JPS61189686A - レ−ザ装置 - Google Patents
レ−ザ装置Info
- Publication number
- JPS61189686A JPS61189686A JP60030962A JP3096285A JPS61189686A JP S61189686 A JPS61189686 A JP S61189686A JP 60030962 A JP60030962 A JP 60030962A JP 3096285 A JP3096285 A JP 3096285A JP S61189686 A JPS61189686 A JP S61189686A
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- JP
- Japan
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- optical waveguide
- semiconductor laser
- end surface
- laser
- laser device
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- Pending
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/1082—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region with a special facet structure, e.g. structured, non planar, oblique
- H01S5/1085—Oblique facets
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/10—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
- H01S5/12—Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region the resonator having a periodic structure, e.g. in distributed feedback [DFB] lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/005—Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S5/0092—Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping for nonlinear frequency conversion, e.g. second harmonic generation [SHG] or sum- or difference-frequency generation outside the laser cavity
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- Semiconductor Lasers (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光メモリ装置やレーザプリンタ等の光情報処理
分野に光源として利用されるレーザ装置に関する。
分野に光源として利用されるレーザ装置に関する。
従来の技術
従来の実用化されている青色発振レーザはアルゴンガス
レーザに見るごとく、大型で高価であり、また水冷を要
し消費電力も大きく、全固体で小型軽量な青色レーザ光
源の実現が待たれている。そこで、非線形光学効果を応
用して赤外半導体レーザの波長を%に変換して波長0.
35〜0.5μmの青色レーザ光を得る方法が有効と考
えられる。
レーザに見るごとく、大型で高価であり、また水冷を要
し消費電力も大きく、全固体で小型軽量な青色レーザ光
源の実現が待たれている。そこで、非線形光学効果を応
用して赤外半導体レーザの波長を%に変換して波長0.
35〜0.5μmの青色レーザ光を得る方法が有効と考
えられる。
第5図は、L I N bO3稀晶基板1内に安息香酸
を用いるイオン交換法により形成した光導波路2に半導
体レーザ3の赤外光を導入することにより青色の高調波
を取り出す構成である(特願昭59−139889号)
。
を用いるイオン交換法により形成した光導波路2に半導
体レーザ3の赤外光を導入することにより青色の高調波
を取り出す構成である(特願昭59−139889号)
。
発明が解決しようとする問題点
しかしながらこの構成では、半導体レーザ3と光導波路
2のアライメントの微妙な変化により特性が大きく変動
し、機械的振動や周囲温度変化に弱いという問題点があ
った。
2のアライメントの微妙な変化により特性が大きく変動
し、機械的振動や周囲温度変化に弱いという問題点があ
った。
問題点を解決するための手段
本発明は、このような問題点を解決するため分布帰還型
半導体レーザと、LiNbO3単結晶の内部にイオン交
