JPS61190528A - ジアリルフタレ−ト系フイルムの製法 - Google Patents
ジアリルフタレ−ト系フイルムの製法Info
- Publication number
- JPS61190528A JPS61190528A JP3184485A JP3184485A JPS61190528A JP S61190528 A JPS61190528 A JP S61190528A JP 3184485 A JP3184485 A JP 3184485A JP 3184485 A JP3184485 A JP 3184485A JP S61190528 A JPS61190528 A JP S61190528A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diallyl phthalate
- film
- monomer
- infrared
- polymerizable monomer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（従来の技術）
従来ジアリルフタレート樹脂は、そのすぐれた耐熱性、
電気絶縁性、寸法安定性などの点からプリント基板、絶
縁部品などの電気製品や化粧板や塗料などに多く使われ
ている。
電気絶縁性、寸法安定性などの点からプリント基板、絶
縁部品などの電気製品や化粧板や塗料などに多く使われ
ている。
ところがこれらのほとんどがフェノール紙、不織布やガ
ラス繊維などとジアリルフタレート樹脂の積層体として
使用されるかまたは塗 ・料として基材ごと使用され
る用途がほとんどである。
ラス繊維などとジアリルフタレート樹脂の積層体として
使用されるかまたは塗 ・料として基材ごと使用され
る用途がほとんどである。
ジアリルフタレート樹脂の持つ光学的性質を生かした用
途としてはグフスチフクレンズ成型品等がある。しかし
ラジカル重合性単量体およびジアリルフタレートプレポ
リマーを主たる成分とするフィルムを使用する例は見当
らない。
途としてはグフスチフクレンズ成型品等がある。しかし
ラジカル重合性単量体およびジアリルフタレートプレポ
リマーを主たる成分とするフィルムを使用する例は見当
らない。
本発明者らは、経済的でかつ十分な硬化度、機械的強度
を持つ透明なジアリルフタレート系フィルムの製造方法
において電離性放射線を使用する方法を選択した。
を持つ透明なジアリルフタレート系フィルムの製造方法
において電離性放射線を使用する方法を選択した。
このような電離性放射線による照射処理の場合一般に熱
風炉、赤外線加熱炉、マイクロ波加熱炉などを用いて、
いわゆる後硬化処理が推唱されている。この場合、赤外
線加熱炉から放射されるエネルギーは３μｍ以下の赤外
領域でありヤイプロ波は１０００μｍ以上の波長を持っ
ているが３μｍ以上５０μｍ以下の波長領域いわゆる遠
赤外線を使用する処理の例がみあたらない。
風炉、赤外線加熱炉、マイクロ波加熱炉などを用いて、
いわゆる後硬化処理が推唱されている。この場合、赤外
線加熱炉から放射されるエネルギーは３μｍ以下の赤外
領域でありヤイプロ波は１０００μｍ以上の波長を持っ
ているが３μｍ以上５０μｍ以下の波長領域いわゆる遠
赤外線を使用する処理の例がみあたらない。
また熱伝導による通常の熱風処理は低温の場合、後硬化
に時間がかかりすぎ、また短時間処理を望む場合は高温
を必要とし極めて不経済である。
に時間がかかりすぎ、また短時間処理を望む場合は高温
を必要とし極めて不経済である。
（発明の構成及び効果）
本発明者らは、ジアリルフタレートの持つ耐熱性、電気
特性、光学的性質を生かしつつ十分な硬化度、機械的強
度を持つ透明性のジアリルフタレート系樹脂フィルムの
経済的な製法に関して鋭意研究した結果 ｉａｌ ジアリルフタレートプレポリマー２０〜８０
