JPS61179883A - ジヤケツト装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般に化学処理業界で使用されるエナメルま
たはガラス被覆された金属容器に関するもので、特に内
部がエナメルまたはガラスで被覆された容器のシェルの
重要部分を囲む金属ジ、十ケットを含む上記タイプの容
器に関するものである。

エナメルまたはガ・ラスで被覆された容器は周知であり
、化学反応および／または種々の化学物質および混合物
の製造の際に他の化学処理工程を行うため化学処理業界
でよく使用される。このような容器の内部はエナメルま
たはガラスで被覆され、腐食、浸食、および高温および
／または低温の作用を受けず、容器の下地金属シェルと
接触するようにされる。

エナメルおよびガラス被覆材料を受は入れて、これら材
料が金属面に耐着するように予め処理された容器の金属
の内面に通常コロイド懸濁液状のエナメルまたはガラス
被覆材料が噴霧される。

次に容器は、エナメルまたはガラス被覆材料が容器の下
地金属面に焼き付けすなわち融着するよう、例えば炉に
より発生される高温で処理される。

このような焼き付けは、通常全化学反応系に対して寸法
および形状の許容可能な範囲内で金属のシェルの形状を
ある程度ひずませる。

これら金属容器の多くは次に金属ジャケット内に入れら
れる。このジャケットの目的は例えば容器のシェルの内
部のまわりに絶縁材料を密閉することであり、または容
器のシェルの構造的支持体となるのである。容器のシェ
ルの外面と金属ジャケットの内面との間には通常多少の
均一なギャップが形成される。

金属ジャケットを反応容器上で使用する場合、これらジ
ャケットは容器のシェルの外側に取付けなければならな
い。この取付けは通常溶接により行なわれる。しかしな
がら溶接により発生される局部的な熱は容器のシェルの
金属の局部的なひずみ、応力、膨張および収縮を生じさ
せるので、ジャケットは金属のシェルの外面に直接に溶
接できない、上記溶接による作用は、容器のシェルの内
面上のエナメルまたはガラス被覆の大幅な割れを生じさ
せるが、多くの場合この傾向にある。

容器のシェルのエナメルまたはガラスで被覆された内面
の上記のような破壊を防止するため、容器のシェルの内
側をエナメルまたはガラスで被覆する前に通常溶接によ
り容器のシェルの外側に溶接リングが取付けられる。こ
の溶接リングの目的は、金属シェル自体から比較的離れ
た金属面を設け、シェルのエナメルまたはガラスで被覆
された内部に隣接する金属シェルの内面に溶接の局部的
な熱を直接加えることなく上記金属面にジャケットを溶
接できるようにすることである。

上記のようにシェルの内側にエナメルまたはガラス被覆
材料を融着するのに必要なシェルの加熱のためシェルの
ひずみが生じる。焼き付は前に溶接リングをシェルの外
面に取付けると、溶接リングはシェルの焼き付は時に同
じようにひずむ。このようなひずみは、シェルがエナメ
ルまたはガラスで被覆された後、溶接準備のためジャケ
ットを溶接リングに嵌合する際に問題を起こす。すなわ
ちこのようなひずみによりジャケットエツジの溶接リン
グへの嵌合部でランダムかつ不連続的にギャップが生じ
るこのようなギャップがあると、ギャップを充填する溶
接金属をルートバスに置くよう注意深く手動溶接を行わ
なければならない。

溶接リングに対しジャケットを連続的に金属対金属接合
できるようにルートバスを一旦所定位置に位置すれば、
サブマージアーク溶接のような自動溶接法を使用して強
力かつ一律的な接合部ができるように追加溶接金属フィ
ラーを置くことができる。云うまでもなく通常の溶接ル
ートバスは自動溶接法を使用した場合よりも時間が長（
かかり注意力を必要とし、高度に熟練した溶接要員が必
要である。

従ってコストの高くつく熟練した溶接要員により行なわ
れる長時間の手動溶接を不要にするよう自動溶接法によ
ってもルート溶接できる程度まで上記ギャップを小さく
できる手段が必要である。