換法により形成された(Li1−エH工)NbO3(但
し0(x(0,5)光導波路とを組み合わせ、半導体レ
ーザ光を前記光導波路に導入し、前記L i NbOs
単結晶内に放射する第2高調波である青色レーザ光を取
り出すものである。
半導体レーザと、LiNbO3単結晶の内部にイオン交
換法により形成された(Li1−エH工)NbO3(但
し0(x(0,5)光導波路とを組み合わせ、半導体レ
ーザ光を前記光導波路に導入し、前記L i NbOs
単結晶内に放射する第2高調波である青色レーザ光を取
り出すものである。
作 用
本発明は、上記構成により分布帰還形半導体レーザを共
振ミラーとして使用することなく、光導波路と端面同志
を接着でき、斜め結合により端面反射の影響を除き特性
の安定化を図ることができる。
振ミラーとして使用することなく、光導波路と端面同志
を接着でき、斜め結合により端面反射の影響を除き特性
の安定化を図ることができる。
実施例
第1図に示すように半導体レーザに分布帰還型半導体レ
ーザ5を用い、その光出射端と光導波路6の入射端の結
合部を半導体レーザ5の活性層7に対し傾斜させて透明
物質14を介して接着結合することにより、半導体レー
ザ5と光導波路6の結合部の安定化を図ったものである
。ファブIJ−ペロー形半導体レーザと異なり、分布帰
還形半導体レーザ6は端面を共振ミラーとして利用しな
いため、光導波路6と端面向しを接着することができる
点に着目したものであり、さらにそれらを斜め結合する
ことにより端面反射の影響を除き特性の安定化を図る。
ーザ5を用い、その光出射端と光導波路6の入射端の結
合部を半導体レーザ5の活性層7に対し傾斜させて透明
物質14を介して接着結合することにより、半導体レー
ザ5と光導波路6の結合部の安定化を図ったものである
。ファブIJ−ペロー形半導体レーザと異なり、分布帰
還形半導体レーザ6は端面を共振ミラーとして利用しな
いため、光導波路6と端面向しを接着することができる
点に着目したものであり、さらにそれらを斜め結合する
ことにより端面反射の影響を除き特性の安定化を図る。
さらに、光導波路らの半導体レーザ側の端部のサイズを
部分的に増大させ、半導体レーザとの結合効率を向上さ
せている。光導波路6は第2図に示すようにLiNbO
3単結晶8を部分的にイオン交換することにより表面近
傍の屈折率を増加させ、さらに屈折率の小さいSio2
.Ta206.Al2O2等の表面保護膜9を付けたも
のである。
部分的に増大させ、半導体レーザとの結合効率を向上さ
せている。光導波路6は第2図に示すようにLiNbO
3単結晶8を部分的にイオン交換することにより表面近
傍の屈折率を増加させ、さらに屈折率の小さいSio2
.Ta206.Al2O2等の表面保護膜9を付けたも
のである。
動作原理を次に説明する。分布帰還形半導体レーザ5の
赤外光は上記光導波路6に入射し、LiNbo3の非線
形光学効果により高調波11をLi勤03単結晶基板8
中に放射する。放射した高調波は斜めに切断研磨された
L i Nb O3の端面から平行ビームとなり空気中
に取り出すことができる。
赤外光は上記光導波路6に入射し、LiNbo3の非線
形光学効果により高調波11をLi勤03単結晶基板8
中に放射する。放射した高調波は斜めに切断研磨された
L i Nb O3の端面から平行ビームとなり空気中
に取り出すことができる。
本発明は、分布帰還形半導体レーザ5とイオン交換法に
より形成しだL i Nb O3光導波路6の組み合せ
に大きな特長を有するものであり、光導波路の構成は第
2図に示した表面保護膜9を有するもの以外に、第3図
のようなリッジ形光導波路12、あるいは第4図のよう
な装荷形光導波路13であっても有効に動作する。
より形成しだL i Nb O3光導波路6の組み合せ
に大きな特長を有するものであり、光導波路の構成は第
2図に示した表面保護膜9を有するもの以外に、第3図
のようなリッジ形光導波路12、あるいは第4図のよう
な装荷形光導波路13であっても有効に動作する。
発明の効果
以上のように、本発明によれば分布帰還形半導体レーザ
とイオン交換したL iNb O3光導波路を接着一体
化することにより、機械的振動や温度変動に対して安定
な信頼性高い青色レーザ装置を提供することができる。
とイオン交換したL iNb O3光導波路を接着一体
化することにより、機械的振動や温度変動に対して安定
な信頼性高い青色レーザ装置を提供することができる。
第1図は本発明のレーザ装置の一実施例を示す図、第2
図、第3図、第4図は本発明のレーザ装置に使用する光
導波路の構造を示す図、第5図は従来のレーザ装置の構
造を示す図である。 8・・・・・・LiNbo3雫結晶基板、6・・・・・
・光導波路、6・・・・・・分布帰還形半導体レーザ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名5・
・・会面帰1v彩半導停し−サ°“第 1 図
6・・・Aオン文硬光欅ン皮罫8・・
・liN乙の車袷品 第2図 9.、、 A面々復扱1°
/2−’/−/つよ襲、ああ第4 図13・・
・餉瀉光堺液芥 !、?