重量部 ｉｂｌ フジカル重合性単量体 ８０〜２０重量部 から実質的になる混合物に電離性放射線を照射し、さら
に３〜５０μｍの波長の遠赤外線を照射することを特徴
とする硬化フィルムの製造方法が極めて優れていること
を発見し本発明に到った。
特性、光学的性質を生かしつつ十分な硬化度、機械的強
度を持つ透明性のジアリルフタレート系樹脂フィルムの
経済的な製法に関して鋭意研究した結果 ｉａｌ ジアリルフタレートプレポリマー２０〜８０
重量部 ｉｂｌ フジカル重合性単量体 ８０〜２０重量部 から実質的になる混合物に電離性放射線を照射し、さら
に３〜５０μｍの波長の遠赤外線を照射することを特徴
とする硬化フィルムの製造方法が極めて優れていること
を発見し本発明に到った。
本発明に使用されるジアリルフタレートプレポリマーは
、ジアリルオルソフタレート。
、ジアリルオルソフタレート。
ジアリＭイソフタレート、ジアリｌレテレ７タレートの
うち１種又は２種以上を重合して得られる。重合の方法
としてはベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケト
ンパーオキサイドなどの過酸化物の存在下で熱塊状重合
されても良いし、触媒を使用せず酸素存在下で重合させ
ることも可能である。更に酸素存在下で熱や電離性放射
線によりジアリルフタレートプレポリマーに酸素を付与
させたものをラジカル重合開始剤として重合しても良い
。
うち１種又は２種以上を重合して得られる。重合の方法
としてはベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケト
ンパーオキサイドなどの過酸化物の存在下で熱塊状重合
されても良いし、触媒を使用せず酸素存在下で重合させ
ることも可能である。更に酸素存在下で熱や電離性放射
線によりジアリルフタレートプレポリマーに酸素を付与
させたものをラジカル重合開始剤として重合しても良い
。
その後アルコーＭ抽出などによりモノマーとプレポリマ
ーを分離する。
ーを分離する。
本発明に使用されるジアリルフタレートプレポリマーは
その重合方法に依らず、溶液粘度（５０重量％メチルエ
チルケトン、３０℃）が５０〜１３０ Ｃｐ８ 、ヨウ
素価５０〜ＢＯ１軟下点１３０℃以下、残留上ツマー５
重量％以下の範囲にあれば良い。
その重合方法に依らず、溶液粘度（５０重量％メチルエ
チルケトン、３０℃）が５０〜１３０ Ｃｐ８ 、ヨウ
素価５０〜ＢＯ１軟下点１３０℃以下、残留上ツマー５
重量％以下の範囲にあれば良い。
またジアリルフタレートとトリアリルイソンアヌレート
、トリアリルシアヌレート、ジエチレングリコ−ｐビス
アリルカーボネートなどとの共重合物も本発明のプレポ
リマーとして使用することも可能である。
、トリアリルシアヌレート、ジエチレングリコ−ｐビス
アリルカーボネートなどとの共重合物も本発明のプレポ
リマーとして使用することも可能である。
フジカル重合性単量体は（１）単官能性単量体またはｆ
２１単官能性単量体と多官能性単量体とを適宜組み合わ
せたものであれば良い。
２１単官能性単量体と多官能性単量体とを適宜組み合わ
せたものであれば良い。
単官能性単量体としては、末端ｔこヲジカｌし重合性基
を１つ持つものであれば良く酢酸ビニ〃、ヌチＶン、ビ
ニルピリジンなどのビニル化合物、アクリル酸、アルキ
ルアクリレート、２−エチルへキンＭアクリレート、２
−ヒドロキンアルキ〃アクリｖ−ト、エトキンエトキン
エチルアクリレート、テトラヒドロ７〃フリ〃アクリレ
ート、ベンジルアクリレート、２−フェノキンエチルア
クリレ−ドナどの７クリレート化合物、メタクリル酸、
メ千〃メタアクリレート、アルキルメタクリレート％２
−エチ〃ヘキン〜メタアクリレート、２−１ニトロキン
アルキルメタクリレート、エトキンエチルメタクリレー
ト、テトフヒドロフルフリルメタクリレート、アリ〃メ
タクリレート、グリンジルメタクリレートなどのメタク
