JPS61162892A - Memory circuit - Google Patents

Memory circuit

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Publication number
JPS61162892A
JPS61162892A JP60002378A JP237885A JPS61162892A JP S61162892 A JPS61162892 A JP S61162892A JP 60002378 A JP60002378 A JP 60002378A JP 237885 A JP237885 A JP 237885A JP S61162892 A JPS61162892 A JP S61162892A
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JP
Japan
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bit line
transistor
memory cell
gate length
balancing
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Application number
JP60002378A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuo Kobayashi
康夫 小林
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Publication of JPS61162892A publication Critical patent/JPS61162892A/en
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Abstract

PURPOSE:To heighten reading speed by making the length of the gate of a transistor for balancing bit line short. CONSTITUTION:The gate length L of a P channel type transistor Q103 for balancing bit line is made shorter than other P channel type transistors. When the gate length L is made shorter, subthreshold current I0 increases. In the case where the gate length L is made short until I0 (leak current of high resistance load) and IR become nearly the same, memory cell data are broken by subthreshold current I0 of the transistor Q103 when the word line Xj is high level. Accordingly, subthreshold current I0 is selected to 1/20 of leak current IR of high resistance load. Supposing that the gate length L in this case is LB, subthreshold current I0 of the P channel type transistor Q103 for balancing bit line is 1/20 of IR. Accordingly, absolute value of threshold value voltage of the transistor Q103 becomes smaller than other transistors, and balancing operation of bit line is made easy correspondingly.

Description

【発明の詳細な説明】 出し時間を改善したメモリ回路に関する。[Detailed description of the invention] This invention relates to a memory circuit with improved output time.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来のメモリ回路の一例を、第1図、第2図。 An example of a conventional memory circuit is shown in FIGS. 1 and 2.

第8図9g9図(j、Φ)、第10図(a)、■)を用
いて説明する。第8図はメモリ回路の構成を示すブロッ
ク図、第9図(a)、 (b)は、それぞれアドレスバ
ッファ、ψ1信号発生部の回路図、第1図、第り図は、
それぞれメモリセルマトリックスSウメモリセルの回路
図、第10図(ω、(b)は信号波形図である。  “ まず、$8図、第9図(a)、 (b)、第1図、第2
図を簡単に説明する。アドレスバッファ101t−!7
ドレス入力信号Al  (i=o、 1.2.−・、 
 n)から。
This will be explained using FIG. 8, 9g, 9 (j, Φ), and FIG. 10, (a), ■). FIG. 8 is a block diagram showing the configuration of the memory circuit, FIGS. 9(a) and 9(b) are circuit diagrams of the address buffer and ψ1 signal generating section, respectively.
10 (ω, (b) is a signal waveform diagram. First, Figure 8, Figure 9 (a), (b), Figure 1, Figure 2.
The figure will be briefly explained. Address buffer 101t-! 7
Dress input signal Al (i=o, 1.2.-.,
From n).

Aiと同期のAI” b人1と逆相のAl1の2つのア
ドレスバッファ信号Ai’、 Ai’ 及びアドレス変
化検知信号のi を作る。但し、アドレス変化検知信号
ψ量は、アドレス入力信号Atの立上り又に立下りを検
知して、一定期間だけロウレベルになる様な信号である
。又、チップセレクト入カ信号δ丁。
Two address buffer signals Ai', Ai' and an address change detection signal i are created for AI in synchronization with Ai and Al1 in reverse phase with person 1. However, the amount of address change detection signal ψ is determined by the amount of address input signal At It is a signal that detects rising or falling and becomes low level for a certain period of time. Also, chip select input signal δ.

