JPS61193890A - レ−ザ−マ−カ− - Google Patents
レ−ザ−マ−カ−Info
- Publication number
- JPS61193890A JPS61193890A JP3503485A JP3503485A JPS61193890A JP S61193890 A JPS61193890 A JP S61193890A JP 3503485 A JP3503485 A JP 3503485A JP 3503485 A JP3503485 A JP 3503485A JP S61193890 A JPS61193890 A JP S61193890A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- marking
- laser beam
- magnification
- variable
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/24—Ablative recording, e.g. by burning marks; Spark recording
Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の目的
産業上の利用分野
本発明は、種々の物品上に標識を刻印するためのレーザ
ーマーカーに関するものである。
ーマーカーに関するものである。
従来の技術
レーザーマーカーは、半導体ウェハなど小型の物品に品
名、製造ロフト番号、管理番号等の標識を刻印する装置
などとして汎用されている。
名、製造ロフト番号、管理番号等の標識を刻印する装置
などとして汎用されている。
従来、マーキング深さの調整方法として、電源電圧の制
御によってレーザー光源の平均出力を変化させる方法、
マーキング面と焦点との相対位置を変化させる方法、マ
ーキング走査速度とレーザーパルスの繰り返し周期との
組合せでドツトの重ね合せ比率を変化させる方法、ビー
ムエキスパンダーで照射ビームの径を変化させる方法な
どが知られている。
御によってレーザー光源の平均出力を変化させる方法、
マーキング面と焦点との相対位置を変化させる方法、マ
ーキング走査速度とレーザーパルスの繰り返し周期との
組合せでドツトの重ね合せ比率を変化させる方法、ビー
ムエキスパンダーで照射ビームの径を変化させる方法な
どが知られている。
発明が解決しよとする問題点
上記従来のマーキング深さの調整方法のうち、電源電圧
の制御でレーザービームの平均出力を変化させたり、マ
ーキング面と焦点との相対位置を変化させたりするもの
は、安定性の点で問題があり、文字切れ等の不良が生じ
やすい。
の制御でレーザービームの平均出力を変化させたり、マ
ーキング面と焦点との相対位置を変化させたりするもの
は、安定性の点で問題があり、文字切れ等の不良が生じ
やすい。
マーキング走査速度とレーザーパルスの繰り返し周期と
の組合せでドツトの重ね合せ比率を変化させる方法は、
数十μｍから数百μｍの範囲にわたってマーキング深さ
を制御するのには効果的であるが、１μｍ以下の範囲に
わたるマーキング深さの調整ができないという難点があ
る。また、この方法では、マーキング走査速度とパルス
の繰り返し周期の比率の選択や制御を誤ると、マーキン
グがドツト化してしまうという問題もある。
の組合せでドツトの重ね合せ比率を変化させる方法は、
数十μｍから数百μｍの範囲にわたってマーキング深さ
を制御するのには効果的であるが、１μｍ以下の範囲に
わたるマーキング深さの調整ができないという難点があ
る。また、この方法では、マーキング走査速度とパルス
の繰り返し周期の比率の選択や制御を誤ると、マーキン
グがドツト化してしまうという問題もある。
ビームエキスパンダーによる方法は、要求されるマーキ
ング深さごとに異なる倍率のビームエキスパンダーを用
意しなければならず、マーキング深さの範囲が広くなる
につれてビームエキスパンダーの所要点数が多くなり、
また、交換作業が繁雑になるという問題がある。
ング深さごとに異なる倍率のビームエキスパンダーを用
意しなければならず、マーキング深さの範囲が広くなる
につれてビームエキスパンダーの所要点数が多くなり、
また、交換作業が繁雑になるという問題がある。
発明の構成
問題点を解決するための手段
上記従来技術の問題点を解決する本発明のレーザーマー
カーは、レーザービームの透過率を変化させる可変減衰
器と、レーザービームの径を変化させる可変倍率ビーム
エキスパンダーをマーキング光路内に設置することによ
り、少数の部品を使用してマーキング深さを広範囲にわ
たって安定に制御するように構成されている。
