JPS61196423A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気記録媒体に係り、より詳細には磁気ディス
ク装置、磁気ドラム装置等の磁気記録装置に用いられる
もので、表面に保護層を備えた磁気記録媒体およびその
製造方法に関する。

（従来技術） 一般に、この種の磁気記録装置では、記録再生用磁気ヘ
ッドと磁気記録媒体とを利用して記録再生が行われてい
る。このとき、記録再生用磁気ヘッドと磁気記録媒体は
互いに静的或いは動的接触乃至押圧下で利用されるため
、接触摩擦状態が現出するので、磁気記録媒体の非磁性
基盤上に形成されている磁性薄膜を保護するべく、表面
に保護皮膜を被覆して保護層を形成する必要がある。

この保護層は、その目的とするところから、いわゆる耐
ヘツドクランシュ性、耐摩耗性、潤滑性、耐環境（高温
高湿）性、及び下地磁性体に対する磁気特性非影響性等
々の特性を具備していなければならないものである。

従来、このような保護膜として、Ｎ１−Ｐ合金めっ３膜
を記録媒体の保護膜として用いることは公知である。こ
れはＮ１−Ｐ合金めっき膜の硬度が比較的太きく、Ｃｒ
めっき膜やＲｈめっき膜と同様に耐摩耗性材料としての
性質があるためである。しかし、これら硬質めっき保護
膜はヘッドとディスクの間で生じる摩擦に対する耐摩耗
性が十分でなく、実用化は難しい。また、保護膜として
５ｉ０２をスパッタ法により磁気記録媒体の表面に形成
する方法も提案されている。しかし、このスパッタ法に
おいても対ヘツドクラッシュ性等に欠ける皮膜しか得ら
れず、しかも、スパッタ法を用いる限り、賃産性、製作
費などの欠点を免れず、技術的にもコスト的にも問題が
あった。

（発明の目的） 本発明は、このような従来の方法により形成された保護
皮膜の欠点を解消し、簡便かつ安価に保護層として良好
な諸特性を具備した保護皮膜を有する磁気記録媒体、お
よびその製造方法を提供することを目的とするものであ
る。

（発明の構成） かかる目的達成のため、各種コーテイング材について研
究を重ねた結果、シリコーン樹脂の適用可能性に着目し
、中でもケイ素官能型シリルイソシアネートより形成さ
れる皮膜の利用が実用上有効であることを見い出した。

ケイ素官能型シリルイソシアネートとは次のような化合
物を指す、即ち、アルキルシリルイソシアネート系化合
物〔ＲｎＳｉ（ＮＣＯ）　４−ｎ）とその縮合物（たと
えばメチルシリルトリイソシアネート（ＣＨ３５ｉ（Ｎ
ＧＯ）　３　）などがある、〕、アルコキシシランイソ
シアネート系化合物（（ＲＯ）ｎｓｉ　（ＮＧＯ）　４
−ｎ）とその縮合物（たとえば、メトキシシラントリイ
ソシアネー）　ＣＣＨ３０Ｓｉ（ＮＧＯ）３）などがあ
る。〕、テトライソシアネート化合物（Ｓｉ（ＮＧｏ）
４）とその縮合物（たとえば、テトライソシアネートシ
ラン（Ｓｉ（ＮＧＯ）　４）などがある。）などであり
、最終皮膜形成物としてポリ硅酸やオルガノポリシロキ
サンを形成し得るものを含有するものである。上述のケ
イ素官能型シリルイソシアネートは下記のような加水分
解反応によって、皮膜を形成し、これを加熱することに
よって重合体機としては■塩素の残留が無い。■副生成
物の混入が無い。■触媒及びその分解物の残留が無い。

・４）アルカリ金属の混入が無い、（Φ重縮合物の混入
が無い。■無色・透明で懸濁物・浮遊物が無いなどの性
質を具備する。

未発明は、この加熱により形成される重合体皮膜が保護
膜として有用である事を見い出したものである。

以下に本発明の方法について詳細に説明する。

本発明における非磁性基盤はアルミニウムおよびアルミ
ニウム合金などの金属のほか、ガラスやセラミックス基
盤または樹脂基盤であっても良い、いずれの場合も基盤
表面は鏡面仕上げが必要である。

また磁性媒体は金属磁性体であっても酸化物磁性体でも
良く、通常使用されているメッキ、蒸着、スパッタリン
ク、ＣＶＤ塗布等によって得られる薄膜磁性体であれば
良い。

ケイ素官能型シリルインシアネートはエステル溶媒中に
溶解０稀釈されて使用される。すなわち稀釈液を磁気記
録媒体にコーティングし、乾燥後加熱処理する事により
、皮膜を形成する。

皮膜は厚い程磁性媒体の保護に有利であるが、半面記録
、再生にとっては磁気記録媒体と記録再生用磁気ヘッド
との間隔が少ない程、有利な訳であり、皮膜を必要以上
に厚くする事は好ましくない。すなわち皮膜は可能な限
り薄い方が好ましくコーティング法としてはスピンコー
ド法が好ましい。