ライトイネーブル入力信号WE、データ入力信号DIN
はそれぞれ人カパッファ102に入力され、チップセレ
クトバッファ信号C8’、  ライトイネーブルバッフ
ァ信号WE’、データ入力バッファ信号DIN″が作ら
れる。さらに、Xアドレスデコーダ104及びYアドレ
スデコーダ105Vcより、アドレスバッファ信号Ai
’、 At’ (i=o、 1.2. ・・・、  n
)  の組合せによって一意に定まるj番目のワード線
Xjとに番目のYセレク)線Ykだけが選択されて、メ
モリセル群の内、ただ一つの所望のメモリセル109だ
けが選択される。DIN制御部107. Doオ制御部
108は、それぞれ書き込み、読み出しの制御を行なう
。又、Φb倍信号発生103は、アドレス変化検知信号
φ1(i=0.1.2.・・・、n)を入力とし、ビッ
ト線バランス信号φBを出力とするAND論理回路であ
る。
Write enable input signal WE, data input signal DIN
are respectively input to the buffer 102, and a chip select buffer signal C8', a write enable buffer signal WE', and a data input buffer signal DIN'' are generated.
', At' (i=o, 1.2...., n
) Only the j-th word line Xj and the Y-th Y select line Yk, which are uniquely determined by the combination of , are selected, and only one desired memory cell 109 from the memory cell group is selected. DIN control unit 107. The Do/O controller 108 controls writing and reading, respectively. Further, the Φb times signal generator 103 is an AND logic circuit that receives the address change detection signal φ1 (i=0.1.2..., n) and outputs the bit line balance signal φB.

メモリセルマトリックス部106は、第1図に示すよう
VC%複数のワード線と複数のビyト線の各交点にメモ
リセル109が配置され之構戊にな。
As shown in FIG. 1, the memory cell matrix section 106 has a structure in which memory cells 109 are arranged at each intersection of a plurality of word lines and a plurality of bit lines.

っている。ここで、メモリセル1091−1.82図に
示す様に、4個ONチャネル型の絶縁ゲート型電界効果
トランジスタ(MIS トランジスタ)(以下、トラン
ジスタという。) Q1os〜Qxosと2個の高抵抗
負荷R101+ R102から構成されるメモリセルと
する。ここでQloa、 Q107はトランス7アゲー
トである。
ing. Here, as shown in the memory cell 1091-1.82, four ON-channel type insulated gate field effect transistors (MIS transistors) (hereinafter referred to as transistors) Q1os to Qxos and two high resistance loads R101+ It is assumed that the memory cell is composed of R102. Here, Qloa and Q107 are transformer 7 agate.

次に、第1図に示すメモリセルマトリックス部106に
おけるビット@BL、BLO間に設けられたビット線バ
ランス用トランジスタQ10KICついて説明する0本
従来例では、このトランジスタはPチャネル型(図にお
いて円で囲っ九ものにPチャネル型、他iNチャネル型
を示す。)であるので、ピッ8未バランス信号φBがロ
ウレベルの期間だけオン状態になることがわかる。この
ビット線バランス用トランジスタQlosの役割は、ア
ドレスO切O換り時ビット線BL、BLを等電位化し、
読み出し動作が高速に行なわれる様にすることである。
Next, a description will be given of the bit line balancing transistor Q10KIC provided between the bits @BL and BLO in the memory cell matrix section 106 shown in FIG. (The one in the box shows the P channel type, and the other one shows the iN channel type.) Therefore, it can be seen that the P8 unbalanced signal φB is in the ON state only during the period when the P8 unbalanced signal φB is at the low level. The role of this bit line balancing transistor Qlos is to equalize the potential of the bit lines BL and BL when switching the address O,
The purpose is to allow read operations to be performed at high speed.

すなわち、アドレス入力信号A1の変化にエリ、ビット
線バランス信号φ3が発生して、あらかじめビット線B
L、BLが等電位化されているので。
That is, the bit line balance signal φ3 is generated in response to a change in the address input signal A1, and the bit line B
Because L and BL are at equal potential.

ワード線Xjが立上がった時、メモリセルのデータがた
だちにビット線に現われる。なお、ビット線バランス動
作の様子&−!、810図(a)、 (b)に示す通り
である。
When word line Xj rises, the data of the memory cell immediately appears on the bit line. In addition, the state of bit line balance operation &-! , 810 as shown in Figures (a) and (b).