カーは、レーザービームの透過率を変化させる可変減衰
器と、レーザービームの径を変化させる可変倍率ビーム
エキスパンダーをマーキング光路内に設置することによ
り、少数の部品を使用してマーキング深さを広範囲にわ
たって安定に制御するように構成されている。
以下、本発明の作用を実施例と共に詳細に説明する。
実施例
り図であり、１はＹＡＧレーザー発振器から成るレーザ
ー光源、２はレーザービームの透過率を選択的に変化さ
せる可変減衰器、３はレーザービーム径の拡大倍率を選
択的に変化させる可変倍率ビームエキスパンダー、４は
それぞれがガルバノメーターで駆動されるＸ軸スキャナ
４ａとＹ軸スキャナ４ｂから成るスキャナ、５はｆθレ
ンズで構成されたスキャナレンズ、６は反射ミラー、７
はマーキング対象物品である。
ー光源、２はレーザービームの透過率を選択的に変化さ
せる可変減衰器、３はレーザービーム径の拡大倍率を選
択的に変化させる可変倍率ビームエキスパンダー、４は
それぞれがガルバノメーターで駆動されるＸ軸スキャナ
４ａとＹ軸スキャナ４ｂから成るスキャナ、５はｆθレ
ンズで構成されたスキャナレンズ、６は反射ミラー、７
はマーキング対象物品である。
ＹＡＧレーザー発振器からなるレーザー光源ｌからマー
キング用レーザービームが出射される。
キング用レーザービームが出射される。
このレーザービームは、可変減衰器２と可変倍率ビーム
エキスパンダー３を通過し、スキャナ４でＸ、Ｙ軸方向
に走査されたのち、スキャナレンズ５を通過し、反射ミ
ラー６で反射されてマーキング対象物品の所定の個所に
走査される。この際、可変減衰器２によるレーザービー
ムの透過率の調整と、可変倍率ビームエキスパンダー３
によるレーザービーム径の拡大倍率の調整により、マー
キング対象上に照射される光量の空間密度が調整され、
マーキング深さが制御される。
エキスパンダー３を通過し、スキャナ４でＸ、Ｙ軸方向
に走査されたのち、スキャナレンズ５を通過し、反射ミ
ラー６で反射されてマーキング対象物品の所定の個所に
走査される。この際、可変減衰器２によるレーザービー
ムの透過率の調整と、可変倍率ビームエキスパンダー３
によるレーザービーム径の拡大倍率の調整により、マー
キング対象上に照射される光量の空間密度が調整され、
マーキング深さが制御される。
可変減衰器２の透過率の調整により、マーキング対象物
品上に照射されるレーザービームの光量が調整され、こ
れによりマーキング深さが数百μｍの範囲で粗調される
。このような可変減衰器２は適宜なものでよく、例えば
第２図に示すように、周辺部に光透過率が段階的に異な
る窓１１，１２゜１３・・を形成した円板１０を回転す
ることにより、所望の透過率の窓をレーザービームの光
路内に挿入するようなものでもよい。あるいは、偏光子
と検光子の組合せにより透過光量を連続的に変化させる
ブラウントムソン・プリズムなどによって可変減衰器４
を構成してもよい。
品上に照射されるレーザービームの光量が調整され、こ
れによりマーキング深さが数百μｍの範囲で粗調される
。このような可変減衰器２は適宜なものでよく、例えば
第２図に示すように、周辺部に光透過率が段階的に異な
る窓１１，１２゜１３・・を形成した円板１０を回転す
ることにより、所望の透過率の窓をレーザービームの光
路内に挿入するようなものでもよい。あるいは、偏光子
と検光子の組合せにより透過光量を連続的に変化させる
ブラウントムソン・プリズムなどによって可変減衰器４
を構成してもよい。
ビームエキスパンダー３の倍率調整により、マーキング
対象物品上に照射されるレーザービーム径が調整され、
これによってマーキング深さが１μｍ以下の範囲で微調
される。このビームエキスパンダー３は、第３図に例示
するように、入射側の組合せレンズ１３の焦点距離と、
出射側の組合せレンズ１４の焦点距離を独立に変化させ
ると共に、入射側の組合せレンズの焦点距離とスペイシ
ャル・フィルタ１５との位置を連動して変化させること
によりビーム径の拡大倍率を所望の値に調整する構造と
なっている。
対象物品上に照射されるレーザービーム径が調整され、
これによってマーキング深さが１μｍ以下の範囲で微調
される。このビームエキスパンダー３は、第３図に例示
するように、入射側の組合せレンズ１３の焦点距離と、
出射側の組合せレンズ１４の焦点距離を独立に変化させ
ると共に、入射側の組合せレンズの焦点距離とスペイシ
ャル・フィルタ１５との位置を連動して変化させること
によりビーム径の拡大倍率を所望の値に調整する構造と
なっている。
以上、可変倍率ビームエキスパンダーの前段に可変減衰
器を配置する構成を例示したが、両者の位置を入れ換え
て配置してもよい。