リル化合物等があげられる。
を１つ持つものであれば良く酢酸ビニ〃、ヌチＶン、ビ
ニルピリジンなどのビニル化合物、アクリル酸、アルキ
ルアクリレート、２−エチルへキンＭアクリレート、２
−ヒドロキンアルキ〃アクリｖ−ト、エトキンエトキン
エチルアクリレート、テトラヒドロ７〃フリ〃アクリレ
ート、ベンジルアクリレート、２−フェノキンエチルア
クリレ−ドナどの７クリレート化合物、メタクリル酸、
メ千〃メタアクリレート、アルキルメタクリレート％２
−エチ〃ヘキン〜メタアクリレート、２−１ニトロキン
アルキルメタクリレート、エトキンエチルメタクリレー
ト、テトフヒドロフルフリルメタクリレート、アリ〃メ
タクリレート、グリンジルメタクリレートなどのメタク
リル化合物等があげられる。
多官能性単量体としては、ジビニルベンゼン、ネオペン
チルグリコールジアクリレート、１．６−ヘキサンジオ
ールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコ−〃ジアクリレート、ポリエ
チレングリコ−〃ジアクリレート、ヘンタエリスリトー
ＡＩトリアクリレート、トリメチロ−１ｖブグバントリ
アクリＶサト、Ｌ４−ブタンジオールジメタクリレート
、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレング
リコ−Ｍジメタクリレート、トリエチレングリコールジ
メタクリレート、トリメチロールプロバントリメタクリ
レート、ジアリルフタレート、ジエチレングリコ−Ｉレ
ビスアリＭカーボネート、トリアリ！レンアヌレート、
トリアリルイソシアヌレートなどのラジカル重合性基を
２個以上持つ化合物が適当である。
チルグリコールジアクリレート、１．６−ヘキサンジオ
ールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコ−〃ジアクリレート、ポリエ
チレングリコ−〃ジアクリレート、ヘンタエリスリトー
ＡＩトリアクリレート、トリメチロ−１ｖブグバントリ
アクリＶサト、Ｌ４−ブタンジオールジメタクリレート
、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレング
リコ−Ｍジメタクリレート、トリエチレングリコールジ
メタクリレート、トリメチロールプロバントリメタクリ
レート、ジアリルフタレート、ジエチレングリコ−Ｉレ
ビスアリＭカーボネート、トリアリ！レンアヌレート、
トリアリルイソシアヌレートなどのラジカル重合性基を
２個以上持つ化合物が適当である。
フィルムの構成要素としては、ジアリルフタレートプレ
ポリマー２０〜８０重量部、ラジカル重合性単量体８０
〜２０重量部が好ましい。またフジカル重合性単量体中
、単官能性単量体／多官能性単量体の割合は重量で１０
０〜５０７０〜５０が好ましく、更に好ましくは１００
〜７０１０〜３０である。ジアリルフタレートプレポリ
マーは、通常固体として入手されるため、ラジカル重合
性単量体に溶解し混合物を得る。ジアリルフタレートプ
レポリマーの含有量が多くなると混合物の粘度が高くフ
ィルム形成処理の作業性が悪く、また得られたフィルム
の可とう性が低下する。ジアリルフタレートプレポリマ
ーの含有量が少ないと可とう性は向上するが、ジアリル
フタレートａ脂の特性が損なわれる。本発明においては
溶媒を必ずしも必要としないが、上記混合物の粘度を低
下させる目的で溶媒、例えばアセトン、テトラヒト９フ
ラン、′メチルエチＭケトン、塩化メチレン等を用いる
ことも可能である。しかし最終の用途によっては溶媒の
使用は必ずしも好適ではないの 。
ポリマー２０〜８０重量部、ラジカル重合性単量体８０
〜２０重量部が好ましい。またフジカル重合性単量体中
、単官能性単量体／多官能性単量体の割合は重量で１０
０〜５０７０〜５０が好ましく、更に好ましくは１００
〜７０１０〜３０である。ジアリルフタレートプレポリ