〔発明が解決し=5とする問題点〕 ところが、本従来例tch、次の様な欠点がある。[Problems solved by the invention = 5] However, this conventional example tch has the following drawbacks.

第10図(blK示す様に、讐き込み動作後、ビット線
の@1”側電位は、ライトバス線の111側電位より、
Yセレクト用ONチャネル型トランジスタQ104(又
はQloi )の閾値電圧分だけ低いレベルとなる。
As shown in FIG. 10 (blK), after the cutting operation, the @1'' side potential of the bit line is lower than the 111 side potential of the write bus line.
The level becomes lower by the threshold voltage of the Y-select ON-channel transistor Q104 (or Qloi).

閾値電圧のバックゲート電位依存性の為、この様にソー
スが接地電位GND工りかなり高い電位に6る場合、閾
値電圧もソースが接地された場合に比べ大きな値になる
。例えば、Vcc=5Vの場合、ライトバス線の′″1
m側電位は5■、ビット線σ11側電位は約3vlCな
る。−万、ビット線終端のPチャネル型トランジスタQ
IOI (又はQtoz ) (D t K能力が前記
ONチャネル型トランジスタQ104(又はQlos 
)に比べて十分に小さいとすれば、ビット線の@Om側
電位は、ライトバス線の′″o1側電位にほぼ等しく、
約QV&Cなる。
Because of the backgate potential dependence of the threshold voltage, when the source is at a potential much higher than the ground potential GND, the threshold voltage also becomes a larger value than when the source is grounded. For example, when Vcc=5V, the write bus line '''1
The potential on the m side is 5V, and the potential on the bit line σ11 is about 3VlC. -10,000, P-channel transistor Q at the end of the bit line
IOI (or Qtoz) (D t K capability is the ON channel type transistor Q104 (or Qlos
), the bit line @Om side potential is almost equal to the write bus line's o1 side potential,
Approximately QV&C.

従って−書き込み終了後のビット線バランス動作は、約
3vと約0Vのビット線対に対し行なわれる。ところが
、Pチャネル型のビット線バランス用トランジスタQl
os  iCとって、ソース電位はこのトランジスタの
バックゲート電位であるVu=り約2v低下しており、
トランジスタQ104(又はQtos)と同様に、閾値
電圧のバックゲート電位依存性の為、閾値電圧の絶対値
はソースがMu電位の時に比べ大きくなっている0例え
ば、ソースが5vO時、閾値電圧が一〇、SVとすれば
、ソースが3vVcなると、閾値電圧は−1,4■程度
に変化する。
Therefore, the bit line balancing operation after the completion of writing is performed for the bit line pair of approximately 3V and approximately 0V. However, the P-channel bit line balancing transistor Ql
For os iC, the source potential is about 2V lower than the back gate potential of this transistor, Vu.
Similar to transistor Q104 (or Qtos), because the threshold voltage depends on the back gate voltage, the absolute value of the threshold voltage is larger than when the source is at Mu potential. For example, when the source is 5VO, the threshold voltage is If SV is 0, then when the source becomes 3vVc, the threshold voltage changes to about -1.4■.

この場合、トランジスタQ1osのゲートーノース間電
圧は一3■すなわち、(閾値電圧) −1,6Vとなり
、ソースがVCC電位の時に比べかなり電i症力が低下
する。その結果、ビット線バランス動作が十分に行なわ
れ難くなり、ビット線バクンス信号φBがハイレベルに
戻った後も、ビット線電位にアンバランスが残る。この
様な電位アンバランスは、メモリセルデータがビット線
に現われるのを妨げ、結果として読み出し時間を遅くす
ることになる。
In this case, the gate-to-north voltage of the transistor Q1os is -3V, that is, (threshold voltage) -1.6V, and the electric power is considerably lower than when the source is at VCC potential. As a result, it becomes difficult to perform the bit line balancing operation sufficiently, and even after the bit line backup signal φB returns to high level, the bit line potential remains unbalanced. Such potential imbalances prevent memory cell data from appearing on the bit lines, resulting in slow read times.

