JPS61171126A - 投影露光装置用投影レンズ - Google Patents
投影露光装置用投影レンズInfo
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- JPS61171126A JPS61171126A JP60011081A JP1108185A JPS61171126A JP S61171126 A JPS61171126 A JP S61171126A JP 60011081 A JP60011081 A JP 60011081A JP 1108185 A JP1108185 A JP 1108185A JP S61171126 A JPS61171126 A JP S61171126A
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- JP
- Japan
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- projection lens
- dust
- thin film
- projection
- dusts
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 3
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の利用分野］
本発明は半導体装置製造用の露光装置の投影レンズに関
し、特にその防塵対策上の改良にｌ！Ｉする。
し、特にその防塵対策上の改良にｌ！Ｉする。
［従来技術］
ＬＳＩ等の半導体装置を製造するのに用いられる露光装
置では、その投影レンズに防塵対策がなされていないた
め、クリーンルーム内での使用においても長期間の使用
中には空中の浮遊塵埃が投影レンズの上面に徐々に付着
して、投影レンズの光学性能が劣化するという問題があ
る。投影レンズの上面に塵埃が付着した場合、一定ＪＩ
ｌｌｉ１おきにレンズの清掃を行なえばよいが、精密に
調整された投影光学系から投影レンズを外すとその組立
て再調整が極めて煩雑であり、また組込状態のまま投影
レンズを拭くのは容易ではなく、ややもすると照度むら
や照度変化を招く結果にもなる。
置では、その投影レンズに防塵対策がなされていないた
め、クリーンルーム内での使用においても長期間の使用
中には空中の浮遊塵埃が投影レンズの上面に徐々に付着
して、投影レンズの光学性能が劣化するという問題があ
る。投影レンズの上面に塵埃が付着した場合、一定ＪＩ
ｌｌｉ１おきにレンズの清掃を行なえばよいが、精密に
調整された投影光学系から投影レンズを外すとその組立
て再調整が極めて煩雑であり、また組込状態のまま投影
レンズを拭くのは容易ではなく、ややもすると照度むら
や照度変化を招く結果にもなる。
［発明の目的］
本発明は、前述の従来の問題点を解決して、投影光学系
の再調整を必要とすることなく容易に交換可能な防塵器
付きの投影レンズを提供しようとするものである。
の再調整を必要とすることなく容易に交換可能な防塵器
付きの投影レンズを提供しようとするものである。
すなわち本発明による投影露光装置用投影レンズは、投
影レンズ上面を覆う透明ＮＩＩ付きの防塵器を着脱可能
に備えており、透明薄膜によって投影レンズ上面への塵
埃の付着を防止すると共に、透明薄膜が汚れたら防塵器
ごと交換するようにして、投影レンズには直接触れるこ
となく防塵器の東独交換を可能としたものである。
影レンズ上面を覆う透明ＮＩＩ付きの防塵器を着脱可能
に備えており、透明薄膜によって投影レンズ上面への塵
埃の付着を防止すると共に、透明薄膜が汚れたら防塵器
ごと交換するようにして、投影レンズには直接触れるこ
となく防塵器の東独交換を可能としたものである。
本発明の好ましい実施態様においては、前記防塵器は、
投影レンズ上面開口を取り囲む＠脱可能な筒状フレーム
と、該フレームの開口を覆う透明薄膜とから構成され、
この透明薄膜は、例えばマスク保護用に用いられている
のと同様なペリクルで構成される。
投影レンズ上面開口を取り囲む＠脱可能な筒状フレーム
と、該フレームの開口を覆う透明薄膜とから構成され、
この透明薄膜は、例えばマスク保護用に用いられている
のと同様なペリクルで構成される。
［実施例Ｊ
第１図は本発明の実施例を示す縦断面図で、投影レンズ
系５はマスク１を保持したマスクホルダ２とウェハ１と
の間に位置し、図示しない光源からの照明光によるマス
ク１の投影像をウェハ７上に結像している。投影レンズ
系５の上部ガラス要素６の上方は、本発明の要部に係る
防塵器９を構成する筒状フレーム４と透明ＦＩＪＷＪ
３とによって囲まれた密閉空間８となっている。すなわ
ち防塵器９は、投影レンズ系５の上面開口を取り囲んで
着脱可能に嵌着された筒状フレーム４と、該フレーム４
の開口を上端で覆って閉鎖している透明薄膜３との一体
化部品であり、防塵器９を投影レンズ系５の上面にかぶ
せたときに、その内部に形成される前記密閉空間８が無
塵室となるようにされている。従って空中の塵埃は投影
レンズ上面に付着することなく透明薄膜３の上面に付着
することになり、防塵器９を定期的に交換することによ
り投影レンズ上面を防塵できると共に投影レンズの光学
性能を一定範囲内に保つことが可能となる。
系５はマスク１を保持したマスクホルダ２とウェハ１と
の間に位置し、図示しない光源からの照明光によるマス
ク１の投影像をウェハ７上に結像している。投影レンズ
系５の上部ガラス要素６の上方は、本発明の要部に係る
防塵器９を構成する筒状フレーム４と透明ＦＩＪＷＪ
３とによって囲まれた密閉空間８となっている。すなわ
ち防塵器９は、投影レンズ系５の上面開口を取り囲んで
着脱可能に嵌着された筒状フレーム４と、該フレーム４
の開口を上端で覆って閉鎖している透明薄膜３との一体
化部品であり、防塵器９を投影レンズ系５の上面にかぶ
せたときに、その内部に形成される前記密閉空間８が無
塵室となるようにされている。従って空中の塵埃は投影
レンズ上面に付着することなく透明薄膜３の上面に付着
することになり、防塵器９を定期的に交換することによ
り投影レンズ上面を防塵できると共に投影レンズの光学
性能を一定範囲内に保つことが可能となる。
この場合、透明１膜３として、一般的な露光装置でマス
ク保護用に用いられているのと同様のペリクルを使用す
れば、投影光学系内に透明ｉ１膜３を介在させたことに
よる光学性能の劣化は実質的に無視できるようになり、
防塵器の交換に伴う光学性能の変化も問題とはならない
。尚、透明薄膜３の材質はペリクルに限ることはなく、
投影光、学系の光学性能に実質的な影響を与えないもの
ならばどんなものを用いてもよい。
Ｊ〔発明の効果Ｊ 以上に述べたように、本発明によれば、投影レンズの光
学性能に実質的に影響を与えることのない透明な薄膜を
有する防塵器を着脱可能に備えているので、投影レンズ
上面の防塵が効果的に果せると共に、防塵器を定期的に
交換して投影レンズの光学性能が塵埃付着による影響で
劣化するのを防止でき、常に一定晩囲内の性能を維持さ
せることが可能となるものである。
ク保護用に用いられているのと同様のペリクルを使用す
れば、投影光学系内に透明ｉ１膜３を介在させたことに
よる光学性能の劣化は実質的に無視できるようになり、
防塵器の交換に伴う光学性能の変化も問題とはならない
。尚、透明薄膜３の材質はペリクルに限ることはなく、
投影光、学系の光学性能に実質的な影響を与えないもの
ならばどんなものを用いてもよい。
Ｊ〔発明の効果Ｊ 以上に述べたように、本発明によれば、投影レンズの光
学性能に実質的に影響を与えることのない透明な薄膜を
有する防塵器を着脱可能に備えているので、投影レンズ
上面の防塵が効果的に果せると共に、防塵器を定期的に
交換して投影レンズの光学性能が塵埃付着による影響で
劣化するのを防止でき、常に一定晩囲内の性能を維持さ
せることが可能となるものである。
第１図は本発明の実施例を示す縦断面図である。
３：透明薄膜、４：筒状フレーム、５：投影レンズ系、
６：上部ガラス要素、８：密閉空間（無塵室）、９：防
ｌ！器。
６：上部ガラス要素、８：密閉空間（無塵室）、９：防
ｌ！器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、投影レンズ上面を覆う透明薄膜付きの防塵器を着脱
可能に備えたことを特徴とする投影露光装置用投影レン
ズ。 ２、防塵器が、投影レンズ上面開口を取り囲む着脱可能
な筒状フレームと、該フレームの開口を覆う透明薄膜と
からなる特許請求の範囲第１項に記載の投影露光装置用
投影レンズ。 ３、透明薄膜がペリクルである特許請求の範囲第１項に
記載の投影露光装置用投影レンズ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60011081A JPS61171126A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | 投影露光装置用投影レンズ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60011081A JPS61171126A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | 投影露光装置用投影レンズ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61171126A true JPS61171126A (ja) | 1986-08-01 |
Family
ID=11768024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60011081A Pending JPS61171126A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | 投影露光装置用投影レンズ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61171126A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0233914A (ja) * | 1988-07-25 | 1990-02-05 | Ushio Inc | 照明光学装置 |
| US5512740A (en) * | 1993-05-10 | 1996-04-30 | Psc Inc. | Bar code scanner with field replaceable window |
| US5701169A (en) * | 1994-03-30 | 1997-12-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination system and exposure apparatus with demountable transparent protective member |
| WO2005085956A3 (en) * | 2004-03-01 | 2006-03-02 | Advanced Micro Devices Inc | Pellicle for a lithographic lens |
-
1985
- 1985-01-25 JP JP60011081A patent/JPS61171126A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0233914A (ja) * | 1988-07-25 | 1990-02-05 | Ushio Inc | 照明光学装置 |
| JPH0532900B2 (ja) * | 1988-07-25 | 1993-05-18 | Ushio Electric Inc | |
| US5512740A (en) * | 1993-05-10 | 1996-04-30 | Psc Inc. | Bar code scanner with field replaceable window |
| US5663551A (en) * | 1993-05-10 | 1997-09-02 | Psc Inc. | Boot with replaceable optical element for a bar code scanner |
| US5701169A (en) * | 1994-03-30 | 1997-12-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination system and exposure apparatus with demountable transparent protective member |
| WO2005085956A3 (en) * | 2004-03-01 | 2006-03-02 | Advanced Micro Devices Inc | Pellicle for a lithographic lens |
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