JPS61188885A - 電子レンジ - Google Patents
電子レンジInfo
- Publication number
- JPS61188885A JPS61188885A JP2894285A JP2894285A JPS61188885A JP S61188885 A JPS61188885 A JP S61188885A JP 2894285 A JP2894285 A JP 2894285A JP 2894285 A JP2894285 A JP 2894285A JP S61188885 A JPS61188885 A JP S61188885A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heated
- heating
- temperature
- magnetrons
- cooking chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はマイクロ波放射用の複数のマグネトロンを備え
た電子レンジに関するものである。
た電子レンジに関するものである。
通常電子レンジにおいてはマグネトロンから発せられた
マイクロ波を直接、または導波管を用いて調理室内に導
き、被加熱物に放射させてこれを加熱、調理することと
しているが、被加熱物をその形態の如何にかかわらず加
熱むらのない状態に均一に加熱することは雑しい。
マイクロ波を直接、または導波管を用いて調理室内に導
き、被加熱物に放射させてこれを加熱、調理することと
しているが、被加熱物をその形態の如何にかかわらず加
熱むらのない状態に均一に加熱することは雑しい。
このため従来より被加熱物の均一加熱を図るため被加熱
物の載置台として回転テーブルを用いる方法、或いはマ
イクロ波を撹乱するスタラーを設ける方法、更には複数
のマグネトロンを用いて異なる位置からマイクロ波を調
理室内に導入する方法等が夫々単独に、或いは適宜に組
み合せて実用化されているが、回転テーブル、スタラー
の使用のみでは均一加熱効果に限界があること、またマ
グネトロン自体のコストが引下げられていること等と相
まって近年には複数のマグネトロンを用いて加熱調理す
る方法が試みられている。
物の載置台として回転テーブルを用いる方法、或いはマ
イクロ波を撹乱するスタラーを設ける方法、更には複数
のマグネトロンを用いて異なる位置からマイクロ波を調
理室内に導入する方法等が夫々単独に、或いは適宜に組
み合せて実用化されているが、回転テーブル、スタラー
の使用のみでは均一加熱効果に限界があること、またマ
グネトロン自体のコストが引下げられていること等と相
まって近年には複数のマグネトロンを用いて加熱調理す
る方法が試みられている。
しかしこのような方法によっても被加熱物の温度を均一
化するのは極めて難しく、従来広く採用されている赤外
線温度センサを用いた自動調理方法、即ち被加熱物毎の
出来上り温度を予め記憶させておき、被加熱物がこの出
来上り温度に達すると加熱を自動的に終了するようにし
た電子レンジ等においても加熱むらのために赤外線温度
センサによって得た測定結果の信頼性が低く、出来上り
温度にばらつきを生じることがまま発生していた。
化するのは極めて難しく、従来広く採用されている赤外
線温度センサを用いた自動調理方法、即ち被加熱物毎の
出来上り温度を予め記憶させておき、被加熱物がこの出
来上り温度に達すると加熱を自動的に終了するようにし
た電子レンジ等においても加熱むらのために赤外線温度
センサによって得た測定結果の信頼性が低く、出来上り
温度にばらつきを生じることがまま発生していた。
本発明はかかる事情に鑑みなされたものであって、その
目的とするところは、温度センサによって検出した被加
熱物温度が所定温度に達したのを検出した後、この所定
温度に達するまでの時間に応じて追加加熱を加えること
によって、均一な加熱、調理を行い得るようにした電子
レンジを提供するにある。
目的とするところは、温度センサによって検出した被加
熱物温度が所定温度に達したのを検出した後、この所定
温度に達するまでの時間に応じて追加加熱を加えること