以上の様に、本従来例の如く構成され九メモリ回路1c
おいてに、書き込み動作後の読み出し時間が遅くなると
言う欠点があった。
As described above, the nine memory circuits 1c are configured as in this conventional example.
However, there was a drawback that the read time after the write operation was delayed.

従って1本発明の目的は、上記欠点を除去して書き込み
動作後の読み出し時間を改善したメモリ回路を提供する
ことに6る。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a memory circuit which eliminates the above drawbacks and improves the read time after a write operation.

〔問題点を解決する九めの手段〕[Ninth way to solve the problem]

本発明によるメモリ回路は、メモリセルを717ツプフ
ロツプと、該7リツプフロツプと一対のビット線の間に
設けた一対のトランスファーゲートから構成し、クロプ
ク信号VcLってオン状態又はオフ状態になるビット線
バランス用MISトランジスタを、前記一対のビット線
の間に設けたメモリ回路において、前記ビット線バラン
ス用MISトランジスタのゲート長を、同一メモリ回路
上に搭載されている前記ビット線バランス用MI!3ト
ランジスタと同一導電型の他のすべてのMISト。
In the memory circuit according to the present invention, the memory cell is composed of a 717 flip-flop and a pair of transfer gates provided between the 7 flip-flop and a pair of bit lines, and the bit line balance is turned on or off by a clock signal VcL. In a memory circuit in which a MIS transistor for bit line balancing is provided between the pair of bit lines, the gate length of the MIS transistor for bit line balancing is set to be the same as the MIS transistor for bit line balancing mounted on the same memory circuit. 3 transistor and all other MIS transistors of the same conductivity type.

ラン7スタのゲート長工り短かくシ、且つ、下記の条件
を満たす範囲で設定し九ことからなっている。
The gate length of the 7-star run is short and short, and is set within a range that satisfies the following conditions.

条件ニドランス7アーゲートをオン状態にし、ビット線
よりメモリセルへ電流を注入した時、メモリセルO保持
データを破壊することのできる最小の電流値に対して、
ゲート−ソース間電圧がQVの時のビット線バランス用
MID)う7ジスタOドレイン電流値を10分の1以下
にする。
Conditions When Nidorance 7 Argate is turned on and current is injected from the bit line into the memory cell, for the minimum current value that can destroy the data held in the memory cell O,
Bit line balance MID when the gate-source voltage is QV) Reduce the drain current value of the transistor O to 1/10 or less.

〔作用〕[Effect]

この条件を満九す範囲で、ビット線バランス用トランジ
スタのゲート長を短かくすれば、ビット線バランス用ト
ランジスタの閾値電圧の絶対[は。
If the gate length of the bit line balancing transistor is shortened within a range that satisfies this condition, the absolute threshold voltage of the bit line balancing transistor will increase.

同一導電型の他のトランジスタニク小さくすることがで
きる。これにより書き込み後のビット線バランス動作を
十分に行なわせ、vlみ出し時間の高速化を賽現する効
果が得られる。
Other transistors of the same conductivity type can be made smaller. As a result, the bit line balance operation after writing is performed sufficiently, and the effect of speeding up the vl start time can be obtained.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

本発明の第1の実施例は、上記の従来例において、第1
図のビット線バランス用のPチャネル型トランジスタQ
*oxのゲート長りを、他OFチャネル型トランジスタ
より短かくシ、さらに後述の値り、に設定したメモリ回
路である。
The first embodiment of the present invention is based on the first embodiment in the above conventional example.
P-channel transistor Q for bit line balance shown in the figure
*This is a memory circuit in which the gate length of ox is set to be shorter than that of other OF channel type transistors, and to a value described later.

第4図(a)、 (b)に、それぞれ閾値電圧V?のゲ
ート長依存性、サブスレッシ冒−ルド電流工。のゲート
長依存性を示す、但し、サブスレッシ冒−ルド電流工0
はゲートーノース間電圧が0Vの時のドレイン電流とす
る。
In FIGS. 4(a) and 4(b), the threshold voltage V? Gate length dependence of subthreshold current engineering. However, when the subthreshold current factor is 0,
is the drain current when the gate-to-north voltage is 0V.