マーは、通常固体として入手されるため、ラジカル重合
性単量体に溶解し混合物を得る。ジアリルフタレートプ
レポリマーの含有量が多くなると混合物の粘度が高くフ
ィルム形成処理の作業性が悪く、また得られたフィルム
の可とう性が低下する。ジアリルフタレートプレポリマ
ーの含有量が少ないと可とう性は向上するが、ジアリル
フタレートａ脂の特性が損なわれる。本発明においては
溶媒を必ずしも必要としないが、上記混合物の粘度を低
下させる目的で溶媒、例えばアセトン、テトラヒト９フ
ラン、′メチルエチＭケトン、塩化メチレン等を用いる
ことも可能である。しかし最終の用途によっては溶媒の
使用は必ずしも好適ではないの 。
で用途により選択すべきである。
上記混合物に過酸化物などのラジカル重合開始剤を加え
ることもできるが、本発明においては、必ずしも必要と
しない。
ることもできるが、本発明においては、必ずしも必要と
しない。
ジアリルフタレートプレポリマーとフジカル重合性単量
体を十分に攪拌混合し、コーターまたはアプリケーター
などの公知手段により、支持体に所定厚みとなるように
塗布する。
体を十分に攪拌混合し、コーターまたはアプリケーター
などの公知手段により、支持体に所定厚みとなるように
塗布する。
この際の支持体はフィルム形成後、容易にフィルムを剥
離できるものであれば良く、ガラヌ板、ホリエヌテｌレ
フイルム、テフロンライｌレム、離型紙やセロハン紙等
が適している。
離できるものであれば良く、ガラヌ板、ホリエヌテｌレ
フイルム、テフロンライｌレム、離型紙やセロハン紙等
が適している。
支持体に塗布された所定厚みの混合物を支持体ごと硬化
処理を行なう。まず以下のような電離性放射線にて１段
目の硬化処理を行なう 。
処理を行なう。まず以下のような電離性放射線にて１段
目の硬化処理を行なう 。
電離性放射線とはここではＸ−線、α−線、β−線、γ
−線、電子線、紫外線を指すが、装置の入手し易さ、操
作し易さ、安全性等の点から電子線および紫外線が望ま
しい。しかし紫外線による処理には、光重合開始剤が必
要であるため、混合物の貯蔵安定性に問題があり、また
アリル化合物の重合のしにくさから紫外線よりもエネル
ギーの大きな電子線が本発明においては好適である。
−線、電子線、紫外線を指すが、装置の入手し易さ、操
作し易さ、安全性等の点から電子線および紫外線が望ま
しい。しかし紫外線による処理には、光重合開始剤が必
要であるため、混合物の貯蔵安定性に問題があり、また
アリル化合物の重合のしにくさから紫外線よりもエネル
ギーの大きな電子線が本発明においては好適である。
電子線の線量としては５〜３０ Ｍｒａｄ、好ましくは
１０〜２５Ｍｒａｄである。５Ｍｒａｄ以下の線量では
、２段目の後硬化１０時間がかかりすぎ、生産性に劣る
。また３０Ｍｒａｄ以上では、１段目において大部分の
硬化が完了しており、それ以上の後硬化は逆にオーバー
キュア状態となり得られるフィルムの物性が損なわれる
。
１０〜２５Ｍｒａｄである。５Ｍｒａｄ以下の線量では
、２段目の後硬化１０時間がかかりすぎ、生産性に劣る
。また３０Ｍｒａｄ以上では、１段目において大部分の
硬化が完了しており、それ以上の後硬化は逆にオーバー
キュア状態となり得られるフィルムの物性が損なわれる
。
加速電圧はフィルムの厚みによって異なるがＺｏｏ／Ａ
ｍ前後のフィルムを製造する場合はにＶ １００〜３００へ、より好ましくは１５０〜２００ＫＶ
である。
ｍ前後のフィルムを製造する場合はにＶ １００〜３００へ、より好ましくは１５０〜２００ＫＶ
である。
照射時間としては、線量、加速電圧、電流７により異な
るが通常α１秒〜数秒である。
るが通常α１秒〜数秒である。
混合物を塗布した支持体ごと、電離性放射線を照射した
後、さらに遠赤外線を照射し２段目の硬化処理すなわち
後硬化を行なう。
後、さらに遠赤外線を照射し２段目の硬化処理すなわち