によって、均一な加熱、調理を行い得るようにした電子
レンジを提供するにある。
本発明に係る電子レンジは、調理室の周壁の相異なる位
置からマイクロ波を調理室内に放射し、被加熱物を加熱
、調理する複数のマイクロ波発生器と、被加熱物の温度
を検出する温度センサとを具備した電子レンジにおいて
、被加熱物が設定温度に達した後、被加熱物が加熱開始
時から設定温度に達するまでに要した時間に基づき、予
め定められているマイクロ波発生器を駆動制御する出力
制御部を具備することを特徴とする。
置からマイクロ波を調理室内に放射し、被加熱物を加熱
、調理する複数のマイクロ波発生器と、被加熱物の温度
を検出する温度センサとを具備した電子レンジにおいて
、被加熱物が設定温度に達した後、被加熱物が加熱開始
時から設定温度に達するまでに要した時間に基づき、予
め定められているマイクロ波発生器を駆動制御する出力
制御部を具備することを特徴とする。
以下本発明をその実施例を示す図面に基づき具体的に説
明する。第１図は本発明に係る電子レンジ（以下本発明
品という）の模式的正面断面図であり、図中１は調理室
、２は回転テーブル、３は赤外線センサ、４は被加熱物
、Ｍｕ、Ｍｄはマイクロ波発生器たるマグネトロンを示
している。調理室１はその前面を除く上、下、左、右及
び後部を夫々天板１ｕ＋底板１ｄ、左、右側板ＩＬｌｒ
ｓ後板１ｂにて囲繞され、前面側には図示しない扉が設
けられている。調理室ｌ内にはその下部にガラス、又は
セラミック製の回転テーブル２が底板１ｄを貫通して調
理室ｌ内に突き出した垂直軸２ａの上端に水平に固定さ
れ、垂直軸２ａの下端に連繋されたモータ２ｂにて回転
駆動せしめられるようになっており、その上に被加熱物
４が載置される。
明する。第１図は本発明に係る電子レンジ（以下本発明
品という）の模式的正面断面図であり、図中１は調理室
、２は回転テーブル、３は赤外線センサ、４は被加熱物
、Ｍｕ、Ｍｄはマイクロ波発生器たるマグネトロンを示
している。調理室１はその前面を除く上、下、左、右及
び後部を夫々天板１ｕ＋底板１ｄ、左、右側板ＩＬｌｒ
ｓ後板１ｂにて囲繞され、前面側には図示しない扉が設
けられている。調理室ｌ内にはその下部にガラス、又は
セラミック製の回転テーブル２が底板１ｄを貫通して調
理室ｌ内に突き出した垂直軸２ａの上端に水平に固定さ
れ、垂直軸２ａの下端に連繋されたモータ２ｂにて回転
駆動せしめられるようになっており、その上に被加熱物
４が載置される。
調理室ｌの天板１ｕの上面、底板１ｄの下面には夫々導
波管５ｕ、５ｄが配設され、その各先端は天板１ｕ＋底
板１ｄの略中央部に開口した放射口１ａ＋１ｃに連結さ
れ基端には夫々マグネトロンＭｕ＋Ｍｄが配設されてお
り、これらマグネトロンＭｕ、Ｍｄから発せられるマイ
クロ波は夫々導波管５ｕ、５ｄ内を伝播されて各放射口
１ａ、１ｃから調理室１内に導入され、被加熱物４に放
射され、これを加熱せしめるようになっている。
波管５ｕ、５ｄが配設され、その各先端は天板１ｕ＋底
板１ｄの略中央部に開口した放射口１ａ＋１ｃに連結さ
れ基端には夫々マグネトロンＭｕ＋Ｍｄが配設されてお
り、これらマグネトロンＭｕ、Ｍｄから発せられるマイ
クロ波は夫々導波管５ｕ、５ｄ内を伝播されて各放射口
１ａ、１ｃから調理室１内に導入され、被加熱物４に放
射され、これを加熱せしめるようになっている。
また調理室１の天板１ｕの上面には内部に赤外線センサ
３を内蔵するセンサボックス６が固定されており、赤外
線センサ３は取付台６ａを用いて回転テーブル２の略中
夫に臨むよう配設されている。
３を内蔵するセンサボックス６が固定されており、赤外
線センサ３は取付台６ａを用いて回転テーブル２の略中
夫に臨むよう配設されている。
センサボックス６の下部を構成する天板１ｕの一部には
天板１ｕを貫通させてカットオフバイブロｂが設けられ
、またこのカットオフバイブロｂの上端と赤外線センサ
３との間には断続的に赤外線を赤外線センサ３に導くた
めの円板状のチョッパ６ｃが図示しないモータにて回転
駆動されるよう配設されている。赤外線センサ３はチョ
ッパ６ｃの回転によって被加熱物４とチョツパ６ｃ自 に検出し、チョッパ６ｃの温度に対する温度として被加