一万、第2図に示すメモリセル109の高抵抗負荷几1
ot(又はRIG! )のリーク電流を工1とする。
10,000, high resistance load 1 of the memory cell 109 shown in FIG.
Let the leakage current of ot (or RIG!) be 1.

第4図(b)かられかる様に、ゲート長Lt−短かくす
ると、サブスレッシ重−ルド電流工。が増加する。
As can be seen from Fig. 4(b), if the gate length Lt is shortened, a subthreshold heavy current circuit is obtained. increases.

もし%  工0と工&が同程度になるまで、ビット線バ
ランス用トランジスタQ1asのゲート長りを短かぐし
t場合、ワード線Xj がハイレベルの時、トランジス
タQIOIのサブスレッシ璽−ルド電流工。に工つてメ
モリセルデータが破壊されると考えられるが、このデー
タ破壊のメカニズムについて以下に簡単に説明する。
If the gate length of the bit line balancing transistor Q1as is shortened until the % 0 and the % are about the same, then when the word line Xj is at a high level, the subthreshold current of the transistor QIOI will be reduced. It is thought that the memory cell data is destroyed by this process, and the mechanism of this data destruction will be briefly explained below.

まず、第3図にメモリセル109とビット線バランス用
Pチャネル屋トランジスタQlonの回路を示す。ワー
ド線Xj がハイレベルの時、メモリセル109ONチ
ヤネル型のトランス7アーゲートQsos及びQloy
 tcオン状態である。今、メモリセル109の内部節
点人、Bの電位がそれぞれVCCt接地電位であるとす
れば、Nチャネル型のトランジスタQIOI + Qt
oe ’Cそれぞれオフ状態、オン状態である。すなわ
ち5節点AOVcc電位は高抵抗負荷R1otに1って
、又節点BO接地電位はNチャネル型トランジスタQt
osによりで保持されている。
First, FIG. 3 shows a circuit of a memory cell 109 and a P-channel transistor Qlon for bit line balancing. When word line Xj is at high level, memory cell 109 ON channel type transformer 7 argate Qsos and Qloy
tc is on. Now, if the potential of internal node B of memory cell 109 is VCCt ground potential, then N-channel transistor QIOI + Qt
oe 'C are in the off state and on state, respectively. That is, the potential of the 5th node AOVcc is 1 for the high resistance load R1ot, and the ground potential of the node BO is for the N-channel transistor Qt.
It is maintained by the OS.

ここで、もしビット線バ2ンス用Pチャネル型トランジ
スタQloxのサブスレッシ冒−ルド電流工。
Here, if the subthreshold current of the bit line balance P-channel transistor Qlox is changed.

と高抵抗負荷R101のリーク電KIiが等しければ、
第3図に示した電流経路Iが形成これることに二になる
。さらに、工0が11より大きくなり、節点人がNチャ
ネル型ト2ンジスタQl(至)の閾値電圧まで低下すれ
ば、トランジスタQlosがオン状態からオフ状11I
4Vcなり1節点Bの電位が接地電位から上昇してしま
う結果、メモリセル109のデータが破壊される。従っ
てs  IQと工1が同程度の場合、メモリセルデータ
が破壊されると考えてよい。そこで、工。はお工そ工1
の10分の1以下に抑える必要がある。
If the leakage current KIi of high resistance load R101 is equal to
The current path I shown in FIG. 3 is formed. Furthermore, if 0 becomes larger than 11 and the node voltage drops to the threshold voltage of the N-channel transistor Ql, the transistor Qlos changes from the on state to the off state 11I.
As a result, the potential of one node B rises from the ground potential to 4Vc, and as a result, the data in the memory cell 109 is destroyed. Therefore, if s IQ and IQ are approximately the same, it can be considered that the memory cell data will be destroyed. So, engineering. Construction work 1
It is necessary to keep it to one-tenth or less.