本発明者らは、この樹脂を磁気記録媒体にコーティング
（回転塗布）する際の諸条件について調へた。まず溶媒
は、かかるケイ素官能型シリルイソシアネートと任意に
反応せず、しかも基盤上に吐出された溶液が蒸発する量
を最少に抑えて均一に薄膜をコーティングするために、
エステル類、特にｎ−酢酸ブチルが有用である事を見い
出した。

ミ　１し その低利用可能なエステルとしては、酢酸ア汐１（ＣＨ
３ＣＯＯＣ５Ｈｌｌ　）　、　ｘチルブチレート（ＣＨ
３ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＣ２Ｈ５）　、　インアミルイソ
バニレート（ＣＣＨ３）　２　ＣＨＣＨ２ＣＯＯＣｓ　
Ｈｕ　）などがある、このほかにはｎ−ヘキサン等も使
用可能である。溶液の濃度としては、保護皮膜の膜厚が
できるだけ薄いことが肝要であることを考慮し、　１〜
２０ｗｔ％が好ましい。磁気記録媒体の保護皮膜として
は、高温で長い時間焼成する程その膜質は強固になるが
、磁気記録媒体の場合磁性薄膜下に非磁性材（Ｎｉ−Ｐ
層）を被覆する場合がありその強磁性化を考慮して、　
２６０°Ｃ以下であることが一般に望ましいとされてい
る。但しより熱変化の少ない合金基盤、非磁性合金層お
よび磁性薄膜媒体の組合せを用いる場合は上記温度に制
限されないことは明らかである。

次に実施例により本発明を説明する。

実施例 ディスク状アルミニウム合金円盤上にＮ１−Ｐ非磁性合
金を約５０ＪＬｍの厚さにメッキし、このＮ１−Ｐめっ
き膜を機械的研磨により鏡面仕上げした後。

その上にＧｏ−Ｎ　ｉ−Ｐの磁性合金を約０．０５〜０
．０８　ｐ、　ｍの厚さに、メッキした。さらに、この
Ｇｏ−Ｘｉ−Ｐ金属磁性合金層の上に表１に示した組成
物溶液を十分に混合し、ごみまたは析出した５ｉ０２等
不純物を濾過膜を通して取り除いた後、回転塗布法によ
り塗布した。すなわち、前記ディスク状円盤を３０Ｏｒ
ｐｍの速度で回転させながら、表１に示す溶液を内径周
囲部に滴下させ、溶液が遠心力によりディスク状円盤の
外側へ十分広がった後、２５００ｒｐｍの速度で高速回
転させ、吐出された溶液の溶媒が蒸発するにつれ、約０
．０１〜０．１　ｕＬｍの膜厚の皮膜が形成された。こ
れを温度２５℃でしばらく放置した後、　２００　’Ｃ
で１時間加熱し、硅酸系保護膜をディスク状円盤」二に
形成した。

次にＬ記により保護膜を形成した各ディスク状円盤につ
いて、　０．０３Ｈのサファイア針による引ｆｊｌ試験
を実施し、引掻傷を生じる荷重を測定した。

また、Ｃ５５（コンタクトスタートストップ）試験を実
施した。

これらの結果を表２に示す。

比較のため表１に示す従来技術による保護膜について同
様の試験を実施し、結果を表２に併記する。

（以下余白） また各磁気ディスクの磁気特性を調べたところ、いずれ
も保護膜形成前後において磁気特性の変化は認められな
かった。

（発明の効果） 以上詳述したことから明らかなように、本発明の如き、
磁気記録媒体の保護層としてケイ粗官能型シリルイソシ
アネートの加水分解皮膜を用いる磁気ディスクはより優
れた信頼性を有していることが明らかとなり、実用的効
果は大きい。

また本発明の方法による場合は比較的低い温度の加熱で
強固な硅酸皮膜を得ることができるため、磁気特性を劣
化させることなく有効な保護膜を得ることができる。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）鏡面研磨された非磁性基盤上に薄膜磁性媒体が被
   覆された磁気記録媒体において、薄膜磁性媒体表面にケ
   イ素官能型シリルイソシアネートの加水分解物皮膜を設
   けたことを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）鏡面研磨された非磁性基盤上に磁性媒体薄膜を沈
   着し、次いで該磁性媒体薄膜表面にケイ素官能型シリル
   イソシアネートのエステル溶液を塗布して加熱乾燥する
   ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
3. （３）エステル溶液中のケイ素官能型シリルイソシアネ
   ートの濃度が１〜２０重量％であることを特徴とする特
   許請求の範囲第２項記載の磁気記録媒体の製造方法。
4. （４）ケイ素官能型シリルイソシアネートが、アルキル
   シリルイソシアネート系化合物〔ＲｎＳｉ（ＮＣＯ）４
   −ｎ〕、アルコキシランイソシアネート系化合物〔（Ｒ
   Ｏ）ｎＳｉ（ＮＣＯ）＿４−ｎ〕、テトライソシアネー
   ト系化合物〔Ｓｉ（ＮＣＯ）＿４〕またはこれらの縮合
   物であることを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の
   磁気記録媒体の製造方法。