熱物４の温度を検出するようになっている。
天板１ｕを貫通させてカットオフバイブロｂが設けられ
、またこのカットオフバイブロｂの上端と赤外線センサ
３との間には断続的に赤外線を赤外線センサ３に導くた
めの円板状のチョッパ６ｃが図示しないモータにて回転
駆動されるよう配設されている。赤外線センサ３はチョ
ッパ６ｃの回転によって被加熱物４とチョツパ６ｃ自 に検出し、チョッパ６ｃの温度に対する温度として被加
熱物４の温度を検出するようになっている。
第２図は両マグネトロンＭｕ，Ｍｄへの給電制御回路図
であり、図中１１は高圧トランス、１２は高圧トランス
１１の一次側に接続された交流電源を示している．そし
て高圧トランス１１の二次側回路にはマグネトロンＭｕ
，Ｍｄが並列的に接続されている。各マグネトロンＭｕ
．Ｍｄはその陽極をその途中にコンデンサ１４ａ．１４
ｂを介在させて二次側コイルの一端に、また陰極はその
途中に高圧用のリードリレー１５ａ， １５ｂを介在さ
せて同じく二次側コイルの他端に夫々接続されると共に
、各マグネトロンＭｕ，Ｍｄ夫々と並列的にダイオード
１６ａ． １６ｂがそのアノード側をマグネトロンＭｕ
，Ｍｄの陽極側に位置させて接続されている。
であり、図中１１は高圧トランス、１２は高圧トランス
１１の一次側に接続された交流電源を示している．そし
て高圧トランス１１の二次側回路にはマグネトロンＭｕ
，Ｍｄが並列的に接続されている。各マグネトロンＭｕ
．Ｍｄはその陽極をその途中にコンデンサ１４ａ．１４
ｂを介在させて二次側コイルの一端に、また陰極はその
途中に高圧用のリードリレー１５ａ， １５ｂを介在さ
せて同じく二次側コイルの他端に夫々接続されると共に
、各マグネトロンＭｕ，Ｍｄ夫々と並列的にダイオード
１６ａ． １６ｂがそのアノード側をマグネトロンＭｕ
，Ｍｄの陽極側に位置させて接続されている。
１５は前記各リードリレー１５ａ．１５ｂをオン、オフ
制御するための制御回路を構成するマイクロプロセッサ
であり、前記高圧トランス１１の一次側回路に接続され
、交流電源１２から電力を得てリードリレー１５ａ．１
５ｂ夫々を所定のタイミングで断続制御し、マグネトロ
ンＭｕ．Ｍｄのデユーティ比を通正に設定する外、その
出力をも制御するようになっている。
制御するための制御回路を構成するマイクロプロセッサ
であり、前記高圧トランス１１の一次側回路に接続され
、交流電源１２から電力を得てリードリレー１５ａ．１
５ｂ夫々を所定のタイミングで断続制御し、マグネトロ
ンＭｕ．Ｍｄのデユーティ比を通正に設定する外、その
出力をも制御するようになっている。
マイクロプロセッサ１５には被加熱物４を設定温度にま
で加熱する本加熱過程及び被加熱物４が設定温度に達し
た後の追加加熱過程夫々におけるマグネトロンＭｕ、Ｍ
ｄの駆動パターン、出力、時間等を予め食品に応じて設
定記憶させである０例えばマグネトロンＭｕ、Ｍｄの駆
動パターンとしては両マグネトロンＭｕ、Ｍｄのいずれ
か一方のみか、又は双方の駆動かのいずれかを判断し、
また双方を駆動する場合にはその駆動態様として交互的
駆動の場合にはその時間、またデユーティ比等の条件を
設定する。このような条件は被加熱物４を可及的に均一
に加熱し得るよう定められ、特に被加熱物の性質、形態
、！１１理内容等を考慮する。
で加熱する本加熱過程及び被加熱物４が設定温度に達し
た後の追加加熱過程夫々におけるマグネトロンＭｕ、Ｍ
ｄの駆動パターン、出力、時間等を予め食品に応じて設
定記憶させである０例えばマグネトロンＭｕ、Ｍｄの駆
動パターンとしては両マグネトロンＭｕ、Ｍｄのいずれ
か一方のみか、又は双方の駆動かのいずれかを判断し、
また双方を駆動する場合にはその駆動態様として交互的
駆動の場合にはその時間、またデユーティ比等の条件を
設定する。このような条件は被加熱物４を可及的に均一
に加熱し得るよう定められ、特に被加熱物の性質、形態
、！１１理内容等を考慮する。
被加熱物４の出来上り温度は予め食品毎に求めてマイク
ロプロセッサ１５にて記憶されており、本加熱過程中、
温度センサ３から被加熱物４の温度を読み込み、被加熱
物４の出来上り温度に達すると、被加熱物４に対する追