以上の理由から、本実施例でに、サブスレツク璽−ルド
IEfiI。を高抵抗負荷のリーク電流工具の20分の
IK選ぶことにし、この場合のゲート長りをLlと書く
ことにする。
For the above reasons, in this embodiment, the subthread code IEfiI is used. Let's choose an IK of 20 minutes for a leak current tool with a high resistance load, and let the gate length in this case be written as Ll.

一万、第4図(a) Kよって、ゲート長り、ICおけ
る閾値電圧VTlが定まる。vi烏の値は、他のPチャ
ネル型トランジスタの閾値電圧に比べてかなり小さくな
る1例えば、一般のPチャネル型トランジスタの閾値電
圧、サブスレッシl−ルビ電流をそれぞれ−o、sv、
 0.05X10  A トし、又、高抵抗負荷R1o
l(又F’1Rxox)  Oリーク電流I、をlXl
0 Aとする。すると、ビット線バランス用OPチャネ
ル型トランジスタQIOIのサブスレッシ璽−ルド電流
工。は1凰(1020分の1、すなわち5X10  A
でよいから、対応する閾値電圧V?lはおよそ一〇、6
vになる。すなわち、ビット線バランス用トランジスタ
Q10mの14値電圧の絶対値は、他のトランジスタよ
り約0.2V小さくなり、それだけビット線バランス動
作が行なわれ易くなる。
Therefore, the gate length and the threshold voltage VTl in the IC are determined. The value of vi is considerably smaller than the threshold voltage of other P-channel transistors1.For example, the threshold voltage and subthreshold l-ruby current of a general P-channel transistor are -o, sv,
0.05X10A and high resistance load R1o
l (also F'1Rxox) O leakage current I, lXl
Set to 0 A. Then, the subthreshold current of the OP channel type transistor QIOI for bit line balancing. is 1 凰 (1/1020, i.e. 5×10 A
Therefore, the corresponding threshold voltage V? l is approximately 10,6
It becomes v. That is, the absolute value of the 14-value voltage of the bit line balancing transistor Q10m is about 0.2 V smaller than that of the other transistors, and the bit line balancing operation becomes easier to perform.

本!施例の信号波形図をWXs図(a)、 (b)VC
示すが、従来例の第10図(8)、φ)に比較して、書
き込み後のビット線バランス動作の場合、本実施例の効
果は大きく、前記従来例O欠点でおったビット線バラン
ス動作後の電位アンバランスを生ずることなく、十分に
バランスされ、読み出し時間の遅れを生ずることもない
Book! The signal waveform diagram of the example is WXs diagram (a), (b) VC
As shown in FIG. 10 (8), φ) of the conventional example, the effect of this embodiment is greater in the bit line balance operation after writing, and the bit line balance operation that was caused by the defect O of the conventional example is greater. Sufficient balance is achieved without causing subsequent potential imbalance, and there is no delay in read time.

本発明の第2の実施例に、上記第1の実施例において、
メモリセル109を86図に示すCMI8構成のメモリ
セル8011’Calき換え九メモリ回路である0本冥
施例では、メモリセルがCMIS構成でおるので、メモ
リセルのデータはオン状態のトランジスタによって保持
されている。従って。
In the second embodiment of the present invention, in the first embodiment,
In the example in which the memory cell 109 has a CMI8 configuration shown in Figure 86 and is a 9 memory circuit, the memory cell has a CMIS configuration, so the data in the memory cell is held by an on-state transistor. has been done. Therefore.

トランス7丁−ゲー) Qsox及びQaozをオン状
態にし、ビット線よりメモリセルへ電流を注入してメモ
リセルデータを破壊しようとした場合、その電流値は、
l!1の実施例に比べかなり大きな値、例えば1X10
人程度必要である。そこで、第1の実施例と同様の方法
に従って、ビット線バランス用トランジスタQlonの
サブスレッシ雷−ルドリーク電流工0を決めれば、工0
にlXl0  AO20分の1、すなわち、5X10人
 トする。第4図(a)。
If an attempt is made to destroy the memory cell data by turning on Qsox and Qaoz and injecting current from the bit line into the memory cell, the current value will be:
l! A considerably larger value than in Example 1, e.g. 1X10
Approximately one person is required. Therefore, if the subthreshold lightning leakage current of the bit line balancing transistor Qlon is determined according to the same method as in the first embodiment, the process will be 0.
to 1×10 AO, i.e. 5×10 people. Figure 4(a).

(b)エフ、このI、に対応する閾値電圧VTIはおよ
そ−αIVでわる。
(b) The threshold voltage VTI corresponding to F and this I is approximately -αIV.

従りて、本実施例では、ビット線バランス用トランジス
タQ 10mの閾値電圧の絶対値をかなり小さくでき、
ビット線バランス動作が十分に行なわれ、本発明の目的
を十分に達成したメモリ回路が実現できる。本実施例の
信号波形図を第7図(al、 (b)に示すが、従来例
の第10図(ml、φ)に比較して、書き込み動作後の
ビット線バランス動作が十分に行なわれていることがわ
かる。又%薔き込み動作後の読み出し時間も十分早く、
本発明の効果が現われて込る。
Therefore, in this embodiment, the absolute value of the threshold voltage of the bit line balancing transistor Q10m can be made considerably small.
A memory circuit can be realized in which the bit line balancing operation is sufficiently performed and the object of the present invention is fully achieved. The signal waveform diagrams of this embodiment are shown in Fig. 7 (al, (b)), and compared to Fig. 10 (ml, φ) of the conventional example, the bit line balance operation after the write operation is sufficiently performed. It can be seen that the readout time after the % loading operation is also sufficiently fast.
The effects of the present invention will be apparent.

なお、上記説明vcお贋では、ビット線バランス用トラ
ンジスタとしてPチャネル型を用い九が、Nチャネル型
を用いた場合も全く同様に本発明が適用できることは言
うまでもない、その他1本発明の主旨を満たす種々の応
用例も可能である。
In the above explanation, a P-channel type is used as the bit line balancing transistor, but it goes without saying that the present invention can be applied in the same way even if an N-channel type is used. Various applications are also possible.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上述べてきた様に、本発gAはビット線バランス用ト
ランジスタのゲート長を短かくするだけで。
As mentioned above, the present gA can be achieved by simply shortening the gate length of the bit line balancing transistor.

ビット線バランス動作を十分゛に行なわせるものでらり
、読み出し時間の高速なメモリ回路が実現できる。
Since the bit line balancing operation can be performed sufficiently, a memory circuit with a high read time can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図、第2図に本発明の第11 第2■実施例及び従
来例のメそりセルマトリックス部回路図、メモリセル部
回路図%第3図はメモリセルデータ破壊の説明図、第4
図(a)、 (1))にそれぞれ閾値電圧の対ゲート長
持性図、サプスレシ璽−ルド電流の対ゲート長特性図、
第5図(at、 (b)は本発明の第1の実施例を示す
信号波形図、第6図は本発明の第2の賽施也Oメモリセ
ル部口路図、第7図(a)、Φ)は本発明の第20実施
例を示す信号波形図%第8図は本発明の第1.第20実
施例及び従来例を示すブロック図、第9図(a)、 (
b)iそれぞれ本発明の第1.第2の実施例及び従来例
のアドレスバッファ回路図、φ聰信号発生部回路図、第
10図(a)。 (′b)は従来例を示す信号波形図でおる。 101・・・・・・アドレスバブ7丁、102・・・・
・・入力バッファ、103・・・・・・ψB信号発生部
、104・・・・・・Xアドレスデコーダ% 105・
・・・・・Yアドレスデコーダ、106・・・・・・メ
モリセルマトリックス部、107・・・・・・DIN制
御部、108・・・・・・D OtJ? 制御部、10
9・・・・・・メモリセル、801・・・・・・メモリ
セル% BL。 BI、・・・・・・ビット線h Q、1oz  ・・・
・・・ビット線バランス用Pチャネル型MM3トランジ
スタt Qtos、 Q10?・・・・・・トランスフ
ァゲート(NチャネルfiMIsトランジスタ)。 DlN制fq岬 をf回 望處f斥 1ryプLv!v4−電1己 (1>) 対間 (0L) g−!r間 <b) )工  J−ぐ 碕藺 (久] 瞬間 (bン 峯7面
1 and 2 are the circuit diagrams of the mesori cell matrix section of the embodiment and the conventional example, and the circuit diagram of the memory cell section of the present invention.
Figures (a) and (1)) are a graph of threshold voltage vs. gate longevity, a graph of suppressed threshold current vs. gate length, respectively.
5(a) and 5(b) are signal waveform diagrams showing the first embodiment of the present invention, FIG. 6 is a circuit diagram of the second memory cell portion of the present invention, and FIG. 7(a) ), Φ) are signal waveform diagrams showing the 20th embodiment of the present invention. Block diagram showing the 20th embodiment and the conventional example, FIG. 9(a), (
b) i respectively 1. of the present invention. FIG. 10(a) is an address buffer circuit diagram and a circuit diagram of a φ-signal generating section of the second embodiment and the conventional example. ('b) is a signal waveform diagram showing a conventional example. 101... Address Babu 7, 102...
...Input buffer, 103...ψB signal generation section, 104...X address decoder% 105.
...Y address decoder, 106...Memory cell matrix section, 107...DIN control section, 108...D OtJ? control unit, 10
9...Memory cell, 801...Memory cell% BL. BI,... Bit line h Q, 1oz...
...P-channel type MM3 transistor for bit line balance t Qtos, Q10? ...Transfer gate (N-channel fiMIs transistor). Dln system fq cape f times viewing place f 斥1ryup Lv! v4-den 1 self (1>) pair (0L) g-! r interval < b) ) 工 J-gu saki 藺 (ku) moment (b 7th grade