後硬化を行なう。
本発明に使用する遠赤外線放射素子としては金属の酸化
物、窒化物、硼化物、硫化物。
物、窒化物、硼化物、硫化物。
炭化物やジルコニア、チタニア、アルミナ。
ジルコン、スフエーン、コージュライトノヨうなセラミ
ンク類、グローバーに似た炭化物、石英、ガラス、耐熱
性樹脂等があり、これら！ の物質を遠赤外線放射素子とし、ニクロム線加熱等の方
法により加熱することで容易に遠赤外線を得ることがで
きる。
ンク類、グローバーに似た炭化物、石英、ガラス、耐熱
性樹脂等があり、これら！ の物質を遠赤外線放射素子とし、ニクロム線加熱等の方
法により加熱することで容易に遠赤外線を得ることがで
きる。
放射面に上記の如き遠赤外線放射素子を有し、その内面
にヒーターを有する遠赤外線放射体は棒状、パネル状、
ランプ状など様々であるが１本発明においてはその形状
にこだわらない。
にヒーターを有する遠赤外線放射体は棒状、パネル状、
ランプ状など様々であるが１本発明においてはその形状
にこだわらない。
遠赤外線の波長は、遠赤外線放射素子によって異なるが
、通常３μｍから５（ｌｐｍの波長を放射する遠赤外線
放射体を使用する。この波長領域には殆んどの有機物に
分子振動による吸収が存在する。
、通常３μｍから５（ｌｐｍの波長を放射する遠赤外線
放射体を使用する。この波長領域には殆んどの有機物に
分子振動による吸収が存在する。
したがって前記波長の遠赤外線を照射することによりジ
アリフレフタレートおよびラジカル重合性単量体の１段
目の処理を施されたフィルムの分子振動が励起され、そ
の結果として内部から熱を放出する。その内部からの熱
によって未硬化部分の硬化反応が促進され硬化フィルム
が形成される。
アリフレフタレートおよびラジカル重合性単量体の１段
目の処理を施されたフィルムの分子振動が励起され、そ
の結果として内部から熱を放出する。その内部からの熱
によって未硬化部分の硬化反応が促進され硬化フィルム
が形成される。
このような機構は、１ｌＩｌ’ｌ風炉のような熱伝導に
よる硬化機構と全く異なる。それは遠赤外線照射雰囲気
中の温度よりも硬化フィルムの表面温度が著しく高いこ
とからもわかる。これをこ対し熱風炉や赤外線ランプを
使用した場合は雰囲気温度を硬化フィルムの表面温度が
上回ることは決してない。
よる硬化機構と全く異なる。それは遠赤外線照射雰囲気
中の温度よりも硬化フィルムの表面温度が著しく高いこ
とからもわかる。これをこ対し熱風炉や赤外線ランプを
使用した場合は雰囲気温度を硬化フィルムの表面温度が
上回ることは決してない。
遠赤外放射素子のエネルギー密度、照射時間及び被照射
物と放射体までの距離は、被照射物が照射により物性低
下をおこさない範囲であれば良い。
物と放射体までの距離は、被照射物が照射により物性低
下をおこさない範囲であれば良い。
通常遠赤外放射素子のエネルギー密度はα０５〜２０ワ
フ） ／ ｄ 、被照射物と放射体までの距離は１〜１
００ｆｆｉ、照射時間は任意に選ぶことができるが通常
１〜１２０分が好ましい。しかしこれらの条件はフィル
ムの物性面はもちろん生産性と設備の両面からも選択す
べきである。
フ） ／ ｄ 、被照射物と放射体までの距離は１〜１
００ｆｆｉ、照射時間は任意に選ぶことができるが通常
１〜１２０分が好ましい。しかしこれらの条件はフィル
ムの物性面はもちろん生産性と設備の両面からも選択す
べきである。
電子線により１段目の処理を行なった混合れる。
本発明により、１段目の電子線照射処理に要する線量が
少なくてすみ、また熱風炉や赤外線加熱よりも２段目の
処理時間が大幅に短縮され、得られたフィルムの物性も
十分なものが得られた。
少なくてすみ、また熱風炉や赤外線加熱よりも２段目の
処理時間が大幅に短縮され、得られたフィルムの物性も
十分なものが得られた。
本発明で得られるフィルムは光学的特性に優れ、光線透
過率８８％以上、また複屈折率が１０−１以下であり、
低複屈折率を要求される用途やさらには得られたフィル
ムには蒸発成分が残存しないため、蒸着、スパッタリン
グ、イオンデレーティングなどの真空下での後処理が容
易であり、そのような処理を要する用途など、例えば液
晶表示素子用偏光板保護カバーや、液晶フィルム七ル、
光学式ビデオディスクやコンパクトディスク等の保護フ
ィルムなどの用途に適している。
過率８８％以上、また複屈折率が１０−１以下であり、
低複屈折率を要求される用途やさらには得られたフィル
ムには蒸発成分が残存しないため、蒸着、スパッタリン
グ、イオンデレーティングなどの真空下での後処理が容
易であり、そのような処理を要する用途など、例えば液
晶表示素子用偏光板保護カバーや、液晶フィルム七ル、
光学式ビデオディスクやコンパクトディスク等の保護フ
ィルムなどの用途に適している。
（実施例）
以下、本発明を実施例にて説明する。
実施例 １〜５
ジアリルオルンフタレートデレボリマ−（ヨウ素価６０
％３０℃でのメチルエチルケトン溶液粘度１００ ｃｐ
ｓ 、標準ポリスチレン換算による数平均分子量８８５
Ｇ）を用い表に示す組成（数字は重量部を示す）でラジ
カル重合性単量体と十分攪拌混合し、該混合物をアプリ
ケーターを使ってガラス板あるいはポリエヌテ〜フィル
ム上に所定厚みになるように塗布した。
％３０℃でのメチルエチルケトン溶液粘度１００ ｃｐ
ｓ 、標準ポリスチレン換算による数平均分子量８８５
Ｇ）を用い表に示す組成（数字は重量部を示す）でラジ
カル重合性単量体と十分攪拌混合し、該混合物をアプリ
ケーターを使ってガラス板あるいはポリエヌテ〜フィル
ム上に所定厚みになるように塗布した。
このサンプルを酸素濃度１００ ｐｐｍ以下の窒素雰囲
気中で電圧１７５ＫＶまたは２００ＫＶ、電流１０ｍＡ
または２０ｍＡの電子線を１０〜２０Ｍｒａｄ照射し、
ただちに遠赤外線炉（ＪＡＲＤ社、ミニジェットＭＪＳ
−２００）に入れ所定時間の処理を行なった。
気中で電圧１７５ＫＶまたは２００ＫＶ、電流１０ｍＡ
または２０ｍＡの電子線を１０〜２０Ｍｒａｄ照射し、
ただちに遠赤外線炉（ＪＡＲＤ社、ミニジェットＭＪＳ
−２００）に入れ所定時間の処理を行なった。
この時サンプルと遠赤外線放射体間の距離は１００ｆｆ
とじサングＭ面上の温度が所定温度になるように遠赤外
線炉内雰囲気温度を調節した。
とじサングＭ面上の温度が所定温度になるように遠赤外
線炉内雰囲気温度を調節した。
遠赤外線照射処理後、硬化フィルムを支持体から剥離さ
せ以下に示す評価を行なった。その結果を処理条件とと
もに表に示す。
せ以下に示す評価を行なった。その結果を処理条件とと
もに表に示す。
尚評価は以下のような方法で行なった。
ゲ〃分率：硬化フィルムを７七トン中に浸漬し、−晩放
置後のフィルムの重量変化から求めた。
置後のフィルムの重量変化から求めた。
引張破断強度及び伸度：チャック間距離２０ｆｉ、１１
ｇ１Ｏ層のフィルムをテンシロンにてｌ Ｏ鱒／ｍｉｎ
の速度で引張り、チャートから各強度および各伸度を算
出した。
ｇ１Ｏ層のフィルムをテンシロンにてｌ Ｏ鱒／ｍｉｎ
の速度で引張り、チャートから各強度および各伸度を算
出した。
全光線透過率：スガ試験＠ＫＫのヘーズメーターを用い
全光線透過率を測定した。
全光線透過率を測定した。
複屈折率：偏光顕微鏡と補正横板ペレフクコンペンセー
タ（オリンパス光学製） ヲ用い、コンペンセータのダ
イヤル値ａおよびｂを測定した。
タ（オリンパス光学製） ヲ用い、コンペンセータのダ
イヤル値ａおよびｂを測定した。
ｆ（ｉ）を表から求め、その値に α８８６を乗じる。
これを膜厚みＴで割った値を複屈折率とした。
全光線透過率は、５ｊ！施例・比較例共８８％以上であ
り、複屈折率も共に１０−０〜１Ｏ−１の範囲にあった
。
り、複屈折率も共に１０−０〜１Ｏ−１の範囲にあった
。
比較例 １．２
後処理に熱風乾燥炉を使用した以外は実施例と同様の方
法で硬化フィルムを作成し。
法で硬化フィルムを作成し。
評価を行なった。
比較例 ３．４
後処理を全く行なわず電子線照射後、基材からフィルム
を剥離させ実施例と同様の評価を行なった。
を剥離させ実施例と同様の評価を行なった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ａ）ジアリルフタレートプレポリマー ２０〜８０重量部 ｂ）ラジカル重合性単量体 ８０〜２０重量部 から実質的になる混合物に電離性放射線を 照射し、さらに３〜５０μｍの波長の遠赤外線を照射す
ることを特徴とする硬化フィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3184485A JPS61190528A (ja) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | ジアリルフタレ−ト系フイルムの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3184485A JPS61190528A (ja) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | ジアリルフタレ−ト系フイルムの製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61190528A true JPS61190528A (ja) | 1986-08-25 |
| JPH0426336B2 JPH0426336B2 (ja) | 1992-05-07 |
Family
ID=12342359
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3184485A Granted JPS61190528A (ja) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | ジアリルフタレ−ト系フイルムの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61190528A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6829074B2 (en) | 2001-10-05 | 2004-12-07 | Murakami Corporation | Liquid type electrochromic element |
| JPWO2014208468A1 (ja) * | 2013-06-25 | 2017-02-23 | 昭和電工株式会社 | 光硬化性樹脂フィルムの製造装置および製造方法 |
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1985
- 1985-02-20 JP JP3184485A patent/JPS61190528A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6829074B2 (en) | 2001-10-05 | 2004-12-07 | Murakami Corporation | Liquid type electrochromic element |
| JPWO2014208468A1 (ja) * | 2013-06-25 | 2017-02-23 | 昭和電工株式会社 | 光硬化性樹脂フィルムの製造装置および製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0426336B2 (ja) | 1992-05-07 |
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