器を配置する構成を例示したが、両者の位置を入れ換え
て配置してもよい。
発明の効果
以上詳細に説明したように、本発明のレーザーマーカー
は、レーザービームの透過率を選択的に変化させる可変
減衰器と、レーザービームの径を選択的に変化させる可
変倍率ビームエキスパンダーをマーキング光路内に設置
する構成であるから、少数の部品の使用によりマーキン
グ深さを広範囲にわたって安定に制御することができる
。
は、レーザービームの透過率を選択的に変化させる可変
減衰器と、レーザービームの径を選択的に変化させる可
変倍率ビームエキスパンダーをマーキング光路内に設置
する構成であるから、少数の部品の使用によりマーキン
グ深さを広範囲にわたって安定に制御することができる
。
ｍ１図は本発明の一実施例のレーザーマーカーの構成を
示すブロック図、第２図は第１図の可変減衰器の構成の
一例を示す斜視図、第３図は第１図の可変倍率ビームエ
キスパンダー３の構成を例示する断面図である。 １・・レーザー光源、２・・可変減衰器、３・・可変倍
率ビームエキスパンダー、４・・スキャナ、５・・スキ
ャナレンズ、６・・反射ミラー、７・・マーキング対象
物品。
示すブロック図、第２図は第１図の可変減衰器の構成の
一例を示す斜視図、第３図は第１図の可変倍率ビームエ
キスパンダー３の構成を例示する断面図である。 １・・レーザー光源、２・・可変減衰器、３・・可変倍
率ビームエキスパンダー、４・・スキャナ、５・・スキ
ャナレンズ、６・・反射ミラー、７・・マーキング対象
物品。
Claims (1)
- レーザービームの透過率を選択的に変化させる可変減衰
器と、レーザービームの径を選択的に変化させる可変倍
率ビームエキスパンダーをマーキング光路内に設置した
ことを特徴とするレーザーマーカー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3503485A JPS61193890A (ja) | 1985-02-23 | 1985-02-23 | レ−ザ−マ−カ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3503485A JPS61193890A (ja) | 1985-02-23 | 1985-02-23 | レ−ザ−マ−カ− |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61193890A true JPS61193890A (ja) | 1986-08-28 |
Family
ID=12430769
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3503485A Pending JPS61193890A (ja) | 1985-02-23 | 1985-02-23 | レ−ザ−マ−カ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61193890A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8840496B2 (en) | 2009-09-03 | 2014-09-23 | Honda Motor Co., Ltd. | Cooling air intake structure for V-belt drive continuously variable transmission |
| US10289006B2 (en) | 2012-12-20 | 2019-05-14 | Asml Netherlands B.V. | Beam delivery for EUV lithography |
-
1985
- 1985-02-23 JP JP3503485A patent/JPS61193890A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8840496B2 (en) | 2009-09-03 | 2014-09-23 | Honda Motor Co., Ltd. | Cooling air intake structure for V-belt drive continuously variable transmission |
| US10289006B2 (en) | 2012-12-20 | 2019-05-14 | Asml Netherlands B.V. | Beam delivery for EUV lithography |
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