加加熱過程に入る。
ロプロセッサ１５にて記憶されており、本加熱過程中、
温度センサ３から被加熱物４の温度を読み込み、被加熱
物４の出来上り温度に達すると、被加熱物４に対する追
加加熱過程に入る。
この追加加熱過程においては加熱すべき被加熱物４の温
度、使用マグネトロンＭｕ、Ｍｄ 、或いはその駆動制
御条件は、被加熱物４がその加熱開始から出来上り温度
に達するまでの時間ｔに食品固有の定数αを乗じた値α
ｔに基づき定められる。定数αは被加熱物毎に異なるの
が普通であり、予め実験的に求めておく。
度、使用マグネトロンＭｕ、Ｍｄ 、或いはその駆動制
御条件は、被加熱物４がその加熱開始から出来上り温度
に達するまでの時間ｔに食品固有の定数αを乗じた値α
ｔに基づき定められる。定数αは被加熱物毎に異なるの
が普通であり、予め実験的に求めておく。
第３図は本発明品による本加熱過程及び追加加熱過程夫
々における加熱パターンの例を示すグラフであって、横
軸に時間を、また縦軸に被加熱物温度をとって示しであ
る。上記した被加熱物４を設定温度Ｔ１まで加熱する本
加熱と、被加熱物４を更に設定温度Ｔ１からＴ２まで追
加加熱する過程での各使用マグネトロンの使い分けは０
本加熱、追加加熱ともマグネトロンＭｕ、又はＭｄを夫
々併行的に用いる場合、■また本加熱、追加加熱のいず
れか一方でマグネトロンＭｕを、他方でマグネトロン間
を夫々単独に使用する場合の４通りがあり、予め個々に
設定しておけばよい、マグネトロンＭｕ。
々における加熱パターンの例を示すグラフであって、横
軸に時間を、また縦軸に被加熱物温度をとって示しであ
る。上記した被加熱物４を設定温度Ｔ１まで加熱する本
加熱と、被加熱物４を更に設定温度Ｔ１からＴ２まで追
加加熱する過程での各使用マグネトロンの使い分けは０
本加熱、追加加熱ともマグネトロンＭｕ、又はＭｄを夫
々併行的に用いる場合、■また本加熱、追加加熱のいず
れか一方でマグネトロンＭｕを、他方でマグネトロン間
を夫々単独に使用する場合の４通りがあり、予め個々に
設定しておけばよい、マグネトロンＭｕ。
■に対し本加熱過程と、追加加熱過程においてどのよう
な使い分けを行うかは、予め経験的に、或いは実験的に
定めておく。
な使い分けを行うかは、予め経験的に、或いは実験的に
定めておく。
第４図（イ）は本発明品における本加熱と追加加熱との
（Ｔｏの加熱パターンを示すグラフであって、本加熱に
おいてはマグネトロンＭｕ、Ｍｄの両者を使用して夫々
前述した如くデユーティ比り、、Ｄ２にて加熱、ｔ調理
を行い、また追加加熱においては、上記本加熱時におけ
るデユーティ比と異なるデユーティ比ＤＩ ’＋ Ｄ２
′にて加熱調理を行った。
（Ｔｏの加熱パターンを示すグラフであって、本加熱に
おいてはマグネトロンＭｕ、Ｍｄの両者を使用して夫々
前述した如くデユーティ比り、、Ｄ２にて加熱、ｔ調理
を行い、また追加加熱においては、上記本加熱時におけ
るデユーティ比と異なるデユーティ比ＤＩ ’＋ Ｄ２
′にて加熱調理を行った。
この場合のマグネトロンＭｕ、Ｍｄ全体の出力は第４図
（ロ）に示すとおりである。本加熱時の出力は大きく、
追加加熱時の出力は略そのｌ／３程度としである。この
ような加熱出力自体も前記デユーティ比の設定によって
適宜設定される。この出力調節によって加熱むら解消が
一層有効に行い得る効果がある。
（ロ）に示すとおりである。本加熱時の出力は大きく、
追加加熱時の出力は略そのｌ／３程度としである。この
ような加熱出力自体も前記デユーティ比の設定によって
適宜設定される。この出力調節によって加熱むら解消が
一層有効に行い得る効果がある。
以上の如く本発明品にあっては被加熱物が設定温度に達
するまでに要した時間に基づいて追加加熱に際しての駆
動マイクロ波発生器の選択を行うようにしたから、残存
する温度むらを追加加熱過程において効果的に解消し得
ることとなり、均一な加熱、調理を行い得るなど、本発
明は優れた効果を奏するものである。
するまでに要した時間に基づいて追加加熱に際しての駆
動マイクロ波発生器の選択を行うようにしたから、残存
する温度むらを追加加熱過程において効果的に解消し得
ることとなり、均一な加熱、調理を行い得るなど、本発
明は優れた効果を奏するものである。
第１図は本発明品の模式的正面断面図、第２図は本発明
品におけるマグネトロンへの給電回路図、第３図は被加
熱物に対する本加熱及び追加加熱のパターンを示すグラ
フ、第４図は被加熱物に対する本加熱及び追加加熱の他
のパターン及び出力を示すグラフである。 ■・・・調理室 ２・・・回転テーブル ３・・・赤外
線セン＋ ４・・・被加熱物 ５ｕ、５ｄ・・・導波管
１１・・・高圧トランス １２・・・交流電源 １５
ａ、１５ｂ・・・リードリレー １６ａ、１６ｂ・・
・ダイオード Ｍｕ、Ｍｄ・・・マグネトロン 特 許 出願人 三洋電機株式会社 代理人 弁理士 河 野 登 夫 第 １ 図 第 ２ ロ
品におけるマグネトロンへの給電回路図、第３図は被加
熱物に対する本加熱及び追加加熱のパターンを示すグラ
フ、第４図は被加熱物に対する本加熱及び追加加熱の他
のパターン及び出力を示すグラフである。 ■・・・調理室 ２・・・回転テーブル ３・・・赤外
線セン＋ ４・・・被加熱物 ５ｕ、５ｄ・・・導波管
１１・・・高圧トランス １２・・・交流電源 １５
ａ、１５ｂ・・・リードリレー １６ａ、１６ｂ・・
・ダイオード Ｍｕ、Ｍｄ・・・マグネトロン 特 許 出願人 三洋電機株式会社 代理人 弁理士 河 野 登 夫 第 １ 図 第 ２ ロ
Claims (1)
- １、調理室の周壁の相異なる位置からマイクロ波を調理
室内に放射し、被加熱物を加熱、調理する複数のマイク
ロ波発生器と、被加熱物の温度を検出する温度センサと
を具備した電子レンジにおいて、被加熱物が設定温度に
達した後、被加熱物が加熱開始時から設定温度に達する
までに要した時間に基づき、予め定められているマイク
ロ波発生器を駆動制御する出力制御部を具備することを
特徴とする電子レンジ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2894285A JPS61188885A (ja) | 1985-02-15 | 1985-02-15 | 電子レンジ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2894285A JPS61188885A (ja) | 1985-02-15 | 1985-02-15 | 電子レンジ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61188885A true JPS61188885A (ja) | 1986-08-22 |
| JPH0130273B2 JPH0130273B2 (ja) | 1989-06-19 |
Family
ID=12262459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2894285A Granted JPS61188885A (ja) | 1985-02-15 | 1985-02-15 | 電子レンジ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61188885A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01210726A (ja) * | 1987-12-22 | 1989-08-24 | Gold Star Co Ltd | 電子料理レンジの自動料理制御方法 |
-
1985
- 1985-02-15 JP JP2894285A patent/JPS61188885A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01210726A (ja) * | 1987-12-22 | 1989-08-24 | Gold Star Co Ltd | 電子料理レンジの自動料理制御方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0130273B2 (ja) | 1989-06-19 |
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