本発明によれば、エナメルまたはガラス被覆材料の塗布
および融着前にガラス化学反応容器のシェルの外面に用
船リングの組合わせを溶接する。

このシェルは好ましくは中空円筒形状の側壁部と、側壁
部の一端好ましくは下端を密閉する底部とから成る連続
金属体から形成する。側壁部に一般に収束中空円錐形状
の溶接リングを溶接し、第１溶接リングに対する中心に
、好ましくは第１ｔｌ接リングの中心軸と同心状に底部
に対して一般に中空円筒状の第２溶接リングを溶接する
。２つの溶接リングの間に存在する一般にシェル状のジ
ャケットに溶接開口を設け、この溶接開口は第２溶接リ
ングの径の大きさに対応する。ジャケットは頂部を有し
ないが、溶接開口と反対側のエツジは一般に第１溶接リ
ングの寸法および形状に対応するが、第１溶接リングの
円錐形の横断面の最大径よりも小さくなるよう横断面の
寸法が若干小さくする。

第２溶接リングがジャケットの溶接開口を貫通してジャ
ケットの遠方エツジが第１溶接リングの円錐面に完全に
接触するように容器のシェル上にジャケットを嵌合する
。ジャケットが溶接リングと接触するようにジャケット
を所定位置に保持すると共にジャケットの遠方エツジを
若干ひずませて第１溶接リングに順応してこれに密に金
属接触するようにジャケットに機械的な圧力を加えるこ
とかできる。次にこの組立体を直接自動溶接する。

第１図を参照すると、本図には内部がエナメルまたはガ
ラスで被覆された化学反応容器のシェル１）が示されて
おり、このシェル１）は好ましくは垂直に配置された一
般に円筒状のタンクの形状をなし、その側壁は中空円筒
形状である。側壁１３の底面は底部１５により囲家れて
いる。底部１５の軸方向中心には、第１図に示すように
下方に延長する出口１７が設けられている。出口１７は
底部１５の一体的延長部を形成し、次に底部１５は第１
図に示すように側壁１３の底部分の一体的密閉体を形成
している。これらの内部はすべてエナメルまたはガラス
で被覆される。

出口１７は、側壁１３の円筒部の中心軸に沿って配列さ
れた回転軸を有する円筒の環状体であることが好ましい
、当然であるが、出口１７を側壁１３の円筒部の中心軸
から偏心させることも可能である。側壁１３の上方端も
頂部１９で密閉することが好ましく、この頂部も同じよ
うに第１図に示すように側壁１３の上方部分の一体的密
閉体である。

側壁１３の外部、好ましくは一般に頂部１９に近い側壁
１３の上方部分であって、第１図に示すように側壁１３
から頂部１９への移行部の下方に（これらについては当
業者であれば良（理解されよう）上方溶接リング２が溶
接されている。

上方溶接リング２１は側壁１３の横断面の厚みに等しい
がそれよりも厚い横断面厚みを有するシートメタルすな
わち金属プレートから形成することが好ましい。この上
方溶接リング２１は側壁１３の外周面上の溶接接合部２
７から一般に外方に延長する延長部２３を含む。溶接接
合部２７は側壁１３に上方溶接リング２１を取付けるた
めの手段であり、この接合部２７は反応容器にシェル１
）の内部をエナメルまたはガラスで被覆する前に形成さ
れる。

延長部分２３の最も外側の周辺部に位置する上方溶接リ
ング２１の移行点から円錐部３１が開始し、第１図に示
すように側壁１３へ向って内側かつ下方に収束するよう
延長する。円錐部３１は、側壁１３の外周辺２５に接触
しないようあまり内側へ延長しないことが好ましいが、
円錐部３１を接触させるよう設計できる場合もある。

下方溶接リング３３は、第１図に示すように出口１７を
囲むよう円心状に位置し、出口１７の横断面の最大径よ
り大径であることが好ましい。下方溶接リング３３は好
ましくは２つの部分から成ることが好ましい。円錐部３
５は好ましくは、底部１５の外側３７に溶接され、反応
容器のシェル１）の内部をエナメルまたはガラスで被覆
する前に溶接点３９に取付けられる。溶接点３９からは
、円錐部３５が第１図に示すように下方かつ外方に延長
して、出口１７から離間する方向に広がる。

移行点４１にて下方溶接リング３３部分すなわち円筒部
４３は第１図に示すように下方に延長する。

円筒部４３は、中空であり、出口１７の最大径に等しい
か、好ましくはこれより大径である。円筒部４３の下方
延長部の長さは、好ましくは円錐部３１の垂直長さに対
応するが、円筒部４３の円錐部３５との間の間隙を設け
るため異なる長さを利用することもできる。

金属ジャケット４５は、反応容器シェル１）の側壁１３
と底部１５との組立体にほぼ対応するよう成形されてお
り、ジャケット側壁４７とジャケット底部４９から成る
。このジャケット４５は、第１図に示すように側壁１３
の外周２５および底部１５の外側３７から離間するよう
シェル１）より大きな寸法とすることが好ましい。ジャ
ケット底部４９の中には環状部が形成され、この環状部
は第１図に示すように円筒部４３と嵌合して摺動するよ
うな寸法になっている。ジャケットの側壁４７は、その
上方エツジ５１が第１図に示されるように円錐部３１に
当接するような寸法になっている。

製造の際、ジャケット４５は反応容器のシェル１）の内
部がエナメルまたはガラスで被覆された後、反応容器１
）の上にスリップされる。ジャケット底部４９の環状部
に円筒部４３を嵌合し、円錐部３１に上方エツジを当接
する。ジャケット底部４９に対してリニアに機械的圧力
を加えると、ジャケット４５を所定位置に保持し、かつ
上方エツジが円錐部５１の外面により忠実に順応するよ
う上方エツジを若干ひずませることができる。自動溶接
接合部５３は好ましくは、サブマージアーク溶接法によ
り形成できるが、他の溶接法、例えば金属リナートガス
（Ｍ　Ｉ　Ｇ）溶接法も使用できる。最後に同じ自動溶
接法により溶接接合部５５を形成できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の好ましい態様に従った垂直配置され
たジャケット付化学反応容器の側断面図である。 １）・・・シェル、１３・・・側壁、１５・・・底部、
１７・・・出口、１９・・・頂部、２１・・・上方溶接
リング、３３・・・下方溶接リング、４５・・・ジャケ
ット。 特許庁長官　殿　　　　　　　　　　適１．事件の表示
　　　昭和６０年特許願第２２８５７１号２、発明の名
称　　　　　　ジャケット装置３、補正をする者 事件との関係　　出願人

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）エナメルまたはガラスで被覆された容器用のジャ
   ケット装置であって、 ａ）前記容器の底部および側壁部分から離間した状態で
   これら部分を囲むよう形成され、上方端と、前記ジャケ
   ットの底部に設けられた環状部から成るジャケットと、 ｂ）前記容器をエナメルまたはガラスで被覆する前に、
   下方に延長する前記容器周辺の底部から下方へ延長する
   延長部に溶接された中空円筒部と、 ｃ）前記容器をエナメルまたはガラスで被覆する前に前
   記容器の側壁からの延長部に溶接された下方収束円錐部
   材から成り、 前記ジャケットは前記容器のエナメルまたはガラス被覆
   後に前記容器上に取付けられ、前記環状部は全自動溶接
   法を利用できるよう充分に接近した状態で前記円筒部を
   囲むよう位置し、前記環状部および前記円筒部は互いに
   溶接され、前記ジャケットの前記上方エッジは全自動溶
   接法を使用できるよう充分接近した状態で下方収束円錐
   部材に当接され、前記上方エッジと前記下方収束円錐部
   材は共に溶接されたジャケット装置。
2. （２）前記環状部および前記円筒部は少なくとも一つの
   全自動溶接法により共に溶接される特許請求の範囲第（
   １）項記載の装置。
3. （３）前記上方エッジおよび前記下方収束円錐部材は少
   なくも１つの全自動溶接法により溶接される特許請求の
   範囲第（１）項記載の装置。