JPS61174276A - 紫外線硬化型インキ組成物 - Google Patents
紫外線硬化型インキ組成物Info
- Publication number
- JPS61174276A JPS61174276A JP60016238A JP1623885A JPS61174276A JP S61174276 A JPS61174276 A JP S61174276A JP 60016238 A JP60016238 A JP 60016238A JP 1623885 A JP1623885 A JP 1623885A JP S61174276 A JPS61174276 A JP S61174276A
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- JP
- Japan
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- meth
- acrylate
- ink composition
- curable ink
- ultraviolet
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/285—Permanent coating compositions
- H05K3/287—Photosensitive compositions
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、紫外線硬化型インキ組成物に関し、特にプリ
ント配線板の製造に使用される紫外線硬化型インキ、例
えばソルダー・レジスト・インキに関するものである。
ント配線板の製造に使用される紫外線硬化型インキ、例
えばソルダー・レジスト・インキに関するものである。
（従来の技術）
これまでプリント配線板業界において、半田付けの際に
使用されるソルダー・レジスト・インキとしては、エポ
キシ樹脂、メラミン樹脂などが使用されてきたが、これ
らは熱乾燥方式であるため。
使用されるソルダー・レジスト・インキとしては、エポ
キシ樹脂、メラミン樹脂などが使用されてきたが、これ
らは熱乾燥方式であるため。
硬化時間が長く、エネルギー消費の点で極めて不利であ
るばかりでなくインキ成分中の揮発性溶剤による大気汚
染、職場環境の汚染という深刻な問題をかかえていた。
るばかりでなくインキ成分中の揮発性溶剤による大気汚
染、職場環境の汚染という深刻な問題をかかえていた。
このような背景から、無溶剤型紫外線硬化ソルダー・レ
ジスト・インキが提案されている。
ジスト・インキが提案されている。
例えば、特開昭５１−１３１７０６号公報、特開昭５５
−１２７０９７号公報などが提案されている。これら公
報によれば、ビニルエステル樹脂、レゾール型エポキシ
アクリレート系樹脂等が使用されている。
−１２７０９７号公報などが提案されている。これら公
報によれば、ビニルエステル樹脂、レゾール型エポキシ
アクリレート系樹脂等が使用されている。
しかし、上記提案のソルダー・レジスト・インキは印刷
膜厚が厚く（たとえば５０μｍ以上）なると紫外線硬化
が不十分となる。即ち、ソルダー・レジスト・インキの
印刷膜厚が厚くなると紫外線が上層部で吸収されてしま
い下層部まで届かず。
膜厚が厚く（たとえば５０μｍ以上）なると紫外線硬化
が不十分となる。即ち、ソルダー・レジスト・インキの
印刷膜厚が厚くなると紫外線が上層部で吸収されてしま
い下層部まで届かず。
従ってプリント配線板界面では十分に紫外線硬化されな
い。その結果として、接着性、半田耐熱性、耐トリクレ
ン性などが不十分となる。特にパターン間隙の狭い面密
度パターンになるとこの傾向がより著しくなる。従って
、業界からは厚膜便化が可能で半田耐鍼性に優れ、さら
に接着性、耐溶剤性などに優れたソルダー・レジスト・
インキの開発が強く要望されていた。
い。その結果として、接着性、半田耐熱性、耐トリクレ
ン性などが不十分となる。特にパターン間隙の狭い面密
度パターンになるとこの傾向がより著しくなる。従って
、業界からは厚膜便化が可能で半田耐鍼性に優れ、さら
に接着性、耐溶剤性などに優れたソルダー・レジスト・
インキの開発が強く要望されていた。
（発明の解決しようとする問題点）
本発明では、厚膜硬化が可能で、しかも半田耐熱性、接
着性、耐溶剤性などに優れた紫外線硬化型インキ組成物
を提供する。
着性、耐溶剤性などに優れた紫外線硬化型インキ組成物
を提供する。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、プレポリマー（Ｉ）、光重合性単量体始剤（
ＩＩ［）として一般式（Ａ）で示される化合物を含むこ
とを特徴とする紫外線硬化型インキ組成物である。
ＩＩ［）として一般式（Ａ）で示される化合物を含むこ
とを特徴とする紫外線硬化型インキ組成物である。
（但し、ＲＩ、Ｒ２、Ｒ３％Ｒ４は炭素原子数１〜１２
のアルキル基を示す。） 本発明で使用する光重合性プレポリマー（Ｉ）とは、（
１）ビスフェノ−）ｖＡのエチレンオキシドまたは／お
よびプロピレンオキシド付加物などのビスフェノールＡ
のアルキレンオキシド付加物のジ（メタ）アクリレート
（アクリレートおよびメタクリレートをこのように略記
する。以下同様）。
のアルキル基を示す。） 本発明で使用する光重合性プレポリマー（Ｉ）とは、（
１）ビスフェノ−）ｖＡのエチレンオキシドまたは／お
よびプロピレンオキシド付加物などのビスフェノールＡ
のアルキレンオキシド付加物のジ（メタ）アクリレート
（アクリレートおよびメタクリレートをこのように略記
する。以下同様）。
水素化ビスフェノ−／ｌ／Ａのエチレンオキシドまたは
／およびプロピレンオキシド付加物などの水素化ビスフ
ェノ−Ａ／Ａのアルキレンオキシド付加物のジ（メタ）
アクリレート、（Ｉ）ジイソシアネート化合物と２個以
上のアルコール性水酸基含有化金物を予め反応させて得
られる末端イソシアネート基含有化合物にさらにアルコ
ール性水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得
られる分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を
有するウレタン変性ジ（メタ）アクリレートｋ（ｌｉｔ
）分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物にアク
リル酸またはメタクリル酸を反応させて得られるアルキ
レン（メタ）アクリレート、 （ｌｖ）カルボン酸成
分としてアクリル酸またはメタクリル酸。
／およびプロピレンオキシド付加物などの水素化ビスフ
ェノ−Ａ／Ａのアルキレンオキシド付加物のジ（メタ）
アクリレート、（Ｉ）ジイソシアネート化合物と２個以
上のアルコール性水酸基含有化金物を予め反応させて得
られる末端イソシアネート基含有化合物にさらにアルコ
ール性水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させて得
られる分子内に２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を
有するウレタン変性ジ（メタ）アクリレートｋ（ｌｉｔ
）分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物にアク
リル酸またはメタクリル酸を反応させて得られるアルキ
レン（メタ）アクリレート、 （ｌｖ）カルボン酸成
分としてアクリル酸またはメタクリル酸。
および多価カルボン酸とアルコール成分として２価以上
の多価アルコールとを反応させて得られるオリゴエステ
ルジ（メタ）アクリレートなどが代表例として挙げられ
１通常これらプレポリマーの分子量は約５００〜約５，
０００ である。
の多価アルコールとを反応させて得られるオリゴエステ
ルジ（メタ）アクリレートなどが代表例として挙げられ
１通常これらプレポリマーの分子量は約５００〜約５，
０００ である。
本発明で使用する光重合性化合物（ＩＦ）とは１分子内
に１個以上の重合性二重結合を有する化合物であり、例
えば、（１）スチレン、α−メチルスチレン、クロロス
チレンなどのスチレン系化合物。
に１個以上の重合性二重結合を有する化合物であり、例
えば、（１）スチレン、α−メチルスチレン、クロロス
チレンなどのスチレン系化合物。
（ＩＩ）メチル（メタ）アクリレート、エチ／Ｉ／（メ
タ）アクリレート、ｎ−およびｉ−プロピル（メタ）ア
クリレート、ｎ−，５ｅｅ−およびｔ−ブチル（メタ）
アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレー
ト、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ
）アクリレートなどのアルキル（メタ）アクリレート、
（ｌｉｔ）シクロヘキシ／Ｌ／（メタ）アクリレー
ト、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートなど
の脂環式（メタ）アクリレート、 （ｌｖ）メトキシエ
チル（メタ）アクリレート。
タ）アクリレート、ｎ−およびｉ−プロピル（メタ）ア
クリレート、ｎ−，５ｅｅ−およびｔ−ブチル（メタ）
アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレー
ト、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ
）アクリレートなどのアルキル（メタ）アクリレート、
（ｌｉｔ）シクロヘキシ／Ｌ／（メタ）アクリレー
ト、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートなど
の脂環式（メタ）アクリレート、 （ｌｖ）メトキシエ
チル（メタ）アクリレート。
エトキンエチ）Ｖ （メタ）アクリレート、メトキシエ
チル（メタ）アクリレートなどのアルコキシアルキ／Ｌ
／（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）ア
クリレートなどのアリロキシアルキル（メタ）アクリレ
ートなどのモノ（メタ）アクリレート、（Ｖ）エチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオール
ジ（メタ）アクリレート、ネオベンチルグリコールジ（
メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンシオールジ（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、トリー以上のポリプロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリー以上のポリエチレングリコー
ルジ（メタコアクリレートなどのポリオキシアルキレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、 （ｖｌ） ）
リスチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールエタントリ（メタ）アクリレート、グリセリ
ントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタおよび／またはへキサ（メタ）アクリレートなどの
多官能（メタ）アクリレ−）、（ｙｌｌ）ジアリルフタ
レート、トリアリルシアヌレートなどのアリル化合物、
（Ｖｌｌ） ）リス（メタ）アクリロイルオキシブ
チルイソシアヌレート、トリス（メタ）アクリロイルオ
キシプロピルイソシアヌレート、トリス（メタ）アクリ
ロイルオキシブチルイソシアヌレートなどのトリス（メ
タ）アクリロイルオキシアルキルイソシアヌレート％
（ｌｘ）ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒド
ロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジエチレングリ
コール七ノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコー
ル七ノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコー
ルモノ（メタ）アクリレート。
チル（メタ）アクリレートなどのアルコキシアルキ／Ｌ
／（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）ア
クリレートなどのアリロキシアルキル（メタ）アクリレ
ートなどのモノ（メタ）アクリレート、（Ｖ）エチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオール
ジ（メタ）アクリレート、ネオベンチルグリコールジ（
メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンシオールジ（メ
タ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、トリー以上のポリプロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリー以上のポリエチレングリコー
ルジ（メタコアクリレートなどのポリオキシアルキレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、 （ｖｌ） ）
リスチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールエタントリ（メタ）アクリレート、グリセリ
ントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタおよび／またはへキサ（メタ）アクリレートなどの
多官能（メタ）アクリレ−）、（ｙｌｌ）ジアリルフタ
レート、トリアリルシアヌレートなどのアリル化合物、
（Ｖｌｌ） ）リス（メタ）アクリロイルオキシブ
チルイソシアヌレート、トリス（メタ）アクリロイルオ
キシプロピルイソシアヌレート、トリス（メタ）アクリ
ロイルオキシブチルイソシアヌレートなどのトリス（メ
タ）アクリロイルオキシアルキルイソシアヌレート％
（ｌｘ）ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒド
ロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジエチレングリ
コール七ノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコ
ールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコー
ル七ノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコー
ルモノ（メタ）アクリレート。
グリセリン七ノ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（
メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ
）アクリレートなどのヒドロキシアルキル（メタ）アク
リレート、（Ｘ）（メタ）アクリロイルオキシエチルホ
スフェート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルホス
フェート、ビス−（メタ）アクリロイルオキシエチルホ
スフェート。
メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ
）アクリレートなどのヒドロキシアルキル（メタ）アク
リレート、（Ｘ）（メタ）アクリロイルオキシエチルホ
スフェート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルホス
フェート、ビス−（メタ）アクリロイルオキシエチルホ
スフェート。
ビス−（メタ）アクリロイルオキシプロヒルホスフェー
ト、トリス−（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフ
ェート、トリス−（メタ）アクリロイルオキシプロピル
ホスフェートなどの（メタ）アクリロイルアルキルオキ
シホスフェートなどが代表例として挙げられる。
ト、トリス−（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフ
ェート、トリス−（メタ）アクリロイルオキシプロピル
ホスフェートなどの（メタ）アクリロイルアルキルオキ
シホスフェートなどが代表例として挙げられる。
本発明において使用する光重合性プレポリマー（１）と
光重合性単量体（ＩＩ）の配合比は、 （１） 二（
ＩＩ）＝９５：５〜１０；９０（重量比）、好ましくは
８０ ： ２０〜１５：８０（重量比）である。
光重合性単量体（ＩＩ）の配合比は、 （１） 二（
ＩＩ）＝９５：５〜１０；９０（重量比）、好ましくは
８０ ： ２０〜１５：８０（重量比）である。
本発明の紫外線硬化型インキ組成物中に占める光重合性
プレポリマー（１）および光重合性単量体（ＩＩ）の割
合は、（１）と（Ｉ［）の総和として全組成物中、２０
重量％〜８０重量％である。
プレポリマー（１）および光重合性単量体（ＩＩ）の割
合は、（１）と（Ｉ［）の総和として全組成物中、２０
重量％〜８０重量％である。
本発明において使用する光開始剤（ＭＬ）とは、光重合
反応を促進する化合物であって、一般式（Ａ）で示され
る化合物を含むことを必須とする。
反応を促進する化合物であって、一般式（Ａ）で示され
る化合物を含むことを必須とする。
その他の光開始剤としては２例えばベンジルジメチルケ
タールなどのケタール類、ベンゾインメチルエーテル、
ペンゾインエチルエーテ／１／、ベンゾイン−１−プロ
ピルエーテル、ベンゾイン、α−メチルベンゾインなど
のベンゾイン類、９．１０−アントラキノン、１−クロ
ルアントフキノン。
タールなどのケタール類、ベンゾインメチルエーテル、
ペンゾインエチルエーテ／１／、ベンゾイン−１−プロ
ピルエーテル、ベンゾイン、α−メチルベンゾインなど
のベンゾイン類、９．１０−アントラキノン、１−クロ
ルアントフキノン。
２−クロルアントラキノン、２−エチルアントラキノン
などのアントラキノン類、ベンゾフェノン。
などのアントラキノン類、ベンゾフェノン。
ｐ−クロルベンゾフェノン、ｐ−ジメチルアミノベンゾ
フェノンなどのベンゾフェノン類、２−ヒドロキシ−２
−メチルプロピオフェノン、１−（４−イソプロピルフ
ェニ）ｖ）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェ
ノンなどのプロピオフェノン類、シベンゾスベロンなど
のスベロン類。
フェノンなどのベンゾフェノン類、２−ヒドロキシ−２
−メチルプロピオフェノン、１−（４−イソプロピルフ
ェニ）ｖ）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェ
ノンなどのプロピオフェノン類、シベンゾスベロンなど
のスベロン類。
ジフェニルジスルフィド、テトラメチルチウラムジスル
フィド、チオキサントンなどの含イオウ化合物類、メチ
レンブルー、エオシン、フルオｖセインなどの色素類な
どがあげられ、単独にまたは２種以上併用して使用され
る。
フィド、チオキサントンなどの含イオウ化合物類、メチ
レンブルー、エオシン、フルオｖセインなどの色素類な
どがあげられ、単独にまたは２種以上併用して使用され
る。
光開始剤（ＩＩ）の配合量は本発明インキ組成物中、キ
０．１〜１０重量％である。
０．１〜１０重量％である。
本発明の必須成分である一般式（Ａ）で示される化合物
としては、例えば３．３’、４．４’−テトラ（メチル
パーオキシカルボニ／ｌ／）ベンゾフェノンＴｈ ３
１３’１４．４′−テトラ（エチルパーオキンヵルボニ
／ｌ／）ベンゾフェノン、 ３．３’、４．４’−テト
ラ（プロピルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、
３．３’、４．４’−テトラ（ｎ−ブチルパーオキシ
カルボニＡ／）ベンゾフェノン、 ３．３’、４，４’
−テトラ（ｓｅｅ−ブチルパーオキシカルボニル）ベン
ゾフェノン、 ３．３’、４．４’−テトラ（ｔ−ブ
チルパーオキシヵルポニ＃）ペンシフエノンなどが挙げ
られるが、 ３．３’、４．４’−テトラ（ｔ−ブチル
パーオキシカルボニル）ベンゾフェノンが好ましい。こ
れらの化合物は単独にまたは２種以上併用して使用され
る。
としては、例えば３．３’、４．４’−テトラ（メチル
パーオキシカルボニ／ｌ／）ベンゾフェノンＴｈ ３
１３’１４．４′−テトラ（エチルパーオキンヵルボニ
／ｌ／）ベンゾフェノン、 ３．３’、４．４’−テト
ラ（プロピルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、
３．３’、４．４’−テトラ（ｎ−ブチルパーオキシ
カルボニＡ／）ベンゾフェノン、 ３．３’、４，４’
−テトラ（ｓｅｅ−ブチルパーオキシカルボニル）ベン
ゾフェノン、 ３．３’、４．４’−テトラ（ｔ−ブ
チルパーオキシヵルポニ＃）ペンシフエノンなどが挙げ
られるが、 ３．３’、４．４’−テトラ（ｔ−ブチル
パーオキシカルボニル）ベンゾフェノンが好ましい。こ
れらの化合物は単独にまたは２種以上併用して使用され
る。
一般式（Ａ）で示される化合物はそのまま使用してもよ
く、またトルエン、キシレンなどの有機溶剤に溶解した
溶液として使用してもよい。その配合量は光開始剤（Ｉ
［ｒ）の１０〜１００重量％である。
く、またトルエン、キシレンなどの有機溶剤に溶解した
溶液として使用してもよい。その配合量は光開始剤（Ｉ
［ｒ）の１０〜１００重量％である。
本発明で使用する体質顔料（ｎ）としては、炭酸カルシ
ウム、＠ｆ、酸バリウム、クレイ、アルミナ、タルク、
カオリン、シリカ粉、ケイソウ土、ベントナイトなどが
代表例としてあげられ、その配合量は本発明のインキ組
成物の１０〜６０重量％好ましくは７２０〜５０重量％
である。
ウム、＠ｆ、酸バリウム、クレイ、アルミナ、タルク、
カオリン、シリカ粉、ケイソウ土、ベントナイトなどが
代表例としてあげられ、その配合量は本発明のインキ組
成物の１０〜６０重量％好ましくは７２０〜５０重量％
である。
本発明のインキ組成物に対して必要によシ使用する着色
剤としては、二酸化チタン、カーボンブラック、フタロ
シアニンブルー、フタロシアニングリーンなどの公知の
無機、有機の顔料が使用され、その配合量は通常１本発
明インキ組成物の０．１〜１５重量％である。
剤としては、二酸化チタン、カーボンブラック、フタロ
シアニンブルー、フタロシアニングリーンなどの公知の
無機、有機の顔料が使用され、その配合量は通常１本発
明インキ組成物の０．１〜１５重量％である。
本発明の紫外線硬化型インキ組成物には、製造時の熱重
合や貯蔵中の暗反応を防止するために。
合や貯蔵中の暗反応を防止するために。
ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテＡ’
ｂｔ−ブチルカテコー／ｌ／、ｐ−ベンゾキノン。
ｂｔ−ブチルカテコー／ｌ／、ｐ−ベンゾキノン。
２．５− ｔ−ブチル−ハイドロキノン、フェノチアジ
ンなどの公知の熱重合防止剤１表面平滑剤、消泡剤、カ
ップリング剤などの添加剤を配合して使用される。
ンなどの公知の熱重合防止剤１表面平滑剤、消泡剤、カ
ップリング剤などの添加剤を配合して使用される。
塗布もしくは印刷した後、紫外線を照射して硬化させる
。この紫外線を照射するに用いられる光源としては、ケ
ミカルランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、カーボンアー
ク灯、キャノンランプ、メタルハライドランプなどが使
用される。
。この紫外線を照射するに用いられる光源としては、ケ
ミカルランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、カーボンアー
ク灯、キャノンランプ、メタルハライドランプなどが使
用される。
（発明の効果）
本発明の紫外線硬化型インキ組成物は、（１） 銅箔
面およびエポキシ樹脂、フェノール樹脂などの基板への
接着性に優れている。
面およびエポキシ樹脂、フェノール樹脂などの基板への
接着性に優れている。
（２）半田耐熱性に優れる。
（３） 硬化レジスト膜は耐溶剤性、特に耐トリクレ
ン性に優れているため、プリント配線板製造時の洗浄工
程による緒特性の変化がない。
ン性に優れているため、プリント配線板製造時の洗浄工
程による緒特性の変化がない。
（４） レジスト膜の厚膜硬化が可能なため高密度プ
リント配線板のソルダー・レジスト・インキとして好適
である。
リント配線板のソルダー・レジスト・インキとして好適
である。
などの特徴がある。
本発明の紫外線硬化型 二インキ組成物
は上記特徴を生かして、ソルダー・レジスト・インキと
しての使用は勿論のこと絶縁ペースト、オーバー・レイ
・インキ、マーキングインキ等の用途にも使用できる。
は上記特徴を生かして、ソルダー・レジスト・インキと
しての使用は勿論のこと絶縁ペースト、オーバー・レイ
・インキ、マーキングインキ等の用途にも使用できる。
本発明のインキ組成物は、上記の用途以外に、ガラス、
金属、プラスチック、セラミック等への印刷インキとし
ても使用可能である。
金属、プラスチック、セラミック等への印刷インキとし
ても使用可能である。
（実施例）
本発明をさらに具体的に説明するために次に実施例を挙
げるが、勿論１本発明はこれらの実施例によって何ら限
定されるものではない。
げるが、勿論１本発明はこれらの実施例によって何ら限
定されるものではない。
１３一
実施例１
ビスフェノールＡのビス−エポキシアクリレート １５
重量部トリメチロールプロパントリアクリレート
３０重量部ビス（メタアクリロキシエチル）フォスフ
ェート １ 重１ｔ’１トリスアクリロイル・インシ
アヌレート ２重１部２−ヒドロキシエチル
メタクリレート ５重置部２−エチル・ア
ントラキノン ＩＲｉ部３．３’
、４．４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキＶカルポニ）
Ｖ）ベンゾフェノンの２５ｗｔ％トルエン？ＩＪ！
１．５重量部夛 ル り
４３重量部表面平滑剤
０，５重量部フタロシアニングリーン
Ｉ Ｍ置部上記原料を混合し
たのち３本ロールで均一に混練し１本発明の紫外線硬化
型インキ組成物を得た。
重量部トリメチロールプロパントリアクリレート
３０重量部ビス（メタアクリロキシエチル）フォスフ
ェート １ 重１ｔ’１トリスアクリロイル・インシ
アヌレート ２重１部２−ヒドロキシエチル
メタクリレート ５重置部２−エチル・ア
ントラキノン ＩＲｉ部３．３’
、４．４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキＶカルポニ）
Ｖ）ベンゾフェノンの２５ｗｔ％トルエン？ＩＪ！
１．５重量部夛 ル り
４３重量部表面平滑剤
０，５重量部フタロシアニングリーン
Ｉ Ｍ置部上記原料を混合し
たのち３本ロールで均一に混練し１本発明の紫外線硬化
型インキ組成物を得た。
得られたインキ組成物を用いて通常のサブトラクト法に
より回路形成されたガラス強化エポキシ樹脂銅張積層板
（銅箔厚−３５μｍ）のランド部以外にスクリーン印刷
法で印刷した後、８０Ｗ／ｃ１ｎ高圧水銀灯下、１５ｍ
距離で２０秒間紫外線を照射し厚さ４０μｍの硬化膜を
得た。硬化膜の諸特性の測定結果を第１表に示した。
より回路形成されたガラス強化エポキシ樹脂銅張積層板
（銅箔厚−３５μｍ）のランド部以外にスクリーン印刷
法で印刷した後、８０Ｗ／ｃ１ｎ高圧水銀灯下、１５ｍ
距離で２０秒間紫外線を照射し厚さ４０μｍの硬化膜を
得た。硬化膜の諸特性の測定結果を第１表に示した。
実施例２
実施例１においてビスフェノ−／Ｌ／Ａのビスエポキシ
アクリレート成分に代えてフェノールノボラック型エポ
キシアクリレートを使用する以外はすべて実施例１と同
様にして本発明の紫外線硬化型インキ組成物を得た。
アクリレート成分に代えてフェノールノボラック型エポ
キシアクリレートを使用する以外はすべて実施例１と同
様にして本発明の紫外線硬化型インキ組成物を得た。
得られたインキ組成物を使用し実施例１と同様にして硬
化膜を得た。硬化膜の緒特性の測定結果を第１表に示し
た。
化膜を得た。硬化膜の緒特性の測定結果を第１表に示し
た。
実施例３
実施例１においてビスフェノ−／ｌ／Ａのビスエポキシ
アクリレート成分に代えてイソホロンジイソシアネート
１モルとヒドロキシエチルアクリレート２モルとを反応
生成物（但し、７．５重量部）を使用する以外は実施例
１と同様にして本発明の紫外線硬化型インキ組成物を得
た。
アクリレート成分に代えてイソホロンジイソシアネート
１モルとヒドロキシエチルアクリレート２モルとを反応
生成物（但し、７．５重量部）を使用する以外は実施例
１と同様にして本発明の紫外線硬化型インキ組成物を得
た。
得られたインキ組成物を使用して、同じ〈実施例１と同
様にして硬化膜を得た。硬化膜の緒特性の測定結果を第
１表に示した。
様にして硬化膜を得た。硬化膜の緒特性の測定結果を第
１表に示した。
比較例１
実施例１において３．３’、４．４’−テトラ（ｔ−ブ
チルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンの２５重量
％溶液を添加しない以外は実施例１と同様にして紫外線
硬化型インキ組成物を得た。
チルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンの２５重量
％溶液を添加しない以外は実施例１と同様にして紫外線
硬化型インキ組成物を得た。
得られたインキ組成物を使用して実施例１と同様にして
硬化膜を得た。硬化膜の緒特性の測定結果を第１表に併
示した。
硬化膜を得た。硬化膜の緒特性の測定結果を第１表に併
示した。
比較例２
実施例２において３．３’、４．４’−テトラ（ｔ−ブ
チルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン２５重量％
）ルエン溶液を添加しない以外は実施例２と同様にして
紫外線硬化型インキ組成物を得た。
チルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン２５重量％
）ルエン溶液を添加しない以外は実施例２と同様にして
紫外線硬化型インキ組成物を得た。
得られたインキ組成物を使用して実施例１と同様にして
硬化膜を得た。硬化膜の緒特性の測定結果を第１表に併
示した。
硬化膜を得た。硬化膜の緒特性の測定結果を第１表に併
示した。
比較例３
実施例３において３．３’、４．４’−テトラ（ｔ−ブ
チルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン２５重量％
）ルエン溶液を添加しない以外は実施例３と同様にして
紫外線硬化型インキ組成物を得た。
チルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン２５重量％
）ルエン溶液を添加しない以外は実施例３と同様にして
紫外線硬化型インキ組成物を得た。
得られたインキ組成物を使用して実施例１と同様にして
硬化膜を得た。硬化膜の緒特性の測定結果を第１表に併
示した。
硬化膜を得た。硬化膜の緒特性の測定結果を第１表に併
示した。
実施例４
実施例１と同様の手順に従い厚さ８０μｍの硬化膜を得
た。硬化膜の緒特性の測定結果を第１表に示した。
た。硬化膜の緒特性の測定結果を第１表に示した。
比較例４
比較例１と同様の手順に従い厚さ８０ ｔｔｍの硬化膜
を得た。硬化膜の緒特性の測定結果を第１表に併示した
。
を得た。硬化膜の緒特性の測定結果を第１表に併示した
。
Claims (1)
- （１）光重合性プレポリマー（ I ）、光重合性単量体
（II）、光開始剤（III）および体質顔料（IV）を必須
成分とする紫外線硬化型インキ組成物において、光開始
剤（III）として一般式（Ａ）で示される化合物を含む
ことを特徴とする紫外線硬化型インキ組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ａ） （但し、Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４は炭素原子数
１〜１２のアルキル基を示す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60016238A JPS61174276A (ja) | 1985-01-29 | 1985-01-29 | 紫外線硬化型インキ組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60016238A JPS61174276A (ja) | 1985-01-29 | 1985-01-29 | 紫外線硬化型インキ組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61174276A true JPS61174276A (ja) | 1986-08-05 |
Family
ID=11910975
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60016238A Pending JPS61174276A (ja) | 1985-01-29 | 1985-01-29 | 紫外線硬化型インキ組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61174276A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996000262A1 (fr) * | 1994-06-24 | 1996-01-04 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Composition pour marquage et procede de marquage par laser |
| JP2004315546A (ja) * | 2003-02-25 | 2004-11-11 | Dainippon Printing Co Ltd | 紫外線硬化型オーバープリントワニス組成物 |
| EP1815978A1 (en) * | 2006-02-06 | 2007-08-08 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, method of producing planographic printing plate, and planographic printing plate |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5825371A (ja) * | 1981-08-06 | 1983-02-15 | Toyobo Co Ltd | 紫外線硬化型印刷回路用インキ組成物 |
| JPS59197401A (ja) * | 1983-04-26 | 1984-11-09 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | 光重合開始剤 |
-
1985
- 1985-01-29 JP JP60016238A patent/JPS61174276A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5825371A (ja) * | 1981-08-06 | 1983-02-15 | Toyobo Co Ltd | 紫外線硬化型印刷回路用インキ組成物 |
| JPS59197401A (ja) * | 1983-04-26 | 1984-11-09 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | 光重合開始剤 |
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| CN1063470C (zh) * | 1994-06-24 | 2001-03-21 | 日本化药株式会社 | 标记用组合物和标记方法 |
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| US7806050B2 (en) | 2006-02-06 | 2010-10-05 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method, method of producing planographic printing plate, and planographic printing plate |
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