) * | 1983-06-21 | 1985-01-09 | Mitsubishi Electric Corp | 無声放電式ガスレ−ザ装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5839396B2 (ja) * | 1978-08-25 | 1983-08-30 | 株式会社日立製作所 | ガスレ−ザ発生装置 |
JPS576261U (ja) * | 1980-06-11 | 1982-01-13 | ||
JPS5986277A (ja) | 1982-11-10 | 1984-05-18 | Hitachi Ltd | ガスレ−ザ発生装置 |
JPS59136983A (ja) | 1983-01-26 | 1984-08-06 | Hitachi Ltd | ガスレ−ザ発生装置 |
DE3422525A1 (de) * | 1984-06-16 | 1986-02-13 | Trumpf GmbH & Co, 7257 Ditzingen | Gefalteter co(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts)-laser |
-
1984
- 1984-11-24 DE DE19843442898 patent/DE3442898A1/de not_active Ceased
-
1985
- 1985-11-25 JP JP26272485A patent/JPS61198694A/ja active Granted
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS576261B2 (ja) * | 1974-07-16 | 1982-02-04 | ||
JPS5478098A (en) * | 1977-12-05 | 1979-06-21 | Hitachi Ltd | Laser equipment of gas flow type |
JPS55113391A (en) * | 1979-02-21 | 1980-09-01 | Hitachi Ltd | Gas flow type laser device |
JPS5840351A (ja) * | 1981-09-03 | 1983-03-09 | Dainippon Ink & Chem Inc | 硬化性樹脂組成物 |
JPS58111384A (ja) * | 1981-12-24 | 1983-07-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レ−ザ管 |
JPS603170A (ja) * | 1983-06-21 | 1985-01-09 | Mitsubishi Electric Corp | 無声放電式ガスレ−ザ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61198694A (ja) | 1986-09-03 |
DE3442898A1 (de) | 1986-05-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |