JPS61194176A - 薄膜形成装置用基板ホルダ - Google Patents
薄膜形成装置用基板ホルダInfo
- Publication number
- JPS61194176A JPS61194176A JP3437185A JP3437185A JPS61194176A JP S61194176 A JPS61194176 A JP S61194176A JP 3437185 A JP3437185 A JP 3437185A JP 3437185 A JP3437185 A JP 3437185A JP S61194176 A JPS61194176 A JP S61194176A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate holder
- substrate
- holder
- thin film
- film forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は薄膜形成装置に用いる基板ホルダに係り、特に
、基板ホルダの電気的熱的絶縁構造に関する。
、基板ホルダの電気的熱的絶縁構造に関する。
薄膜形成装置において、直流電流または高周波電位を印
加でき同時に加熱できる基板ホルダを設ける場合、真空
容器と基板ホルダの間の電気的熱的絶縁は、従来は、基
板ホルダの真空容器への取付部に絶縁体からなる部品を
介して基板ホルダを真空容器に取付けるという方法によ
り行なわれている。
加でき同時に加熱できる基板ホルダを設ける場合、真空
容器と基板ホルダの間の電気的熱的絶縁は、従来は、基
板ホルダの真空容器への取付部に絶縁体からなる部品を
介して基板ホルダを真空容器に取付けるという方法によ
り行なわれている。
第2図は、従来の基板ホルダの一例を示す。基板1は基
板ホルダ10に保持され、基板ホルダ10の内部には基
板ホルダ加熱用ヒータ15が内蔵されている。基板ホル
ダ10は絶縁体からなる真空シールを兼ねた部品30に
より真空容器5゜に取付けられ、基板ホルダ10と真空
容器の間の電気的熱的絶縁が行なわれている。また、基
板ホルダ10の周囲には基板ホルダ10の全体を覆うよ
うに、アースシールド板5が設定されている。
板ホルダ10に保持され、基板ホルダ10の内部には基
板ホルダ加熱用ヒータ15が内蔵されている。基板ホル
ダ10は絶縁体からなる真空シールを兼ねた部品30に
より真空容器5゜に取付けられ、基板ホルダ10と真空
容器の間の電気的熱的絶縁が行なわれている。また、基
板ホルダ10の周囲には基板ホルダ10の全体を覆うよ
うに、アースシールド板5が設定されている。
この構造では、基板1が真空容器5oより離れた位置に
設定される場合、基板ホルダ10の長さが長くなる。つ
まり、基板ホルダの長さが長くなると、ヒータ15によ
り基板ホルダ10が加熱されるため、ヒータ容量を大き
くする必要があり、また、直流電流または高周波電位に
浮く基板ホルダ10が大きくなるため、その周囲のアー
スシールド板5の寸法も大きくする必要があった。
設定される場合、基板ホルダ10の長さが長くなる。つ
まり、基板ホルダの長さが長くなると、ヒータ15によ
り基板ホルダ10が加熱されるため、ヒータ容量を大き
くする必要があり、また、直流電流または高周波電位に
浮く基板ホルダ10が大きくなるため、その周囲のアー
スシールド板5の寸法も大きくする必要があった。
なお、この種の装置として関連するものには。
例えば、米国特許第3 、749 、662号等が挙げ
られる。
られる。
本発明の目的は、薄膜形成装置において、直流提供する
ことにある。
ことにある。
本発明は、直流電流または高周波電位を印加でき同時に
加熱できる基板ホルダで、基板ホルダの真空容器固定部
と、基板ホルダの基板を保持する部分の中間の、基板ホ
ルダ支持部に、電気的熱的な絶縁構造を具備することを
特徴とする。基板ホルダの長さが長くなった場合、基板
加熱用ヒータの容量を小さくおさえることができ、かつ
、基板ホルダのアースシールド板を小さくし、基板ホル
ダの構造を簡単化できる。
加熱できる基板ホルダで、基板ホルダの真空容器固定部
と、基板ホルダの基板を保持する部分の中間の、基板ホ
ルダ支持部に、電気的熱的な絶縁構造を具備することを
特徴とする。基板ホルダの長さが長くなった場合、基板
加熱用ヒータの容量を小さくおさえることができ、かつ
、基板ホルダのアースシールド板を小さくし、基板ホル
ダの構造を簡単化できる。
以下、本発明の一実施例を第1図、及び第3図により説
明する。第1図において基板1を保持する基板ホルダ1
0は絶縁体からなる基板取付部材30およびアース電位
にある基板ホルダ支持部7を介して真空容器50へ取付
けられている。アースシールド6はアース電位にある基
板ホルダ支持部7ト取付けられている。基板加熱用ヒー
タ15+i絶縁体からなる基板ホルダ取付は部材を貫通
し。
明する。第1図において基板1を保持する基板ホルダ1
0は絶縁体からなる基板取付部材30およびアース電位
にある基板ホルダ支持部7を介して真空容器50へ取付
けられている。アースシールド6はアース電位にある基
板ホルダ支持部7ト取付けられている。基板加熱用ヒー
タ15+i絶縁体からなる基板ホルダ取付は部材を貫通
し。
大気中へ引出されている。また、基板ホルダ10への直
流電流または高周波電位の印加は、絶縁体からなる基板
ホルダ取付部材30を貫通しており、かつ、基板ホルダ
10に接続されているリード線12により行なわれてい
る。
流電流または高周波電位の印加は、絶縁体からなる基板
ホルダ取付部材30を貫通しており、かつ、基板ホルダ
10に接続されているリード線12により行なわれてい
る。
従来例によれば、基板1と真空容器50の距離が長くな
った場合、基板ホルダ10の大きさも大きくなり、基板
ホルダ10の体積も大きくなる。
った場合、基板ホルダ10の大きさも大きくなり、基板
ホルダ10の体積も大きくなる。
従って、基板1を所定の温度へ加熱するには、基板ホル
ダ10の体積増大に伴う基板ホルダ10の熱容量の増大
、および、基板ホルダ10の大きさの増大に伴う基板ホ
ルダ10の表面よりの熱放射の増大により、基板加熱用
ヒータの容量を増大させる必要がある。また、アースシ
ールド板5の長さも基板ホルダ10jこ合せて長くする
必要がある。
ダ10の体積増大に伴う基板ホルダ10の熱容量の増大
、および、基板ホルダ10の大きさの増大に伴う基板ホ