図、第3図、第4図は本発明のレーザ装置に使用する光
導波路の構造を示す図、第5図は従来のレーザ装置の構
造を示す図である。 8・・・・・・LiNbo3雫結晶基板、6・・・・・
・光導波路、6・・・・・・分布帰還形半導体レーザ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名5・
・・会面帰1v彩半導停し−サ°“第 1 図
6・・・Aオン文硬光欅ン皮罫8・・
・liN乙の車袷品 第2図 9.、、 A面々復扱1°
/2−’/−/つよ襲、ああ第4 図13・・
・餉瀉光堺液芥 !、?
Claims (4)
- (1)分布帰還型半導体レーザと、LiNbO_3単結
晶の内部にイオン交換法により形成された(Li_1_
−_xH_x)NbO_3(但し0<x<0.5)光導
波路とを組み合わせ、半導体レーザ光を前記光導波路に
導入し、前記LiNbO_3単結晶内に放射する第2高
調波である青色レーザ光を取り出すことを特徴とするレ
ーザ装置。 - (2)イオン交換法によって形成された光導波路の断面
構造が、一部に凸状をなすリッジ型光導波路であること
を特徴とする特許請求の範囲第(1)項に記載のレーザ
装置。 - (3)イオン交換法によって形成された光導波路の構造
が、装荷型光導波路であることを特徴とする特許請求の
範囲第(1)項に記載のレーザ装置。 - (4)第2高調波を取り出す側のLiNbO_3単結晶
の端面を、光導波路に垂直な面に対し傾斜させることに
より、光導波路方向に第2高調波を発生させることを特
徴とする特許請求の範囲第(1)項に記載のレーザ装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60030962A JPS61189686A (ja) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | レ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60030962A JPS61189686A (ja) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | レ−ザ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61189686A true JPS61189686A (ja) | 1986-08-23 |
Family
ID=12318295
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60030962A Pending JPS61189686A (ja) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | レ−ザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61189686A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01289183A (ja) * | 1988-05-16 | 1989-11-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体レーザ装置 |
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JPH0387085A (ja) * | 1989-06-30 | 1991-04-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 超短光パルス発生装置 |
EP0550095A2 (en) * | 1991-12-30 | 1993-07-07 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Device in which electromagnetic radiation is raised in frequency and apparatus for optically scanning an information plane, comprising such a device |
US5313543A (en) * | 1992-01-22 | 1994-05-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Inc. | Second-harmonic generation device and method of producing the same and second-harmonic generation apparatus and method of producing the same |
WO2014084368A1 (ja) * | 2012-11-29 | 2014-06-05 | シチズンホールディングス株式会社 | レーザ光源 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5146143A (en) * | 1974-10-17 | 1976-04-20 | Nippon Electric Co | Dai 2 kochohahatsuseisoshi |
JPS5697324A (en) * | 1979-12-14 | 1981-08-06 | Thomson Csf | Nonlinear light device having composite waveguide path and radioactive source for same device |
JPS5832453A (ja) * | 1981-08-21 | 1983-02-25 | Hitachi Ltd | 光を用いた電子回路部材 |
JPS59218786A (ja) * | 1983-05-26 | 1984-12-10 | Nec Corp | 単一軸モ−ド半導体レ−ザ |
JPS607403A (ja) * | 1983-06-28 | 1985-01-16 | Canon Inc | 薄膜光導波路の作成方法 |
JPS6014222A (ja) * | 1983-07-06 | 1985-01-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光波長変換素子 |
-
1985
- 1985-02-19 JP JP60030962A patent/JPS61189686A/ja active Pending
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WO2014084368A1 (ja) * | 2012-11-29 | 2014-06-05 | シチズンホールディングス株式会社 | レーザ光源 |
JPWO2014084368A1 (ja) * | 2012-11-29 | 2017-01-05 | シチズンホールディングス株式会社 | レーザ光源 |
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