Claims (1)

【特許請求の範囲】  メモリセルをフリップフロップと該フリップフロップ
と一対のビット線の間に設けた一対のトランスファーゲ
ートから構成し、クロック信号によってオン状態又はオ
フ状態になるビット線バランス用MISトランジスタを
前記一対のビット線の間に設けたメモリ回路において、
前記ビット線バランス用MISトランジスタのゲート長
を、同一メモリ回路上に搭載されている該ビット線バラ
ンス用MISトランジスタと同一導電型の他のすべての
MISトランジスタのゲート長より短かくし、且つ下記
の条件を満たす範囲で設定したことを特徴とするメモリ
回路。 条件:トランスファーゲートをオン状態にし、ビット線
よりメモリセルへ電流を注入した時、メモリセルの保持
データを破壊することのできる最小の電流値に対して、
ゲート−ソース間電圧が0Vの時のビット線バランス用
MISトランジスタのドレイン電流値を10分の1以下
にする。
[Claims] A memory cell is composed of a flip-flop and a pair of transfer gates provided between the flip-flop and a pair of bit lines, and a bit line balancing MIS transistor that is turned on or off by a clock signal. In the memory circuit provided between the pair of bit lines,
The gate length of the bit line balancing MIS transistor is made shorter than the gate length of all other MIS transistors of the same conductivity type as the bit line balancing MIS transistor mounted on the same memory circuit, and the following conditions are met. A memory circuit characterized by being set within a range that satisfies the following. Conditions: When the transfer gate is turned on and current is injected from the bit line to the memory cell, the minimum current value that can destroy the data held in the memory cell is
To reduce the drain current value of a bit line balancing MIS transistor to 1/10 or less when the gate-source voltage is 0V.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0676580A (en) * 1992-07-09 1994-03-18 Nec Corp Semiconductor storage device
JP2007305294A (en) * 2007-06-22 2007-11-22 Texas Instr Japan Ltd Semiconductor device, semiconductor memory device, and semiconductor memory cell

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0676580A (en) * 1992-07-09 1994-03-18 Nec Corp Semiconductor storage device
JP2007305294A (en) * 2007-06-22 2007-11-22 Texas Instr Japan Ltd Semiconductor device, semiconductor memory device, and semiconductor memory cell

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