ルダ10の表面よりの熱放射の増大により、基板加熱用
ヒータの容量を増大させる必要がある。また、アースシ
ールド板5の長さも基板ホルダ10jこ合せて長くする
必要がある。
本発明によれば、基板1と真空容器50の距離が長くな
った場合でも、その距離に関係なく基板−ホルダ10の
大きさは一定にしておき、アース電位にある基板ホルダ
支持部7の長さを調節することにより、基板1と真空容
器50の距離を設定できる。そのため、基板ホルダ10
の熱容量や、基板ホルダ10の表面積を一定に保てるの
で、基板加熱用ヒータの容量を大きくする必要がなくな
る。
った場合でも、その距離に関係なく基板−ホルダ10の
大きさは一定にしておき、アース電位にある基板ホルダ
支持部7の長さを調節することにより、基板1と真空容
器50の距離を設定できる。そのため、基板ホルダ10
の熱容量や、基板ホルダ10の表面積を一定に保てるの
で、基板加熱用ヒータの容量を大きくする必要がなくな
る。
また、アースシールド板5は、アース電位にある基板ホ
ルダ支持部7に取付けられているため、基板1と真空容
器50の距離が変っても、アースシールド板5の形状を
変更する必要がなくなる。
ルダ支持部7に取付けられているため、基板1と真空容
器50の距離が変っても、アースシールド板5の形状を
変更する必要がなくなる。
第3図は、第1図の変形実施例を示す。
第3図に示す変形実施例では、基板ホルダ10とアース
電位にある基板ホルダ支持部7の間の電気的熱的絶縁を
とるための部材に、リング状形状を持った絶縁体からな
る基板ホルダ取付部材31を用いている。この構造の採
用により、基板加熱用ヒータ15およびリード線12を
絶縁体からなる基板ホルダ取付用部材に貫通させる構造
をなくすことができる6図中60はOリングである。
電位にある基板ホルダ支持部7の間の電気的熱的絶縁を
とるための部材に、リング状形状を持った絶縁体からな
る基板ホルダ取付部材31を用いている。この構造の採
用により、基板加熱用ヒータ15およびリード線12を
絶縁体からなる基板ホルダ取付用部材に貫通させる構造
をなくすことができる6図中60はOリングである。
また1本実施例によれば、基板ホルダ支持部に設けた電
気的熱的な絶縁構造の部分にアースシールド板を設ける
ことにより、基板と真空容器の距離が変わっても、アー
スシールドの形状を変更する必要がない。
気的熱的な絶縁構造の部分にアースシールド板を設ける
ことにより、基板と真空容器の距離が変わっても、アー
スシールドの形状を変更する必要がない。
本発明によれば、基板ホルダ部分の大きさを基板と真空
容器の距離に関係なく一定にできるため、基板と真空容
器の距離が長くなっても基板加熱用ヒータの容量を大き
くする必要がない。
容器の距離に関係なく一定にできるため、基板と真空容
器の距離が長くなっても基板加熱用ヒータの容量を大き
くする必要がない。
第1図は本発明の一実施例基板ホルダの一実施例を示す
基板ホルダ周辺部の縦断面図、第2図は従来の基板ホル
ダの縦断面図、第3図は本発明の他の実施例を示す断面
図である。
基板ホルダ周辺部の縦断面図、第2図は従来の基板ホル
ダの縦断面図、第3図は本発明の他の実施例を示す断面
図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、真空容器と、この真空容器内に置かれた蒸発源と、
前記真空容器内に前記蒸発源と対向して置かれ、直流電
流、または高周波電位を印加することができ同時に加熱
できる基板ホルダにおいて、前記真空容器の固定部と、
前記基板ホルダの基板を保持する部分の中間の支持部に
、電気的、熱的な絶縁構造を具備することを特徴とする
薄膜形成装置基板ホルダ。 2、特許請求の範囲第1項において、 前記基板ホルダの支持部に設けた電気的、熱的な前記絶
縁構造の部分に、アースシールド板を設けたことを特徴
とする薄膜形成装置用基板ホルダ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3437185A JPS61194176A (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | 薄膜形成装置用基板ホルダ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3437185A JPS61194176A (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | 薄膜形成装置用基板ホルダ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61194176A true JPS61194176A (ja) | 1986-08-28 |
Family
ID=12412308
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3437185A Pending JPS61194176A (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | 薄膜形成装置用基板ホルダ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61194176A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6402850B1 (en) * | 1993-01-13 | 2002-06-11 | Applied Materials, Inc. | Depositing polysilicon films having improved uniformity and apparatus therefor |
-
1985
- 1985-02-25 JP JP3437185A patent/JPS61194176A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6402850B1 (en) * | 1993-01-13 | 2002-06-11 | Applied Materials, Inc. | Depositing polysilicon films having improved uniformity and apparatus therefor |
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